JPS5835510B2 - プロスタグランジンユウドウタイノ セイホウ - Google Patents

プロスタグランジンユウドウタイノ セイホウ

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JPS5835510B2
JPS5835510B2 JP13961075A JP13961075A JPS5835510B2 JP S5835510 B2 JPS5835510 B2 JP S5835510B2 JP 13961075 A JP13961075 A JP 13961075A JP 13961075 A JP13961075 A JP 13961075A JP S5835510 B2 JPS5835510 B2 JP S5835510B2
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acid
compound
dimethyl
multiplet
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JP13961075A
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JPS5265251A (en
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純也 井手
賢治 井上
光郎 山崎
浄 酒井
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Sankyo Co Ltd
Original Assignee
Sankyo Co Ltd
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Publication of JPS5835510B2 publication Critical patent/JPS5835510B2/ja
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    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C07ORGANIC CHEMISTRY
    • C07CACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
    • C07C405/00Compounds containing a five-membered ring having two side-chains in ortho position to each other, and having oxygen atoms directly attached to the ring in ortho position to one of the side-chains, one side-chain containing, not directly attached to the ring, a carbon atom having three bonds to hetero atoms with at the most one bond to halogen, and the other side-chain having oxygen atoms attached in gamma-position to the ring, e.g. prostaglandins ; Analogues or derivatives thereof

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  • Pharmaceuticals Containing Other Organic And Inorganic Compounds (AREA)
  • Acyclic And Carbocyclic Compounds In Medicinal Compositions (AREA)
  • Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は一般式 R3およびR4は前述したもの を有するプロスタグランジン を有する新規なプロスタグランジン誘導体の製法に関す
るものである。
上記式中、R1はアルキル基を示し、R2は水素原子ま
たは低級アルキル基を示し、R3およびR4は同一また
は異なった低級アルキル基を示す。
前記一般式(I)において好適には、R1は例えばメチ
ル、エチル、n−プロピル、イソプロピル、n−ブチル
、イソブチル、tert−ブチル、n−ペア チル、1
−i−ジメチルペンチル、1−77チルペンチル、n−
ヘキシル、イソヘキシル、nヘプチル、n−オクチルの
ような炭素数1乃至8個を有する直鎖状または分枝鎖状
のアルキル基を示し、R2は例えば水素原子:メチル、
エチル、n−プロピル、イソプロピルのような炭素数1
乃至3個を有する直鎖状または分枝鎖状のアルキル基を
示し、R3およびR4は同−若しくは異なった例えばメ
チル、エチル、n−プロピル、イソプロピル、n−ブチ
ル、イソブチル、n−ペンチルのような炭素数1乃至5
個を有する直鎖状または分枝鎖状のアルキル基を示す。
前記一般式(I)で表わされる好適化合物においては
R1はn−ペンチル基、l・エージメチルペンチル塩ま
たはl−メチルペンチル基であり、R2は水素原子であ
り、R3およびR4は同一のメチル基またはエチル基で
ある。
本発明の方法によって得られる前記一般式(I)を有す
る化合物において、シクロペンタン環上の不斉炭素原子
およびシクロペンタン環置換分に結合している不斉炭素
原子の存在により種々の幾何異性体および光学異性体が
存在する。
前記一般式(I)においては、これらの異性体およびこ
れらの異性体の混合物がすべて単一の式で示されている
が、これにより本発明の記載の範囲は限定されるもので
はない。
本発明の方法によって得られる前記一般式(I)を有す
る化合物のうち、R2が水素原子である化合物はまた薬
理上許容される塩の形にすることができる。
薬理上許容される塩の形としては例えばナトリウム、カ
リウム、マグネシウム、カルシウムのようなアルカリ金
属またはアルカリ土類金属の塩:アンモニウム塩;テト
ラメチルアンモニウム、テトラエチルアンモニウム、ベ
ンジルトリメチルアンモニウム、フェニルトリエチルア
ンモニウムのような第四級アンモニウム塩;メチルアミ
ン、エチルアミン、ジメチルアミン、ジエチルアミン、
トリメチルアミン、トリエチルアミン、Nメチルヘキシ
ルアミン、シクロペンチルアミン、ジシクロヘキシルア
ミン、ベンジルアミン、ジベンジルアミン、α−フェニ
ルエチルアミン、エチレンジアミンのような低級脂肪酸
、低級脂環式および低級芳香脂肪族アミンの塩:ピペラ
ジン、モルホリン、ピロリジン、ピペラジン、ピリジン
、l−メチルピペラジン、4−エチルモルホリンのよう
な複素環式アミンおよびそれらの低級アルキル誘導体の
塩:モノエタノールアミン、エチルジェタノールアミン
、2−アミノ−1−ブタノールのような親水性の基を含
むアミンの塩等をあげることができる。
前記一般式(I)で表される11位が2個の低級アルキ
ル基で置換された構造式を有するグロスタグランジン誘
導体は従来の文献上全く知られていない新規な化合物で
あり、しかも本発明者等はこれらの化合物が他の作用に
較べて顕著な抗潰瘍作用、特に非ステロイド抗炎症剤投
与による潰瘍形成を抑制する作用を有することを見い出
し、これらを製造する方法について研究を行なった結果
、本発明を完成した。
本発明の方法によって得られる前記一般式(I)を有す
る化合物は動物試験において有意な薬埋作用即ち抗イン
ドメタシン胃潰瘍作用を示すが、次にその1例として9
−オキソ−11・11−ジメチル−15α−ヒドロキシ
プロス)−5(シス)、13(トランス)−ジエン酸[
11−デオキシ=11・11−ジメチルプロスタグラン
ジンE2 〕の薬理試験の結果を示す。
試験方法 シロネズミにインドメタシンを投与して両部に潰瘍を形
成させる方法および薬物による抑制効果の判定は、大略
、ワイ・エイチ・リーら(Y−H・Lee et al
)、〔アルキーフ インテルナショナル ド ファル
マコデイナミー エドウ テラビー(Archives
I nternationales dePharm
acodynamie et de Therapie
) 、191巻、370〜377頁(1971年)〕
およびダブリュ リップマン(W−Lippman)、
〔プロスタグランランス(Prostaglandin
s ) 、 7巻、1〜10頁(1974年)の方法に
よった。
即ち、20時間絶食させた雄シロネズミにインドメタシ
ンを30■/kg体重の割合に腹腔内に投与し、同時に
被験プロスタグランジン誘導体を少量の重炭酸ナトリウ
ムを含む生理食塩水に溶解して経口投与(ゾンデ使用)
し、5時間後に解剖して両部の潰瘍形成数を実体顕微鏡
を使用して測定した。
試験結果 11−デヒドロ−11−11−ジメチルプロスタグラン
ジンE2においては、1■/kg経口投与した時に潰瘍
形成を約50%抑制した。
なおプロスタグランジンE2においては、50%抑制に
必要な量は0.05■/kgであった。
従って上記の11−デヒドロ−11・11−ジメチルプ
ロスタグランジンE2はインドメタシン胃潰瘍に対して
フロスタグランジンE2の−の0 活性を示し、他方その他の薬理作用は非常に弱くしかも
安定性においてもはるかに安定であると云う天然プロス
タグランジンに見られない特異性を有している。
従って、前記一般式(I)を有する化合物は潰瘍抑制、
特に非ステロイド抗炎症剤投与による潰瘍形成の抑制を
必要とする場合に使用する医薬として有用である。
その目的のための投与形態としては一般に静脈内、皮下
または筋肉内注射等による非経口投与または錠剤、散剤
、カプセル剤等による経口投与があげられる。
その使用量は症状、年令、体重等によって異なるが、通
常は成人に対して1日2WIG!乃至10■である。
本発明の方法によって得られる前記一般式(I)を有す
る化合物のうち、代表的な化合物を以下に記載するが、
これによって本発明の方法により得られる化合物は限定
されるものではない。
■ 9−オキソ−11−11−ジメチル−15α(ある
いはβ)−ヒドロキシプロスト−5(シス)、13(h
ランス)−ジエン酸およびそのメチル、エチル、n−プ
ロピル、イソプロピルエステル。
■ 9−オキソ−11・11−16 ・16−チトラメ
チルー15α(あるいはβ)−ヒドロキシプロスト−5
(シス)、13(トランス)−ジエン酸およびそのメチ
ル、エチル、n−プロピル、イソプロピルエステル、 ■ 9−オキソ−11−メチル−11−エチル15α(
あるいはβ)−ヒドロキシプロスト5(シス)、13(
)ランス)−ジエン酸およびそのメチル、エチル、n−
プロピル、イソプロピルエステル、 ■ 9−オキソ−11−メチル−11−エチル16・1
6−シメチルー15α(あるいはβ)ヒドロキシプロス
ト−5(シス)、13()ランス)−ジエン酸およびそ
のメチル、エチル、n−プロピル、イソプロピルエステ
ル。
■ 9−オキソ−11・11−ジメチル−15α(ある
いはβ)−ヒドロキシ−20−メチルプロスト−5(シ
ス)、13(トランス)−ジエン酸およびそのメチル、
エチル、n−プロピル、イソプロピルエステル、 ■ 9−オキソ−11・11−ジメチル−20エチル−
15α(あるいはβ)−ヒドロキシプロスト−5(シス
)、13(トランス)−ジエン酸およびそのメチル、エ
チル、n−プロピル、イソプロピルエステル、 ■ 9−オキソ−11・11−ジエチル−15α(アル
いはβ)−ヒドロキシプロスト−5(シス)、13()
ランス)−ジエン酸およびそのメチル、エチル、n−プ
ロピル、イソフロビルエステル、 ■ 9−オキソ−11−11−ジエチル−16゜16−
シメチルー15α(あるいはβ)−ヒドロキシプロスト
−5(シス)、13(トランス)−ジエン酸およびその
メチル、エチル、n−プロピル、イソプロピルエステル ■ 9−オキソ−11・11・16−ドリメチルー15
α(あるいはβ)−ヒドロキシプロスト−5(シス)、
13(トランス)−ジエン酸およびそのメチル、エチル
、n−プロピル、イソプロピルエステル、 [相] 9−オキソ−11・16−ジメチル−11エチ
ル−15α(するいはβ)−ヒドロキシフロスト−5(
シス)、13(トランス)−ジエン酸およびそのメチル
、エチル、n−プロピル、イソプロピルエステル、 09−オキソ−11・11−ジメチル−15α(あるい
はβ)−ω−ノルプロスト−5(シス)、13(トラン
ス)−ジエン酸およびそのメチル、エチル、n−プロピ
ル、イソプロピルエステル本発明の方法によれば前記一
般式(I)を有する化合物は一般式 を有する化合物を酸化して一般式 を有する化合物を製造し、次いで得られた化合物の水酸
基の保護基を除去することによって得られる。
但し上記式中、R1、R2、R3およびR4は前述した
ものと同意義を示す。
R5は水酸基の保護基を示す。
ここで水酸基の保護基としては後にその保護基を除去し
て水素原子に置き換える際に除去反応により化合物の他
の部分に影響を与えないようなものであれば特に限定は
な(、そのような保護基としては例えば2−テトラヒド
ロ7ラニル、2−テトラヒドロピラニル、2−テトラヒ
ドロチェニル、2−テトラヒドロチオピラニル、4−メ
トキシテトラヒドロピラン−4−イルのようなアルコキ
シを置換分として有するか有しない環内に酸素原子また
は硫黄原子を含有する5員環乃至6員環基;メチル、エ
チル、n−プロピル、インフロビル、n−ブチル、イン
ブチル、n−ペンチル、インペンチルのような炭素数1
乃至5個を有する直鎖状または分枝鎖状のアルキル基:
メトキシメ−j−/L/、エトキシメチル、n−プロポ
キシメチル、イソプロポキシメチル、n−ブトキシメチ
ル、イソブトキシメチル、n−ペントキシメチル、イソ
ペントキシメチル、l−エトキシエチル、■−エトキシ
プロピル、2−エトキシブチル、■−エトキシペンチル
のようなアルコキシを置換分として有する炭素数1乃至
5個を有する直鎖状または分校鎖状のアルキル基;トリ
メチルシリル、トリエチルシリル、トリーn−プロピル
シリル、トリイソプロピルシリル、トリーn−ブチルシ
リル、トリイソブチルシリル、トリルn−ペンチルシリ
ルのような炭素数1乃至5個を有する直鎖状または分枝
鎖状のトリアルキルシリル基など:あるいは式 %式%() を有する炭酸エステル残基であり、ここでR6としては
例えばメチル、エチル、n−プロピル、イソプロピル、
n−ブチル、イソブチル、n−ペンチルのような炭酸数
1乃至5個を有する直鎖状または分枝鎖状のアルキル基
;2・2・2−トリクロルエチル、2・2−ジブロムエ
チル、2−ヨードエチルのようなβ位に1乃至3個の・
・ロゲン原子を置換分として有するエチル基:フェニル
、4ニトロフエニル、2−10ルフエニル、2・4−ジ
クロルフェニルのような置換分を有するか有しないフェ
ニル基:ベンジル、フェネチル、フェニルプロピル、フ
ェニルブチル、フェニルペンチル、4−ニトロベンジル
、4−クロルフェネチルのような置換分を有するか有し
ない芳香環を有しアルキレン部分が炭素数1乃至5個で
あるアラルキル基を示す。
しかしながら上記の保護基に特に限定されるものではな
い。
本発明の方法を実施するに当って、前記一般式(I[)
を右する化合物を酸化して前記一般式(III)を有す
る化合物を製造する反応は溶剤の存在下または不存在下
で酸化剤を使用することによって行なわれる。
使用される酸化剤としては例えばクロム酸、無水クロム
酸、無水クロム酸−ピリジン錯塩(Co11ins試薬
)、無水クロム酸−濃硫酸一水(Jones試薬)、重
クロム酸ナトリウム、重クロム酸カリウムなどのクロム
酸類:N−ブロムアセトアミド、N−ブロムスクシンイ
ミド、N−ブロムフタルイミド、N−J’ロルーp−)
ルエンスルホンアミド、N−クロルベンゼンスルホンア
ミドなどの有機活性ハロゲン化合物;アルミニウム第三
ブトキシド、アルミニウムイソプロポキシドなどのアル
ミニウムアルコキシド類;ジメチルスルホキシド−ジシ
クロへキシルカルボジイミド、ジメチルスルホキシドル
無水酢酸などが好適に用いられる。
溶剤を使用する場合に使用される溶剤としては本反応に
関与しなげれば特に限定はないが、例えばクロム酸類を
用いる場合は酢酸、酢酸−無水酢酸などの有機酸または
有機酸と有機酸無水物との混合溶剤;ジクロルメタン、
クロロホルム、四塩化炭素などのハロゲン化炭化水素類
が好適である。
有機活性ハロゲン化合物を用いる場合は水性三級ブタノ
ール、水性アセトン、水性ピリジンなどの水性有機溶剤
が好適である。
アルミニウムアルコキシド類を使用する場合はベンゼン
、トルエン、キシレンなどの芳香族炭化水素類が好適で
ある。
ジメチルスルホキシド−ジシクロへキシルカルボジイミ
ド、ジメチルスルホキシド−無水酢酸を用いる場合は通
常過剰のジメチルスルホキシドを用いれば他の溶剤は特
に必要ではない。
アルミニウムアルコキシド類を用いる場合は上記の溶剤
のほかに水素受体として例えばアセトン、メチルエチル
’7−)ン、シクロヘキサノン、ベンゾキノンなどのケ
トン類を過剰に使用するのが好適である。
この反応では水を反応系から完全に除去しておく必要が
ある。
ジメチルスルホキシド−ジシクロへキシルカルボジイミ
ドを用いる場合は常法に従ってリン酸、酢酸などの酸が
触媒量使用される。
本反応においては通常はクロム酸類、特に無水クロム酸
−ピリジン錯塩(Coffins試薬)、無水クロム酸
−濃硫酸一水(Jones試薬)が特に好適な酸化剤と
して使用される。
反応温度には特に限定はないが副反応を抑えるため比較
的低温で行なうのが望ましく通常は一20℃乃至室温で
行なわれ、特に好適には0℃乃至室温で行なわれる。
反応時間は主に反応温度、使用される酸化剤の種類によ
って異なるが約5分間乃至2時間である。
反応終了後、酸化反応の目的化合物は常法に従って反応
混合物から採取される。
例えば反応終了後、反応混合物にエーテルのような有機
溶剤を加え次いで不溶物を1去する。
得られる有機溶剤層を洗浄し乾燥した後、有機溶剤層よ
り溶剤を留去することによって得られる。
得られた目的化合物は必要ならば常法、例えばカラムク
ロマトグラフィー、薄層クロマトグラフィーなどを用い
て更に精製することができる。
次にこのようにして得られる前記一般式(I[I)を有
する化合物より水酸基の保護基を除去する反応は保護基
の種類によって異なる。
水酸基の保護基が例えば2−テトラヒドロピラニルのよ
うな複素環基、メトキシメチルのようなアルコキシを置
換分として有するアルキル基の場合は酸と接触させるこ
とにより容易に達成される。
使用される酸としては例えば蟻酸、酢酸、プロピオン酸
、酪酸、シュウ酸、マロン酸などの有機酸;塩酸、臭化
水素酸、硫酸などの鉱酸が好適に使用される。
反応は溶剤の存在下または不存在下で実施されるが、反
応を円滑に行なうには溶剤を使用する方が好ましく、使
用される溶剤としては本反応に関与しなげれば特に限定
はなく、例えば水;メタノール、エタノール等のアルコ
ール類;テトラヒドロフラン、ジオキサンなどのエーテ
ル類またはこれ等の有機溶剤と水との混合溶剤が好適に
使用される。
反応温度には特に限定はなく室温乃至溶剤の還流温度で
行なわれ、特に室温で好適に行なわれる。
水酸基の保護基が例えばメチルのようなアルキル基の場
合は三塩化ホウ素、三臭化ホウ素のようなハロゲン化ホ
ウ素化合物と接触させることにより容易に達成される。
反応は溶剤の存在下または不存在下で実施されるが反応
を円滑に行なうには溶剤を使用する方が好ましく、使用
される溶剤としては本反応に関与しなげれば特に限定は
なく例えばジクロルメタン、クロロホルムなどのハロゲ
ン化炭化水素類が好適に使用される。
反応温度には特に限定はないが副反応を抑えるためには
比較的低温で行なうのが望ましく、−30℃乃至室温で
好適に行なわれる。
水酸基の保護基が例えばトリメチルシリルのようなトリ
アルキルシリル基の場合は水あるいは酸または塩基を含
有する水と接触させることにより容易に達成される。
酸または塩基を含有する水を使用する場合に含有する酸
または塩基としては例えば蟻酸、酢酸、プロピオン酸、
酪酸、シュウ酸、マロン酸などの有機酸:塩酸、臭化水
素酸、硫酸などの鉱酸のような酸または水酸化カリウム
、水酸化カルシウムなどのアルカリ金属およびアルカリ
土類金属の水酸化物;炭酸カリウム、炭酸カルシウムな
どのアルカリ金属およびアルカリ土類金属の炭酸塩のよ
うな塩基が特に限定なく使用される。
反応は溶剤としては水を使用すれば他の溶剤は特に必要
ではない。
他の溶剤を使用する場合は例えばテトラヒドロフラン、
ジオキサンなどのエーテル類;メタノール、エタノール
などのアルコール類等の有機溶剤と水との混合溶剤が使
用される。
反応温度には特に限定はないが通常は室温で好適に行な
われる。
水酸基の保護基が例えばエトキシカルボニルのようなエ
ステルの炭酸残基の場合は酸または塩基と接触させるこ
とによって容易に達成される。
使用される酸または塩基としては例えば塩酸、臭化水素
酸、硫酸などの鉱酸:水酸化ナトリウム、水酸化カリウ
ム、水酸化カルシウムなどのアルカリ金属およびアルカ
リ土類金属の水酸化物;炭酸ナトリウム、炭酸カリウム
、炭酸カルシウムなどのアルカリ金属およびアルカリ土
類金属の炭酸塩等が好適に使用される。
通常は塩基性の条件で好適に行なわれる。反応は溶剤の
存在下または不存在下で実施されるが反応を円滑に行な
うには溶剤を使用する方が好ましく、使用される溶剤と
しては本反応に関与しなげれば特に限定はなく例えば水
;メタノール、エタノールなどのアルコール類:テトラ
ヒドロフラン、ジオキサンなどのエーテル類またはこれ
らの有機溶剤と水との混合溶剤が好適に使用される。
反応温度には特に限定はな(室温乃至溶剤の還流温度で
行なわれる。
反応時間は主に除去される保護基の種類によって異なる
反応終了後、水酸基の保護基を除去する反応の目的化合
物は常法に従って反応混合物から採取される。
例えば反応終了後、反応混合物を中性または酸性とし、
次いで適当な有機溶剤を加えて抽出を行ない、抽出液よ
り溶剤を留去することによって得られる。
得られた目的化合物は必要ならば常法、例えばカラムク
ロマトグラフィー、薄層クロマトグラフィーなどを用い
て更に精製することができる。
このようにして得られる前記一般式(I)を有する化合
物のうち、R2が水素原子である化合物は常法により塩
に変換することができる。
また、このようにして得られる目的化合物が種種の幾何
異性体および光学異性体の混合物で得られる場合は、適
当な合成段階においてこれらを分離および分割すること
ができる。
本発明の方法を実施するに当って原料化合物として用い
た前記一般式(II)を有する化合物は新規な化合物で
あり、例えば次のような方法で製造される。
上記式中、R1、R2、R3、R4およびR5は前述し
たものと同意義を示す。
R7およびR8はカルボキシル基の保護基を示し、ここ
でカルボキシル基の保護基としては特に限定はないが、
例えばメチル、エチル、n−プロピル、イソプロピル、
n−ブチル、イソブチル、tert−ブチルのような低
級アルキル基、ベンジル基のようなアラルキル基が好適
である。
以下、一般式(V)で表わされる公知の化合物を出発原
料として実施した各工程について説明する。
第一工程は前記一般式(VI−a)および(VI−b)
を有する化合物を製造する工程であり、前記一般式(V
)を有する化合物を一般式 (式中、R8は前述したものと同意義を示し、R9はn
−ブチルのようなアルキル基あるいはフェニル基のよう
なアリール基を示す。
)を有するウイッチヒ試剤と反応させることによって達
成される。
使用される溶剤としては一般にウイツチヒ反応に用いら
れる溶剤が特に限定なく用いられ、例エバメチレンクロ
リド、クロロホルム、エチレンジクロリド、四塩化炭素
などの7・ロゲン化炭化水素類;ベンゼン、トルエン、
キシレンなどの芳香族炭化水素類;エチルエーテル、ジ
メトキシエタン、テトラヒドロフランなどのエーテル類
等の不活性有機溶剤をあげることができる。
反応温度には特に限定はなく室温乃至溶剤の還流温度で
行なわれるが、好適には室温乃至60℃付近で行なわれ
る。
得られた目的化合物は二重結合に関する異性体(Vl−
a)および(VI−b)の混合物として存在し、カルボ
ニル基はエノール型またはケト型をとっている。
第二工程は前記一般式(■)を有する化合物を製造する
工程であり、前記一般式(VI−a)および(VI−b
)を有する化合物を還元することによって達成される。
反応は溶剤の存在下で還元剤を使用して行なわれる。
使用される還元剤としてはカルボニル基を還元すること
なく、二重結合のみをエチレン基に変換するものであれ
ば特に限定はないが、パラジウム−炭素、酸化白金、ラ
ネーニッケルなどの触媒の存在下で水素を使用して行な
う接触還元法が好適である。
第三工程は前記一般式(■)を有する化合物を製造する
工程であり、前記一般式(■)を有する化合物を脱炭酸
することによって達成される。
反応は溶剤の存在下で脱炭酸剤を使用して行なわれる。
使用される脱炭酸剤としては通常のβ−ケトエステル化
合物を脱炭酸するものであれば特に限定はないが、例え
ば塩酸、硫酸などの鉱酸、塩化ナトリウム−ジメチルス
ルホキシド、シアン化ナトリウム−ジメチルスルホキシ
ド、沃化リチウムコリジンなどが好適である。
本反応において、脱炭酸剤として塩酸のような鉱酸を用
いて加熱した場合には反応生成物としてジカルボン酸を
与えるので、得られた化合物を通常のエステル化法によ
って目的の前記一般式(■)を有するエステル化合物と
することができる。
使用されるエステル化剤としては、例えばジアゾメタン
、ジアゾエタン、ジアゾ−n−プロパン、ジアゾイソプ
ロパンなどのジアゾアルカン類;メタノール、エタノー
ル、n−プロパツール、インプロパツール、nブタノー
ル、インブタノール、tert−ブタノールなどのエス
テル基を形成するアルコール類と塩酸、臭化水素酸若し
くは硫酸などの鉱酸またはベンゼンスルホン酸若しくは
p−)ルエンスルホン酸などの有機酸が好適に用いられ
る。
第四工程は前記一般式(IX)を有する化合物を製造す
る工程であり、前記一般式(■)を有する化合物を還元
し、次いでラクトン化することによって達成される。
使用される還元剤としてはカルボニル基を立体特異的に
還元するものであれば特に限定はないが、例えば水素化
トリー5ec−ブチルホウ素カリウム、水素化トリー5
ec−ブチルホウ素リチウムのような水素化金属化合物
あるいはラネーニッケルなどが好適に用いられる。
次いで得られた還元反応生成物をラクトン化する反応は
、反応混合物を塩酸、硫酸のような鉱酸と処理すること
によって行なわれる。
第五工程は前記一般式(X)を有する化合物を製造する
工程であり、前記一般式(IX)を有する化合物を加水
分解することによって達成される。
反応は溶剤の存在下で加水分解試剤を用いて行なわれる
使用される加水分解試剤としては通常のエステル化合物
を加水分解するものであれば特に限定はないが、塩酸、
硫酸などの鉱酸が好適である。
第六工程は前記一般式(XI)を有する化合物を製造す
る工程であり、前記一般式(X)を有する化合物を還元
することによって達成される。
反応は溶剤の存在下で還元剤を用いて行なわれる。
使用される還元剤としてはラクトン環を還元することな
くカルボキシル基のみをアルコールに変換するものであ
れば特に限定はないが、前記一般式(X)を有する化合
物にトリエチルアミンなどの有機塩基の存在下でクロル
炭酸エチルなどの・・ロゲン炭酸エステルを反応させて
、混合酸無水物を得て、このものに水素化ホウ素ナトリ
ウムなどの還元剤を加えて行なうのが好適である。
第七工程は前記一般式(■)を有する化合物を製造する
工程であり、前記一般式(XI)を有する化合物を酸化
し、次いで得られた化合物に一般式(式中、R1および
R9は前述したものと同意義を示す。
)を有するウイツチヒ試剤と反応させることによって達
成される。
はじめに前記一般式(X[)を有する化合物を酸化して
アルデヒド化合物に変換する反応は、前記一般式(II
)を有する化合物を酸化して前記一般式(In )を有
する化合物を製造する反応において述べたと同様の酸化
剤を用い、しかも同様の反応条件で行なわれる。
次いでこのようにして得られた酸化反応生成物と前記一
般式(X■)を有するウイツチヒ試剤との反応は、溶剤
の存在下で行なわれる。
使用される溶剤としては通常のウイツチヒ反応に用いら
れる溶剤であれば特に限定はないが、例えば前述した第
一工程においてあげたものが好適である。
第八工程は前記一般式(xm)を有する化合物を製造す
る工程であり、前記一般式(■)を有する化合物を還元
することによって達成される。
反応は溶剤の存在下あるいは不存在下で行なわれる。
使用される還元剤としては二重結合を還元することなく
カルボニル基を水酸基に変換するものであれば特に限定
はないが、例えば水素化ホウ素ナトリウム、水素化ホウ
素カリウム、水素化ホウ素リチウム、水素化ホウ素亜鉛
、水素化) リーtert −ブトキシアルミニウムリ
チウム、水素化トリメトキシアルミニウムリチウム、水
素化シアノホウ素ナトリウムなどの水素化金属化合物が
好適に用いられる。
第九工程は前記一般式(xrv )を有する化合物を製
造する工程であり、前記一般式(xm)を有する化合物
を溶剤の存在下あるいは不存在下で水酸基の保護基を形
成する化合物と接触させることによって達成される。
使用される保護基を形成する化合物としては例えばジヒ
ドロピラン、ジヒドロチオピラン、ジヒドロチオフェン
、4−メトキシ−5・6−シヒドロー(2H)ピランの
よ5 す複素環化合物;メトキシメチルクロリド、エト
キシエチルクロリドのようなアルコキシノ・ロゲン化炭
化水素化合物;エチルビニルエーテル、メトキシ−1−
シクロヘキセンのような不飽和エーテル化合物;メチル
クロリド、エチルクロリドのようなハロゲン化炭化水素
化合物;ベンジルオキシカルボニルクロリド、エトキシ
カルボニルクロリドのようなアルコキシカルボニルクロ
リド化合物;ヘキサメチルジシラザン、トリメチルシリ
ルクロリドのようなシリル化合物などを好適な化合物と
してあげることができる。
複素環化合物または不飽和エーテル化合物を使用する場
合は反応は少量ノ酸ノ存在下で行なわれる。
またアルコキシハロゲン化炭化水素化合物、ハロゲン化
炭化水素化合物、アルコキシカルボニルクロリド化合物
またはへキサメチルジシラザン、トリメチルシリルクロ
リドなどを使用する場合は反応は塩基の存在下で行なわ
れる。
第十工程は前記一般式(XV)を有する化合物を製造す
る工程であり、前記一般式(xrv )を有する化合物
を還元することによって達成される。
反応は溶剤の存在下で行なわれ、使用される還元剤とし
ては例えば水素化ジイソブチルアルミニウム、水素化ホ
ウ素ナトリウム、水素化ホウ素カリウム、水素化ホウ素
リチウム、水素化トリメトキシアルミニウムリチウムな
どの水素化金属化合物が好適に用いられる。
第十一工程は前記一般式(n)を有する化合物を製造す
る工程であり、前記一般式(XV)を有する化合物を一
般式 %式%() (式中、R9は前述したものと同意義を示し、Mはナト
リウム、カリウムのようなアルカリ金属を示す。
)を有するウイツチヒ試剤と反応させ、次いで常法によ
りこれを酸で処理することにより遊離酸に変換し、次い
で必要に応じて得られた化合物のカルボキシル基をエス
テル化することによって達成される。
反応は溶剤の存在下で好適には過剰のウィッチヒ試剤を
用いて行なわれる。
次に必要に応じて行なうこのようにして得られた化合物
のカルボキシル基をエステル化する反応は、遊離の酸を
エステル化剤と接触させることによって達成される。
その反応条件は前述の第三工程におけるエステル化反応
の場合と同様である。
以上の各工程において、それぞれの目的化合物は反応終
了後、反応混合物を常法により処理することによって得
られる。
得られた目的化合物は必要ならば常法、例えばカラムク
ロマトグラフィー薄層クロマトグラフィーなどを用いて
更に精製することができる。
また、このようにして得られる各工程の目的化合物が種
々の幾何異性体および光学異性体の混合物で得られる場
合は、適当な合成段階においてこれらを分離および分割
することができる。
次に実施例および参考例をあげて本発明の方法を更に具
体的に説明する。
参考例13で得られた9α−ヒドロキシ 11・11−ジメチル−15α−(2−テトラヒドロピ
ラニルオキシ)−プロスト−5(シス)、13(トラン
ス)−ジエン酸の粗油状物2.4522を乾燥メチレン
クロリド20 mlに溶解し、クロム酸ピリジン錯塩(
コリンズ試薬)2.32f?を含む乾燥メチレンクロリ
ド溶液2511Ll中に水冷下に加えてさらに同温度で
30分間攪拌する。
反応終了後、反応混合物をエーテル120m1中に投入
し、析出した無機物をセライトを用いてP別し、1液を
IN塩酸で洗浄し、溶剤を留去すると、油状物1.86
Fが得られる。
これをシリカゲルを用いてカラムクロマトグラフィーで
精製すると、油状の9−オキソ−11・11ジメチル−
15α−(2−テトラヒドロピラニルオキシ)−プロス
ト−5(シス)、13(トランス)−ジエン酸0.46
7Pが得られる。
赤外吸収スペクトル(液膜状)シmaXcIrL−1:
1740.1710,1020 核磁気共鳴スペクトル(CDC13)δppm :10
、0 (H,broad ) 5.0〜5.7 (4H,多重線) 4.7(H1多重線) 3.2〜4.3 (3H,多重線) 1.2(3H1−重線) 0.9(3H1−重線) 質量スペクト# m / e : M+= 4489
−オキソ−11・11−ジメチル−15α(2−テトラ
ヒドロピラニルオキシ)−プロスト−5(シス)、13
(トランス)−ジエン酸0.467?を酢酸−水−テト
ラヒドロフラン(20:10:3)混合溶剤20m1に
溶解し40℃で6時間加温する。
反応終了後、反応混合物にトルエンを加えて共沸、減圧
下に濃縮して、残留物に酢酸エチルおよび水を加えて抽
出を行ない、有機溶剤層を乾燥し、濃縮した後、残留油
状物をシリカゲルを用いてカラムクロマトグラフィーで
精製すると、油状の9−オキソ−11・11−ジメチル
−15α−ヒドロキシプロスト−5(シス)、13(ト
ランス)−ジエン酸0.267f?が得られる。
赤外吸収スペクトル(液膜状)シmaXcrrL−1=
3450,1740 核磁気共鳴スペクトル(CDC13)δppm =6、
9 (2H,broad ) 5.1〜5.7(4)f、多重線) 4.1(H1多重線) 1.1(3H1−重線) 0.9(3H1−重線) 質量スペクトル m/ e : M+=364実施例
2 9−オキソ−11・11−ジメチル−15β−ヒドロキ
シプロスト−5(シス)、13(トランス)−ジエン酸 参考例14で得られた9α−ヒドロキシ−11・11−
ジメチル=15β−(2−テトラヒドロピラニルオキシ
)フロスト−5(シス)、13(hランス)−ジエン酸
の粗油状物1.881を乾燥メチレンクロリド20m1
に溶解し、その溶液中にクロム酸ピリジン錯塩2.32
fを含む乾燥ノチレンクロリド溶液25dを水冷下に加
えて、さらに同温度で35分間攪拌する。
反応終了後、反応混合物を実施例1の■と同様に処理す
ると、油状物1.644yが得られる。
これをシリカゲルを用いてカラムクロマトグラフィーで
精製すると、油状の9−オキソ−11・11−ジメチル
−15β−(2−テトラヒドロピラニルオキシ)−フロ
スト−5(シス)、13(トランス)−ジエン酸0.5
87fが得られる。
得られた目的化合物の赤外吸収スペクトル、核磁気共鳴
スペクトルおよび質量スペクトルは実施例1の■で得ら
れた15α一体と略々同一である。
■ 9−オキソ−11・11−ジメチル−15β−(2−テ
トラヒドロピラニルオキシ)−プロスト(シス)、13
()ランス)−ジエン酸0.587fを酢酸−水−テト
ラヒドロフラン(20:10:3)混合溶剤201rt
lに溶解し40℃で6時間加温する。
反応終了後、反応混合物を実施例1の■と同様に処理、
精製すると、油状の9−オキソ−11・11−ジメチル
−15β−ヒドロキシプロスト−5(シス)、13(ト
ランス)−ジエン酸0.245fが得られる。
得られた目的化合物の赤外吸収スペクトル、核磁気共鳴
スペクトルおよび質量スペクトルは実施例1の■で得ら
れた15α一体と略々同一である。
参考例 1 2・2−ジメチル−4−カルボエトキシメチレン−5−
オキソ−シクロペンタン−1・3−ジカルボン酸ジメチ
ルエステル 2・2−ジメチル−4・5−ジオキソ−シクロペンタン
−1・3−ジカルボン酸ジメチルエステル〔アンナーレ
ン デル ヘミ−(AnnalenDer Chemi
e ) 、368巻、137頁(1909年)に記載さ
れている化合物)2.512f?およびカルボエトキシ
メチレントリフェニルホスフォランフ2.252をクロ
ロホルム900m1中で5日間加熱還流する。
反応終了後、反応混合物を濃縮し、残留物にエーテル2
00 rnlを加えて冷蔵庫に放置し、析出した未反応
の原料ホスフォラン化合物を戸別し、エーテル層を2N
塩酸で2回、10%炭酸カリウム水溶液で数回洗浄した
後、エーテル層を濃縮し、残留物をシリカゲルを用いて
カラムクロマトグラフィーで精製すると、油状の目的化
合物8.207yが得られる。
このものは二重結合に関する異性体の混合物として存在
し、そのカルボニル基の一部はエノール型をとっている
ことが、核磁気共鳴スペクトルの測定結果などより明ら
かである。
赤外吸収スペクトル(液膜状)シmaXcIrL−1:
174011715.1655 核磁気共鳴スペクトル(CDC13)δppm :10
、2 (broad ) 6.4(二重線) 3.6〜4.5(多重線) 1.1〜1.6(多重線) 質量スペクトル m/ e : M+= 312参考例
2 2・2−ジメチル−4−カルボエトキシメチル5−オキ
ソ−シクロペンタン−1・3−ジカルボン酸ジメチルエ
ステル 2・2−ジメチル−4−カルボエトキシメチレン−5−
オキソ−シクロペンタン−1・3−ジカルボン酸ジメチ
ルエステル8.20Pをメタノール50縦および酢酸1
7727!中で10%パラジウム炭素5.02を加えて
接触還元を行なう。
水素662rulを吸収して後、触媒を1別し濃縮した
後、残留物をシリカゲルを用いてカラムクロマトグラフ
ィーで精製すると、油状の目的化合物7.336fが得
られる。
赤外吸収スペクトル(液膜状)ν crrL−にma
x 1770.1740 核磁気共鳴スペクトル(CDC13)δ22m:3.9
〜4.4(2H1多重線) 2.0〜3.9(i1H1多重線) 1.0〜1.6(9H1多重線) 質量スペクトル m/ e : M+−314参考例
3 2−カルボメトキシ−3・3−ジメチル−5−オキソ−
シクロベント−1α−イル酢酸メチルエステル 2・2−ジメチル−4−カルボエトキシメチル5−オキ
ソ−シクロペンタン−1・3−ジカルボン酸ジメチルエ
ステル7.34Fを濃塩酸100−に溶解し、2時間加
熱還流する。
反応終了後、反応混合物にトルエンを加えて共沸、減圧
下に濃縮した後、残留油状物をジアゾメタンを用いて常
法によりエステル化し、反応生成物をシリカゲルを用い
てカラムクロマトグラフィーで精製すると、油状の目的
化合物5.03S’が得られる。
赤外吸収スペクトル(液膜状)ν α−1:max 740 核磁気共鳴スペクトル(CDCl2) δ99m:3
.8(3H1−重線) 3.7(3H1−重線) 2.2〜3.1(6H1多重線) 1.4(3H1−重線) 1.0(3H1−重線) 質量スペクト# m/ e : M+= 242参考
例 4 2β−カルボメトキシ−3・3−ジメチル−5α−ヒド
ロキシ−シクロベント−1α−イル酢酸−γ−ラクトン 2−カルボメトキシ−3,3−ジメチル−5−オキソ−
シクロベント−1α−イル酢酸メチルエステル5.53
4Fを無水テトラヒドロフラン100縦に溶解し、−4
0℃まで冷却する。
この溶液に0、5 M/Jの濃度を有する水素化トリー
5ec−ブチルホウ素カリウムのテトラヒドロフラン溶
液50TfLlを滴下し、さらに同温度で30分間攪拌
する。
反応終了後、反応混合物に2N塩酸を加えて過剰のホウ
素化合物を分解し、エーテルを用いて抽出して後、有機
層を乾燥し濃縮する。
得られた残留物をシリカゲルを用いてカラムクロマトグ
ラフィーで精製すると、融点69.5〜71℃を有する
目的化合物2.269Pが得られる。
赤外吸収スペクトル(Nujol ) v max C
frL’ :1775.1765.1730 核磁気共鳴スペクトル(CDC13)δppm:4.9
(I H,複三重線、J=6、J=8)3.7(3H
1−重線) 1.5〜3.7(6H1多重線) 1.3(3H1−重線) 0.9(3H1−重線) 質量スペクト# m/ e : M+: 212参考
例 5 2β−カルボキシ−3・3−ジメチル−5αヒドロキシ
−シクロベント−1α−イル酢酸γ−ラクトン 2β−カルボメトキシ−3・3−ジメチル5α−ヒドロ
キシ−シクロペン)−1α−イル酢酸−γ−ラクトン2
2.85’を濃塩酸120m1中で90分間加熱還流す
る。
反応終了後、反応混合物を減圧下で濃縮、乾燥し残留し
た結晶2.05Pをイソプロピルエーテル→詐酸エチル
混液で再結晶すると、融点179.5〜181℃を有す
る目的化合物1.51Pが得られる。
赤外吸収スペクトル(NujOl)シmaXcrI′L
−1:1775.1695 核磁気共鳴スペクトル(CD3COCD3)δ94m:
8、2 (I H,broad ) 5.0(IH1複三複線重 線、6〜3.7(6H1多重線) 1.3(3H1−重線) 0.9(3H1−重線) 質量スペクト/L/ m/ e : M+= 198
参考例 6 2β−ヒドロキシメチル−3・3−ジメチル−5α−ヒ
ドロキシーシクロベント−1α−イル酢酸−γ−ラクト
ン 2β−カルボキシ−3・3−ジメチル−5αヒドロキシ
−シクロペント−1α−イル酢酸−γラクトン1.50
yおよびトリエチルアミン1.27m1を乾燥テトラヒ
ドロフラン30m1に溶解し、アルゴン気流中水冷下に
この溶液にクロル炭酸エチル0.7411Llを溶解し
た乾燥テトラヒドロフラン溶液101′/Llを滴下す
る。
1時間30分後、生成したトリエチルアミン塩酸塩を戸
別し、無水テトラヒドロフラン107711で洗浄し、
1液および洗液を、水素化ホウ素ナトリウム1.14f
を含有する水溶液25m1中に水冷下に滴下し、さらに
室温で1時間攪拌する。
反応終了後、反応混合物に1N塩酸を加えて酸性となし
、減圧下に溶剤を留去し、残留物に酢酸エチルおよび水
を加えて抽出、分液し、得られた有機層を乾燥、濃縮し
残留物をシリカゲルを用いるカラムクロマトグラフィー
で精製すると、油状の目的化合物1.027Pが得られ
る。
赤外吸収スペクトル(液膜状)シmaXCfIL−1:
3450.1770 核磁気共鳴スペクトル(CDC13)δ12m:4.9
(IH1多重線) 1.1(3H1−重線) 0.8(3H1−重線) 質量スペクトル m/ e : M+= 184参考例
7 2β−(3−オキソ−1−オクテニル)−3・3−ジメ
チル−5α−ヒドロキシ−シクロベント−1α−イル酢
酸−γ−ラクトン 2β−ヒドロキシメチル−3・3−ジメチル−5α−ヒ
ドロキシ−シクロベント−1α−イル酢酸−γ−ラクト
ン1.027S’をメチレンクロリド15mJに溶解し
、水冷下にクロム酸ピリジン錯塩10Fを溶解したメチ
レンクロリド100m1中に加えて、次いで室温で20
分間攪拌する。
反応終了後、反応混合物をエーテル300m1中に加え
、析出した無機物を戸別、洗浄し、1液および洗液をi
N水酸化ナトリウム、IN塩酸、水、3%重炭酸ナトリ
ウム水、水で順次洗浄し、乾燥、濃縮すると粗アルデヒ
ド化合物0.919S’が得られる。
得られたアルデヒド化合物を乾燥エーテル80rulに
溶解し、トリブチル−2−オキソヘプチリデンホスフオ
ラン2.32rを加えてアルゴン気流中室温で6時間攪
拌する。
反応終了後、反応混合物を濃縮し、残留物をシリカゲル
を用いて精製すると、油状の目的化合物1.176Pが
得られる。
赤外吸収スペクトル(液膜状)シmaxcIfL−1:
1775.170011675.1630核磁気共鳴ス
ペクトル(CDC13)δ22m:6.7(IH1複二
複線重線=16、J=8)6.1(LH,二重線、J=
16) 5.0(IH1多重線) 1.1(3H1−重線) 0.9(3H,−重線) 質量スペクト# m/ e : M+=278参考例
8 2β−(3α−ヒドロキシ−1−オクテニル)3・3−
ジメチル−5α−ヒドロキシ−シクロベント−1α−イ
ル酢酸−γ−ラクトンおよび2β−(3β−ヒドロキシ
−1−オクテニル)3・3−ジメチル−5α−ヒドロキ
シ−シクロベント−1α−イル酢酸−γ−ラクトン2β
−(3−オキソ−1−オクテニル)−3・3−ジメチル
−5α−ヒドロキシ−シクロペントlα−イル酢酸−γ
−ラクトン1.373fを無水メタノール70m1に溶
解し、水冷下に水素化ホウ素ナトリウム0.205ft
を加えて60分間攪拌する。
反応終了後、反応混合物に酢酸を含んだ水を加え、酢酸
エチルで抽出し、得られた有機層を乾燥、濃縮し、残留
油状物1.326ftを40crfL×20crnのシ
リカゲル薄層板を用いるプレパラテイブ薄層クロマトグ
ラフィーで精製する。
より極性の小すい3α−ヒドロキシ体が油状物として0
.655S’1より極性の大きい3β−ヒドロキシ体が
融点53〜54.5℃を有する結晶として0.562F
得られる。
赤外吸収スペクトルν crfL−1=3α−ヒトa
X ロキシ体(液膜状)345011770 3β−ヒドロキシ体(Nujol )3550.342
0、 1770 3αおよび3β異性体の核磁気共鳴スペクトルおよび質
量スペクトルは非常に類似している。
核磁気共鳴スペクトル(CDC13)δppm ”5.
4〜5.6(2H1多重線) 5.0(LH1多重線) 4.1(LH1多重線) 1.0(3I(、−重線) 0.8(3H,−重線) 質量スペクトk m/ e : M+= 280参考
例 9 2β−〔3α−(2−テトラヒドロピラニルオキシ)−
1−オクテニル〕−3・3−ジメチル5α−ヒドロキシ
−シクロペン)−1α−イル酢酸−γ−ラクトン 2β−(3α−ヒドロキシ−1−オクテニル)3・3−
ジメチル−5α−ヒドロキシ−シクロベント−1α−イ
ル酢酸−r−ラクトン0.6411を乾燥メチレンクロ
リド3011Llに溶解し、ジヒドロピランQ、5mを
加えて水冷した後、p−)ルエンスルホン酸を触媒量加
えて20分間攪拌する。
反応終了後、反応混合物にピリジン数滴を加え、次いで
エーテルおよび水を加えて抽出を行ない、得られた有機
層を乾燥、濃縮し残留物をアルミナを用いるカラムクロ
マトグラフィーで精製すると、油状の目的化合物0.8
64Pが得られる。
赤外吸収スペクトル(液膜状)ν crrt’:aX 775 核磁気共鳴スペクトル(CDCl5)、δ22m=5.
3〜5.6(2H1多重線) 4.9(IH1多重線) 4.6(IH1多重線) 3.1〜4.2(3H1多重線) 1.0(3H1−重線) 0.8(3H1−重線) 質量スペクトル m/ e : M+= 364参考例
10 2β−〔3β−(2−テトラヒドロピラニルオキシ)−
1−オクテニル〕−3・3−ジメチル−5α−ヒドロキ
シーシクロベント−1α−イル酢酸−γ−ラクトン 2β−(3β−ヒドロキシ−1−オクテニル)3・3−
ジメチル−5α−ヒドロキシ−シクロベント−1α−イ
ル酢酸−γ−ラクトン0.54rを乾燥メチレンクロリ
ド301rLlに溶解し、ジヒドロピラン0.5 rn
lを加えて氷冷した後、l) −トルエンスルホン酸を
触媒量加えて20分間攪拌する。
反応終了後、以下、参考例9と同様に処理、精製すると
、油状の目的化合物0.7495i’が得られる。
得られた目的化合物の赤外吸収スペクトル、核磁気共鳴
スペクトルおよび質量スペクトルは参考例9で得られた
3α一体と略々同一である。
参考例 11 2β−〔3α−(2−テトラヒドロピラニルオキシ)−
1−オクテニル〕−3・3−ジメチル−5α−ヒドロキ
シーシクロペン)−1α−イルアセトアルデヒド−γ−
へミアセタール2β−〔3α−(2−テトラヒドロピラ
ニルオキシ)−1−オクテニル)−3−3−ジメチル5
α−ヒドロキシ−シクロベント−1α−イル酢酸−γ−
ラクトン0.864rをトルエン26wLlに溶解し、
−70℃とした後、25%水素化イソブチルアルミニウ
ムトルエン溶液41rLlを滴下し、さらに同温度で1
.5時間攪拌する。
反応終了後、反応混合物にメタノール57711を加え
て内温を室温付近となし、さらに水5mlを加えてよく
攪拌し、析出した無機物をセライトを用いて1別し、酢
酸エチルで洗浄する。
1液および洗液を分液し、水層をさらに酢酸エチルで抽
出し、有機層を合せて乾燥し、濃縮し、残留油状物0.
917S’をシリカゲルを用いるカラムクロマトグラフ
ィーで精製すると、油状の目的化合物o、612?が得
られる。
赤外吸収スペクトル(液膜状)ν crn’:aX 425 核磁気共鳴スペクトル(CDC13)δppm=5.2
〜5.7(3H,多重線) 4.5〜4.9(2H1多重線) 3.2〜4.3 (3H1多重線) 1.0(3H,−重線) 0.8(3H1−重線) 質量スペクトル m/ e : M+= 366参考例
12 2β−〔3β−(2−テトラヒドロピラニルオキー/)
−1−オクテニル〕−3・3−ジメチル5α−ヒドロキ
シ−シクロベント−1α−イルアセトアルデヒド−γ−
へミアセタール2β−〔3β−(2−テトラヒドロピラ
ニルオキシ)−1−オクテニル〕−3・3−ジメチル5
α−ヒドロキシ−シクロベント−1α−イル酢酸−γ−
ラクトン0.7495’をトルエン22rrtlに溶解
し、−70℃とした後、25%水素化イソブチルアルミ
ニウムトルエン溶液3.48rrtlを滴下し、さらに
同温度で1.5時間攪拌する。
反応終了後、以下、参考例11と同様に処理、精製する
と、油状の目的化合物0.664 fが得られる。
得られた目的化合物の赤外吸収スペクトル、核磁気共鳴
スペクトルおよび質量スペクトルは参考例11で得られ
た3α一体と略々同一である。
参考例 13 9α−ヒドロキシ−11・11−ジメチル−15α−(
2−テトラヒドロピラニルオキシ)プロスト−5(シス
)、13(トランス)ジエン酸 2β−〔3α−(2−テトラヒドロピラニルオキシ)−
1−オクテニル〕−3・3−ジメチル5α−ヒドロキシ
−シクロベント−1α−イルアセトアルデヒド−γ−へ
ミアセタール0.5925’をジメチルスルフオキシド
5mlに溶解し、この溶液にあらかじめジメチルスルフ
オキシド中で50%水素化ナトリウム1.57fと4−
カルボキシn−ブチル−トリフェニルホスフォニウムプ
ロミド7、65 fから調整した4−カルボキシ−n−
ブチリデン−トリフェニルホスフォランを加えて室温で
2時間攪拌する。
反応終了後、反応混合物を氷水中に投入し、酢酸で酸性
とした後、エーテルを用いて抽出し、得られた有機層を
乾燥、濃縮すると、油状の粗目的化合物2.726yが
得られる。
この油状物を精製することなく次の酸化反応に使用した
参考例 14 9α−ヒドロキシ−11・11−ジメチル=15β−(
2−テトラヒドロピラニルオキシ)プロスト−5(シス
)、13(トランス)ジエン酸 2β−〔3β−(2−テトラヒドロピラニルオキシ)−
1−オクテニル〕−3・3−ジメチル5α−ヒドロキシ
−シクロベント−1α−イルアセトアルデヒド−γ−へ
ミアセタール0.632Pをジメチルスルフオキシド5
ydに溶解し、過剰の4−カルボキシ−n−ブチリデン
−トリフェニルホスフォランを加えて室温で2時間攪拌
する。
反応終了後、反応混合物を以下、参考例13と同様に処
理し、油状の粗目的化合物1.885’が得られる。
この油状物を精製することなく次の酸化反応に使用した

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1式 または低級アルキル基を示し、R3およびR4は同一ま
    たは異なって低級アルキル基を示し、R5は水酸基の保
    護基を示す。 )を有する化合物を酸化して 式 (式中、R1、R2、R3、R4およびR5は前述した
    ものと同意義を示す。 )を有する化合物を製造し次いで得られる化合物の水酸
    基の保護基を除去することを特徴とする 式 (式中、R1、R2、 と同意義を示す。 )誘導体の製法。
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