JPS5835050A - 溶湯の加熱機能を有する連続鋳造用タンデイツシユ - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 タンディッシュに係シ、特にタンディッシュ内溶湯温度
を適正範囲内に保持するための手段の提案に関する。

一般に連続鋳造においては、タンディッシュ内溶湯温度
が掃業上および鋳片の品質上の極めて重要な因子である
０例えば溶湯温度が低温に過きると鋳片表面に滓のかみ
込みや凹凸が多発し、また鋳片内に非金属介在物が多く
なり、清浄な鋳片が得難いばかりでなく、タンディツシ
ュノズルが詰り易くなり安定した操業を続けることがで
きなくなる。

逆に、溶湯温度が高温に過ぎる場合には、鋳片の凝固組
織は柱状晶がよく発達したものとなる之め、内部割れが
発生し易く、中心偏析も顕著となるばかりでなく、鋳片
表面の割れやブレークアウトが発生し易くなり、操業ト
ラブルの原因となる。

従って、タンディッシュ内溶湯温度を如何にして適正範
囲内に調整するかが操業を安定させ、鋳片品質を向上さ
せるための重要な操業条件となる。

ところが現実には、タンディッシュ内溶湯温度は第１図
に示すようなパターンをとることが周知である。すなわ
ち、鋳込初期にはタンディツシュの耐火物によって吸熱
されるために溶湯幅Ｉワが低ぐなり、鋳込中期ではタン
ディツシュ耐火物は熱的に定常状態になる一方、取鍋か
らの溶湯温度も高いのでタンディツシュ内溶湯温朋は高
くなる。

そして鋳込末期にけ取鍋からの溶湯温度が低くかつ最終
的にけ取鍋からの給湯もなくなるので、タンディツシュ
内溶湯温度は低下する。

従って、例えば鋳込初期のタンディツシュ自溶ｆｊｈ温
度を適切な温度に維持するためにヒート全体の温ｆを高
目にすると、第一図のように鋳込中期の溶湯温［け高く
なり過ぎ、前述のような内部割れや中心偏析さらにはブ
レークアウト発生などの問題がおこる。逆に鋳込中期の
溶湯温度を適切な温度に維持するためにヒート全体の温
度を低目にすると第３図に示すように、鋳込初期および
末期とりわけ鋳込初期の溶湯温度は低くなり鍋ぎ、鋳込
初期の鋳片には表面不良や非金属介在物の増加、あるい
けタンディツシュノズル詰りなどの問題が発生する。

このようなタンディツシュ内溶湯温度の変動をなくし、
鋳込期間中はぼ一定の温度を保持するための手段として
、例えば特開昭−？ｇ　−／ご３２３０号公報のような
タンディツシュの底部またけ細面にチャンネル型溝型誘
導加熱手段を設置し、溶湯を適温まで加熱する方法があ
る。

しかしながら、例えばタンディツシュの穴部に上記のよ
うな加熱手段を設置するためには、タンディツシュと鋳
型との間隔を相当大きくとる必要があるために、実際に
は実印困難であるが、そガでも実現させようとすれば前
記特開昭！ダー／に３２３θ号のように特別の形をした
タンディツシュを用いる必要があるので、鋳造装置の９
間的の制約その他の理由から、既設の連続鋳造装置に組
込むことが不可能な場合が多く、現実には実用化゛され
ていない。

また、加熱手段−をタンディツシュ側壁に設置すること
は、従来のタンディツシュを殆んど改造することなく、
その１１使用できる利点はあるが、かんじんのタンディ
ツシュ内溶湯温度の均一性が悪く、タンディツシュ内溶
湯温度を鋳込期間中、一定の温度範囲内に維持すること
は極めて困難なことである。

本発明は、タンディツシュ側壁に溝型誘導加熱手段を設
置した従来のタンディツシュにおける上記のような欠点
・問題点を解消して、タンディツシュ内溶湯温度の均一
性に優れた溝型誘導加熱手段を備えたタンディツシュを
捷供するものである。

本発明は溶湯の加熱機能を有する連続鋳造用タンディツ
シュにおいて、溝型誘導加熱手段を、取鍋からの溶湯注
入点と連続鋳造用鋳型への給湯ノズル位置との電量のタ
ンディツシュ外側壁部に設置し、上記溝型誘導加熱手段
のタンディツシュ内側に加熱手段の加熱領域内で、かっ
溶湯レベル以下に溶湯通路を有しタンディツシュ内容を
２分する堰を設けることによってタンディツシュ内溶湯
温度をにぼ均一に保持し、鋳型への注湯温關を適正範囲
内に維持することが可能となった連続鋳造用タンディツ
シユテアル。

次に本発明を実施態様に基づいて図面により詳細に説明
する。

第９図は本発明の実施例の一例を示すもので、・＋ＩＬ
）が平面、す）がａ図のＡ　−Ａ’断面図である。図中
／は取鍋（図示なし）からタンディツシュｔへの溶湯注
入点で、取鍋から注入された溶湯けすべて堰λにより、
強制的に溝型誘導加熱手段３の前方の狭い通路ダを通過
させられ、この間に溶湯が加熱されるために、溶湯の温
度均一性が極めて良好である。このように本発明の要点
け、中鍋から注入さｆＬ４溶湯をすべて、溝型誘導加熱
手段の直前を通過させるように堰を設置することにある
。この堰がない場合は、取鍋から注入された溶湯の大部
分は直接タンディツシュノズル！に移行シ、溶湯の一部
が局所的に加熱されるだけになるので、溶湯温度の均一
性が極めて悪くなるのけ当然のことと云える０ 次に本発明の実施例について、その効果を鏝明する。第
５図はタンディツシュ内溶湯温囲と助鍋から給湯され石
時間経過との関係を示すグラフであって、ＡＩｆｉｊｌ
大１０　）ンの溶鋼容量のタンディツシュに溝型誘導加
熱手段３と、この加熱手段の加熱領域内でかつ溶湯レベ
ル以下に幅２００　Ｆ＋１１　、高さ３００１１１ｇの
溶鋼通路グを持った堰コとを備え九本発明のタンディツ
シュ（第ダ図参照）を適用した場合の例で、またＢＦｉ
同じタンディツシュに溝型誘導加熱手段と幅２００　ｔ
ｍで高さは溶鋼レベル以上が開放さｔ′した溶鋼通路を
持った堰を設けた場合の例について、それぞれの溶鋼温
度の経時変化を示し急グラフである。

いずれも、鋳込初期は溶鋼温度を検出しつつ約り！θ廂
の電力（周波数！θＨｚ　）を供給し、所定の温度に達
した時点で通電を停止した。また鋳込末期には、Ａ、Ｂ
いずれもの場合においても、溶鋼が所定の温度を下廻っ
たところで約２６０　ｋ！逆通電たＯ 結果は第５図のグラフが示すように、溶鋼通路の幅がＡ
％　Ｂの両者共に２００　ｍであっても、高さが３０θ
鰭で溶鋼レベル以下であるＡの場合は、全仙込期間？通
じて温度変動が非常に少ないが、溶鋼通路の高さが溶鋼
レベル以上で開放状態になっているＢの場合には、鋳込
みの初期および末期においては、Ａと比較して溶湯温度
の変化が多いこ・とを示しているＯ すなわち、本発明のタンディツシュ内容ｆ２分する堰に
設ける溶湯通路の寸法は、溝型誘導力ｒｌ熱手段の能力
との関係によって定まるものである〃；。

加熱手段による加熱領竣内で、かつ上方力τ開放駄儒で
なく溶湯レベル以下の位置に溶湯ｊ山路を設けされて加
熱さｊる場合には、堰に設けら力る溶湯通路の寸法は幅
が３００鰭、高さがダθｔ）　ｔｍ　ｆ　Ｖ？、　ｊ＜
、ると、取鍋から注入された溶湯のかなりの部分７５１
型誘導加熱手段で加熱されずに、タンディツシュノズル
側へ到達してしまって、浴湯温度の均一イにが難しくな
るので、溶湯通路の幅は３ｏｏ　ｌｌ１ｆｆ以下、高さ
は４ｔｏｏＩＬ１１以下とするのが望ましいＯこのよう
に本発明のタンディツシュを適用すれば、タンディツシ
ュ溶湯温度を鋳込み全期間にわたり、任意の目標温度範
囲内に保持すること一可能となり、従来技術では鋳込み
初期および末期における溶湯温度の低下による鋳片の表
面性状や内部清浄が劣るという欠点を解消することがで
きて、゛鋳造され元金鋳片について表面性状や内部組織
・清浄度のバラツキの少ない鋳片が得られ、製品歩留り
品質の向上に貢献する効果は顔る大である０

【図面の簡単な説明】

第１図は通常のタンディツシュ内溶湯温度の鋳込み中に
おける経時変化を示すグラフ、第２図はヒート全体の温
度を高くした場合のタンディツシュ内溶湯温度の鋳込み
中の経時変化を示すグラフ、第３図はヒート全体の温度
を低くした場合のタンディツシュ内溶湯の鋳込み中の経
時変化の状ａｔ示すグラフ、第９図は本発明の実施例を
示すもので＋ａ）はタンディツシュの平面図（ｂ）はＡ
　−Ａ’断面図、第１図のＡ曲ＩｉＩは本発明のタンデ
ィツシュを適用した場合のタンディツシュ内溶湯温度の
鋳込み中の経時変化を示し８曲線は溶湯通路の上方が開
放状態の場合のタンディツシュ内溶湯温度の鋳込み中の
経時変化を示すそれぞれのグラフである。 ／・・・取鍋からの溶湯注入点、コ・・・堰、３・・・
溝型、誘導加熱手段、グ・・・溶湯通路、ｊ・・・タン
ディツシュノズル、ｇ・・・タンディツシュ。 特許出願人　川崎製鉄株式金社 廉場温友′ 廖罎温度　　　　　　　　　壌壜遥度

Claims (1)

【特許請求の範囲】
1. １、溝型誘導加熱手段を付設して溶湯の加熱機能を附与
   された連続鋳造用タンディツシュにおいて、上記溝型誘
   導加熱手段を取鍋からの溶湯注入点と連続鋳造用鋳型へ
   の給湯点との間のタンディツシュの側壁部に設置し、上
   記溝型誘導加熱手段のタンディツシュ内側には該溝型誘
   導加熱手段による加熱領域内でかつ溶湯レベル以下に溶
   湯通路を有しタンディツシュ内容を一分する堰を設けた
   ことを特徴とする溶湯の加熱機能を有する連続鋳造用タ
   ンディツシュ。