JPS5833637B2 - 記憶装置 - Google Patents

記憶装置

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JPS5833637B2
JPS5833637B2 JP53075743A JP7574378A JPS5833637B2 JP S5833637 B2 JPS5833637 B2 JP S5833637B2 JP 53075743 A JP53075743 A JP 53075743A JP 7574378 A JP7574378 A JP 7574378A JP S5833637 B2 JPS5833637 B2 JP S5833637B2
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JP
Japan
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field effect
write
constant potential
circuit
inverter stage
Prior art date
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Expired
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JP53075743A
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English (en)
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JPS554716A (en
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幹雄 京増
勇人 風間
英晴 豊本
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Mitsubishi Electric Corp
Original Assignee
Mitsubishi Electric Corp
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Publication date
Application filed by Mitsubishi Electric Corp filed Critical Mitsubishi Electric Corp
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Publication of JPS554716A publication Critical patent/JPS554716A/ja
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    • GPHYSICS
    • G11INFORMATION STORAGE
    • G11CSTATIC STORES
    • G11C19/00Digital stores in which the information is moved stepwise, e.g. shift registers
    • G11C19/28Digital stores in which the information is moved stepwise, e.g. shift registers using semiconductor elements

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Description

【発明の詳細な説明】 この発明は、記憶装置とくに半導体記憶装置に関する。
半導体記憶装置の記憶素子に情報を書き込む場合には、
負又は正の書き込み高圧信号を書き込み回路を介して記
憶素子に印加する型式のものが一般的である。
このような半導体記憶装置の構成は、例えば第1図に示
すブロック図の如くになっている。
第1図において、1はXアドレス入力回路、2はXデコ
ーダ、3はYアドレス入力回路、4はYデコーダ、5は
書き込み回路、6はYデコーダ4と書き込み回路5とを
つなぐバス・ライン、7はマトリクス状に配置された記
憶素子から成る記憶回路、8は書き込み回路5と記憶回
路7とをつなぐバス・ライン、9はデータ人出力回路で
ある。
上記のような構成の記憶装置にデータを書き込む場合に
は、アドレス入力回路1,3からの信号を受けて、デコ
ーダ2,4によって記憶回路7のマトリクス状に配置さ
れた多数の記憶素子の中から特定の記憶素子が選択され
る。
この選択された特定の記憶素子にデータを書き込む場香
には、記憶装置の外部から書き込み回路5を経て記憶回
路7の中の特定の記憶素子に負又は正の高圧信号を印加
する。
例えば、記憶回路Iの記憶素子がFAMO8構造の素子
から成っているときは、そのリースに負の高電圧を印加
してアバランシェにより生じた電子を浮遊ゲートに蓄積
することによって情報が記憶される。
以上述べたように、書き込み動作時において書き込み回
路5を経て記憶回路7の中の記憶素子に高圧書き込み信
号を印加する必要があるので、書き込み回路5を構成す
る論理回路が相補型絶縁ゲート電界効果トランジスタ(
以下JCMO8)ランジスタ」という。
)から成っている場合には、上記の高圧書き込み信号に
よってCMO8)ランジスタが破壊するおそれがあり、
従来はこのような回路にCMO8)ランジスタから成る
論理回路を用いることができなかった。
この発明は、上記のような問題点を解決し、CMO8)
ランジスタから成る論理回路を含んだ書き込み回路が書
き込み電圧で破壊されろことのないようにした記憶装置
を提供することを目的としている。
以下に本発明の一実施例を図面を参照して説明する。
第2図は、本発明の一実施例である半導体記憶装置の書
き込み回路部を示す回路図である。
第2図において、10はPチャネル電界効果トランジス
タ(以下「P−MO8T」という。
)11はNチャネル電界効果トランジスタ(以下N −
MO8TJという。
)であり、P−MO8TI O及びN−MO8T11は
CMO8)ランジスタから成る第1のインバータ12を
構成している。
13はPチャネルエンハンスメント型電界効果トランジ
スタ(以下IP−EMO8TIという。
)14はPチャネルデプレッション型電界効果トランジ
スタ(以下rP−E/D MO8TJという。
であり、P−EMO8T13及びP −E/DMO8T
14は第2のインバータ15を構成している。
16は書き込み制御回路、17は書き込み制御回路16
により制御されるPMO8T、1 BはそのゲートにP
MO8T17を介してアドレス入力信号が印加される、
PMO8T19はPMO8T18のゲートと主端子間に
接続されたコンデンサである。
PMO8T18は、書き込み信号の伝送を制御する開閉
器20を構成している。
第1のインバータ120入力にはバス・ライン6が接続
され、第2のインバータ15を構成している二つのトラ
ンジスタのうち、P−EMO8T13のゲートには上記
第1のインバータ12の出力端子が接続され、P−E/
D MO8T14のゲートは第1のインバータ120
入力端子に接続されている。
第2のインバータ15出力はPEMO8Tのドレイン端
子とP−E/D MO8Tのソース端子との接続点か
ら導出され、開閉回路20の出力と共通線でパスライン
8に接続されている。
VDD及びVSSはいずれも定電位点であり、この実施
例においては、VDDは正、■88は接地又は負電位で
ある。
次に、第2図に示した実施例の回路の動作について説明
する。
まず、書き込み時においては、Yアドレス入力回路3か
らの信号を受けて、Yデコーダ4により選択されたパス
ライン6をローレベルにするとP−MO8T10が導通
状態となり、N−MO8TIIが遮断状態となるので第
1のインバータ12の出力はハイレベルとなる。
この第1のインバータ12の出力を受けるp−EMO8
T13は遮断状態となり、第1のインバータ120入力
と同じローレベルの信号を受けるP−E/DMO8T1
4は完全に導通状態となる。
従って、第2のインバータ15の出力端子21は■ss
の電位となる。
他方、p−MO8T17は書き込み制御回路16の信号
により導通状態になるので、P−MO8T18のゲート
電位はローレベルとなる。
そこで、P−MO8T18のドレイン端子にVSSより
電位の低い書き込み信号が印加されると、コンデンサ1
90作用によってP−MO8T18が導通状態になり、
負の高電圧が開閉回路20の出力端子を経て、バス・ラ
イン8に供給される。
このとき、負の高電圧は、第2のインバータ15を構成
しているP −E/DMOS T 14には印加される
が、第2のインバータ15よりも前段に存する0MO3
)ランジスタから成る第1のインバータ12には印加さ
れないので、CMOSトランジスタ10.11が負の高
電圧で破壊するおそれはない。
次に読み出し時においては、前述した書き込み時の場合
と同様に、Yアドレス入力回路3の信号を受けてYデコ
ーダ4で選択されたバス・ライン6はローレベルである
ところが、書き込み制御回路16の信号によりP−MO
8T17は遮断状態になっているので、開閉器20を構
成しているP−MO8T18も遮断状態にある。
このとき、第2のインバータ15を構成しているP−E
/DMO8T14は前述したのと同様であるから完全に
導通状態になっており、第2のインバータ15の出力端
子21はVSSの電位になっており、従ってバス・ライ
ン8もVSSの電位となる。
なお、上記の説明では、書き込み電位として負の電圧を
印加する場合について述べたが、本発明は正の電圧を印
加する場合にも同様に実施できる。
すなわち、谷トランジスタの導電路型を上記の説明とす
べて逆にすると共に電位極性も逆にすればよく、上記の
説明と同様の効果を奏する。
以上述へたように、本発明によれば、書き込み信号の伝
送を制御する開閉回路の出力線を共通にする論理回路部
の終段インバータをP−E/DMO8Tを用いて構成す
るようにしたので、CMO8)ランジスタから成る論理
回路を含んだ書き込み回路が書き込み電圧で破壊するこ
とのない記憶装置を得ることができる。
【図面の簡単な説明】
第1図は半導体記憶装置の構成を示すブロック図、第2
図は本発明の一実施例である半導体記憶装置の書き込み
回路部を示す回路図である。 図において、12は第1のインバータ段、13はエンハ
ンスメント型電界効果トランジスタ、14はデプレッシ
ョン型電界効果トランジスタ、15は第2のインバータ
段、20は開閉回路。 図において、同一符号は同−又は相当する部分を示す。

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1 相補型絶縁ゲート電界効果トランジスタから成りア
    ドレス入力信号を受けて応動する第1のインバータ段、
    一方の主端子が第1の定電位点に接続されゲート端子が
    上記第1のインバータ段の入力端子に接続された一導電
    路型デプVツション型電界効果トランジスタと一方の主
    端子が第2の定電位点に接続されゲート端子が上記第1
    のインバータ段の出力端子に接続されたー導電路型エン
    ノ・ンスメント型電界効果トランジスタとから成り上記
    両トランジスタの夫々の他方の主端子同志を接続しこの
    接続点から出力を導出するようにした第2のインバータ
    段、上記アドレス入力信号を受けて応動し書き込み信号
    の伝送を制御すると共にその出力を上記第2のインバー
    タ段の出力端子との共通線から次段へ供給するようにし
    た開閉回路を有し、上記書き込み信号伝送時に上記デプ
    レッション型電界効果トランジスタが導通するようにし
    た書、き込み回路を備えたことを特徴とする記憶装置。 2 デプレッション型電界効果トランジスタの導電路型
    は、Pチャネル型であり、第1の定電位点は第2の定電
    位点より低電位であることを特徴とする特許請求の範囲
    第1項記載の記憶装置。 3 デプレッション型電界効果トランジスタの導電路型
    は、Nチャネル型であり、第1の定電位点は第2の定電
    位点より高電位であることを特徴とする特許請求の範囲
    第1項記載の記憶装置。
JP53075743A 1978-06-21 1978-06-21 記憶装置 Expired JPS5833637B2 (ja)

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JP53075743A JPS5833637B2 (ja) 1978-06-21 1978-06-21 記憶装置

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JPS554716A JPS554716A (en) 1980-01-14
JPS5833637B2 true JPS5833637B2 (ja) 1983-07-21

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