JPS5829591Y2 - 高周波加熱装置 - Google Patents

高周波加熱装置

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Publication number
JPS5829591Y2
JPS5829591Y2 JP1976137501U JP13750176U JPS5829591Y2 JP S5829591 Y2 JPS5829591 Y2 JP S5829591Y2 JP 1976137501 U JP1976137501 U JP 1976137501U JP 13750176 U JP13750176 U JP 13750176U JP S5829591 Y2 JPS5829591 Y2 JP S5829591Y2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
heating chamber
electric field
antenna
stirring blade
frequency oscillator
Prior art date
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Expired
Application number
JP1976137501U
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English (en)
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JPS5354443U (ja
Inventor
均 栗田
寛 寺崎
Original Assignee
松下電器産業株式会社
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Filing date
Publication date
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  • Constitution Of High-Frequency Heating (AREA)

Description

【考案の詳細な説明】 本考案は誘電加熱を行なう高周波加熱装置において、特
に、被加熱物の加熱ムラを防止する構成の改善に関する
ものである。
従来より電界攪拌翼を高周波発振器のアンテナを中心と
して回転させると攪拌効果が高く、加熱ムラが少なくな
ることが知られている。
しかしこれは被加熱物の量が比較的少なく、又厚みも薄
いものの場合で被加熱物が大きく、厚い場合ではその効
果も少なくなるのが実情であった。
そこで本考案は被加熱物の量が比較的大きいもの、厚い
ものを均一に加熱することを目的としたもので、加熱室
底面中央部の電界を他の底面より強くなるようにしたも
のである。
第1図は従来より用いられた加熱ムラ防止方法の1例で
、高周波発振器1のアンテナ2を中心に風力3により回
転する電界攪拌翼4が樹脂性の軸9に軸支されつつ回転
している。
こうすると、アンテナ2より発射された電波は直接加熱
室壁5を伝って加熱室底面6へ導びかれるもの、あるい
は電界攪拌翼4の隙間を通過して加熱室底面6へ向うも
の、さらには電界攪拌翼により分散されて加熱室壁5へ
達し、反射して加熱室底面6へ向うものに分けられ、そ
の結果加熱室底面にはまんべんなく電波が照射されると
言うものであった。
ここで被加熱物7が加熱室底面6附近に設置された場合
を考えると、従来の方法では加熱室底面6に向う電波が
どの位置でも均一化されたものであるため、例えば被加
熱物7が大きいもので形状が不均一なものの場合、加熱
室底面6の単位面積当り被加熱物の量が少ない部分は早
く加熱され、多い部分は加熱されにくいことになる。
そこで本考案は、まず、被加熱物の形状は一般的に中心
付近において厚く外周部分になるにしたがい薄くなって
ゆく傾向にあること、さらに使用者が加熱室内に被加熱
物を設置する場合大半が、加熱室底面の中央付近に設置
するという点に着目し、加熱室壁面6の中央部分の電界
を高く外周部分での電界を相対的に弱くなるようにした
ものであり、以下本考案の一実施例について説明する。
第2図において、電界攪拌翼4を高周波発振器1を設置
した加熱室壁に平行な金属面8をもつものとし、その中
心を樹脂軸9により軸支し、従来例と同様に風力3にて
アンテナ2の軸を中心に回転させた。
さらにこの金属面8はアンテナの先端よりも加熱室底面
に近い位置に配置している。
次に前記電界攪拌翼4の外端部よりも外側に先端部f)
S加熱室壁5との接触部分より電界攪拌翼4の回転中心
に近くなるように形成された反射板10を設けている。
すなわち反射板1oは平板状とせず途中よりアンテナ側
に向って折り曲げ、この折曲げ点11より先端部分まで
の平面の加熱室壁5となす角度を鋭角となるように構成
している。
上記構成によればアンテナ2より発射された電波は直接
加熱室壁5を伝って、 あるいは金属面8 に当り反射しながら電界攪拌翼4の外端部分へ導びかれ
る。
そこで反射板10により反射され、前記電界攪拌翼の外
端部との隙間より加熱室底面の中心部の方へ向うことに
なる。
なお上記金属面8の加熱室壁5との対向部分の面積、長
さ、反射板10の角度面積をかえることによりその量を
変化できることは言うまでもない。
次に第1表は従来例と本考案方式のものとの実験結果を
比較したものである。
実験に用いたオーブンは第3図に示すような寸法のもの
で、第5図に示す大きさのホットケーキを高周波出力6
00W、加熱時間2分30秒加熱したものである。
また実験に用いた電界攪拌翼4の寸法は第4図に示すご
とくで1反射板10“の寸法を317mmとしテイル。
以上の実験から明らかなように被加熱物の量が大きいも
の、あるいは中央部分が厚いものに対し、中央部分にお
いても外周部分と同様の加熱が期待でき均一加熱が実現
できる。
また電界攪拌翼の回転部分と加熱室との仕切板を反射板
の先端部分に取付けることにより、高価な仕切板を小型
化することが可能となり、コストダウンをはかることが
できる。
【図面の簡単な説明】
第1図は従来例を示す高周波加熱装置の断面図、第2図
は本考案の二実施例を示す高周波加熱装置の断面図、第
3図は実験に用いた同装置のオーブン寸法を示す斜視図
、第4図は同要部電界攪拌翼の寸法を示す斜視図、第5
図は同装置で加熱されたホットケーキの斜視図である。 2・・・・・・アンテナ、4・・・・・・電界攪拌翼、
5・・・・・・加 熱室。 10反射板。

Claims (1)

  1. 【実用新案登録請求の範囲】 加熱室壁の一部に加熱室壁に対し垂直に加熱室内にむか
    って直接アンテナを突出させた高周波発振器と、加熱室
    内に回転自在に設け、かつ高周波発振器を設けた加熱室
    壁に平行な金属面を被加熱物と前記アンテナの間に有す
    る電界攪拌翼と、この電界攪拌翼の回転部分より外側に
    電波に対する反射板とを有する構成とし、前記電界攪拌
    翼は少なくとも1部bS@記高周波発振器を設けた加熱
    室壁に平行なる金属面を有し、この金属面は前記アンテ
    ナの中心軸と略同−の軸を中心として回転する構造を有
    し、前記反射板は少なくとも1部分に。 前記高周波発振器を設けた加熱室壁とのなす角がアンテ
    ナ側から見て鋭角となる部分を有する高周波加熱装置。
JP1976137501U 1976-10-12 1976-10-12 高周波加熱装置 Expired JPS5829591Y2 (ja)

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JP1976137501U JPS5829591Y2 (ja) 1976-10-12 1976-10-12 高周波加熱装置

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JP1976137501U JPS5829591Y2 (ja) 1976-10-12 1976-10-12 高周波加熱装置

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Publication Number Publication Date
JPS5354443U JPS5354443U (ja) 1978-05-10
JPS5829591Y2 true JPS5829591Y2 (ja) 1983-06-29

Family

ID=28746333

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Families Citing this family (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS6383393U (ja) * 1986-11-19 1988-06-01
JPS63308146A (ja) * 1987-06-09 1988-12-15 株式会社 建鋼社 折たたみ鎧戸

Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS4824203U (ja) * 1971-07-29 1973-03-20
JPS50135642A (ja) * 1974-04-17 1975-10-28

Patent Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS4824203U (ja) * 1971-07-29 1973-03-20
JPS50135642A (ja) * 1974-04-17 1975-10-28

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JPS5354443U (ja) 1978-05-10

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