JPS6115586Y2 - - Google Patents

Description

【考案の詳細な説明】

この考案は低誘電体からなる基板上に金属片を
配設して励振口を形成してなる回転円板が加熱室
の高周波受入口に設けられた高周波加熱装置の改
良に関する。 第１図および第２図は従来の高周波加熱装置、
例えば電子レンジ全体の概略構成を示すもので、
１は本体である。この本体１内には加熱室２およ
びマグネトロン（高周波発振器）３が収納されて
いる。この加熱室２の天井板２ａには円形の高周
波受入口４が設けられており、この高周波受入口
４を上方から被うように空胴箱５が天井板２ａに
取付けられている。この空胴箱５は前記マグネト
ロン３から出力された高周波を導く連結部６に連
結され、この連結部６とともに導波管を構成する
ものである。また、加熱室２の高周波受入口４に
は、この高周波受入口４より若干小さい回転円板
７が設けられている。この回転円板７は低誘電体
からなる円形の基板８とこの基板８上に配設され
た扇形の４枚の金属片９……とから構成されてお
り、これらの各金属片９……は所定間隔離間して
配置され、各金属片９……間の間隙によつて略十
字状の励振口１０が形成されている。そして、こ
の回転円板７は空胴箱５に取付けられた回転軸１
１によつて回転自在に支持されているとともに、
上面には図示しない風受部が立設されており、例
えばマグネトロン３を冷却する冷却風が空胴箱５
内に導かれ、この冷却風によつて回転駆動される
ようになつている。 そしてマグネトロン３から出力された高周波は
導波管を通じて高周波受入口へ導かれ、各金属片
９……の表面で略全反射され、主に励振口１０を
通じて加熱室２内へ導入されることになり、励振
口１０は回転円板７の回転にともない回転される
ので、加熱室２内に導入される高周波エネルギの
分布を良好な状態に調整することができるように
なつている。 ところで、回転円板７は回転駆動されるもので
あるため、加熱室２の高周波受入口４周縁部位２
ｂと回転円板７との間にはリング状の間隙部１２
が形成されており、空胴箱５内に導かれた高周波
がこの間隙部１２を通つて加熱室２内に漏洩する
こともあつた。この場合、回転円板７が加熱室２
の天井板２ａと同一平面上で回転しているときの
間隙部１２の幅寸法Ａは略一定であるが、回転時
に回転円板７に上、下方向の振れが生じると第３
図に仮想線で示すように間隙部１２の大きさが変
化し、回転円板７の振れが最も大きくなる部位の
幅寸法Ｂが振れの中心部位の幅寸法Ａよりも極端
に大きく変化することがあつた。このように間隙
部１２の幅寸法が均一でなくなると間隙部１２を
通じて加熱室２内に導入される高周波の照射方向
が変化し、加熱室２内の高周波エネルギーの分布
が不均一になる問題があり、加熱室２内に載置さ
れた食品等が均一に加熱されない欠点があつた。 この考案は上記事情を考慮してなされたもの
で、その目的は、加熱室内に導かれる高周波エネ
ルギの分布を良好な状態に保持することができ、
加熱室内に載置された食品等を均一に加熱するこ
とができる高周波加熱装置を提供することにあ
る。 以下、この考案の一実施例を第４図乃至第６図
を参照して説明する。第４図は高周波加熱装置、
例えば電子レンジの概略構成を示すもので、第１
図乃至第３図と同一部分には同一の符号を付して
その説明を省略する。すなわち、この考案は加熱
室２１の高周波受入口２２周縁部に沿つて立脚部
２３を設けるとともに、前記立脚部２３の略中央
部位に回転円板７を配置したことを特徴とするも
のである。前記加熱室２１の天井板２１ａの一部
は空胴箱５の底板５ａによつて形成されており、
高周波受入口２２はこの底板５ａに設けられてい
る。また、前記立脚部２３は金属からなる筒状体
で、この立脚部２３の略中央部が高周波受入口２
２の周縁部に溶着等の手段によつて取着されてい
る。 そこで、上記構成のものにあつては、マグネト
ロン３から出力された高周波は空胴箱５内に導か
れたのち、大部分のものは回転円板７の励振口１
０を通つて加熱室２１内に導入される。また、空
胴箱５内に導かれた高周波のうち一部分は立脚部
２３と回転円板７との間の間隙部２４を通つて加
熱室２１内に導入される。ここで、回転円板７の
回転時に、回転円板７に上、下方向の振れが生じ
た場合、加熱室２１の高周波受入口２２には立脚
部２３が設けられているので、第５図に仮想線で
示すように回転円板７の振れが最も大きくなる部
位であつても立脚部２３までの距離、すなわち振
れが最も大きなる部位における間隙部２４の幅寸
法Ｔは回転円板７の振れの中心部位と立脚部２３
までの距離、すなわち振れの中心部位における間
隙部２４の幅寸法Ｓと略等しいものとなる。その
ため、従来のように間隙部２４から加熱室２１内
に導入される高周波の照射方向が変化して、加熱
室２１内の高周波エネルギの分布が不均一になる
おそれは少ない。出願人は次の実験によつてこの
ことを確認した。 第６図において、２５は加熱室２１内に載置さ
れた棚板で、この棚板２５の横寸法をＷ、奥行き
寸法をＤとする。また、それぞれ100c.c.の水を収
容した５個の容器２６ａ〜２６ｅを用意し、まず
棚板２５の中央に容器２６ａを配置し、この容器
２６ａの横方向両側にＷ／４の間隔を設けるととも に、奥行き方向両側にＤ／４の間隔を設けた位置に４ 個の容器２６ｂ〜２６ｅをそれぞれ配置する。こ
の状態でマグネトロン３を２分間動作させて各容
器２６ａ〜２６ｅ内の水の温度上昇値を調べる。
そして、各容器２６ａ〜２６ｅ内の水の温度上昇
値のうち最小温度上昇値（MIN上昇値）および最
大温度上昇値（MAX上昇値）を調べるとともに
平均温度上昇値を算出し、水分布率（）および
偏差（）を求めるようにしたものである。ここ
で、 水分布率（）＝ＭＩＮ上昇値／ＭＡＸ上昇値×100
（％） 偏差（） ＝ＭＡＸ上昇値−ＭＩＮ上昇値／平均温度上昇値×100
（％） とする。そして、同じ条件で従来構成のもの（立
脚部なしの場合）と本考案の構成のもの（立脚部
２３を設けた場合）とでそれぞれ実験を行なつ
た。 実験結果を表に示す。（サンプル数ｎ＝10）

【表】 この表からも明らかなように、従来構成のもの
に比べて本考案の構成のものは水分布率（）の
値が大きいので、各容器２６ａ〜２６ｅ内の水の
温度上昇値のばらつきが小さいことがわかる。ま
た、このことは従来の構成のものに比べて本考案
の構成のものの偏差（）の値が小さいことから
も確認することができる。したがつて、加熱室２
１の高周波受入口２２に立脚部２３を設けた場
合、従来より回転円板７の上、下方向の振れの影
響が少ないので、高周波受入口２２から加熱室２
１内に導入される高周波エネルギは従来よりも均
一に分布されていることになる。 かくして、加熱室２１の高周波受入口２２に立
脚部２３を設けることによつて、回転円板７が回
転中に回転円板７に上、下方向の振れが生じたと
しても、間隙部２４の幅寸法の変化を少なくする
ことができるので、間隙部２４を通過して加熱室
２１内に導かれる高周波エネルギの照射方向の変
化を少なくすることができる。そのため、加熱室
２１内に導入される高周波のインピーダンスおよ
び出力を安定化させることができ、加熱室２１内
に載置された食品等を均一に加熱することができ
る。また、加熱室２１の天井板２１ａの高周波受
入口２２の周縁部に立脚部２３を取着したので、
天井板２１ａの強度を高めることができ、耐久性
の向上を図ることができる。 なお、この考案は上記実施例に限定されるもの
ではない。例えば、第７図に示すように加熱室３
１の天井板３１ａの高周波受入口３２周縁部をプ
レス等の手段によつて加熱室３１の内部側へ折曲
することにより立脚部３３を形成するようにして
もよく、さらに第８図に示すように加熱室４１の
天井板４１ａの高周波受入口４２周縁部を加熱室
４１の外部側へ折曲することにより立脚部４３を
形成するようにしてもよい。また、その他この考
案の要旨を逸脱しない範囲で種々変形実施できる
ことは勿論である。 以上説明したように、この考案は低誘電体から
なる基板上に励振口を形成する金属片が配設され
てなる回転円板を加熱室の高周波受入口に配設し
た高周波加熱装置において、前記加熱室の高周波
受入口周縁部に沿つて立脚部を設けるとともに、
前記立脚部の略中央部位に前記回転円板を配置し
たことを特徴とするものである。したがつて、回
転円板に上、下方向の振れが生じた場合であつて
も、立脚部と回転円板との間の間隙部の幅寸法が
極端に変化することはないので、高周波受入口を
通つて加熱室内に導入される高周波のうち、前記
間隙部を通つて加熱室内に導入される高周波の照
射方向の変化を少なくすることができる。そのた
め、加熱室内に導かれる高周波エネルギの分布を
良好な状態に保持することができ、加熱室内に載
置された食品等を均一に加熱することができる。

【図面の簡単な説明】

第１図乃至第３図は従来例を示すもので、第１
図は全体の概略構成を示す平面図、第２図は第１
図の−線断面図、第３図は要部を示す縦断面
図、第４図乃至第６図はこの考案の一実施例を示
すもので、第４図は全体構成を示す縦断面図、第
５図は要部構成を示す縦断面図、第６図は棚板上
の容器の配置状態を示す平面図、第７図および第
８図はそれぞれ異なる別の実施例の要部を示す縦
断面図である。 ３……マグネトロン（高周波発振器）、５……
空胴箱（導波管）、６……連結部（導波管）、７…
…回転円板、８……基板、９……金属片、１０…
…励振口、２１，３１，４１……加熱室、２２，
３２，４２……高周波受入口、２３，３３，４３
……立脚部。

Claims (1)

【実用新案登録請求の範囲】
1. 高周波発振器から出力された高周波を導波管を
   介して加熱室内へ導くとともに、低誘電体からな
   る基板上に金属片を配設して励振口を形成した回
   転円板を前記加熱室の高周波受入口に配設した高
   周波加熱装置において、前記加熱室の高周波受入
   口周縁部に沿つて立脚部を設けるとともに、前記
   立脚部の略中央部位に前記回転円板を配置したこ
   とを特徴とする高周波加熱装置。