JP3750652B2 - 高周波加熱装置 - Google Patents
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Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、スチーム調理が可能な高周波加熱装置に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】
従来、この種の高周波加熱装置としては、図５に記載されているようなものがあり、オーブン１内の食品を誘電加熱と加熱雰囲気中の蒸気で加熱する構成とすることにより、オーブン１内の食品などの被加熱物を任意の温度の水蒸気雰囲気中にて加熱することができる。（例えば、特許文献１参照）。
【０００３】
しかしながら、蒸気を発生させるための装置をオーブン外に新規に設置することが必要である、またその蒸気発生装置を制御するための制御装置も必要になりコスト高となるとともに装置全体が複雑になり故障も生じやすい。さらに蒸気発生装置・制御部をオーブン外に設置する必要があり高周波加熱装置全体の容積が大となり設置性・使い勝手の悪いものになる。
【０００４】
また他の従来例として、図６に記載されているようなものがあり、加熱室６内の載置台７に食品と共に置かれた高周波吸収多孔体８に水を含ませ、高周波により食品と共に加熱することで蒸気を発生させている（例えば、特許文献２参照）。
【０００５】
しかしながら、高周波吸収多孔体８を加熱室６内の載置台７の上に食品とともに置くため食品を置くスペースが小さくなる、また食品を置くスペースを確保するため高周波吸収多孔体８は小さいものに限られその結果蒸気発生量が少なくなる欠点を有していた。
【０００６】
さらに他の従来例として、図７に記載されているようなものがあり、加熱室９の内部に配置された載置台１０の周縁の内側の全周に亘る凹溝１１を形成し、凹溝に水負荷を注入する。上方からマグネトロン１２により発生したマイクロ波を加熱室に導入し水負荷及び食品に作用させ蒸気を発生しながら加熱調理するものである。（例えば、特許文献３参照）。
【０００７】
しかしながら、上方からマイクロ波を照射するため載置台に置かれた食品にマイクロ波のエネルギーが大部分吸収され載置台周縁の凹溝１１に注入された水の加熱が不十分で蒸気が発生されにくい欠点を有していた。そのため食品が乾燥しスチーム料理特有の潤いあるおいしさが得られにくい欠点が見られた。
【０００８】
【特許文献１】
特開平９−４８４９号公報
【特許文献２】
特開平７−１５８８５８号公報
【特許文献３】
特開平６−２４９４４５号公報
【０００９】
【発明が解決しようとする課題】
本発明は、前記従来の課題を解決するもので、安価でしかも構造の簡単な蒸気発生装置を考案し、スチーム調理特有の潤いあるおいしさが得られるスチーム機能付き高周波加熱装置を提供することを目的とする。
【００１０】
【課題を解決するための手段】
前記従来の課題を解決するために、本発明の加熱調理器は、食品を収納する加熱室と、加熱室の底部を形成し食品を載置する載置台と、高周波を発生させ高周波加熱を行う高周波発生手段を備え、前記載置台は水等の液体を蓄えられる凹部を有する構成である。
【００１１】
また載置台の下部に高周波撹拌室を形成し、高周波撹拌室の底面のほぼ中央に形成された給電口から高周波発生手段により発生した高周波を給電する構成とした。
【００１２】
また高周波を拡散させる回転導波管を給電口を中心として回転させる構成とした。
【００１３】
また載置台の凹部は載置台のほぼ中央を中心とした円弧状の溝で構成した。
【００１４】
また載置台は誘電率の低いセラミックスで構成した。
【００１５】
【発明の実施の形態】
請求項１記載の発明は、食品を収納する加熱室と、加熱室の底部を形成し食品を載置する載置台と、高周波を発生させ高周波加熱を行う高周波発生手段を備え、前記載置台は水等の液体を蓄えられる凹部と、前記載置台の下部に高周波撹拌室を形成し、高周波撹拌室の底面のほぼ中央に形成された給電口から高周波発生手段により発生した高周波を給電する高周波加熱装置であって、前記凹部は前記載置台のほぼ中央を中心とした円弧状の溝で構成し、高周波を拡散させる回転導波管を前記給電口を中心として回転させ、前記回転導波管の電波放射口と前記凹部に蓄えられた水との距離を一定に保つことを特徴としている、この構成によると、回転動作を行う回転導波管の電波放射口と凹部に蓄えられた水との距離を至近距離で一定に保つことができ、効率よく載置台の凹部に蓄えられた水を加熱できる。
【００１６】
請求項２記載の発明は請求項１に記載の高周波加熱装置において、載置台を誘電率の低いセラミックで構成することにより、給電口より給電された高周波のエネルギーを載置台に吸収されにくくできる、その結果、載置台の凹部に蓄えられた水を効率よく加熱できる。
【００１７】
【実施例】
以下本発明の実施例について、図面を参照しながら説明する。
【００１８】
（実施例１）
図１は、本発明の実施例における高周波加熱装置の概略構成断面図である。
【００１９】
金属製の外箱１３の内部には食品１４を高周波により加熱調理する加熱室１５と、加熱室１５の下部に設置されマグネトロン等の高周波発生装置１６から放射された高周波を攪拌する高周波攪拌室１７が設けられている。高周波攪拌室１７の底面中央には、高周波発生装置１６から放射された高周波を高周波攪拌室１７に導入する給電口１８、高周波発生装置１６から給電口１８まで高周波を導く導波管１９が設置されている。電波攪拌室１７には、給電口１８を中心として回転する回転導波管２０が設けられている。回転導波管２０は図２に外観を示す。図２において２０ａは回転導波管２０の上壁を形成する上板、２０ｂは回転導波管２０の側壁を形成する横板、２０ｃは回転導波管２０の後壁を形成する裏板、２０ｄは高周波の横漏れをふさぐフランジである、２０ｅは回転の軸となる回転軸である。横板２０ｂ・裏板２０ｃ・フランジ２０ｄは高周波を遮断する働きがあり、給電口１８から給電された高周波は、回転導波管２０内に導かれ、図２に示すＡ方向に指向性を持って高密度に放射される。回転導波管２０は、図１に示すようにモーター２１に結合され、回転動作を行い高周波を加熱室１５内にまんべんなく放射する。
【００２０】
２２は加熱室１５の底部を構成し食品１４を載置する載置台である。載置台２２は誘電率の低いセラミックスで形成され高周波を透過させる、また誘電率が低いため、高周波エネルギーを吸収しにくく高周波は効率よく食品１４に吸収される。載置台２２には凹部２３が形成され、水２４が蓄えられる。凹部２３はカバー２５により覆われ、食品１４をカバー２５の上にも載置できる、またカバー２５は、凹部に蓄えられた水が沸騰したときの飛散も防止している。凹部２３は図３に示すように円弧状をしており、その半径は、ほぼ回転導波管２０の回転半径と同じか若干大きく設定されている。 次に、以上のごとく構成された本発明装置の動作について説明する。高周波加熱装置（マグネトロン）１６から放射された高周波は、導波管１９を通して給電口１８に導かれ、給電口１８から回転導波管２０に入る、回転導波管２０は、高周波の拡散を防ぎ、指向性を持って高密度に高周波を放射するが、回転動作を行うので加熱室１５のどの方向にも均等に放射を行い、均一な高周波分布を得ることができる。回転導波管２０から放射された高周波は、まず載置台２２の凹部２３に蓄えられた水２４に吸収され、水２４を加熱し、沸騰により蒸気を発生させる（矢印で示す）。調理開始初期は、蓄えられた水の量が多いため、高周波の大部分は水２４に吸収され、食品１４を加熱する高周波エネルギーの割合は少ない、蒸発の継続により、水２４の量は減少するが、減少に従って食品１４に吸収される高周波エネルギー量は増加する。このように本発明では、調理開始初期は蒸気によるスチーム加熱の割合が高周波加熱の割合より多く、水２４の減少に伴い高周波加熱の割合が多くなる。
【００２１】
このような調理プロセスを行うことにより、次のメリットがある。調理初期に大量の蒸気が発生し加熱室１５に充満するため加熱室１５内が非常に高湿度の雰囲気となる。この状態で高周波調理を行うと、食品１４からの水の蒸発量と食品１４の中に入り込もうとする蒸気がバランスがとれた状態となり、食品１４の内部の水分が移動しなくなる。これにより食品１４を加熱しても、食品１４の水分が蒸発して減少することが防止でき、食品１４が乾燥状態になったり、固くなったり、パサパサになってしまうこともなく、潤いのある・おいしく・しっとりとした食品１４の仕上がり状態が得られることになる。
【００２２】
本発明の実施例の構成によると、加熱室１５の１部である載置台２２に凹部２３を形成することで、直接水２４を蓄えられ、その水２４を高周波発生手段により加熱することで、蒸気を大量に発生させることができる。加熱室１５外にタンクやヒータを設けることで蒸気を発生する構成に比べ、安価で構成がきわめて簡単な、スチーム機能付き高周波加熱装置を提供できる。また加熱室１５外に蒸気発生装置を設けて装置全体が大型になって設置場所をとるというような不具合も解消でき、小型でコンパクトな装置を実現できる。さらに蒸気を発生するためのヒータも必要ないので、ヒータに使用される電力は不要であり省エネルギーである。
【００２３】
また、載置台２２の下部に高周波撹拌室１７を形成し、高周波撹拌室１７の底面のほぼ中央に形成された給電口１８から、高周波発生手段１６により発生した高周波を給電する構成としたため、給電口１８と載置台２２に形成された凹部２３の距離は、給電口１８と食品１４の距離よりも短くできる、その結果、高周波発生手段１６から給電された高周波は、大部分載置台２２の凹部２３に蓄えられた水２４に吸収され、水２４を効率よく加熱し蒸気を大量に発生できる。
【００２４】
また、高周波の拡散を防ぎ、指向性を持って高密度に高周波を放射する回転導波管２０を給電口１８を中心として回転させる構成としたため、給電口１８から給電された高周波は回転導波管２０で載置台２２に形成された凹部２３近くまで高密度で導かれ、効率よく凹部２３に蓄えられた水２４を加熱できる。また回転することにより高周波を加熱室１５内にまんべんなく放射できむらのない電波調理性能を得ることができる。
【００２５】
また、載置台２２に形成する凹部２３を、載置台２２のほぼ中央を中心とした円弧状の溝で構成したため、回転動作を行う回転導波管２０の電波放射口と、凹部２３に蓄えられた水２４との距離を、至近距離で一定に保つことができ、効率よく載置台２２の凹部２３に蓄えられた水２４を加熱できる。
【００２６】
さらに、載置台２２を誘電率の低いセラミックで構成することにより、給電口１８より給電された高周波のエネルギーを、載置台２２に吸収されにくくできる、その結果、載置台２２の凹部２３に蓄えられた水２４を効率よく加熱できる。
【００２７】
（実施例２）
図４に、第２実施例の高周波加熱装置の概略構成断面図を示す。図４において、２６は耐熱ガラスで形成された器で、食品１４にかぶせるように設置されている。器２６を食品１４にかぶせることにより、載置台２２の凹部２３から発生した蒸気は、より高密度に閉じこめられ、食品１４により多くの水分を供給し、潤いを与える。シュウマイ・豚まん等のより多くの水分が必要な食品のあたために適する。
【００２８】
【発明の効果】
以上のように、請求項１〜２に記載の発明によれば、次の効果が得られる。
【００２９】
加熱室の１部である載置台に凹部を形成することで、直接水を蓄えられ、その水を高周波発生手段により加熱することにより、蒸気を大量に発生させることができる。加熱室外にタンクやヒータを設け蒸気を発生する構成に比べ、安価で構成がきわめて簡単なスチーム機能付き高周波加熱装置を提供できる。また加熱室外に蒸気発生装置を設けて装置全体が大型になって設置場所をとるというような不具合も解消でき、小型でコンパクトな装置を実現できる。さらに蒸気を発生するためのヒータも必要ないのでヒータに使用される電力は不要であり省エネルギーである。
【００３０】
また、載置台の下部に高周波撹拌室を形成し、高周波撹拌室の底面のほぼ中央に形成された給電口から、高周波発生手段により発生した高周波を給電する構成としたため、給電口と載置台に形成された凹部の距離は、給電口と食品の距離よりも短くできる、その結果、高周波発生手段から給電された高周波は、大部分載置台の凹部に蓄えられた水に吸収され、水を効率よく加熱し蒸気を大量に発生できる。
【００３１】
また、高周波の拡散を防ぎ、指向性を持って高密度に高周波を放射する回転導波管を給電口を中心として回転させる構成としたため、給電口から給電された高周波は、回転導波管で載置台に形成された凹部近くまで高密度で導かれ、効率よく凹部に蓄えられた水を加熱できる。また回転することにより高周波を加熱室にまんべんなく放射でき、むらのない電波調理性能を得ることができる。
【００３２】
また、載置台に形成する凹部を載置台のほぼ中央を中心とした円弧状の溝で構成したため、回転動作を行う回転導波管の電波放射口と、凹部に蓄えられた水との距離を至近距離で一定に保つことができ、効率よく載置台の凹部に蓄えられた水を加熱できる。
【００３３】
さらに、載置台を誘電率の低いセラミックで構成することにより、給電口より給電された高周波のエネルギーを載置台に吸収されにくくできる、その結果、載置台の凹部に蓄えられた水を効率よく加熱できる。
【図面の簡単な説明】
【図１】 本発明の実施例１の高周波加熱装置の概略構成断面図
【図２】 本発明の実施例１の回転導波管の外観図
【図３】 本発明の実施例１の載置台の外観図
【図４】 本発明の実施例２の高周波加熱装置の概略構成断面図
【図５】 従来の高周波加熱装置の原理断面図
【図６】 他の従来の高周波加熱装置の概略構成図
【図７】 他の従来の高周波加熱装置の概略構成側面断面図
【符号の説明】
１５ 加熱室
１６ 高周波発生手段
１７ 高周波攪拌室
１８ 給電口
２０ 回転導波管
２２ 載置台
２３ 凹部
【発明の属する技術分野】
本発明は、スチーム調理が可能な高周波加熱装置に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】
従来、この種の高周波加熱装置としては、図５に記載されているようなものがあり、オーブン１内の食品を誘電加熱と加熱雰囲気中の蒸気で加熱する構成とすることにより、オーブン１内の食品などの被加熱物を任意の温度の水蒸気雰囲気中にて加熱することができる。（例えば、特許文献１参照）。
【０００３】
しかしながら、蒸気を発生させるための装置をオーブン外に新規に設置することが必要である、またその蒸気発生装置を制御するための制御装置も必要になりコスト高となるとともに装置全体が複雑になり故障も生じやすい。さらに蒸気発生装置・制御部をオーブン外に設置する必要があり高周波加熱装置全体の容積が大となり設置性・使い勝手の悪いものになる。
【０００４】
また他の従来例として、図６に記載されているようなものがあり、加熱室６内の載置台７に食品と共に置かれた高周波吸収多孔体８に水を含ませ、高周波により食品と共に加熱することで蒸気を発生させている（例えば、特許文献２参照）。
【０００５】
しかしながら、高周波吸収多孔体８を加熱室６内の載置台７の上に食品とともに置くため食品を置くスペースが小さくなる、また食品を置くスペースを確保するため高周波吸収多孔体８は小さいものに限られその結果蒸気発生量が少なくなる欠点を有していた。
【０００６】
さらに他の従来例として、図７に記載されているようなものがあり、加熱室９の内部に配置された載置台１０の周縁の内側の全周に亘る凹溝１１を形成し、凹溝に水負荷を注入する。上方からマグネトロン１２により発生したマイクロ波を加熱室に導入し水負荷及び食品に作用させ蒸気を発生しながら加熱調理するものである。（例えば、特許文献３参照）。
【０００７】
しかしながら、上方からマイクロ波を照射するため載置台に置かれた食品にマイクロ波のエネルギーが大部分吸収され載置台周縁の凹溝１１に注入された水の加熱が不十分で蒸気が発生されにくい欠点を有していた。そのため食品が乾燥しスチーム料理特有の潤いあるおいしさが得られにくい欠点が見られた。
【０００８】
【特許文献１】
特開平９−４８４９号公報
【特許文献２】
特開平７−１５８８５８号公報
【特許文献３】
特開平６−２４９４４５号公報
【０００９】
【発明が解決しようとする課題】
本発明は、前記従来の課題を解決するもので、安価でしかも構造の簡単な蒸気発生装置を考案し、スチーム調理特有の潤いあるおいしさが得られるスチーム機能付き高周波加熱装置を提供することを目的とする。
【００１０】
【課題を解決するための手段】
前記従来の課題を解決するために、本発明の加熱調理器は、食品を収納する加熱室と、加熱室の底部を形成し食品を載置する載置台と、高周波を発生させ高周波加熱を行う高周波発生手段を備え、前記載置台は水等の液体を蓄えられる凹部を有する構成である。
【００１１】
また載置台の下部に高周波撹拌室を形成し、高周波撹拌室の底面のほぼ中央に形成された給電口から高周波発生手段により発生した高周波を給電する構成とした。
【００１２】
また高周波を拡散させる回転導波管を給電口を中心として回転させる構成とした。
【００１３】
また載置台の凹部は載置台のほぼ中央を中心とした円弧状の溝で構成した。
【００１４】
また載置台は誘電率の低いセラミックスで構成した。
【００１５】
【発明の実施の形態】
請求項１記載の発明は、食品を収納する加熱室と、加熱室の底部を形成し食品を載置する載置台と、高周波を発生させ高周波加熱を行う高周波発生手段を備え、前記載置台は水等の液体を蓄えられる凹部と、前記載置台の下部に高周波撹拌室を形成し、高周波撹拌室の底面のほぼ中央に形成された給電口から高周波発生手段により発生した高周波を給電する高周波加熱装置であって、前記凹部は前記載置台のほぼ中央を中心とした円弧状の溝で構成し、高周波を拡散させる回転導波管を前記給電口を中心として回転させ、前記回転導波管の電波放射口と前記凹部に蓄えられた水との距離を一定に保つことを特徴としている、この構成によると、回転動作を行う回転導波管の電波放射口と凹部に蓄えられた水との距離を至近距離で一定に保つことができ、効率よく載置台の凹部に蓄えられた水を加熱できる。
【００１６】
請求項２記載の発明は請求項１に記載の高周波加熱装置において、載置台を誘電率の低いセラミックで構成することにより、給電口より給電された高周波のエネルギーを載置台に吸収されにくくできる、その結果、載置台の凹部に蓄えられた水を効率よく加熱できる。
【００１７】
【実施例】
以下本発明の実施例について、図面を参照しながら説明する。
【００１８】
（実施例１）
図１は、本発明の実施例における高周波加熱装置の概略構成断面図である。
【００１９】
金属製の外箱１３の内部には食品１４を高周波により加熱調理する加熱室１５と、加熱室１５の下部に設置されマグネトロン等の高周波発生装置１６から放射された高周波を攪拌する高周波攪拌室１７が設けられている。高周波攪拌室１７の底面中央には、高周波発生装置１６から放射された高周波を高周波攪拌室１７に導入する給電口１８、高周波発生装置１６から給電口１８まで高周波を導く導波管１９が設置されている。電波攪拌室１７には、給電口１８を中心として回転する回転導波管２０が設けられている。回転導波管２０は図２に外観を示す。図２において２０ａは回転導波管２０の上壁を形成する上板、２０ｂは回転導波管２０の側壁を形成する横板、２０ｃは回転導波管２０の後壁を形成する裏板、２０ｄは高周波の横漏れをふさぐフランジである、２０ｅは回転の軸となる回転軸である。横板２０ｂ・裏板２０ｃ・フランジ２０ｄは高周波を遮断する働きがあり、給電口１８から給電された高周波は、回転導波管２０内に導かれ、図２に示すＡ方向に指向性を持って高密度に放射される。回転導波管２０は、図１に示すようにモーター２１に結合され、回転動作を行い高周波を加熱室１５内にまんべんなく放射する。
【００２０】
２２は加熱室１５の底部を構成し食品１４を載置する載置台である。載置台２２は誘電率の低いセラミックスで形成され高周波を透過させる、また誘電率が低いため、高周波エネルギーを吸収しにくく高周波は効率よく食品１４に吸収される。載置台２２には凹部２３が形成され、水２４が蓄えられる。凹部２３はカバー２５により覆われ、食品１４をカバー２５の上にも載置できる、またカバー２５は、凹部に蓄えられた水が沸騰したときの飛散も防止している。凹部２３は図３に示すように円弧状をしており、その半径は、ほぼ回転導波管２０の回転半径と同じか若干大きく設定されている。 次に、以上のごとく構成された本発明装置の動作について説明する。高周波加熱装置（マグネトロン）１６から放射された高周波は、導波管１９を通して給電口１８に導かれ、給電口１８から回転導波管２０に入る、回転導波管２０は、高周波の拡散を防ぎ、指向性を持って高密度に高周波を放射するが、回転動作を行うので加熱室１５のどの方向にも均等に放射を行い、均一な高周波分布を得ることができる。回転導波管２０から放射された高周波は、まず載置台２２の凹部２３に蓄えられた水２４に吸収され、水２４を加熱し、沸騰により蒸気を発生させる（矢印で示す）。調理開始初期は、蓄えられた水の量が多いため、高周波の大部分は水２４に吸収され、食品１４を加熱する高周波エネルギーの割合は少ない、蒸発の継続により、水２４の量は減少するが、減少に従って食品１４に吸収される高周波エネルギー量は増加する。このように本発明では、調理開始初期は蒸気によるスチーム加熱の割合が高周波加熱の割合より多く、水２４の減少に伴い高周波加熱の割合が多くなる。
【００２１】
このような調理プロセスを行うことにより、次のメリットがある。調理初期に大量の蒸気が発生し加熱室１５に充満するため加熱室１５内が非常に高湿度の雰囲気となる。この状態で高周波調理を行うと、食品１４からの水の蒸発量と食品１４の中に入り込もうとする蒸気がバランスがとれた状態となり、食品１４の内部の水分が移動しなくなる。これにより食品１４を加熱しても、食品１４の水分が蒸発して減少することが防止でき、食品１４が乾燥状態になったり、固くなったり、パサパサになってしまうこともなく、潤いのある・おいしく・しっとりとした食品１４の仕上がり状態が得られることになる。
【００２２】
本発明の実施例の構成によると、加熱室１５の１部である載置台２２に凹部２３を形成することで、直接水２４を蓄えられ、その水２４を高周波発生手段により加熱することで、蒸気を大量に発生させることができる。加熱室１５外にタンクやヒータを設けることで蒸気を発生する構成に比べ、安価で構成がきわめて簡単な、スチーム機能付き高周波加熱装置を提供できる。また加熱室１５外に蒸気発生装置を設けて装置全体が大型になって設置場所をとるというような不具合も解消でき、小型でコンパクトな装置を実現できる。さらに蒸気を発生するためのヒータも必要ないので、ヒータに使用される電力は不要であり省エネルギーである。
【００２３】
また、載置台２２の下部に高周波撹拌室１７を形成し、高周波撹拌室１７の底面のほぼ中央に形成された給電口１８から、高周波発生手段１６により発生した高周波を給電する構成としたため、給電口１８と載置台２２に形成された凹部２３の距離は、給電口１８と食品１４の距離よりも短くできる、その結果、高周波発生手段１６から給電された高周波は、大部分載置台２２の凹部２３に蓄えられた水２４に吸収され、水２４を効率よく加熱し蒸気を大量に発生できる。
【００２４】
また、高周波の拡散を防ぎ、指向性を持って高密度に高周波を放射する回転導波管２０を給電口１８を中心として回転させる構成としたため、給電口１８から給電された高周波は回転導波管２０で載置台２２に形成された凹部２３近くまで高密度で導かれ、効率よく凹部２３に蓄えられた水２４を加熱できる。また回転することにより高周波を加熱室１５内にまんべんなく放射できむらのない電波調理性能を得ることができる。
【００２５】
また、載置台２２に形成する凹部２３を、載置台２２のほぼ中央を中心とした円弧状の溝で構成したため、回転動作を行う回転導波管２０の電波放射口と、凹部２３に蓄えられた水２４との距離を、至近距離で一定に保つことができ、効率よく載置台２２の凹部２３に蓄えられた水２４を加熱できる。
【００２６】
さらに、載置台２２を誘電率の低いセラミックで構成することにより、給電口１８より給電された高周波のエネルギーを、載置台２２に吸収されにくくできる、その結果、載置台２２の凹部２３に蓄えられた水２４を効率よく加熱できる。
【００２７】
（実施例２）
図４に、第２実施例の高周波加熱装置の概略構成断面図を示す。図４において、２６は耐熱ガラスで形成された器で、食品１４にかぶせるように設置されている。器２６を食品１４にかぶせることにより、載置台２２の凹部２３から発生した蒸気は、より高密度に閉じこめられ、食品１４により多くの水分を供給し、潤いを与える。シュウマイ・豚まん等のより多くの水分が必要な食品のあたために適する。
【００２８】
【発明の効果】
以上のように、請求項１〜２に記載の発明によれば、次の効果が得られる。
【００２９】
加熱室の１部である載置台に凹部を形成することで、直接水を蓄えられ、その水を高周波発生手段により加熱することにより、蒸気を大量に発生させることができる。加熱室外にタンクやヒータを設け蒸気を発生する構成に比べ、安価で構成がきわめて簡単なスチーム機能付き高周波加熱装置を提供できる。また加熱室外に蒸気発生装置を設けて装置全体が大型になって設置場所をとるというような不具合も解消でき、小型でコンパクトな装置を実現できる。さらに蒸気を発生するためのヒータも必要ないのでヒータに使用される電力は不要であり省エネルギーである。
【００３０】
また、載置台の下部に高周波撹拌室を形成し、高周波撹拌室の底面のほぼ中央に形成された給電口から、高周波発生手段により発生した高周波を給電する構成としたため、給電口と載置台に形成された凹部の距離は、給電口と食品の距離よりも短くできる、その結果、高周波発生手段から給電された高周波は、大部分載置台の凹部に蓄えられた水に吸収され、水を効率よく加熱し蒸気を大量に発生できる。
【００３１】
また、高周波の拡散を防ぎ、指向性を持って高密度に高周波を放射する回転導波管を給電口を中心として回転させる構成としたため、給電口から給電された高周波は、回転導波管で載置台に形成された凹部近くまで高密度で導かれ、効率よく凹部に蓄えられた水を加熱できる。また回転することにより高周波を加熱室にまんべんなく放射でき、むらのない電波調理性能を得ることができる。
【００３２】
また、載置台に形成する凹部を載置台のほぼ中央を中心とした円弧状の溝で構成したため、回転動作を行う回転導波管の電波放射口と、凹部に蓄えられた水との距離を至近距離で一定に保つことができ、効率よく載置台の凹部に蓄えられた水を加熱できる。
【００３３】
さらに、載置台を誘電率の低いセラミックで構成することにより、給電口より給電された高周波のエネルギーを載置台に吸収されにくくできる、その結果、載置台の凹部に蓄えられた水を効率よく加熱できる。
【図面の簡単な説明】
【図１】 本発明の実施例１の高周波加熱装置の概略構成断面図
【図２】 本発明の実施例１の回転導波管の外観図
【図３】 本発明の実施例１の載置台の外観図
【図４】 本発明の実施例２の高周波加熱装置の概略構成断面図
【図５】 従来の高周波加熱装置の原理断面図
【図６】 他の従来の高周波加熱装置の概略構成図
【図７】 他の従来の高周波加熱装置の概略構成側面断面図
【符号の説明】
１５ 加熱室
１６ 高周波発生手段
１７ 高周波攪拌室
１８ 給電口
２０ 回転導波管
２２ 載置台
２３ 凹部
Claims (2)
- 食品を収納する加熱室と、加熱室の底部を形成し食品を載置する載置台と、高周波を発生させ高周波加熱を行う高周波発生手段を備え、前記載置台は水等の液体を蓄えられる凹部と、前記載置台の下部に高周波撹拌室を形成し、高周波撹拌室の底面のほぼ中央に形成された給電口から高周波発生手段により発生した高周波を給電する高周波加熱装置であって、前記凹部は前記載置台のほぼ中央を中心とした円弧状の溝で構成し、高周波を拡散させる回転導波管を前記給電口を中心として回転させ、前記回転導波管の電波放射口と前記凹部に蓄えられた水との距離を一定に保つことを特徴とした高周波加熱装置。
- 載置台は誘電率の低いセラミックスで構成してなる請求項１に記載の高周波加熱装置。
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