JPS6115588Y2 - - Google Patents

Description

【考案の詳細な説明】

この考案は低誘電体からなる基板上に金属片を
配設して励振口を形成してなる回転円板が加熱室
の高周波受入口に設けられた高周波加熱装置の改
良に関する。 第１図および第２図は従来の高周波加熱装置、
例えば電子レンジ全体の概略構成を示すもので、
１は本体である。この本体１内には加熱室２およ
びマグネトロン（高周波発振器）３が収納されて
いる。この加熱室２の天井板２ａには円形の高周
波受入口４が設けられており、この高周波受入口
４を上方から被うように空胴箱５が天井板２ａに
取付けられている。この空胴箱５は前記マグネト
ロン３から出力された高周波を導く連結部６に連
結され、この連結部６とともに導波管を構成する
ものである。また、加熱室２の高周波受入口４に
は、この高周波受入口４より若干小さい回転円板
７が設けられている。この回転円板７は低誘電体
からなる円形の基板８とこの基板８上に配設され
た扇形の４枚の金属片９……とから構成されてお
り、これらの各金属片９……は所定間隔離間して
配置され、各金属片９……間の間隙によつて略十
字状の励振口１０が形成されている。そして、こ
の回転円板７は空胴箱５に取付けられた回転軸１
１によつて回転自在に支持されているとともに、
上面には図示しない風受部が立設されており、例
えばマグネトロン３を冷却する冷却風が空胴箱５
内に導かれ、この冷却風によつて回転駆動される
ようになつている。 そして、マグネトロン３から出力された高周波
は導波管を通じて高周波受入口へ導かれ、各金属
片９……の表面で略全反射され、主に励振口１０
を通じて加熱室２内へ導入されることになり、励
振口１０は回転円板７の回転にともない回転され
るので、加熱室２内に導入される高周波エネルギ
の分布を良好な状態に調整することができるよう
になつている。 ところで、回転円板７は回転駆動されるもので
あるため、加熱室２の高周波受入口４周縁部位２
ｂと回転円板７との間にはリング状の間隙部１２
が形成されており、空胴箱５内に導かれた高周波
がこの間隙部１２を通つて加熱室２内に漏洩する
こともあつた。この場合、間隙部１２を通つて加
熱室２内に導かれる高周波はマグネトロン３から
の距離に応じて強さが異なる。例えば、第３図に
示すように間隙部１２のうちマグネトロン３に近
い部位Ａとマグネトロン３から遠い部位Ｂとの間
隔がλ／２×ｎ程度（λはマグネトロン３から出力さ れる高周波の波長で約120mm、ｎは整数）である
場合には、マグネトロン３に近い部位Ａから加熱
室２内に導かれる高周波の方がマグネトロン３か
ら遠い部位Ｂから加熱室２内に導かれる高周波よ
りも強くなる。そのため、加熱室２内に導かれる
高周波エネルギの分布が不均一になる問題があ
り、加熱室２内に載置された食品等が均一に加熱
されない欠点があつた。 この考案は上記事情を考慮してなされたもの
で、その目的は、加熱室内に導かれる高周波エネ
ルギの分布を良好な状態にすることができ、加熱
室内に載置された食品等を均一に加熱室すること
ができる高周波加熱装置を提供することにある。 以下、この考案の一実施例を第４図および第５
図を参照して説明する。第４図は高周波加熱装
置、例えば電子レンジの要部構成を示すもので、
第１図乃至第３図と同一部分には同一の符号を付
してその説明を省略する。すなわち、この考案は
加熱室２の高周波受入口４周縁部位２１と回転円
板７との間に形成される間隙部２２に、この間隙
部２２を通過して加熱室２内へ導かれる高周波の
分布状態を整えるスリツト列２３を設けたことを
特徴とするものである。前記加熱室２の天井板２
４は金属製のもので、円形の高周波受入口４の周
縁部位２１には回転軸１１に向けて切込溝２５…
…が放射状に並設されており、これらの切込溝２
５……によつて前記スリツト列２３が形成されて
いる。 そこで、上記構成のものにあつては、マグネト
ロン３から出力された高周波は空胴箱５内に導か
れたのち、大部分のものは回転円板７の励振口１
０を通つて加熱室２内へ導入される。また、空胴
箱５内に導かれた高周波のうち一部分は加熱室２
の高周波受入口４周縁部位２１と回転円板７との
間の間隙部２２を通つて加熱室２内に導入され
る。この場合、高周波受入口４の周縁部位２１に
はスリツト列２３が形成されているので、間隙部
２２を通る高周波はスリツト列２３によつて略回
転軸１１に向かう方向に照射されるように調整さ
れる。したがつて、高周波受入口４を通つて加熱
室２内へ導入された高周波のうち、間隙部２２を
通過して加熱室２内へ導かれたものも、スリツト
列２３によつて高周波エネルギが均一に分布され
るので、加熱室２内に導かれた高周波は従来のよ
うに不均一になるおそれが少ない。出願人は次の
実験によつてこのことを確認した。 第５図において、２６は加熱室２内に載置され
た棚板で、この棚板２６の横寸法をＷ、奥行き寸
法をＤとする。また、それぞれ100c.c.の水を収容
した５個の容器２７ａ〜２７ｅを用意し、まず棚
板２６の中央に容器２７ａを配置し、この容器２
７ａの横方向両側にＷ／４の間隔を設けるとともに、 奥行き方向両側にＤ／４の間隔を設けた位置に４個の 容器２７ｂ〜２７ｅをそれぞれ配置する。この状
態でマグネトロン３を２分間動作させて各容器２
７ａ〜２７ｅ内の水の温度上昇値を調べる。最小
温度上昇値（MIB上昇値）と最大温度上昇値
（MAX上昇値）との比（水分布率）から加熱室２
内に導入される高周波エネルギの分布状態を調べ
るようにしたものである。 ここで、 水分布率（）＝ＭＩＮ上昇値／ＭＡＸ上昇値×100
（％） とする。そして、同じ条件で従来構成のもの（ス
リツト列なしの場合）と本考案の構成のもの（ス
リツト列２３を設けた場合）とでそれぞれ実験を
行なつた。 実験結果を表に示す。（サンプル数ｎ＝５）

【表】 この表からも明らかなように、従来構成のもの
に比べて本考案の構成のものは水分布率（）の
値が大きくなるので、各容器２７ａ〜２７ｅ内の
水の温度上昇値のばらつきが小さいことがわか
る。したがつて、間隙部２２にスリツト列２３を
設けた場合、高周波受入口４から加熱室２内に導
入される高周波エネルギは従来よりも均一に分布
されていることになる。 かくして、加熱室２の高周波受入口４周縁部位
２１と回転円板７との間の間隙部２２に設けたス
リツト列２３によつて、空胴箱５内から加熱室２
内に導かれる高周波のうち、間隙部２２を通過す
るものも高周波エネルギの分布が良好な状態に調
整されるので、加熱室２内に導かれる高周波のイ
ンピーダンスおよび出力が安定化して、加熱室２
内に収容された食品等を均一に加熱することがで
きる。 なお、この考案は上記実施例に限定されるもの
ではない。例えば、第６図に示すように回転円板
３１の４枚の金属片３２……の各外周部位３３…
…に回転軸３４に向けて切込溝３５……をそれぞ
れ並設することにより、スリツト列３６を形成す
る構成であつてもよい。このような構成のものに
あつても前記実施例と同様の効果を得ることがで
きるうえ、この場合には加熱室２の天井板３７に
は格別な加工を施す必要がないので、回転円板３
１を高周波受入口３８内に装着する際、高周波受
入口３８と回転円板３１との位置決めを容易に行
なうことができる。また、第７図に示すように加
熱室４１の高周波受入口４２周縁部位４３に第１
のスリツト列４４を設けるとともに、回転円板４
５の４枚の金属片４６……の各外周部位４７……
に第２のスリツト列４８を設ける構成にしてもよ
い。この場合には、加熱室４１内に導かれる高周
波エルルギの分布を前記各実施例よりも一層良好
な状態にすることができる。 以上説明したように、この考案は低誘電体から
なる基板上に励振口を形成する金属片が配設され
てなる回転円板を加熱室の高周波受入口に配設し
た高周波加熱装置におて、前記加熱室の高周波受
入口周縁部位と前記回転円板との間に形成される
間隙部にスリツト列を設けたことを特徴とするも
のであり、したがつて、高周波受入口を通つて加
熱室内に導入される高周波のうち、前記間隙部を
通過して加熱室内へ導入される高周波の照射方向
を前記スリツト列によつて調整できるので、加熱
室内に導入される高周波の分布を良好な状態に調
整することができ、加熱室内に載置される食品等
を均一に加熱できるという実用上優れた効果を奏
する。

【図面の簡単な説明】

第１図乃至第３図は従来例を示すもので、第１
図は全体の概略構成を示す平面図、第２図は第１
図の−線断面図、第３図は第２図の−線
断面図、第４図および第５図はこの考案の一実施
例を示すもので、第４図は要部構成を示す横断面
図、第５図は棚板上の容器の配置状態を示す平面
図、第６図および第７図はそれぞれ異なる別の実
施例の要部構成を示す平面図である。 ２……加熱室、３……マグネトロン（高周波発
振器）、４，３８，４２……高周波受入口、５…
…空胴箱（導波管）、６……連結部（導波管）、
７，３１，４５……回転円板、８……基板、９，
３２，４６……金属片、１０……励振口、２２…
…間隙部、２３，３６……スリツト列、４４……
第１のスリツト列、４８……第２のスリツト列。

Claims (1)

1. 【実用新案登録請求の範囲】 (1) 高周波発振器から出力された高周波を導波管
   を介して加熱室内へ導くとともに、低誘電体か
   らなる基板上に金属片を配設して励振口を形成
   した回転円板を前記加熱室の高周波受入口に配
   設した高周波加熱装置において、前記加熱室の
   高周波受入口周縁部位と前記回転円板との間に
   形成される間隙部に、この間隙部を通過して前
   記加熱室内へ導かれる高周波の分布状態を整え
   るスリツト列を設けたことを特徴とする高周波
   加熱装置。 (2) スリツト列は加熱室の高周波受入口周縁部位
   に形成したことを特徴とする実用新案登録請求
   の範囲第(1)項記載の高周波加熱装置。 (3) スリツト列は回転円板の金属片の外周部位に
   形成したことを特徴とする実用新案登録請求の
   範囲第(1)項記載の高周波加熱装置。 (4) スリツト列は加熱室の高周波受入口周縁部位
   と回転円板の金属片の外周部位とにそれぞれ形
   成したことを特徴とする実用新案登録請求の範
   囲第(1)項記載の高周波加熱装置。