JPS582308A - 重合性組成物 - Google Patents
重合性組成物Info
- Publication number
- JPS582308A JPS582308A JP10608682A JP10608682A JPS582308A JP S582308 A JPS582308 A JP S582308A JP 10608682 A JP10608682 A JP 10608682A JP 10608682 A JP10608682 A JP 10608682A JP S582308 A JPS582308 A JP S582308A
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- JP
- Japan
- Prior art keywords
- group
- groups
- allyl
- formula
- methallyl
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
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Landscapes
- Adhesives Or Adhesive Processes (AREA)
- Addition Polymer Or Copolymer, Post-Treatments, Or Chemical Modifications (AREA)
- Photosensitive Polymer And Photoresist Processing (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は、少なくとも2個のメルカプタンt =S+)
i)m t Nするポリメルカプタン、およヒ少なくと
も2個、好11.<は少なくとも3個のエチレン性アリ
ル不飽和21紹合および少なくとも1個の遊離カルホキ
シル九の両者を4fする化付物より構成ちれる組成物に
関する。
i)m t Nするポリメルカプタン、およヒ少なくと
も2個、好11.<は少なくとも3個のエチレン性アリ
ル不飽和21紹合および少なくとも1個の遊離カルホキ
シル九の両者を4fする化付物より構成ちれる組成物に
関する。
Xfc、本発明に当α組pX物の化学線および/’J
fCU熱活性1ヒフリーラジカル触媒lcよる血合、お
よびa@生成物の表面塗料、接后卸」とし−〇の使用お
よび強比抜七゛材料中旬Vこプリント回路中での1史用
に関するものでめる。
fCU熱活性1ヒフリーラジカル触媒lcよる血合、お
よびa@生成物の表面塗料、接后卸」とし−〇の使用お
よび強比抜七゛材料中旬Vこプリント回路中での1史用
に関するものでめる。
米国舟許第4.220,513号公廠には、(11回じ
分子中しこ少なくとも11向の1.2−エポキシ績とア
リル、メタリルfynethaLtyt)お工ひ1−プ
ロペニル示より選択ちれる少なくとも2・個の基の両者
tM1−る1ヒ台物、例えは47−ビス(6−アリル−
4−(f’)シジルオキシ】フェニル)ゾロハンおよび
ビス(6−11−プロペニル)−4−クリ7ジルオキシ
)フェニル)メタンと、 (2)分子当り、脂肪族炭素原子へ粘付したメルカプタ
ン基を少なくとも2個含有−する1じ付物、■えrよペ
ンタエリトリトール テトラチオグリコレート、 からなる片d(n兄物がn61w、芒オtている。
分子中しこ少なくとも11向の1.2−エポキシ績とア
リル、メタリルfynethaLtyt)お工ひ1−プ
ロペニル示より選択ちれる少なくとも2・個の基の両者
tM1−る1ヒ台物、例えは47−ビス(6−アリル−
4−(f’)シジルオキシ】フェニル)ゾロハンおよび
ビス(6−11−プロペニル)−4−クリ7ジルオキシ
)フェニル)メタンと、 (2)分子当り、脂肪族炭素原子へ粘付したメルカプタ
ン基を少なくとも2個含有−する1じ付物、■えrよペ
ンタエリトリトール テトラチオグリコレート、 からなる片d(n兄物がn61w、芒オtている。
組成Wは、化学總照射の彫響またはフリーラジカル触媒
下、メルカプタン品がアリル メタリルもしく9↓1−
プロペニル基と反L[1することにより■曾嘔れている
。
下、メルカプタン品がアリル メタリルもしく9↓1−
プロペニル基と反L[1することにより■曾嘔れている
。
この組成@は、史に
(3) ポリエポキシドのための熱活性架橋剤が含有
烙れることがまた記載逼れており;平均分+に対し1個
より多いエポキシ基を含有する1台生成物は、次いでこ
のようにその場でに米橋芒れている。
烙れることがまた記載逼れており;平均分+に対し1個
より多いエポキシ基を含有する1台生成物は、次いでこ
のようにその場でに米橋芒れている。
英国臀許公告第2,012,781A号公報には、同様
の組成物が一7F、芒れてお9、その組成物では、成分
(1)としては、少なくとも1個のエポキシ丞の代りに
少なくとも1個のフェノール性水酸基1に含有するもの
、例えは2,2−ビス(3−アリル−4−ヒドロキシフ
ェニル)プロパンおよびビス(6−11−プロペニル)
−4−ヒドロキシフェニル)メタンであり、成分(3)
としては、相応するように7エノールーアルテヒドノホ
ラツク樹脂のための熱活性架橋剤である。平均分子当り
1個より多いフェノール性水酸基を含Mする束合生成物
は、同様に加熱によりその場で引続いて架り、;ii嘔
れていな。
の組成物が一7F、芒れてお9、その組成物では、成分
(1)としては、少なくとも1個のエポキシ丞の代りに
少なくとも1個のフェノール性水酸基1に含有するもの
、例えは2,2−ビス(3−アリル−4−ヒドロキシフ
ェニル)プロパンおよびビス(6−11−プロペニル)
−4−ヒドロキシフェニル)メタンであり、成分(3)
としては、相応するように7エノールーアルテヒドノホ
ラツク樹脂のための熱活性架橋剤である。平均分子当り
1個より多いフェノール性水酸基を含Mする束合生成物
は、同様に加熱によりその場で引続いて架り、;ii嘔
れていな。
本元明祈らal アクリレートもしくr」メタクリレー
トエステル−4を含有するある柚の化合物に、あるねの
メルカプタン類の存在ト、化学−照射に対する露光もし
くtエンリーラジカル触媒の作用により、非常に速かに
厘”elk引き起こすことができ、価値ある特性を南−
する性成物を形成することを新規VC見出した。アリル
、メタリルお工ひ/また〔↓1−プロペニル4會1罠言
有するアクリレートもしくはメタクリレートエステルも
使用逃れる。アリル型2ム結台はメルカプタフ基と選択
的に反応し、従って、アクリルもしくはメタクリル基中
の21粕台によって生ずるN甘−形成工程が促進嘔れる
と1gしられているが、本発明の有用性にこの推論が正
しいか否かに関係ない。反応メカニズムがどのようなも
のでおっても、fIki凧@は非常に速・かに嵐甘し、
懺面皇科および接看薊を形成することを見い出したので
ある。
トエステル−4を含有するある柚の化合物に、あるねの
メルカプタン類の存在ト、化学−照射に対する露光もし
くtエンリーラジカル触媒の作用により、非常に速かに
厘”elk引き起こすことができ、価値ある特性を南−
する性成物を形成することを新規VC見出した。アリル
、メタリルお工ひ/また〔↓1−プロペニル4會1罠言
有するアクリレートもしくはメタクリレートエステルも
使用逃れる。アリル型2ム結台はメルカプタフ基と選択
的に反応し、従って、アクリルもしくはメタクリル基中
の21粕台によって生ずるN甘−形成工程が促進嘔れる
と1gしられているが、本発明の有用性にこの推論が正
しいか否かに関係ない。反応メカニズムがどのようなも
のでおっても、fIki凧@は非常に速・かに嵐甘し、
懺面皇科および接看薊を形成することを見い出したので
ある。
プリント回路の製造のため、いわゆる陰画耐蝕農法にお
いて、支持体は光虚台性組成物で塗イhちれ、塗料は、
照射線の衝撃があった塗料域で重付が生ずるように、*
質的に透明および笑買的に不透明域を持つ画像を設け′
fC透明支持体を通し、化学線照射へ篇元される。ある
いはlたこのような線光は透明支持体の代りにコンピュ
ーターコントロール走査レーザービームニヨり行なわれ
てもいる。次いで、像ニ、lk甘が生じなかった領域、
すなわち化学線衡撃がなされなかっfC憤域を過当な溶
妹で溶かし去ることにより1現渾”芒れる。続いて、支
持体、一般には鋼の支持体は組成物の残存鄭により保護
されていない碩域’tstjtするために、腐蝕液に浸
漬され得る。例えば多層板の裂造りように、史に加工す
る楊せには、残っている組成物層は機械的方法により取
シ去り得ねばならない。
いて、支持体は光虚台性組成物で塗イhちれ、塗料は、
照射線の衝撃があった塗料域で重付が生ずるように、*
質的に透明および笑買的に不透明域を持つ画像を設け′
fC透明支持体を通し、化学線照射へ篇元される。ある
いはlたこのような線光は透明支持体の代りにコンピュ
ーターコントロール走査レーザービームニヨり行なわれ
てもいる。次いで、像ニ、lk甘が生じなかった領域、
すなわち化学線衡撃がなされなかっfC憤域を過当な溶
妹で溶かし去ることにより1現渾”芒れる。続いて、支
持体、一般には鋼の支持体は組成物の残存鄭により保護
されていない碩域’tstjtするために、腐蝕液に浸
漬され得る。例えば多層板の裂造りように、史に加工す
る楊せには、残っている組成物層は機械的方法により取
シ去り得ねばならない。
現在用いられている工程の不利な点は、M機醇媒が現像
のためにしばしは用いられ、毒性および易燃性の危険性
があること、ヤして光貞台された組成物の置去のための
機械的工程がプリント回路に損傷分生じさせていること
である。
のためにしばしは用いられ、毒性および易燃性の危険性
があること、ヤして光貞台された組成物の置去のための
機械的工程がプリント回路に損傷分生じさせていること
である。
すでに述べたように、エステルはカルホン酸基をも含M
し:若し化学線照射への露光が実質的Vこ不透明域を持
つ陰画を通しな芒れたなら、カルボン酸基上に垣を形成
するため、アルカリ水浴液による処理で未露光域から組
成物t−取り去ることが可能である。この目的のための
毒性および/または易燃性の不オリを伴うM′e&浴媒
の1更用に、従って避けられる。史に有利な点は、皇貧
された組成1勿を、所望により引続いてより強力な塩基
水浴液で取り去ることができることである。
し:若し化学線照射への露光が実質的Vこ不透明域を持
つ陰画を通しな芒れたなら、カルボン酸基上に垣を形成
するため、アルカリ水浴液による処理で未露光域から組
成物t−取り去ることが可能である。この目的のための
毒性および/または易燃性の不オリを伴うM′e&浴媒
の1更用に、従って避けられる。史に有利な点は、皇貧
された組成1勿を、所望により引続いてより強力な塩基
水浴液で取り去ることができることである。
米国特肝第4,120,721芳公報には、照射硬化性
組成物が、塗料中および像−形紙工程中への用途として
記載ちれている。組成りは、ポリ王妃オlアクリルもし
くはメタクリル−末端ウレタン、好1しくにアクリルも
しくはメタクリル酸Q) xステルであるビニルモノマ
ー、分子当り少なくとも2個の一8H基を含有するポリ
メルカプタンおよび元亜台開始剤から構成ちれている。
組成物が、塗料中および像−形紙工程中への用途として
記載ちれている。組成りは、ポリ王妃オlアクリルもし
くはメタクリル−末端ウレタン、好1しくにアクリルも
しくはメタクリル酸Q) xステルであるビニルモノマ
ー、分子当り少なくとも2個の一8H基を含有するポリ
メルカプタンおよび元亜台開始剤から構成ちれている。
アクリルもしくはメタクリル末端ポリウレタンを得るた
め、ジ−イソシアネートは、反応生成物中に残存する遊
離のインシアイード基の1理端当被のような賞で水酸基
−置換アクリレートもしくはメタクリレートとの反応ケ
生じ、次いでこれらのイソシアネート基は、好1しくに
ポリエチレングリコールもしくはポリプロピレングリコ
ールである多価アルコール中、水酸基の理論当鼠との反
応がなされている。好ましいものとしてリストちれたお
よそ50個のヒドロキシアルエル アクリレートおよ
びメタアクリレートに加えては、2−ヒドロキシ−5−
(アリルオキシ)プロピル アクリレート、2−ヒドロ
キシ−6−ジンナミルプロビル アクリレート、2−ヒ
ドロキシ−6−(クロトニルオキシ)プロピルアクリレ
ートおよびその相当するメタアクリレートである。具体
的に記載ちれたポリマーはヒドロキシアルキルアクリレ
ートもしくはヒドロキシアルキルメタクリレートから裏
造烙れたもので、アリル−型2電粕合をもっていない。
め、ジ−イソシアネートは、反応生成物中に残存する遊
離のインシアイード基の1理端当被のような賞で水酸基
−置換アクリレートもしくはメタクリレートとの反応ケ
生じ、次いでこれらのイソシアネート基は、好1しくに
ポリエチレングリコールもしくはポリプロピレングリコ
ールである多価アルコール中、水酸基の理論当鼠との反
応がなされている。好ましいものとしてリストちれたお
よそ50個のヒドロキシアルエル アクリレートおよ
びメタアクリレートに加えては、2−ヒドロキシ−5−
(アリルオキシ)プロピル アクリレート、2−ヒドロ
キシ−6−ジンナミルプロビル アクリレート、2−ヒ
ドロキシ−6−(クロトニルオキシ)プロピルアクリレ
ートおよびその相当するメタアクリレートである。具体
的に記載ちれたポリマーはヒドロキシアルキルアクリレ
ートもしくはヒドロキシアルキルメタクリレートから裏
造烙れたもので、アリル−型2電粕合をもっていない。
エチレン性不飽和i更に官有するヒドロモンアルキルア
クリレー トから錦導逃れるアクリルもしくはメタクリ
ル−木端ウレタンの使用の有利性についてはなんら示唆
され−Cいない。
クリレー トから錦導逃れるアクリルもしくはメタクリ
ル−木端ウレタンの使用の有利性についてはなんら示唆
され−Cいない。
英国丑許第1,474.715号公報には、ポリカルボ
ン酸の少なくともジー酸無水物と、少なくとも2蘭のフ
クリルエステル基を含Mするアルコールとの反応により
得られる遊離カルボン酸基ヶ含・汀する元M、B性アク
リルエステルが6己、#ちれている。米国特許弔4.L
179.i83号、第4.I J31,1307号およ
びJ 4.179,577号公報中には、ポリカルボン
ばの少なくともジー敵無水物と、少なくとも1個の時定
不飽和基を含有するアルコールのアルコール性*m基と
の反応によって狗られる、遊離カルボンは鯖および2個
の芳香環を結曾丁・るある特定の不飽和基’に官有する
光重合性化何物が記V、もれている。これらのすべての
公報中には、光重・6されなかった物で−のアルカリ水
浴液との接触による除去が記載ちれているが、ヤの工う
な物質の、ホリメルカブタン存在において光重合につい
てはなんら示唆されていない。
ン酸の少なくともジー酸無水物と、少なくとも2蘭のフ
クリルエステル基を含Mするアルコールとの反応により
得られる遊離カルボン酸基ヶ含・汀する元M、B性アク
リルエステルが6己、#ちれている。米国特許弔4.L
179.i83号、第4.I J31,1307号およ
びJ 4.179,577号公報中には、ポリカルボン
ばの少なくともジー敵無水物と、少なくとも1個の時定
不飽和基を含有するアルコールのアルコール性*m基と
の反応によって狗られる、遊離カルボンは鯖および2個
の芳香環を結曾丁・るある特定の不飽和基’に官有する
光重合性化何物が記V、もれている。これらのすべての
公報中には、光重・6されなかった物で−のアルカリ水
浴液との接触による除去が記載ちれているが、ヤの工う
な物質の、ホリメルカブタン存在において光重合につい
てはなんら示唆されていない。
従って、本発明の一態様は、
(al 分子中に、
(1)アクリロイルオキ7およびメタクリロイルオキ7
基から選択される少なくともi 1vAの基、 ill 芳香族もしくは環式脂肪族核部分を構成する
炭素原子に、直接もしくは酸素原子lfcハオキシカル
ボニル基(−0CO−) ’e介t。
基から選択される少なくともi 1vAの基、 ill 芳香族もしくは環式脂肪族核部分を構成する
炭素原子に、直接もしくは酸素原子lfcハオキシカル
ボニル基(−0CO−) ’e介t。
てヤれぞれfFi台したアリル、メタリル、および1−
プロペニル基より選択塾れる少なくとも1個の羞、およ
び (ill) 少なくとも1個のカルボン酸t−Cu0
H)基會言有する化合物、 (b) 分子当り、1個もしくは′4JL数の脂肪族
炭素原子に直接結付した少なくとも2個のメルカプタン
基を含有し、(a)のアリル、メタリルおよび1−プロ
ペニル基から選択された基当りそのようなメルカプタン
基が少なくともα8、しかしfa)のアタリロイル、メ
タクリロイル、アリル、メタリルおよび1−プロペニル
基力し選択された基当シャのようなメルカプタン基が1
.0以トで供給芒れる割甘いで含有する化合物、 から構成格れ/)ムせ性組成9勿を提供することにある
。
プロペニル基より選択塾れる少なくとも1個の羞、およ
び (ill) 少なくとも1個のカルボン酸t−Cu0
H)基會言有する化合物、 (b) 分子当り、1個もしくは′4JL数の脂肪族
炭素原子に直接結付した少なくとも2個のメルカプタン
基を含有し、(a)のアリル、メタリルおよび1−プロ
ペニル基から選択された基当りそのようなメルカプタン
基が少なくともα8、しかしfa)のアタリロイル、メ
タクリロイル、アリル、メタリルおよび1−プロペニル
基力し選択された基当シャのようなメルカプタン基が1
.0以トで供給芒れる割甘いで含有する化合物、 から構成格れ/)ムせ性組成9勿を提供することにある
。
本発明の他の態様は、a組Jiy、物の、化学線照射も
しくはフリーラジカル触媒の効果により構成逼れる厘台
のための工性およびその工程により侍た貞せδれた生成
物を邑宮する。
しくはフリーラジカル触媒の効果により構成逼れる厘台
のための工性およびその工程により侍た貞せδれた生成
物を邑宮する。
本発明の組成物中、成分(a) を工、好’EL<はア
クリロイルオキシ、メタクリロイルオキシ、アリル、メ
タリルおよび1−プロペニル基よp外のエチレン性不飽
和を含1ず、好1しくは分子当りの基(1)お工O・(
1υの全量は少なくとも5でおる。好iしくは分子型が
渋くても5,000でおる。
クリロイルオキシ、メタクリロイルオキシ、アリル、メ
タリルおよび1−プロペニル基よp外のエチレン性不飽
和を含1ず、好1しくは分子当りの基(1)お工O・(
1υの全量は少なくとも5でおる。好iしくは分子型が
渋くても5,000でおる。
好1しくに1個1九は各アクリロイルオキシもしくはメ
タクリロイルオキシ基は、芳香族、環式脂肪訣もしくは
抜累塊式核へ、次式■:JR 〔式中、 Rは水素原子もしくは、少なくともジカルボン酸の一価
アシル残基(すなわち、カルホンば部分を形成する水ば
基を除いた後の残基でおって該カルボン酸基のカルボニ
ルik介して指示ちれたtR累原子に鮎甘したもの)會
表わす。〕 の基kmして結付している。
タクリロイルオキシ基は、芳香族、環式脂肪訣もしくは
抜累塊式核へ、次式■:JR 〔式中、 Rは水素原子もしくは、少なくともジカルボン酸の一価
アシル残基(すなわち、カルホンば部分を形成する水ば
基を除いた後の残基でおって該カルボン酸基のカルボニ
ルik介して指示ちれたtR累原子に鮎甘したもの)會
表わす。〕 の基kmして結付している。
式lの基は、好1しくに芳香核の次系原子へ酸素原子を
介して粘合しているか、もしくは複素環部分を形J戊す
る窒素原子へ結付している。
介して粘合しているか、もしくは複素環部分を形J戊す
る窒素原子へ結付している。
より好lしいRとしては、式llニ
ーC0−R”coon f損(式中
、 R1はアルキレン、アリーレン(arylene)もし
くはアルアルキレン話ヲ次わし、これらの基は1個もし
くはそれ以上のアリル、メタリルもしくは1−プロペニ
ル基もしく IrJ−1個もしくはそれ以上のカルホン
酸基によって置換ちれていてもよく、該アルキレン基お
よびアルアルキレン基のアルキレン部分は炭素原子数2
ないし101向を有し、該アリーレン基およびアルアル
キレン基のアリーレン部分は炭素原子数6ないし10で
ある。) で表わちれる基である。
、 R1はアルキレン、アリーレン(arylene)もし
くはアルアルキレン話ヲ次わし、これらの基は1個もし
くはそれ以上のアリル、メタリルもしくは1−プロペニ
ル基もしく IrJ−1個もしくはそれ以上のカルホン
酸基によって置換ちれていてもよく、該アルキレン基お
よびアルアルキレン基のアルキレン部分は炭素原子数2
ないし101向を有し、該アリーレン基およびアルアル
キレン基のアリーレン部分は炭素原子数6ないし10で
ある。) で表わちれる基である。
好i L < u、w−分子a) u 、分子当pアク
リロイルおよびメタクリロイルオキシ基から選択逼れる
少なくとも2個そして多くとも6111!1IQ)基、
分子当9アリル、メタリルおよび1−プロペニル基から
選択ちれる少なくとも2個そして多くとも15個の基、
および分子当pカルボン酸基を少なくとも2個ヤして多
くとも15個全台有している。
リロイルおよびメタクリロイルオキシ基から選択逼れる
少なくとも2個そして多くとも6111!1IQ)基、
分子当9アリル、メタリルおよび1−プロペニル基から
選択ちれる少なくとも2個そして多くとも15個の基、
および分子当pカルボン酸基を少なくとも2個ヤして多
くとも15個全台有している。
史に好lしい成分(a)は分子当ジアクリロイルオキシ
およびメタアクリロオキ7清から選択された基の全数が
での分子中のアリル、メタリルおよび1−プロペニル基
から選択芒れた基の全数と同一であや、またその分子中
のカルボン酸基の全数とも同一でおる化合物である。
およびメタアクリロオキ7清から選択された基の全数が
での分子中のアリル、メタリルおよび1−プロペニル基
から選択芒れた基の全数と同一であや、またその分子中
のカルボン酸基の全数とも同一でおる化合物である。
成分子a)甲の一個もしくは各芳香核扛好1しくn ヘ
ア セン核もしくはナフタレン核である。
ア セン核もしくはナフタレン核である。
より好ましい成分1a)としては、多価フェノールテ、
ソの少なくとも2個のフェノール性ホハ基が式Iもしく
は■のカルボン酸−含N 4 k介してアクリロイルも
しくはメタクリロイル基でエステル化されており、その
少なくとも2個のフェノール注水#R基がアリル、メタ
リルおよび1−プロペニル基から選択される基で直接エ
ーテル化されているものである。
ソの少なくとも2個のフェノール性ホハ基が式Iもしく
は■のカルボン酸−含N 4 k介してアクリロイルも
しくはメタクリロイル基でエステル化されており、その
少なくとも2個のフェノール注水#R基がアリル、メタ
リルおよび1−プロペニル基から選択される基で直接エ
ーテル化されているものである。
物に好ましい成分(a)としては、多価フェノールで、
七の少なくとも2個のフェノール性水酸基に式■もしく
はハのカルボキシル−含W基を介して、アクリロイルお
よびメタアクリロイル基から選択された基によりエステ
ル化ケれており、1個もしくは複数のベンゼンもしくは
ナフタレン核中の炭素原子上にアリル、メタリルおよび
1−プロペニル基から選択された少なくとも2個の基に
より直接置換されている多価フェノールで、%にヤれら
の基が核ア斥イルもしくrJメタクリロイル基に対しオ
ルト位にあるような化@物である。
七の少なくとも2個のフェノール性水酸基に式■もしく
はハのカルボキシル−含W基を介して、アクリロイルお
よびメタアクリロイル基から選択された基によりエステ
ル化ケれており、1個もしくは複数のベンゼンもしくは
ナフタレン核中の炭素原子上にアリル、メタリルおよび
1−プロペニル基から選択された少なくとも2個の基に
より直接置換されている多価フェノールで、%にヤれら
の基が核ア斥イルもしくrJメタクリロイル基に対しオ
ルト位にあるような化@物である。
成分子a)として好適な例としては、次式:%式%
(式中、
aは、1ないし6の整数を表わし、
谷R囃、式1のカルボン酸−含有基金衣わし、谷E3は
、アリル、メタリルもしくは1−プロペニル基金衣わし
1 R4は、炭素−炭素粘付、炭素原子数51でのアルキレ
ンもしくハアルキリテン基、エーテル ・酸素原子
、硫′JR原子もしくは式: −co−、−5s−。
、アリル、メタリルもしくは1−プロペニル基金衣わし
1 R4は、炭素−炭素粘付、炭素原子数51でのアルキレ
ンもしくハアルキリテン基、エーテル ・酸素原子
、硫′JR原子もしくは式: −co−、−5s−。
−8O−もしくは−802−で表わされる基を表わし)
谷R6Vユ、水素原子もしくはメチル基を次わし、各R
6は、水素原子、塩素原子もしくは臭素原子、または炭
素原子数1ないし4のアルキル1s 表わし、そして 各87に、式: CHa =C (R’) COOR”
0−基またはアリルオキシ、メタリルオキシもしくに1
−プロペニルオキシ基で、少なくとも1個す一式:%式
% も2個がそれぞれアリルオキシ、メタリルオキシもしく
は1−プロペニルオキシ基を表わし、 R8は、炭素原子数1ないし10のアルキル基、炭素原
子a7ないし16のアルアルキル基もしくは炭素原子数
6ないし10のアリール基金表わす、 ただシ、式x111オよヒX■においてa1各−CHa
−およびR3−基は、基: CHa =C (R’)
COOR怖−およびR7−に対しオルト位もしくはバ
ラ位にある。) 成分(a)として好適な1t= ft 9Jの詳細な例
は、コハク酸、マレイン酸、゛ゲルタール酸、アジピン
酸、フタル酸、テトラヒドロフタル酸、ヘキサヒドロフ
タル酸、エンドメチレンテトラヒドロフタル酸、ヒロメ
リト酸もしくハトリメリト酸の、以下のアルコール:4
2−ビス(3−アリル−4 − 1 5−(メタクリロ
イルオキ71−2−ヒドロキンプロポキン)フェニル)
フロパン、ビス(3−アリル−4−( 5−(メタクリ
ロイルオキシ)−2−ヒドロキシプロポキシ)フェニル
)メタン、2.2−ビス(6−メタリル−4−(3−(
メタクリロイルオキシ)−2−ヒドロキシプロポキシ)
フェニル)プロパン、ビス(5−メタリル−4−(5−
(メタクリロイルオキシ)−2−ヒドロキシプロポキシ
)フェニル)メタン、2.2−ビス(5−(1−プロペ
ニル) − 4 − ( 5−メタクリロイルオキ7)
−2−ヒドロキシプロポキシ)フェニル)プロパン、ビ
ス(5−(1−プロペニル)−4−(3−(メタクリロ
イルオキシ)−2−ヒドロキシプロポキシ)フェニル)
メタンおよびセれらのアクリロイル類似化合物; 1、6−ジアリル−2−(2−ヒドロキシ−5−(メタ
クリロイルオキ7)ブロポキ/)ベンゼン、1.5−ジ
メタリル−2−(2−ヒドロキシ−3−(メタクリロイ
ルオキシ)プロポキシ)ベンゼン、1,6ージ(1−プ
ロペニル)−2−(2−ヒドロキシ−6−(メタクリロ
イルオキ7)プロポキシ)ベンゼンおよびヤれらのアク
リロイル端似化合物; 2、 2−ビス(3V5−シアリル−4−(6−メタク
リロイルオキシ)−2−ヒドロキシプロポキシ)フェニ
ル〕フロパン、ビス( 5. 5−ジアリル−4− (
5− (メタクリロイルオキシ)−2−ヒドロキシプロ
ポキシン)フェニル)メタン、2、2−ビス(ム5−ジ
メタリル−4−(5−(メタクリロイルオキシ)−2−
ヒドロキシプロポキシ)フェニル)プロパン、ビス(
3. 5 −ジメタリル−4−(6−メタクリロイルオ
キシ)−2−ヒドロキシプロホキ7)フェニル)メタン
、2,2−ビス(45−ジ(1−プロペニル]−4−(
3−(メタクリロイルオキシ)−2−ヒドロキシプロポ
キシ)フェニル)プロパンおヨヒヒス(as−ジt1−
プロペニル)−4−(6−(メタクリロイルオキシ)−
2−ヒドロキシブロボキ7)フェニル)メタンおよびそ
れらのアクリロイルオキシ化合物、 との部分エステルである。
6は、水素原子、塩素原子もしくは臭素原子、または炭
素原子数1ないし4のアルキル1s 表わし、そして 各87に、式: CHa =C (R’) COOR”
0−基またはアリルオキシ、メタリルオキシもしくに1
−プロペニルオキシ基で、少なくとも1個す一式:%式
% も2個がそれぞれアリルオキシ、メタリルオキシもしく
は1−プロペニルオキシ基を表わし、 R8は、炭素原子数1ないし10のアルキル基、炭素原
子a7ないし16のアルアルキル基もしくは炭素原子数
6ないし10のアリール基金表わす、 ただシ、式x111オよヒX■においてa1各−CHa
−およびR3−基は、基: CHa =C (R’)
COOR怖−およびR7−に対しオルト位もしくはバ
ラ位にある。) 成分(a)として好適な1t= ft 9Jの詳細な例
は、コハク酸、マレイン酸、゛ゲルタール酸、アジピン
酸、フタル酸、テトラヒドロフタル酸、ヘキサヒドロフ
タル酸、エンドメチレンテトラヒドロフタル酸、ヒロメ
リト酸もしくハトリメリト酸の、以下のアルコール:4
2−ビス(3−アリル−4 − 1 5−(メタクリロ
イルオキ71−2−ヒドロキンプロポキン)フェニル)
フロパン、ビス(3−アリル−4−( 5−(メタクリ
ロイルオキシ)−2−ヒドロキシプロポキシ)フェニル
)メタン、2.2−ビス(6−メタリル−4−(3−(
メタクリロイルオキシ)−2−ヒドロキシプロポキシ)
フェニル)プロパン、ビス(5−メタリル−4−(5−
(メタクリロイルオキシ)−2−ヒドロキシプロポキシ
)フェニル)メタン、2.2−ビス(5−(1−プロペ
ニル) − 4 − ( 5−メタクリロイルオキ7)
−2−ヒドロキシプロポキシ)フェニル)プロパン、ビ
ス(5−(1−プロペニル)−4−(3−(メタクリロ
イルオキシ)−2−ヒドロキシプロポキシ)フェニル)
メタンおよびセれらのアクリロイル類似化合物; 1、6−ジアリル−2−(2−ヒドロキシ−5−(メタ
クリロイルオキ7)ブロポキ/)ベンゼン、1.5−ジ
メタリル−2−(2−ヒドロキシ−3−(メタクリロイ
ルオキシ)プロポキシ)ベンゼン、1,6ージ(1−プ
ロペニル)−2−(2−ヒドロキシ−6−(メタクリロ
イルオキ7)プロポキシ)ベンゼンおよびヤれらのアク
リロイル端似化合物; 2、 2−ビス(3V5−シアリル−4−(6−メタク
リロイルオキシ)−2−ヒドロキシプロポキシ)フェニ
ル〕フロパン、ビス( 5. 5−ジアリル−4− (
5− (メタクリロイルオキシ)−2−ヒドロキシプロ
ポキシン)フェニル)メタン、2、2−ビス(ム5−ジ
メタリル−4−(5−(メタクリロイルオキシ)−2−
ヒドロキシプロポキシ)フェニル)プロパン、ビス(
3. 5 −ジメタリル−4−(6−メタクリロイルオ
キシ)−2−ヒドロキシプロホキ7)フェニル)メタン
、2,2−ビス(45−ジ(1−プロペニル]−4−(
3−(メタクリロイルオキシ)−2−ヒドロキシプロポ
キシ)フェニル)プロパンおヨヒヒス(as−ジt1−
プロペニル)−4−(6−(メタクリロイルオキシ)−
2−ヒドロキシブロボキ7)フェニル)メタンおよびそ
れらのアクリロイルオキシ化合物、 との部分エステルである。
成分1a)として使用し得る他の化せ吻は、分子当シー
ないし4個の刀ルボンtV1基、21面のアクリロイル
オキシもしくeJメタアクリロイルオキシ基、およびた
っπ1・瞳のアリル、メタアリルもしく[1−7’ロペ
ニル基′を含Mする。後者の基に、芳香核部分を形成す
る炭素原子に1114次直接にM甘したオキ/カルボニ
ル恭へ結付するこ5 (式中、各kt2. HBおよびR5は犬山で定義した
意味?有する。) で衣わもれるものである。
ないし4個の刀ルボンtV1基、21面のアクリロイル
オキシもしくeJメタアクリロイルオキシ基、およびた
っπ1・瞳のアリル、メタアリルもしく[1−7’ロペ
ニル基′を含Mする。後者の基に、芳香核部分を形成す
る炭素原子に1114次直接にM甘したオキ/カルボニ
ル恭へ結付するこ5 (式中、各kt2. HBおよびR5は犬山で定義した
意味?有する。) で衣わもれるものである。
式XIXもしくはXXの化合物の具体的な例としては、
コハクE浚、マレイン敵、ゲルタール酸、アジピン酸、
フタル酸、テトラヒドロフタル酸、ヘキサヒドロフタル
酸、エンドメチレンテトラヒドロフタルにもしくハトリ
メリト酸と以下のアルコール: 1−(アリルオキシカルボニルl−2,4−ビス(6−
(メタクリロイルオキシ)−2−ヒドロキシプロポキノ
カルボニル)ベンゼン、1−(アリルオキシカルボニル
) −2,5−ビス(5−(メタクリロイルオキシ)−
2−ヒドロキシプロポキシカルボニル)ベンセン、1−
(メタリルオキジカルボニル) −2,4−ビス(5〜
(メタクリロイルカルボニルオキシ)−2−ヒドロキシ
プロポキシカルボニル)ベンゼン、1−(メタリルオキ
シカルホニル) −2,5−ビス(5−(メタクリロイ
ルオキシ)−2−ヒドロキシプロポキシカルボニル)ベ
ンゼン、1−(1−7’ロベニルオキ7カルボニル)−
2,4−ビス(6−(メタクリロイルオキシ)−2−ヒ
ドロキシプロポキシカルボニル)ベンゼン、1−(1−
プロペニルオキ7カルボニルl−2,5−ビス(3−(
メタクリロイルオキシ)−2−ヒドロキシプロポキシカ
ルボニル)ベンゼンおよび七れらの相当するアクリロイ
ルオキシ化合物、 との部分エステルである。
コハクE浚、マレイン敵、ゲルタール酸、アジピン酸、
フタル酸、テトラヒドロフタル酸、ヘキサヒドロフタル
酸、エンドメチレンテトラヒドロフタルにもしくハトリ
メリト酸と以下のアルコール: 1−(アリルオキシカルボニルl−2,4−ビス(6−
(メタクリロイルオキシ)−2−ヒドロキシプロポキノ
カルボニル)ベンゼン、1−(アリルオキシカルボニル
) −2,5−ビス(5−(メタクリロイルオキシ)−
2−ヒドロキシプロポキシカルボニル)ベンセン、1−
(メタリルオキジカルボニル) −2,4−ビス(5〜
(メタクリロイルカルボニルオキシ)−2−ヒドロキシ
プロポキシカルボニル)ベンゼン、1−(メタリルオキ
シカルホニル) −2,5−ビス(5−(メタクリロイ
ルオキシ)−2−ヒドロキシプロポキシカルボニル)ベ
ンゼン、1−(1−7’ロベニルオキ7カルボニル)−
2,4−ビス(6−(メタクリロイルオキシ)−2−ヒ
ドロキシプロポキシカルボニル)ベンゼン、1−(1−
プロペニルオキ7カルボニルl−2,5−ビス(3−(
メタクリロイルオキシ)−2−ヒドロキシプロポキシカ
ルボニル)ベンゼンおよび七れらの相当するアクリロイ
ルオキシ化合物、 との部分エステルである。
17t、成分1a)として、分子当り6個もしくは−t
n以上(例えば、12個)のアリル、メタリルもしくは
1−プロペニル基金含有する生成物が使用し得るし、l
たそれは先行工sKより得ることもできる。例えdl
2価フェノールのジグリシジルエーテルで、その1個も
しくに複数の芳香核に1個もしくはそれ以上のアリル、
メタリルもしくは1−プロペニル赫が直換されているも
ので、2価フェノール、21曲アルコール、ジカルボン
ばもしくは1個もしくは複数のヒダントイン環中に2個
の遊離−NH−基を有するヒダントインよF) 4”4
ることができる。得られた生成物は、フェノール性もし
くは#rたに形成した第2級水酸基位でグリシジルアク
リレートもしくeよグリシジルメタクリレート、あるい
ねアク9o(ルクロライドもしくはメタクリロイルクロ
メライドと反応が生じるか17cは末喝エポキシ基位で
アクリルはもしくはメタクリル酸と共に反応が生じ、そ
して生成物はジーもしくにポリカルボン酸の1!12″
NL水切と反応される。
n以上(例えば、12個)のアリル、メタリルもしくは
1−プロペニル基金含有する生成物が使用し得るし、l
たそれは先行工sKより得ることもできる。例えdl
2価フェノールのジグリシジルエーテルで、その1個も
しくに複数の芳香核に1個もしくはそれ以上のアリル、
メタリルもしくは1−プロペニル赫が直換されているも
ので、2価フェノール、21曲アルコール、ジカルボン
ばもしくは1個もしくは複数のヒダントイン環中に2個
の遊離−NH−基を有するヒダントインよF) 4”4
ることができる。得られた生成物は、フェノール性もし
くは#rたに形成した第2級水酸基位でグリシジルアク
リレートもしくeよグリシジルメタクリレート、あるい
ねアク9o(ルクロライドもしくはメタクリロイルクロ
メライドと反応が生じるか17cは末喝エポキシ基位で
アクリルはもしくはメタクリル酸と共に反応が生じ、そ
して生成物はジーもしくにポリカルボン酸の1!12″
NL水切と反応される。
61−もしくはくれ以上のアリル、メタリルもしくは1
−プロペニル基勿含Mする別の進行しり生成@I(12
価フェノールのジグリシジルエーテル、21iIlIア
ルコールのジグリシジルエーテルもしくは1.3−ジグ
リシジルヒダントインおよび451−ジグリシジル−1
,1′−メチン/ビス曵ヒダントイン)のようなジ(N
−グリ7ジル)ヒダントイ7≠と1個もしくは被数の芳
香核に1個もしくはそれ以上のアリル、メタリルもしく
01−プロペニル基が置換逼れた2価フェノールとの先
行反応に続いて、フェノール性もしくは層たに形成した
第2級水酸基位でグリシジルアクリレート、クリシジル
メタクリレート、アクリロイルクロライドもしくにメタ
クリロイルクロライドとの反応、あるいは末端エボキ7
基位でアクリル酸もしくはメタクリル酸との反応で得ら
れ、生成物はジーsしくはホリカルボンばの酸無水物と
反応ちれる。
−プロペニル基勿含Mする別の進行しり生成@I(12
価フェノールのジグリシジルエーテル、21iIlIア
ルコールのジグリシジルエーテルもしくは1.3−ジグ
リシジルヒダントインおよび451−ジグリシジル−1
,1′−メチン/ビス曵ヒダントイン)のようなジ(N
−グリ7ジル)ヒダントイ7≠と1個もしくは被数の芳
香核に1個もしくはそれ以上のアリル、メタリルもしく
01−プロペニル基が置換逼れた2価フェノールとの先
行反応に続いて、フェノール性もしくは層たに形成した
第2級水酸基位でグリシジルアクリレート、クリシジル
メタクリレート、アクリロイルクロライドもしくにメタ
クリロイルクロライドとの反応、あるいは末端エボキ7
基位でアクリル酸もしくはメタクリル酸との反応で得ら
れ、生成物はジーsしくはホリカルボンばの酸無水物と
反応ちれる。
成分(a)として次式XXI :
(式中、
望およびRloの1個、および式11およびR12の1
1同は同一の意味ケ有し、それぞれアリルもしくはメタ
リル基金衣わし R9およびRIGXおよびR11およ
びR12の各残シものはアルコール性水酸基を取り云つ
fc後のアルコ−”ル残基を衣わし、該残基はカルボン
酸基およびアクリロイルオキシもしくはメタクリロイル
オキシ基・の両方全含有する。) で表わされるベンゾフェノン誘導体が使用し得る。
1同は同一の意味ケ有し、それぞれアリルもしくはメタ
リル基金衣わし R9およびRIGXおよびR11およ
びR12の各残シものはアルコール性水酸基を取り云つ
fc後のアルコ−”ル残基を衣わし、該残基はカルボン
酸基およびアクリロイルオキシもしくはメタクリロイル
オキシ基・の両方全含有する。) で表わされるベンゾフェノン誘導体が使用し得る。
R9およびRIGおよびR11およびR”の/?!r残
シの好ましいものは、式xxn : バゝ (式中 R2およびR3は、弐■で定義した意味を有す
る。) で島る基を表わす。
シの好ましいものは、式xxn : バゝ (式中 R2およびR3は、弐■で定義した意味を有す
る。) で島る基を表わす。
成分ia)として使用する通切な他の化合物は、次式x
xト c式中、 R5は、式■で定義した意味を有し、 R13は次式: %式% ) (式中、kc4およびR”は、弐■で定義した意味をゼ
する。)で衣わされる基を表わし、R14は、アリル、
メタリル、1−プロペニル、アリルオキシ力ルホニル、
メタリルオキ7カルボニル、i−7’ロベニルオキシカ
ルボニル、ジアリルアミノ、ジメチルアリルアミノもし
くはジ(1−プロペニル)アミノ基を表わす。〕で表わ
δれるものである。
xト c式中、 R5は、式■で定義した意味を有し、 R13は次式: %式% ) (式中、kc4およびR”は、弐■で定義した意味をゼ
する。)で衣わされる基を表わし、R14は、アリル、
メタリル、1−プロペニル、アリルオキシ力ルホニル、
メタリルオキ7カルボニル、i−7’ロベニルオキシカ
ルボニル、ジアリルアミノ、ジメチルアリルアミノもし
くはジ(1−プロペニル)アミノ基を表わす。〕で表わ
δれるものである。
fヒ学線照射に露光することにより重甘ちれる公知の物
質のほとんどのものはベンゾインおよび七のアルキルニ
ーデルのような光重合開始剤と共にl6に要する露光瞳
面を短編するために使用されている。しかしながら、時
として開始剤の使用は不便でおる。′l+uえはポリマ
ーの′藏気的杵性を変えるからである。加熱により揮発
され得、従っで多I−プリント回路中への用途のために
は好’JL(ない:七れゆえ、それらの製造においては
、ポリマーは時々蛍楓浸漬工程を行なった後に取り除か
れ、この除去はラミネートのコストヲ増し、金属の表面
にljI傷?引起し得る。
質のほとんどのものはベンゾインおよび七のアルキルニ
ーデルのような光重合開始剤と共にl6に要する露光瞳
面を短編するために使用されている。しかしながら、時
として開始剤の使用は不便でおる。′l+uえはポリマ
ーの′藏気的杵性を変えるからである。加熱により揮発
され得、従っで多I−プリント回路中への用途のために
は好’JL(ない:七れゆえ、それらの製造においては
、ポリマーは時々蛍楓浸漬工程を行なった後に取り除か
れ、この除去はラミネートのコストヲ増し、金属の表面
にljI傷?引起し得る。
ある種のオレフィン性アリルー不1ii! ′A11モ
ノカルボン岐桟基、符にアクリロイルオキシ、メタクリ
ロイルオキシ、ソルボイルオキシ、シンナモイルオキシ
もしくi’!’3’−(2−フリル)アクリロイルオキ
7基を含Mする光菖貧性@質の製造は良く知られており
、一般的に前述のような光重合開始剤と共に用いりれて
いる。英国舟許第1,464.287号公報中には、光
重合開始剤の添加はカルコンもしくはカルコン様基會オ
レフィン性アリルー不飽和モノカルボン酸の残基のよう
なもの含有する化合物の分子中に導入することにより避
は得ることが記載されている。
ノカルボン岐桟基、符にアクリロイルオキシ、メタクリ
ロイルオキシ、ソルボイルオキシ、シンナモイルオキシ
もしくi’!’3’−(2−フリル)アクリロイルオキ
7基を含Mする光菖貧性@質の製造は良く知られており
、一般的に前述のような光重合開始剤と共に用いりれて
いる。英国舟許第1,464.287号公報中には、光
重合開始剤の添加はカルコンもしくはカルコン様基會オ
レフィン性アリルー不飽和モノカルボン酸の残基のよう
なもの含有する化合物の分子中に導入することにより避
は得ることが記載されている。
最近、光重合し得る感光性化付物が記載(米国特許第4
.177.122号)もれており、それらは、ヒドロキ
シル−置換ベンゾフェノンの1個もしくは抜駆のフェノ
ール往水酸基ヘアルキレンオキシド忙付加し、次いでア
クリルぼのような不飽和カルボン酸とのエステル化もし
くはグリシジルアクリレートとの反応により得られてい
る。
.177.122号)もれており、それらは、ヒドロキ
シル−置換ベンゾフェノンの1個もしくは抜駆のフェノ
ール往水酸基ヘアルキレンオキシド忙付加し、次いでア
クリルぼのような不飽和カルボン酸とのエステル化もし
くはグリシジルアクリレートとの反応により得られてい
る。
他のものとして(西ドイツ国時許公開第2,800,5
56号参照)は1個より多い1,2−エポキシ基を金石
する化付物とアンモニアの理論不足量および/またに脂
肪族もしくは環式脂肪族第1級および7または第2級ア
ミンとの反応、次いでカルボキシ−tmベンゾフェノン
そして最後にアクリル酸もしくはメタクリル酸との反応
により製造場れている。
56号参照)は1個より多い1,2−エポキシ基を金石
する化付物とアンモニアの理論不足量および/またに脂
肪族もしくは環式脂肪族第1級および7または第2級ア
ミンとの反応、次いでカルボキシ−tmベンゾフェノン
そして最後にアクリル酸もしくはメタクリル酸との反応
により製造場れている。
オレフィ/性アリルー不飽和化合物、例えはアリル基を
含有し、エチレン性2重結合位でポリメルカプタンと化
学線照射で開始されることができる付加反応を受ける化
合物は、また公知である。(例えは、英国特許第1,2
1へ591号および11g1,445,814A号公報
、前述の英国%許感2.012,78iA号および米国
特許第461s、45o号および第4.22へ516号
公報参照)。一般的に、ポリメルカプタンとオレフィン
性アリルー不飽和化せ切との七のような混せ物に光重@
曲始剤會使用することは必要なことである。
含有し、エチレン性2重結合位でポリメルカプタンと化
学線照射で開始されることができる付加反応を受ける化
合物は、また公知である。(例えは、英国特許第1,2
1へ591号および11g1,445,814A号公報
、前述の英国%許感2.012,78iA号および米国
特許第461s、45o号および第4.22へ516号
公報参照)。一般的に、ポリメルカプタンとオレフィン
性アリルー不飽和化せ切との七のような混せ物に光重@
曲始剤會使用することは必要なことである。
本兄明者らa1九重台開始剤の添加使用が、成分(a)
として一般式XXlの化合物を使用することにより避は
得ることを見出した。
として一般式XXlの化合物を使用することにより避は
得ることを見出した。
一般式XXIの化合物の具坏的な例として、ベンゾフェ
ノy −3,4,A’ 4’−テトラカルボン酸X。
ノy −3,4,A’ 4’−テトラカルボン酸X。
X′−ジアリルエステルY、 Y’−ビス(3−メタク
リロイルオキシ)−2−(2−カルボキシエトキシカル
ボニルオキシ)プロピル)エステルL X、 X’ 、
YおよびY′は波でボーする〕である。
リロイルオキシ)−2−(2−カルボキシエトキシカル
ボニルオキシ)プロピル)エステルL X、 X’ 、
YおよびY′は波でボーする〕である。
組成物中で成分(a)として用いられる化合物に新規で
あり、促って本発明は4れらの新規化合物に関するもの
でもある。
あり、促って本発明は4れらの新規化合物に関するもの
でもある。
一般式lilないしXll中 R3がそれぞれアリルも
しくはメタリルを衣わアル付物は、相当するジアリルフ
ェノールもしくはジメタリルフェノールをグリシジルエ
ーテルに変換し、そしてエポキシ基音アクリルもしくは
メタクリル酸と反応させることにより開裂し、得られた
第2級アルコール性水m&を無水ジーもしくにポリカル
ボン酸とエステル化することにより得ることができる。
しくはメタリルを衣わアル付物は、相当するジアリルフ
ェノールもしくはジメタリルフェノールをグリシジルエ
ーテルに変換し、そしてエポキシ基音アクリルもしくは
メタクリル酸と反応させることにより開裂し、得られた
第2級アルコール性水m&を無水ジーもしくにポリカル
ボン酸とエステル化することにより得ることができる。
あるいtよまた、前記ジアリルフェノールもしくはジメ
タリルフェノールとグリシジルアクリレートもしくはグ
リシジルメタクリレートとの同僚の反応、次いで前述し
次ように酸無水物とエステル化することにより得ること
もできる。
タリルフェノールとグリシジルアクリレートもしくはグ
リシジルメタクリレートとの同僚の反応、次いで前述し
次ように酸無水物とエステル化することにより得ること
もできる。
一般式xni甲、各R3がアリルもしくはメタリル基t
−表わ丁化@−物は、相当するフェノールーホルムアル
デヒドノホラックヲテのトリーもしくは高級アリルもし
くはメタリルエーテルに変換し、これらのアリルもしく
はメタリル−置換ノホラックを、それらのグリシジルエ
ーテルへ変換シ、エポキシ基をアクリルもしくにメタク
リル酸と反応させることによシ開鋏し、上述のように酸
無水物とエステル化することにより得ることができる。
−表わ丁化@−物は、相当するフェノールーホルムアル
デヒドノホラックヲテのトリーもしくは高級アリルもし
くはメタリルエーテルに変換し、これらのアリルもしく
はメタリル−置換ノホラックを、それらのグリシジルエ
ーテルへ変換シ、エポキシ基をアクリルもしくにメタク
リル酸と反応させることによシ開鋏し、上述のように酸
無水物とエステル化することにより得ることができる。
あるいは1友、前記アリルもしくはメタリル−置換ノボ
ラックをグリシジルアクリレートもしくはグリシジルメ
タクリレートと反LLさせ、次いで上述のように酸無水
物とエステル化することにより得ることもできる。
ラックをグリシジルアクリレートもしくはグリシジルメ
タクリレートと反LLさせ、次いで上述のように酸無水
物とエステル化することにより得ることもできる。
一般式xN中、4kL1の少なくとも2個がそれぞれア
リルオキシもしくはメタリルオキシ基ヲ狭わす化合物は
、フェノール−ホルムアルデヒドノボラック中の少なく
とも2個のフェノール性水酸基を17リルクロライドも
しく riメタリルクロライドとの反応でエーテル化し
、残りの1個もしくは複数のフェノール性水酸基をグリ
シジル基へ変換し、これらのグリシジル基tアクリル酸
もしくはメタクリル酸と反応場せ、そしてj&後に無水
ジーもしくはポリ−カルボン酸とエステル化することに
より得るCとができる。
リルオキシもしくはメタリルオキシ基ヲ狭わす化合物は
、フェノール−ホルムアルデヒドノボラック中の少なく
とも2個のフェノール性水酸基を17リルクロライドも
しく riメタリルクロライドとの反応でエーテル化し
、残りの1個もしくは複数のフェノール性水酸基をグリ
シジル基へ変換し、これらのグリシジル基tアクリル酸
もしくはメタクリル酸と反応場せ、そしてj&後に無水
ジーもしくはポリ−カルボン酸とエステル化することに
より得るCとができる。
あるいにまた、少なくとも2個のフェノール性水酸基は
アリルクロライドもしくはメタリルクロライドによりエ
ーテル化され得、残りの11固%しく&;J祖dのフェ
ノール性水酸基はグリシジルアクリレ−トもしく yl
メタクリレートと反応を生じ、このように形成した第2
級水酸基を無水ジーもしくはポリ−カルホン酸とエステ
ル化することにより得ることができる。
アリルクロライドもしくはメタリルクロライドによりエ
ーテル化され得、残りの11固%しく&;J祖dのフェ
ノール性水酸基はグリシジルアクリレ−トもしく yl
メタクリレートと反応を生じ、このように形成した第2
級水酸基を無水ジーもしくはポリ−カルホン酸とエステ
ル化することにより得ることができる。
一般式Xv>工びx■中、1個もしくに谷R2が式Iの
基を衣わし、各1も3がアリルもしくtまメタリル清を
表わす化せミ吻は、ジアリルもしくはジアリルフェノー
ル中の1個のフェノール性水酸基、もしくはテトラ−ア
リルもしくにテトラメタリルビスフェノール中の両フェ
ノール性水#R基を1個もしくは複数のグリシジルエー
テル基へ変換し、続いてアクリルもしくはメタクリル酸
と反応場せ、次いで前記のように酸無水物と反応させる
ことにより得ることができる。あるいにまた、ジアリル
もしくはジアリルフェノールまたはテトラアリルもしく
はテトラメタリルビスフェノールは、同様に1もしく1
12モルのグリシジルアクリレートもしくはグリシジル
メタクリレートと反応金し、続いてすでに述べたように
酸無水物とエステル化することにより得ることもできる
。
基を衣わし、各1も3がアリルもしくtまメタリル清を
表わす化せミ吻は、ジアリルもしくはジアリルフェノー
ル中の1個のフェノール性水酸基、もしくはテトラ−ア
リルもしくにテトラメタリルビスフェノール中の両フェ
ノール性水#R基を1個もしくは複数のグリシジルエー
テル基へ変換し、続いてアクリルもしくはメタクリル酸
と反応場せ、次いで前記のように酸無水物と反応させる
ことにより得ることができる。あるいにまた、ジアリル
もしくはジアリルフェノールまたはテトラアリルもしく
はテトラメタリルビスフェノールは、同様に1もしく1
12モルのグリシジルアクリレートもしくはグリシジル
メタクリレートと反応金し、続いてすでに述べたように
酸無水物とエステル化することにより得ることもできる
。
一般式lないしXVI中、谷R3が1−プロペニル基を
表わす化8 ’$11は、無水ジまたはポリカルボン酸
との最終エステル化の前にアルカリとの加熱によるアリ
ル基の異性化段階を含むが、それらのアリル同族体と同
様の方法で得ることができる。
表わす化8 ’$11は、無水ジまたはポリカルボン酸
との最終エステル化の前にアルカリとの加熱によるアリ
ル基の異性化段階を含むが、それらのアリル同族体と同
様の方法で得ることができる。
一価および多1曲フェノールのアリルもしくはメタリル
エーテルの形成およびそれらのクライゼン(C1aia
en)転位はすでに引用した英国特許出願公告第2,0
12,781A号および米国特許第4.220,513
号 に記載ちれているが、そのなかには、2.6−ジア
リルフェノール、2.6−シメタリルフエノール スフェノールお工ひ2, i 6, b?−テトラメタ
リルビスフェノールの製法、およびアリルフェノールの
それらグリシジルエーテルへの変換も含包−afL.て
いる。それらの公報のなかには、またアリール(ari
llアリルエーテルのアリール(aryt)1−プロペ
ニルエーテルへの異性化も記載ちれている。
エーテルの形成およびそれらのクライゼン(C1aia
en)転位はすでに引用した英国特許出願公告第2,0
12,781A号および米国特許第4.220,513
号 に記載ちれているが、そのなかには、2.6−ジア
リルフェノール、2.6−シメタリルフエノール スフェノールお工ひ2, i 6, b?−テトラメタ
リルビスフェノールの製法、およびアリルフェノールの
それらグリシジルエーテルへの変換も含包−afL.て
いる。それらの公報のなかには、またアリール(ari
llアリルエーテルのアリール(aryt)1−プロペ
ニルエーテルへの異性化も記載ちれている。
一般式x1の化合物は、式XXK :
(XXX)
のグリシジル化合智ヲ、アクリルもしくはメタクリルば
とエステル化し、更に新しく生成した第2級水酸基を次
式XXX : (式中、kcsおよびR4は犬山で定義した意fin!
する。) で表わδれるエンドメチレンテトラヒドロ無水フタル酸
とのエステル化により喪造丁ゐことができる。
とエステル化し、更に新しく生成した第2級水酸基を次
式XXX : (式中、kcsおよびR4は犬山で定義した意fin!
する。) で表わδれるエンドメチレンテトラヒドロ無水フタル酸
とのエステル化により喪造丁ゐことができる。
一般式XIXおよびXxの化合物は、無水トリメリド酸
とアリルもしくはメタリルアルコールとの反応、そして
若し必要ならばアリル基の異性化により次式XXXI
オj ヒXXXil :の異性体混合物を得、次いでル
XXX Iおよびxxxnの化合物は、自体公知の方法
によりグリシジルアクリレートもしくはグリシジルメタ
クリレートとの反応に付し、セして無水ジーもしくはポ
リカルボン酸とエステル化することによシ、式XIKも
しくはxX中R8が式■の基を表わす生成吻を与えるこ
とができる。あるいはlだ、同じ生成物は式xxx i
もしくはxxxt+のジカルボン酸を七れらのジグリフ
ジルエーテルへ変換し、自体公知の方法によりアクリル
酸もしくはメタクリル改によるエポキシド基?開裟し、
すでに述べたようにエステル1ヒ金行ない得ることがで
きる。
とアリルもしくはメタリルアルコールとの反応、そして
若し必要ならばアリル基の異性化により次式XXXI
オj ヒXXXil :の異性体混合物を得、次いでル
XXX Iおよびxxxnの化合物は、自体公知の方法
によりグリシジルアクリレートもしくはグリシジルメタ
クリレートとの反応に付し、セして無水ジーもしくはポ
リカルボン酸とエステル化することによシ、式XIKも
しくはxX中R8が式■の基を表わす生成吻を与えるこ
とができる。あるいはlだ、同じ生成物は式xxx i
もしくはxxxt+のジカルボン酸を七れらのジグリフ
ジルエーテルへ変換し、自体公知の方法によりアクリル
酸もしくはメタクリル改によるエポキシド基?開裟し、
すでに述べたようにエステル1ヒ金行ない得ることがで
きる。
式XXl0化曾切は、市販のベンゾフェノン−5、4,
3,’ 4ニーテトラカルホン酸ジー酸無水物がら容易
に得ることができる。たとえは、このジー酸無水*tア
リルアルコールもしくはメタリルアルコールと加熱し、
ベンゾフェノン−3,4,3,’4′−テト7カルホン
mx、x’−ジアリルエステルおよび対応するX、X’
−ジアリルエステルに4える。
3,’ 4ニーテトラカルホン酸ジー酸無水物がら容易
に得ることができる。たとえは、このジー酸無水*tア
リルアルコールもしくはメタリルアルコールと加熱し、
ベンゾフェノン−3,4,3,’4′−テト7カルホン
mx、x’−ジアリルエステルおよび対応するX、X’
−ジアリルエステルに4える。
この生成物は51面のcfJ能の異性体、すなわち、ペ
ンツフェノンの3.6′−7カルホキシー4.4’ −
ビス(アリルオキシカルボニル)、4.4’−ジカルホ
キシー46′−ビス(アリルオキシカルボニル)および
6.4′−ジカルポキ7−6j4−ビス(アリルオキシ
カルボニル)酵尋体、およびメタリルアルコールを使用
した場せにはヤれらの(51) メタリル同族1ヒ甘物かり横取δれると考えられている
。しかしなから、本兄明の壱−用件は、この推削が正し
いか否かとは関係ない。
ンツフェノンの3.6′−7カルホキシー4.4’ −
ビス(アリルオキシカルボニル)、4.4’−ジカルホ
キシー46′−ビス(アリルオキシカルボニル)および
6.4′−ジカルポキ7−6j4−ビス(アリルオキシ
カルボニル)酵尋体、およびメタリルアルコールを使用
した場せにはヤれらの(51) メタリル同族1ヒ甘物かり横取δれると考えられている
。しかしなから、本兄明の壱−用件は、この推削が正し
いか否かとは関係ない。
(52)
カルボン酸からグリシジルエステルを生成する公知の方
法によるこれらジエステル−ジカルボン酸トエビクロル
ヒドリンとの反応、続いて脱塩化水素化は、ベンゾフェ
ノン−5+ ’ + 3 ’+ ”テトラカルボン酸x
、x’−ジアリルエステルY、Y’−ジグリシジルエス
テルおよび対応するメタリル化合物を与える。これらの
ジアリルおよびジグリシジルエステルとアクリル酸もし
くはメタクリル酸の反応は、x、x’−ジアリルY、Y
’−ビス(3−(アクリロイルオキノ)−2−ヒドロキ
シプロピル)テトラ−エステルもしくは対応するメタク
リロイル同族化合物、すなわち、弐XM中、R9および
R10の11I11およびR11およびRIQの1f固
がそれぞれアリル基を、1(9、RIG 、 ]<II
、 1(12の残りがそれぞれ式Wの基を表わす化合
物を与える。これらのテトラ−エステルはまた、5 +
’ + 5’ + 4’−テトラカルボン酸x、x’
−ジアリルエステルと2モル割合いのグリシジルアクリ
レートもしくはグリシジルメタクリレートとの反応で得
ることもできる。メタC夕3ノ ジル同族化合物は同様の方法により製造し得る。
法によるこれらジエステル−ジカルボン酸トエビクロル
ヒドリンとの反応、続いて脱塩化水素化は、ベンゾフェ
ノン−5+ ’ + 3 ’+ ”テトラカルボン酸x
、x’−ジアリルエステルY、Y’−ジグリシジルエス
テルおよび対応するメタリル化合物を与える。これらの
ジアリルおよびジグリシジルエステルとアクリル酸もし
くはメタクリル酸の反応は、x、x’−ジアリルY、Y
’−ビス(3−(アクリロイルオキノ)−2−ヒドロキ
シプロピル)テトラ−エステルもしくは対応するメタク
リロイル同族化合物、すなわち、弐XM中、R9および
R10の11I11およびR11およびRIQの1f固
がそれぞれアリル基を、1(9、RIG 、 ]<II
、 1(12の残りがそれぞれ式Wの基を表わす化合
物を与える。これらのテトラ−エステルはまた、5 +
’ + 5’ + 4’−テトラカルボン酸x、x’
−ジアリルエステルと2モル割合いのグリシジルアクリ
レートもしくはグリシジルメタクリレートとの反応で得
ることもできる。メタC夕3ノ ジル同族化合物は同様の方法により製造し得る。
無水ジーもしくはポリ−カルボン酸を用いるエステル化
は所望の生成物を与える。
は所望の生成物を与える。
一般式調の化合物は25位がR8により置換された1、
3−ジグリシジルヒダントイントアクリルもしくはメタ
クリル酸との反応および得られた第2級水酸基を次式x
xxm : (式中、R3は大川で定義した意味を有する□)の無水
物との反応によるか、もしくはそのような置換ヒダント
インとグリシジルアクリレートもしくはグリ7ジルメタ
クリレートとの反応および式XX■の無水物とのエステ
ル化により製造することができる。
3−ジグリシジルヒダントイントアクリルもしくはメタ
クリル酸との反応および得られた第2級水酸基を次式x
xxm : (式中、R3は大川で定義した意味を有する□)の無水
物との反応によるか、もしくはそのような置換ヒダント
インとグリシジルアクリレートもしくはグリ7ジルメタ
クリレートとの反応および式XX■の無水物とのエステ
ル化により製造することができる。
式xxxmの酸無水物それ自体は、無水トリメリド酸と
チオニルクロライドと反応させ酸クロライドー無水物を
得、これとアルコール: )<AU)(と反応させるこ
とにより製造される。
チオニルクロライドと反応させ酸クロライドー無水物を
得、これとアルコール: )<AU)(と反応させるこ
とにより製造される。
(59〕
式X■の化合物は、次式xxxiv :のジグリシジル
化合物をアクリルもしくはメタクリル酸とエステル化し
、そして礎に生成した第二級水酸基と次式xxxv : (上記各式中、1(13お工びR14は式XXIIIで
定義した1を味を有する) の酸無水物とのエステル化による反応、または、フェノ
ールもしくはヒダントインH−1<1”−Hとグリ7ジ
ルアクリレートもしくはグリシジルメタクリレートとの
反応、そして式xxxvの酸無水物とのエステル化にエ
リ製造することができるQ 本発明の組成物中の成分(blとして、広範囲のポリメ
ルカプタンが使用に適する。好1しくけ、メルカプタン
はいかなるアリル、メタリル、1−プロペニル、アクリ
ロイルもしくはメタクリロイル基をもたず、そして好ま
しくは分子Iがs、oooより多くないものである。脂
肪族炭素原子に直接結合したメルカプタン基を分子当り
通常6個より多くなく含有するポリメルカプタンが使用
される。しかしながら、そのよりなメルカプタン基を2
閏より多く含有するものが好ましい〇 第1のクラスはモノメルカグタンアルキレンカルボン酸
と多価アルコールのエステル、もしくは脂肪族モノメル
カプタン−価アルコールとポリカルボン酸のエステルか
らなるものである。
化合物をアクリルもしくはメタクリル酸とエステル化し
、そして礎に生成した第二級水酸基と次式xxxv : (上記各式中、1(13お工びR14は式XXIIIで
定義した1を味を有する) の酸無水物とのエステル化による反応、または、フェノ
ールもしくはヒダントインH−1<1”−Hとグリ7ジ
ルアクリレートもしくはグリシジルメタクリレートとの
反応、そして式xxxvの酸無水物とのエステル化にエ
リ製造することができるQ 本発明の組成物中の成分(blとして、広範囲のポリメ
ルカプタンが使用に適する。好1しくけ、メルカプタン
はいかなるアリル、メタリル、1−プロペニル、アクリ
ロイルもしくはメタクリロイル基をもたず、そして好ま
しくは分子Iがs、oooより多くないものである。脂
肪族炭素原子に直接結合したメルカプタン基を分子当り
通常6個より多くなく含有するポリメルカプタンが使用
される。しかしながら、そのよりなメルカプタン基を2
閏より多く含有するものが好ましい〇 第1のクラスはモノメルカグタンアルキレンカルボン酸
と多価アルコールのエステル、もしくは脂肪族モノメル
カプタン−価アルコールとポリカルボン酸のエステルか
らなるものである。
より好ましいそのようなエステルは、次式%式%:
〔式中、
1(15は、炭素原子数2ないし60の脂肪族もしくは
芳香−脂肪族炭化水素ラジカルを表わし、それは1sよ
り多くないエーテル酸素原子による鎖で中断されること
もあり、 RI6は、脂肪族炭化水素ラジカルを表わし、それは1
間より多くないカルボニルオキ7基により鎖を中断され
ることもあり、好ましくは炭素原子数1ないし4であり
、 bは、2ないし6の整数、好ましくは3ないし6であり
、 Cは、0もしくは多(4=5の正の整数で、この場合(
b十〇)は多くて6であり(c(diのような定義は代
数学的に解釈される)、 dおよびeはそれぞれ0もしくは1を表わす力(同一で
ない。〕 で表わされる。
芳香−脂肪族炭化水素ラジカルを表わし、それは1sよ
り多くないエーテル酸素原子による鎖で中断されること
もあり、 RI6は、脂肪族炭化水素ラジカルを表わし、それは1
間より多くないカルボニルオキ7基により鎖を中断され
ることもあり、好ましくは炭素原子数1ないし4であり
、 bは、2ないし6の整数、好ましくは3ないし6であり
、 Cは、0もしくは多(4=5の正の整数で、この場合(
b十〇)は多くて6であり(c(diのような定義は代
数学的に解釈される)、 dおよびeはそれぞれ0もしくは1を表わす力(同一で
ない。〕 で表わされる。
工り一層好ましいエステルは式XXXMのメルカプタン
でそれはまた次式XXXVI :、 R17(0C
ORI”8)1 )brXXXVII)(4;?) (式中、 bは、式XXXVIで定義した意味を有し、RI7は、
炭素原子数2ないし10の脂肪族炭化水素ラジカルであ
り、そして 1(1gは、 (CHz)、 −(CH2)2−1もし
くは−CH(CHs )−を表わす。) のポリメルカプタンである。
でそれはまた次式XXXVI :、 R17(0C
ORI”8)1 )brXXXVII)(4;?) (式中、 bは、式XXXVIで定義した意味を有し、RI7は、
炭素原子数2ないし10の脂肪族炭化水素ラジカルであ
り、そして 1(1gは、 (CHz)、 −(CH2)2−1もし
くは−CH(CHs )−を表わす。) のポリメルカプタンである。
第2のクラスは、モノメルカプタンジカルボン酸のエス
テルを包含するメルカプタン−含有エステルからなり、
次式XXX■: C式中、 dおよびeは、式XXXV Iで定義した意味含有し、
fは、1ないし6の整数、好ましくは2ないし6 、 R19は、その1(JIAもしくは複数の炭素原子を介
し、−〇−もしくは−(0・−で表わされる単位へ連結
される2価の有機ラジカルを表わし、HIIOは、その
1蘭もしくは複数の炭素原子を介(ダビノ し、−8H基と一〇−もしくは−(:0−で表わされる
単位へ連結される2価の有機ラジカルを表わし、そして
、 R21は、fが1のとき少なくとも1@の脂肪族−8H
基を含有せねばならず、そして好着しくはfが2のとき
そのような基を少なくきも1蘭含有し、そのI It!
itもしくは複数の炭素原子を介し、−〇−もしくは−
C〇−で表わされる隣接の11固もしくは複数の単位へ
連結される有機ラジカルを表わす。) で表わされる。
テルを包含するメルカプタン−含有エステルからなり、
次式XXX■: C式中、 dおよびeは、式XXXV Iで定義した意味含有し、
fは、1ないし6の整数、好ましくは2ないし6 、 R19は、その1(JIAもしくは複数の炭素原子を介
し、−〇−もしくは−(0・−で表わされる単位へ連結
される2価の有機ラジカルを表わし、HIIOは、その
1蘭もしくは複数の炭素原子を介(ダビノ し、−8H基と一〇−もしくは−(:0−で表わされる
単位へ連結される2価の有機ラジカルを表わし、そして
、 R21は、fが1のとき少なくとも1@の脂肪族−8H
基を含有せねばならず、そして好着しくはfが2のとき
そのような基を少なくきも1蘭含有し、そのI It!
itもしくは複数の炭素原子を介し、−〇−もしくは−
C〇−で表わされる隣接の11固もしくは複数の単位へ
連結される有機ラジカルを表わす。) で表わされる。
dがゼロのとき−R19は好1しくは一1個もしくはそ
れ以上のメチル基および1叫もしくはそれ以上のメルカ
プタン基で置換することができ、そして1岡もしくはそ
れ以上のエーテル酸素原子および1閂もしくはそれ以上
のカルボニルオキ7基で中断することもできる〜炭素原
子数2ないし20の飽和脂肪族の分枝していない炭化水
素鎖を表わす。
れ以上のメチル基および1叫もしくはそれ以上のメルカ
プタン基で置換することができ、そして1岡もしくはそ
れ以上のエーテル酸素原子および1閂もしくはそれ以上
のカルボニルオキ7基で中断することもできる〜炭素原
子数2ないし20の飽和脂肪族の分枝していない炭化水
素鎖を表わす。
dが1のとき、1(19は打着しくは、(11メルカプ
タン基を持つことができる炭素原子数2ないし10の飽
和脂肪族炭化水素基、111111Nもしくはそれ以上
のエチレン性アジルー不飽和2重結合を含有することが
できる炭素原子数5ないし35の環式脂肪族−脂肪族炭
化水素基、もしくは、 +1ll) 炭素原子数6ないし12の単一核アリー
レン炭化水素基、 を表わす。
タン基を持つことができる炭素原子数2ないし10の飽
和脂肪族炭化水素基、111111Nもしくはそれ以上
のエチレン性アジルー不飽和2重結合を含有することが
できる炭素原子数5ないし35の環式脂肪族−脂肪族炭
化水素基、もしくは、 +1ll) 炭素原子数6ないし12の単一核アリー
レン炭化水素基、 を表わす。
dがゼロのとき、R2Oは打首しくは、カル^ボキゾル
基を持つことができる炭素原子数1ないし6の飽和脂肪
族炭化水素基を表わし、そして、dが1のとき、’H2
uは好1しくは、水酸基もしくは塩素原子により置換す
ることができる炭素原子数2ないし4の飽和脂肪族炭化
水素基を表わす。
基を持つことができる炭素原子数1ないし6の飽和脂肪
族炭化水素基を表わし、そして、dが1のとき、’H2
uは好1しくは、水酸基もしくは塩素原子により置換す
ることができる炭素原子数2ないし4の飽和脂肪族炭化
水素基を表わす。
)<21は 好ましくは、
Ovl 少なくとも1個の脂肪族メルカプタン基を持
つことができる炭素原子数2ないし51の脂肪族もしく
は環式脂肪族−脂肪族炭化水素基、もしくは M 炭素原子数6ないし15の単一核もしくは2核ア
リーレン炭化水素基、もしくは (vl)少なくとも1個のエーテル酸素原子で中断され
そして所望番こより少なくとも1閂の脂肪族メルカプタ
ン基で置換されている炭素原子数4ないし20の鎖、も
しくは (Vlll 少なくとも11固のカルボニルオキ7基
で中断されており、所望により少なくとも1個のエーテ
ル酸素原子で中断されておりそして所望により少なくと
も1@の脂肪族メルカプタン基で置換されている炭素原
子数6ないし50の鎖を表わす。
つことができる炭素原子数2ないし51の脂肪族もしく
は環式脂肪族−脂肪族炭化水素基、もしくは M 炭素原子数6ないし15の単一核もしくは2核ア
リーレン炭化水素基、もしくは (vl)少なくとも1個のエーテル酸素原子で中断され
そして所望番こより少なくとも1閂の脂肪族メルカプタ
ン基で置換されている炭素原子数4ないし20の鎖、も
しくは (Vlll 少なくとも11固のカルボニルオキ7基
で中断されており、所望により少なくとも1個のエーテ
ル酸素原子で中断されておりそして所望により少なくと
も1@の脂肪族メルカプタン基で置換されている炭素原
子数6ないし50の鎖を表わす。
第6のクラスは一般式xxxtx :
(式中、
R22は、(j+k)IIBIのアルコール性水酸基を
除去(t、II した後の多価アルコールラジカル、特に炭素原子数2な
いし10の脂肪族炭化水素ラジカルを表わし、 各H+13は、連続的に表わした酸素原子間に少なくと
も2そして多くても6の炭素原子鎖を含有するアルキレ
ン基を表わし、 R24は、少なくとも1111のメルカプタン基を含有
する炭素原子数1ないし6の脂肪族ラジカルを表わし・ gは、正の整数、好ましくはポリメルカプタンの平均分
子量が2,000より多くないような整数〜 hは、0もしくは1゜ jは、0もしくは(j+h)が多くてるである正の整数
、そして kは、2ないし6の整数、好ましくは3ないし6) のエステルおよびエーテルで構成される、個々のポリ(
オキシアルキレン)@中の基Hasは、同一もしくは異
なっており、そして例えば(62) フェニルもしくはクロルメチル基で置換することができ
る。好ましくは−(’2H4−もしくは−C’、、H,
−基である。
除去(t、II した後の多価アルコールラジカル、特に炭素原子数2な
いし10の脂肪族炭化水素ラジカルを表わし、 各H+13は、連続的に表わした酸素原子間に少なくと
も2そして多くても6の炭素原子鎖を含有するアルキレ
ン基を表わし、 R24は、少なくとも1111のメルカプタン基を含有
する炭素原子数1ないし6の脂肪族ラジカルを表わし・ gは、正の整数、好ましくはポリメルカプタンの平均分
子量が2,000より多くないような整数〜 hは、0もしくは1゜ jは、0もしくは(j+h)が多くてるである正の整数
、そして kは、2ないし6の整数、好ましくは3ないし6) のエステルおよびエーテルで構成される、個々のポリ(
オキシアルキレン)@中の基Hasは、同一もしくは異
なっており、そして例えば(62) フェニルもしくはクロルメチル基で置換することができ
る。好ましくは−(’2H4−もしくは−C’、、H,
−基である。
式XX豆の化合物のなかで好ましいものは、次式XL:
のエステル、および次式XLI:
(上記式中、
R1?は、式XXXVIIで定義した意味を有し、)<
” r g + Jお工びkは式XXXD(で定義した
意味を有し、そして mは1もしくは2である) のエーテルである。
” r g + Jお工びkは式XXXD(で定義した
意味を有し、そして mは1もしくは2である) のエーテルである。
成分(blとして適当なポリメルカプタンの第4のクラ
スは、一般式XI、11 : (式中、 各Hmは炭素原子数2ないし4のアルキレン炭化水素基
を表わし、 1(26は、水素原子もしくはメチルもしくはエチル基
を表わし、 nは、少なくと61の平均値を持つ整数で、打首しくは
スルフィドの平均分子量が多くともi、o o oとな
る整数、そして pがゼロの場合qお工び「はそれぞれまたゼロであるか
もしくはpが1の場合qがゼロもしくは1およびrが1
である) で表わされるメルカプタン−末端スルフィドから構成さ
れる。
スは、一般式XI、11 : (式中、 各Hmは炭素原子数2ないし4のアルキレン炭化水素基
を表わし、 1(26は、水素原子もしくはメチルもしくはエチル基
を表わし、 nは、少なくと61の平均値を持つ整数で、打首しくは
スルフィドの平均分子量が多くともi、o o oとな
る整数、そして pがゼロの場合qお工び「はそれぞれまたゼロであるか
もしくはpが1の場合qがゼロもしくは1およびrが1
である) で表わされるメルカプタン−末端スルフィドから構成さ
れる。
成分(blとして適当なポリメルカプタンの第5のクラ
スは、一般式XI、111 : 〔式中、 各R5は、弐Wで定義した意味を有し、R27は、−(
、:N 、−(”OOH、−CONH2、−(”OOR
”、−(、:6H。
スは、一般式XI、111 : 〔式中、 各R5は、弐Wで定義した意味を有し、R27は、−(
、:N 、−(”OOH、−CONH2、−(”OOR
”、−(、:6H。
モジくは一〇t’!OHu (R” 4−J、炭’Jt
[子数1ナイし8のアルキル基である)を表わし、 tは少なくと61の整数、 Uは0または正の整数、そして Sは、1より多い整数、好ましくはポリメルカプタンの
数平均分子量が1000より多くないような数である。
[子数1ナイし8のアルキル基である)を表わし、 tは少なくと61の整数、 Uは0または正の整数、そして Sは、1より多い整数、好ましくはポリメルカプタンの
数平均分子量が1000より多くないような数である。
〕
で表わされるメルカプタン−末端ポリ(ブタジェン)か
ら構成される。
ら構成される。
成分(b)として使用されるポリメルカプタンの第6の
クラスは、一般式凰■: 0式中、 各R5は、弐■で定義した意味を有し、そしてaは、式
■で定義した一味を有する。)で表わされるメルカプタ
ン−末端オキノアルキレン化合物エリ構成される。
クラスは、一般式凰■: 0式中、 各R5は、弐■で定義した意味を有し、そしてaは、式
■で定義した一味を有する。)で表わされるメルカプタ
ン−末端オキノアルキレン化合物エリ構成される。
式X[,11ないしXLIVでジメルカフ′タンである
物質は打首しいものではない。
物質は打首しいものではない。
第7のクラスは、トリス(2−ヒドロキノエチル)イソ
シアヌレート、トリス(2−ヒドロキノプロピル)イソ
シアヌレート、N、N’−ビス(2−ヒドロキノエチル
)ヒダントインお工びN 、 N’−ビス(2−ヒドロ
キラプロビル)ヒダントインのポリ(チオクリコレート
)またはポリ(メルカグトブロピメネートラで、すなわ
ち次式XLV モL、 < GtXLVl :(11〕 30 1 1(30−(’ −−(’ :0 1 1 rXLVl)(上
記式中、 各R5は、弐■で定義した意味を有し、各1(18は、
式XXXVIIで定義した意味を有し、R2Oは、基:
−0(’)<1888もしくは水素原子を表わし、そ
して、 各1゛°は〜炭素原子数゛な“しTのア″“′基特にメ
チルもしくはエチ7し□゛基□炭素原子数7ないし9の
アルアルキル基もしくは炭素原子数6ないし8のアリー
ル基を表わすか、もしくは2 (rMのR2Oが結合し
ている炭素原子と共にシクロペンタンもしくはシクロヘ
キサン環を表わす。) で表わされる化合物から構成される。
シアヌレート、トリス(2−ヒドロキノプロピル)イソ
シアヌレート、N、N’−ビス(2−ヒドロキノエチル
)ヒダントインお工びN 、 N’−ビス(2−ヒドロ
キラプロビル)ヒダントインのポリ(チオクリコレート
)またはポリ(メルカグトブロピメネートラで、すなわ
ち次式XLV モL、 < GtXLVl :(11〕 30 1 1(30−(’ −−(’ :0 1 1 rXLVl)(上
記式中、 各R5は、弐■で定義した意味を有し、各1(18は、
式XXXVIIで定義した意味を有し、R2Oは、基:
−0(’)<1888もしくは水素原子を表わし、そ
して、 各1゛°は〜炭素原子数゛な“しTのア″“′基特にメ
チルもしくはエチ7し□゛基□炭素原子数7ないし9の
アルアルキル基もしくは炭素原子数6ないし8のアリー
ル基を表わすか、もしくは2 (rMのR2Oが結合し
ている炭素原子と共にシクロペンタンもしくはシクロヘ
キサン環を表わす。) で表わされる化合物から構成される。
適当なポリメルカプタンの具体的な例は、ペンタエリ
トリトールテトうチオグリコレート、ジペンタエリトリ
トールへキサキス(3−メルヵフトグロビオネート)、
1−リメ千ロールプロパントリチオグリコレートお工び
平均分子−@ SOOのポリオキシプロピレントリオー
ルのトリス(5−メルカプト−2−ヒドロキシグロビル
エーテル)である。
トリトールテトうチオグリコレート、ジペンタエリトリ
トールへキサキス(3−メルヵフトグロビオネート)、
1−リメ千ロールプロパントリチオグリコレートお工び
平均分子−@ SOOのポリオキシプロピレントリオー
ルのトリス(5−メルカプト−2−ヒドロキシグロビル
エーテル)である。
本発明の組成物の光重合工程iこおいて一波長200−
6001.の化学線照射が好1しく用いられる。化学線
照射の適切な光源は、炭素アーク、水銀アーク、紫外先
勝放射リン螢光ランプ、アルゴンおよびキセノングロウ
ランプ、タングステンランプおよび写真投光ラングを包
含する。
6001.の化学線照射が好1しく用いられる。化学線
照射の適切な光源は、炭素アーク、水銀アーク、紫外先
勝放射リン螢光ランプ、アルゴンおよびキセノングロウ
ランプ、タングステンランプおよび写真投光ラングを包
含する。
これらのなかで水銀アーク、特に太陽ランプ、螢光太陽
ランプお工び金塊ハライドランプが最も適切である。光
重合性組成物の露光のため要求される時間は、種々の要
因、例えば使用される個々の化合物、光源のタイプ、照
射される組成物からの光源距離に左右される。好適な時
間は光重合技術の熟知で容易に決定されるC光重合のた
め、組成物(大豆の化合物を含有するものは除<0)は
添加光重合開始剤、例えば、照射により励起状態を与え
、フリーラジカルを形成し、次いで組成物の重合を開始
する触媒を含有せねばならなり0適当な光重合開始剤の
例としては、有機バーオキノドおよびハイドロパーオキ
サイド、トリクロルメチル4′−第3ブチルフェニルケ
トンの工うなα−ハロゲン置換アセトフェノン、2−ヒ
ドロキシ−2−メ−f−に−1−フェニルプロパン−1
−オンのよりなα−ヒドロキノ−α−アルキル−置換ア
セトフェノン、ベンゾインおよびそのアルキルニーデル
(例えば、その九−ブチルエーテル)、α−メチルベン
ツイン、ペンゾフエノンソレ自体および4.4′−ビヌ
(ジメチルアミノ)ベンゾ(69ノ フェノンのようなベンゾフェノン、ベンジル(0−エト
キシカルボニル)−α−モノオキシムおよび1−フェニ
ルプロパン−1,2−ジオン2− (0−エトキシカル
ボニル)オキシムのヨウナヘンジルもしくは1−フェニ
ルプロパン−1,2−ジオンのオキツムのO−アルコキ
シカルボニル誘導体、ヘンジルケクール例えばそのジメ
チルケタール、置換チオキサントン例えば2−クロルチ
オキサントン、アントラキノン、お工びフェノチアジン
染料(例えばメチレンブルー)もしくはキノキサリン〔
例えば2−(m−モしく はp−メトキシフェニル)−
キノキサリン−6′−もしくは7′−スルホン酸の金属
塩)とベンゼンスルホン酸もしくは他のスルホン酸ある
いはナトリウム塩のようなそれらの塩もしくはアルシン
、ホスフィンもしくはチオウレアのような電子受容体と
の混合物から構成される光レドックスシステムである。
ランプお工び金塊ハライドランプが最も適切である。光
重合性組成物の露光のため要求される時間は、種々の要
因、例えば使用される個々の化合物、光源のタイプ、照
射される組成物からの光源距離に左右される。好適な時
間は光重合技術の熟知で容易に決定されるC光重合のた
め、組成物(大豆の化合物を含有するものは除<0)は
添加光重合開始剤、例えば、照射により励起状態を与え
、フリーラジカルを形成し、次いで組成物の重合を開始
する触媒を含有せねばならなり0適当な光重合開始剤の
例としては、有機バーオキノドおよびハイドロパーオキ
サイド、トリクロルメチル4′−第3ブチルフェニルケ
トンの工うなα−ハロゲン置換アセトフェノン、2−ヒ
ドロキシ−2−メ−f−に−1−フェニルプロパン−1
−オンのよりなα−ヒドロキノ−α−アルキル−置換ア
セトフェノン、ベンゾインおよびそのアルキルニーデル
(例えば、その九−ブチルエーテル)、α−メチルベン
ツイン、ペンゾフエノンソレ自体および4.4′−ビヌ
(ジメチルアミノ)ベンゾ(69ノ フェノンのようなベンゾフェノン、ベンジル(0−エト
キシカルボニル)−α−モノオキシムおよび1−フェニ
ルプロパン−1,2−ジオン2− (0−エトキシカル
ボニル)オキシムのヨウナヘンジルもしくは1−フェニ
ルプロパン−1,2−ジオンのオキツムのO−アルコキ
シカルボニル誘導体、ヘンジルケクール例えばそのジメ
チルケタール、置換チオキサントン例えば2−クロルチ
オキサントン、アントラキノン、お工びフェノチアジン
染料(例えばメチレンブルー)もしくはキノキサリン〔
例えば2−(m−モしく はp−メトキシフェニル)−
キノキサリン−6′−もしくは7′−スルホン酸の金属
塩)とベンゼンスルホン酸もしくは他のスルホン酸ある
いはナトリウム塩のようなそれらの塩もしくはアルシン
、ホスフィンもしくはチオウレアのような電子受容体と
の混合物から構成される光レドックスシステムである。
適当な光重合開始剤は慣例実験により容易に見出せる。
一般的に、0.05ないし10重量係、(?す
好壕しくは0.5ないし5重量%の光重合開始剤が、成
分ialおよび(blの配合重量を基準として混合され
る。
分ialおよび(blの配合重量を基準として混合され
る。
ここで使用される定義”フリーラジカル触媒”は、物質
を意味し、化学線照射は含まない。本発明の組成物の重
合のための適当なフリーラジカル触媒は、熱活性化触媒
、すなわち、通常の室温以上の温度でのみかなり速やか
C(重合効果が働き、そして2.2′−アゾビス(2−
メチルプロピオニトリル)および有機もしくは無機パー
オキサイド、例えば焔酢酸、逼安息香酸、泥フタル酸、
ジ−インプロピルパーオキシジカーボネート、アンモニ
ウムもしくはアルカリ金属・く−ボレート、アンモニウ
ムもしくはアルカリ金属バースルフェート2ベンゾイル
バーオキサイドのようなアノルバーオキサイドの工うな
違酸お工びそれらの塩ならび番こエステル、お工びまた
例えばりε−パーオキサイド、クメンノ・イドロバ−オ
キサイド、過酸化水素−ノクロヘキサノンパーオキサイ
ドおよびエチルメチルケトンパーオキサイドである。第
3級アミン、例えばジメチルアニリンもしくはコバルト
ドうイヤー、例えばコバルトナフチネートもパーオキサ
イドと共に促進剤きして使用し得る。
を意味し、化学線照射は含まない。本発明の組成物の重
合のための適当なフリーラジカル触媒は、熱活性化触媒
、すなわち、通常の室温以上の温度でのみかなり速やか
C(重合効果が働き、そして2.2′−アゾビス(2−
メチルプロピオニトリル)および有機もしくは無機パー
オキサイド、例えば焔酢酸、逼安息香酸、泥フタル酸、
ジ−インプロピルパーオキシジカーボネート、アンモニ
ウムもしくはアルカリ金属・く−ボレート、アンモニウ
ムもしくはアルカリ金属バースルフェート2ベンゾイル
バーオキサイドのようなアノルバーオキサイドの工うな
違酸お工びそれらの塩ならび番こエステル、お工びまた
例えばりε−パーオキサイド、クメンノ・イドロバ−オ
キサイド、過酸化水素−ノクロヘキサノンパーオキサイ
ドおよびエチルメチルケトンパーオキサイドである。第
3級アミン、例えばジメチルアニリンもしくはコバルト
ドうイヤー、例えばコバルトナフチネートもパーオキサ
イドと共に促進剤きして使用し得る。
フリーラジカル触媒の量は−そのための他の促進剤とと
もに、成分+a+および(blの全量当り通常005な
いし5重量%、好1しくは01ないし1重量%である。
もに、成分+a+および(blの全量当り通常005な
いし5重量%、好1しくは01ないし1重量%である。
フリーラジカル触媒誘導重合の標準方法を使用すること
ができる。
ができる。
本発明の組成物は、すでに述ぺた工うに表面塗料として
使用し得る。これらは鋼、アルミニウム、銅、クロム、
カドニウム、亜鉛、スズ−カラス−セラミ・ツク、紙も
しくは木材のような支持体へ、好ましくは液体として塗
布され、光重合もしくはフリーラジカル触媒−こより重
合が引き起こされ得る。塗布部分の化学線照射を通した
光重合により、露光されず、重合されなかったそれらの
部分はアルカリ稀釈水溶液に↓す〜適当な場所に光重合
された部分を残して洗浄することにより取除かれる。
使用し得る。これらは鋼、アルミニウム、銅、クロム、
カドニウム、亜鉛、スズ−カラス−セラミ・ツク、紙も
しくは木材のような支持体へ、好ましくは液体として塗
布され、光重合もしくはフリーラジカル触媒−こより重
合が引き起こされ得る。塗布部分の化学線照射を通した
光重合により、露光されず、重合されなかったそれらの
部分はアルカリ稀釈水溶液に↓す〜適当な場所に光重合
された部分を残して洗浄することにより取除かれる。
本発明の組成分はこのように、印刷版およびプリント回
路の製造に使用し得る。光重合性組成物から印刷版およ
びプリント回路を製造する方法は良く知られている。
路の製造に使用し得る。光重合性組成物から印刷版およ
びプリント回路を製造する方法は良く知られている。
多層プリント回路の製造番こおいては、金属性支持体は
光重合性組成物により塗布され、次いで陰画を通し照射
へ真先される。次いで塗布および浸漬段階を続け、その
工程で重合した塗料が除去される。これは通常物理的方
法により行われるが、しかし本発明の組成物の使用によ
り、光重合された物質は最初の現像で使用されるよりも
より強力な条件でのアルカリ水溶液の処理で浸漬金属表
面に損傷を与えることなし番こ完全に除去できることを
新規、に見出した。このような処理は、他の物理的処理
の必要なしに光重合されたl頓の下にある金属を霧出さ
せる。
光重合性組成物により塗布され、次いで陰画を通し照射
へ真先される。次いで塗布および浸漬段階を続け、その
工程で重合した塗料が除去される。これは通常物理的方
法により行われるが、しかし本発明の組成物の使用によ
り、光重合された物質は最初の現像で使用されるよりも
より強力な条件でのアルカリ水溶液の処理で浸漬金属表
面に損傷を与えることなし番こ完全に除去できることを
新規、に見出した。このような処理は、他の物理的処理
の必要なしに光重合されたl頓の下にある金属を霧出さ
せる。
像の現像のために使用されるアルカリ溶液は、好ましく
は炭酸ナトリウムもしくはカリウ&5ないし5%水溶液
で一元重合された樹脂の除去に用いられるものは打首し
くは水酸化ナトリウ(C′?3ツ ムもしくはカリウムの3ないし1o%mMで、これらの
係は重量部である。
は炭酸ナトリウムもしくはカリウ&5ないし5%水溶液
で一元重合された樹脂の除去に用いられるものは打首し
くは水酸化ナトリウ(C′?3ツ ムもしくはカリウムの3ないし1o%mMで、これらの
係は重量部である。
従って、本発明は、本発明方法により製造された重合し
た生成物から構成される表面塗料をその上に有する物品
を提供することにある。
た生成物から構成される表面塗料をその上に有する物品
を提供することにある。
本発明の組成物はまた、接着剤として用いることもでき
、照射もしくはフリーうシカ□ル触媒を用い、その開示
が本明細誉に参照しである、すてに引用した米国特許第
4.22+’]、513号公報中に記載された方法を用
い、表面の間にはさみこまれた組成物の層の重合を引き
起こすよう番こ使用される。
、照射もしくはフリーうシカ□ル触媒を用い、その開示
が本明細誉に参照しである、すてに引用した米国特許第
4.22+’]、513号公報中に記載された方法を用
い、表面の間にはさみこまれた組成物の層の重合を引き
起こすよう番こ使用される。
従って、本発明は4本発明の方法にエリ作られた重合さ
れた生成物曇こLり一緒に結合した表面を持つ物品を提
供することにある。
れた生成物曇こLり一緒に結合した表面を持つ物品を提
供することにある。
組成物はまた、上述した米国特許第4,220,513
号に記載された方法に従って、ンート成形コンパウンド
を包含する繊維強化複合材料の製造に、また浸漬被覆組
成物として有用であるC本発明者らは、更に本発明の組
成物は2段階(74) で硬化することが可能であることを新規に見出した:そ
のような組成物は熱活性化フリーラジカル触媒、そして
また若し必要ならば光重合開始剤を含有し、完全な重合
を生じさせるには不十分な化学線照射量へ露光すること
にエリ部分的に重合することができ、次いでフリーラジ
カル触媒が活性化されるように加熱を行ない、硬化が完
全に起こる。
号に記載された方法に従って、ンート成形コンパウンド
を包含する繊維強化複合材料の製造に、また浸漬被覆組
成物として有用であるC本発明者らは、更に本発明の組
成物は2段階(74) で硬化することが可能であることを新規に見出した:そ
のような組成物は熱活性化フリーラジカル触媒、そして
また若し必要ならば光重合開始剤を含有し、完全な重合
を生じさせるには不十分な化学線照射量へ露光すること
にエリ部分的に重合することができ、次いでフリーラジ
カル触媒が活性化されるように加熱を行ない、硬化が完
全に起こる。
そのための本発明の他の態様は、上記のものとしての成
分(alおよび成分(bl、もし必要ならば光重合開始
剤、そして熱活性化フリーラジカル触媒を含有する組成
物、およびそのような組成物を化学線照射へ露光するこ
とによって部分重合させ、次いで熱活性フリーラジカル
触媒を活性化するために加熱することよりなる硬化方法
よりなるものである。
分(alおよび成分(bl、もし必要ならば光重合開始
剤、そして熱活性化フリーラジカル触媒を含有する組成
物、およびそのような組成物を化学線照射へ露光するこ
とによって部分重合させ、次いで熱活性フリーラジカル
触媒を活性化するために加熱することよりなる硬化方法
よりなるものである。
その工うな組成物はフィルム接着剤、複合材料、浸漬被
接中および/−ト成形組成物中番こ、すでに引用した米
国特許第4,220,513号公報に記載のように便用
することができる。
接中および/−ト成形組成物中番こ、すでに引用した米
国特許第4,220,513号公報に記載のように便用
することができる。
本発明の組成物は、一方には成分(alを含有し、他方
には成分(blを含有する2成分パックとして販売する
ことができる。別法としては、組成物は混合物として要
求されるまで、化学線照射およびフリーラジカル源から
防験し貯蔵することができる。
には成分(blを含有する2成分パックとして販売する
ことができる。別法としては、組成物は混合物として要
求されるまで、化学線照射およびフリーラジカル源から
防験し貯蔵することができる。
以下に本発明を実施例にて説明する。パーセントは重′
Mqbである。
Mqbである。
参考例
出発物質となる2、2−ビス(!+−71フルー4−(
グリシジルオキシ)フェニル)フロパンは次の方法で製
造した。
グリシジルオキシ)フェニル)フロパンは次の方法で製
造した。
2.2−ビス(3−アリル−4−ヒドロキシフェニル)
フロパンを前出の米国特許fg4220513号に記載
の方法で製造した。この生成物(sos、Oy)を2−
メトキノエタノール(10,0g)およびエピクロルヒ
ドリン(740,0p)と混合し、60°0まで加熱し
た。フレーク状水酸化ナトリウム(ao、og)を6時
間を要し一部づつ加え、混合物を同温60’0にて更に
0.5時間攪拌した。
フロパンを前出の米国特許fg4220513号に記載
の方法で製造した。この生成物(sos、Oy)を2−
メトキノエタノール(10,0g)およびエピクロルヒ
ドリン(740,0p)と混合し、60°0まで加熱し
た。フレーク状水酸化ナトリウム(ao、og)を6時
間を要し一部づつ加え、混合物を同温60’0にて更に
0.5時間攪拌した。
混合物を口過し、残置をトルエンで洗浄し、口液を留去
し溶媒および過剰のエピクロルヒドリンを除いた。濃縮
生成物をもう一度口遇すると5449の2,2−ビス(
5−アリル−4−(グリシジルオキシ)フェニル)ブロ
ノくンヲ得た。
し溶媒および過剰のエピクロルヒドリンを除いた。濃縮
生成物をもう一度口遇すると5449の2,2−ビス(
5−アリル−4−(グリシジルオキシ)フェニル)ブロ
ノくンヲ得た。
本物質はエポキシ含有が4.03当童/に9および4.
5アリル2重結合当量/ kfを有する。
5アリル2重結合当量/ kfを有する。
実施例1
2.2−ビス(3−アリル−4−り゛リシジルオキシ)
フェニル)プロパン(,1ooy)および2.6一ジー
wc5ブチルー p−クレゾール(02g)を混合し、
100℃に加熱した0 この混合物へ1時間を要し、メ
タクリル酸(40jl)、オクタン酸クロムの5%軽油
溶液(01g)お工び2.6−ジー第3ブチル−p−ク
レゾール(0,1#)の混合物を加えた◇ この混合物を100 ’0にて6時間加熱し、次いでメ
タクリル酸(4,761>お工び216−ジーtiX5
ブチル−p−クレゾール(口、o9y)(?7) の混合物を15分を要し滴下することにより処理した0
更に4時間、サンプルを取りエポキシ含有を試験し、そ
れがゼロとなるまで加熱を続けた。無水コハク酸(39
sp)を1時を要し加え、混合物を更に325時間、1
00″O)rて攪拌し、冷却すると、大部分が2.2−
ビス(3−了りルー4−(3−(メタクリロイルオキ7
]−2−(2−カルボキシエチル力ルポニルオキゾンブ
ロポキシ)フェニル)プロパンを含wする生成物185
gを粘稠性、暗黄色液体として得た0 ペンタエリトリトールテトラチオグリコレ−)(501
すなわち、アリル基当量当たり1メルカプタン基当量)
を加え、混合物を均一4Cなるまで攪拌し、混合物Aを
得た。
フェニル)プロパン(,1ooy)および2.6一ジー
wc5ブチルー p−クレゾール(02g)を混合し、
100℃に加熱した0 この混合物へ1時間を要し、メ
タクリル酸(40jl)、オクタン酸クロムの5%軽油
溶液(01g)お工び2.6−ジー第3ブチル−p−ク
レゾール(0,1#)の混合物を加えた◇ この混合物を100 ’0にて6時間加熱し、次いでメ
タクリル酸(4,761>お工び216−ジーtiX5
ブチル−p−クレゾール(口、o9y)(?7) の混合物を15分を要し滴下することにより処理した0
更に4時間、サンプルを取りエポキシ含有を試験し、そ
れがゼロとなるまで加熱を続けた。無水コハク酸(39
sp)を1時を要し加え、混合物を更に325時間、1
00″O)rて攪拌し、冷却すると、大部分が2.2−
ビス(3−了りルー4−(3−(メタクリロイルオキ7
]−2−(2−カルボキシエチル力ルポニルオキゾンブ
ロポキシ)フェニル)プロパンを含wする生成物185
gを粘稠性、暗黄色液体として得た0 ペンタエリトリトールテトラチオグリコレ−)(501
すなわち、アリル基当量当たり1メルカプタン基当量)
を加え、混合物を均一4Cなるまで攪拌し、混合物Aを
得た。
ベンジルジメチルケタール(olsy)を混合物A(5
II)に加え、この組成物を銅張り積層板へ塗料として
塗布し、厚さ約20μmの粘着フィルムとする・このフ
ィルムを22fiの距離により500ワ・ソト中圧水銀
アークラング管用い、(7g) フィルム上1mに支持された陰画を通し15分間照射し
た。照射後、積層板を室温下1%炭酸ナトリウム水溶液
中に浸漬することにより像を現像した、非照射域を洗い
去ると鋼上に良好なレリーフ像が残る。非塗布銅域は次
いで35゛C1こて塩化鉄(41%pe(’I p、
)水溶液を用いることにより腐蝕でき、無傷の塗布域が
残る0これらの埴土の塗料は室温下5%水酸化ナトリウ
ム溶液と処理することにより除去することができる。
II)に加え、この組成物を銅張り積層板へ塗料として
塗布し、厚さ約20μmの粘着フィルムとする・このフ
ィルムを22fiの距離により500ワ・ソト中圧水銀
アークラング管用い、(7g) フィルム上1mに支持された陰画を通し15分間照射し
た。照射後、積層板を室温下1%炭酸ナトリウム水溶液
中に浸漬することにより像を現像した、非照射域を洗い
去ると鋼上に良好なレリーフ像が残る。非塗布銅域は次
いで35゛C1こて塩化鉄(41%pe(’I p、
)水溶液を用いることにより腐蝕でき、無傷の塗布域が
残る0これらの埴土の塗料は室温下5%水酸化ナトリウ
ム溶液と処理することにより除去することができる。
実施例2
実施例1に記載したように、銅張り積層板を混合物Aお
よびベンジルジメチルケタールで塗布し1次いでブリム
アーク会社(Primarc Ltd、 )〔英国、オ
・シフスフオード州、ヘンリーオンーテームズ近効、ス
トークロウ]より供給された”ミニ−アーク”(Min
i −arc )装置を通過させた0この装置は1備当
り80ワツトと評価される中圧水銀アークラング21固
を含んでおり、1分当り50mのベルト速度で作業され
た。この処理は塗料を不活層性にするが、まだ光重光性
を残す。
よびベンジルジメチルケタールで塗布し1次いでブリム
アーク会社(Primarc Ltd、 )〔英国、オ
・シフスフオード州、ヘンリーオンーテームズ近効、ス
トークロウ]より供給された”ミニ−アーク”(Min
i −arc )装置を通過させた0この装置は1備当
り80ワツトと評価される中圧水銀アークラング21固
を含んでおり、1分当り50mのベルト速度で作業され
た。この処理は塗料を不活層性にするが、まだ光重光性
を残す。
陰画を塗料と接触して置き、実施例11ご記載のように
15分間照射した。2%水酸化ナトリウム水溶液中での
現像で、積層板子へ明瞭なレリーフ像が生じ、次いで実
施例1に記載のように腐蝕できた。
15分間照射した。2%水酸化ナトリウム水溶液中での
現像で、積層板子へ明瞭なレリーフ像が生じ、次いで実
施例1に記載のように腐蝕できた。
実施例3
グリシジルメタクリレート(1g)およびベンジルジメ
チルケタール(0,59’)と混合した混合物A(10
9)をブリキ板上厚さ10 μmの塗料として塗布した
。8cWLの距離でICl11当り80ワツト水欽アー
クランプからの照射で5秒間露光すると、アセトンに浸
した綿羊毛棒で20回の岸擦に抵抗する塗料を生じた。
チルケタール(0,59’)と混合した混合物A(10
9)をブリキ板上厚さ10 μmの塗料として塗布した
。8cWLの距離でICl11当り80ワツト水欽アー
クランプからの照射で5秒間露光すると、アセトンに浸
した綿羊毛棒で20回の岸擦に抵抗する塗料を生じた。
実施例4
無水トリメリド酸(57,6p:無水酢酸より再結晶)
およびアリルアルコール(175g)の混合物を4.5
時間還流下加熱し、次いで過剰のアリルアルコールを減
圧下留去すればベンゼン−1,2,1−1−リカルボン
酸のモノアリルエヌテル74.5pが白色固形物として
残留した。
およびアリルアルコール(175g)の混合物を4.5
時間還流下加熱し、次いで過剰のアリルアルコールを減
圧下留去すればベンゼン−1,2,1−1−リカルボン
酸のモノアリルエヌテル74.5pが白色固形物として
残留した。
このようにシて得られたアリル2,4−ジカルボキシペ
ンゾエ−1・およびアリル2.5−ジカルボキ7ペンゾ
エートの混合物(50g)を、トリメチルアンモニウム
クロライド0.17gおよび2.6−ジー第3ブチル−
p−クレゾール0.2gの存在下、57g(2モル当量
)のグリシジルメタクリレートと60’O4とて12時
間加熱スルト、1−(アリルオキノ力ルボニル)−2,
4−および−2,5−ビス(3−(メタクリロイルオキ
シ)−2−ヒドロキシプロポキシカルボニル)ベンゼン
、すなわち次式XLVIIお工ヒXLVIII : (?4) OH3(]( (xLVlll) の混合物を与えた。
ンゾエ−1・およびアリル2.5−ジカルボキ7ペンゾ
エートの混合物(50g)を、トリメチルアンモニウム
クロライド0.17gおよび2.6−ジー第3ブチル−
p−クレゾール0.2gの存在下、57g(2モル当量
)のグリシジルメタクリレートと60’O4とて12時
間加熱スルト、1−(アリルオキノ力ルボニル)−2,
4−および−2,5−ビス(3−(メタクリロイルオキ
シ)−2−ヒドロキシプロポキシカルボニル)ベンゼン
、すなわち次式XLVIIお工ヒXLVIII : (?4) OH3(]( (xLVlll) の混合物を与えた。
この生成物(50g)を実施例1に記載のように無水コ
ハク酸(15g’)でエステル化した。
ハク酸(15g’)でエステル化した。
得られた混合物、主として1−(アリルオキシ力ルホニ
ル)−2,、a−ビス(S−(メタクリロイルオキ/)
−2−(2−カルホキフェトキシカルボニル)プロポキ
ノカルボニル)ベンゼンオニび1−(アリルオキノカル
ボニル)−2゜5−ビス(3−(メタクリロイルオキ・
7)−2−(2−カルホキフェトキシカルボニル)プロ
ポキノカルボニル)ベンゼンよりなる得られた混合物は
、次いでペンタエリトリトールテトラチオグリコレート
をアリル基当童画り1メルカグタン基当量標準で配合し
、賃施例1に記載のように光重合した。
ル)−2,、a−ビス(S−(メタクリロイルオキ/)
−2−(2−カルホキフェトキシカルボニル)プロポキ
ノカルボニル)ベンゼンオニび1−(アリルオキノカル
ボニル)−2゜5−ビス(3−(メタクリロイルオキ・
7)−2−(2−カルホキフェトキシカルボニル)プロ
ポキノカルボニル)ベンゼンよりなる得られた混合物は
、次いでペンタエリトリトールテトラチオグリコレート
をアリル基当童画り1メルカグタン基当量標準で配合し
、賃施例1に記載のように光重合した。
実施例5
ベンゼン−1+2+’71”Iカルボン酸のモノアリル
エステルの混合物を前述のように64gの無水トリメI
I ト酸より得た。この混合物を。
エステルの混合物を前述のように64gの無水トリメI
I ト酸より得た。この混合物を。
オクタン酸クロムの5%軽油溶液(o13g)および2
.6−ジー第3ブチル−p−4レゾール(0,26p)
の存在下、80゛Cオで加熱し、次いで45分を要して
dZrig(1モル当it)のグリノジルメタクリレー
トを滴下した。混合物を80旧こて、更6ト祭キ/含量
が無祝し得る6時間攪拌した〇 生成物は、アリル2−(3−(メタクリロイルオキ/)
−2−ヒドロキシプロポキシカルボニル)−4−カルホ
キンベンゾエ トお工びアリル2−カルホキ7−a−(
3−(メタクリロイルオキシ)−2−ヒドロキシプロポ
キシカルボニル)ベンゾエートで、アリル2.A−ジカ
ルボキシベンゾエートおよびアリル2.−−ビス(3−
(メタクリロイルオキシ)−2−ヒドロキシプロポキシ
カルボニル)ペンゾエートト共に、またアリル2,5−
ジカルボキシベンゾエートから誘導される相当する異性
体から成るものである。
.6−ジー第3ブチル−p−4レゾール(0,26p)
の存在下、80゛Cオで加熱し、次いで45分を要して
dZrig(1モル当it)のグリノジルメタクリレー
トを滴下した。混合物を80旧こて、更6ト祭キ/含量
が無祝し得る6時間攪拌した〇 生成物は、アリル2−(3−(メタクリロイルオキ/)
−2−ヒドロキシプロポキシカルボニル)−4−カルホ
キンベンゾエ トお工びアリル2−カルホキ7−a−(
3−(メタクリロイルオキシ)−2−ヒドロキシプロポ
キシカルボニル)ベンゾエートで、アリル2.A−ジカ
ルボキシベンゾエートおよびアリル2.−−ビス(3−
(メタクリロイルオキシ)−2−ヒドロキシプロポキシ
カルボニル)ペンゾエートト共に、またアリル2,5−
ジカルボキシベンゾエートから誘導される相当する異性
体から成るものである。
分子当り平均1個のカルボキンル基、芳香族炭素原子に
オキ7カルボニル基を通して結合した11固のアリル基
および11固のメタクリロイルオキシ基を含有する生成
物(591g’lを、111gのエチレングリコールジ
チオグリコレート(すなわちアリル基当量当り1メルカ
プタン基当i)および0.15gのペン2ルジメチルケ
タールと混合し、銅張り積層板上へ塗料として厚さ10
μmで塗布し、i cm当り80ワ・ソト吉評価される
ランプを用い22備にて1〜2秒照射すると不粘着とな
る。1 cm当り60ワ・ソトと評価されるランプによ
り20cfnにて20秒間陰画を通し照射し、1%炭酸
ナトリウム水溶液でブラッシングし現像すると陰画イ4
を与えた。
オキ7カルボニル基を通して結合した11固のアリル基
および11固のメタクリロイルオキシ基を含有する生成
物(591g’lを、111gのエチレングリコールジ
チオグリコレート(すなわちアリル基当量当り1メルカ
プタン基当i)および0.15gのペン2ルジメチルケ
タールと混合し、銅張り積層板上へ塗料として厚さ10
μmで塗布し、i cm当り80ワ・ソト吉評価される
ランプを用い22備にて1〜2秒照射すると不粘着とな
る。1 cm当り60ワ・ソトと評価されるランプによ
り20cfnにて20秒間陰画を通し照射し、1%炭酸
ナトリウム水溶液でブラッシングし現像すると陰画イ4
を与えた。
実施例6
1.14pのペンタエリトリトールテトラチオグリコレ
ート(すなわち、アリル基当量当り1メル力プタン基当
重)を用い実施例5の方法を繰り返した。現像すること
により良好なト画像が得られた。
ート(すなわち、アリル基当量当り1メル力プタン基当
重)を用い実施例5の方法を繰り返した。現像すること
により良好なト画像が得られた。
実施例7
2.2−ビス(5−(1−プロペニル)−4−(グリゾ
ジルオキノ)フェニル)プロパン(aq、2g)、テト
ラメチルアンモニウムクロライド(o、 i g )お
工ひヒドロキノン(0,15J)の混合物を80゛Cま
で加熱し、次いでメタクリル酸(20,4J?)を1.
5時間を要し滴下tまた0混合物−180’oにて更に
8時曲攪拌すると、次式:() %式%) (5 ロキ7プロボキ/)フェニル)プロパンを与えたO この化合物(50#)を実施例1に記載のように無水コ
ハク酸でエステル化した。得られたエステル、すなわち
2.3−ビス(3−(1−プロペニル)−4−(31メ
タクリロイルオキシ)−2−(2−カルボキノエ千ル力
ルポニルオキノ)プロホキ7)フェニル)フ゛ロパンと
ペンタエリトリトールテトラチオグリコレート(アリル
基当量当り1メルカプタン基当量)の混合物は実施例1
に記載のように光重合することができた。
ジルオキノ)フェニル)プロパン(aq、2g)、テト
ラメチルアンモニウムクロライド(o、 i g )お
工ひヒドロキノン(0,15J)の混合物を80゛Cま
で加熱し、次いでメタクリル酸(20,4J?)を1.
5時間を要し滴下tまた0混合物−180’oにて更に
8時曲攪拌すると、次式:() %式%) (5 ロキ7プロボキ/)フェニル)プロパンを与えたO この化合物(50#)を実施例1に記載のように無水コ
ハク酸でエステル化した。得られたエステル、すなわち
2.3−ビス(3−(1−プロペニル)−4−(31メ
タクリロイルオキシ)−2−(2−カルボキノエ千ル力
ルポニルオキノ)プロホキ7)フェニル)フ゛ロパンと
ペンタエリトリトールテトラチオグリコレート(アリル
基当量当り1メルカプタン基当量)の混合物は実施例1
に記載のように光重合することができた。
実施例8
2.2−ビス(3,5−ン了りルー4−ヒドロキンフェ
ニル)プロパン(194g)、グリノジルメタクリレー
ト(154p)、テトラメチルアンモニウムクロライド
(0,7g’lおよび2.6−ジー第3ブチル−p−ク
レゾール(2,8# )の混合物を95 ’O−jで1
時間を要し加熱し、更に同温にて35時間攪拌すると、
次式L:C8Lノ の2.2−ビス(3,5−ジアリル−4−(3−メタク
リロイルオキシ)−2−ヒドロキシプロポキシ)フェニ
ル)プロパンを与えるOこの化合物(50g)を実施?
111に記載のように無水コノ・り酸でエステル化した
0主として2.6−ビス(3,5−ジアリル−4(3−
(メタクリロイルオキシ)−2−(2−カルポキンエチ
ル力ルポニルオキノ)プロポキシ)フェニル)プロパン
からなる得られたエステルは、ペンタエリトリト−ルテ
トラチオグリコレート(アリル基当量当り1メルカプタ
ン基当童)と配合され、実施例1に記載のように光重合
することができた。
ニル)プロパン(194g)、グリノジルメタクリレー
ト(154p)、テトラメチルアンモニウムクロライド
(0,7g’lおよび2.6−ジー第3ブチル−p−ク
レゾール(2,8# )の混合物を95 ’O−jで1
時間を要し加熱し、更に同温にて35時間攪拌すると、
次式L:C8Lノ の2.2−ビス(3,5−ジアリル−4−(3−メタク
リロイルオキシ)−2−ヒドロキシプロポキシ)フェニ
ル)プロパンを与えるOこの化合物(50g)を実施?
111に記載のように無水コノ・り酸でエステル化した
0主として2.6−ビス(3,5−ジアリル−4(3−
(メタクリロイルオキシ)−2−(2−カルポキンエチ
ル力ルポニルオキノ)プロポキシ)フェニル)プロパン
からなる得られたエステルは、ペンタエリトリト−ルテ
トラチオグリコレート(アリル基当量当り1メルカプタ
ン基当童)と配合され、実施例1に記載のように光重合
することができた。
実施例9
レゾル7ノールジアリルエーテルのクライゼン転位によ
り得た1、3−ジアリル−2,4−ジヒドロキシベンゼ
ンおよび1.5−ジアリル−2,4−ジヒドロキシベン
ゼンの混合物(85g)を、127gのグリノジルメタ
クリレート、0、89の2.6−ジー第5ブチル−p−
クレゾールおよびQ、 119のテトラメチルアンモニ
ウムクロライドと共に100 ’0にて1時間加熱し、
同温にて更に5時間攪拌すると、次式LLおよびLll
: の1,3−および1,5−ジアリル−2,4−ビス(3
−(メタクリロイルオキシ)−2−ヒドロキシプロポキ
シ)ベンゼンの混合物を与えた0 この混合物(50g)を実施例1に記載のように無水コ
ハク酸でエステル化した。主として1.3−ジアリル2
.4−ビス(6−(メタクリロイルオキシ)−2−(2
−カルボキシエトキクカルボニル)プロホキ/)ベンゼ
ンおよびその1.5−ジアリル異性体からなる生成した
エステル混合物とペンタエリトリトールテトラチオグリ
コレート(アリル基当量当り1メルカプタン基当量)を
配合したものは実施例1に記載したよりに光重合するこ
とができた。
り得た1、3−ジアリル−2,4−ジヒドロキシベンゼ
ンおよび1.5−ジアリル−2,4−ジヒドロキシベン
ゼンの混合物(85g)を、127gのグリノジルメタ
クリレート、0、89の2.6−ジー第5ブチル−p−
クレゾールおよびQ、 119のテトラメチルアンモニ
ウムクロライドと共に100 ’0にて1時間加熱し、
同温にて更に5時間攪拌すると、次式LLおよびLll
: の1,3−および1,5−ジアリル−2,4−ビス(3
−(メタクリロイルオキシ)−2−ヒドロキシプロポキ
シ)ベンゼンの混合物を与えた0 この混合物(50g)を実施例1に記載のように無水コ
ハク酸でエステル化した。主として1.3−ジアリル2
.4−ビス(6−(メタクリロイルオキシ)−2−(2
−カルボキシエトキクカルボニル)プロホキ/)ベンゼ
ンおよびその1.5−ジアリル異性体からなる生成した
エステル混合物とペンタエリトリトールテトラチオグリ
コレート(アリル基当量当り1メルカプタン基当量)を
配合したものは実施例1に記載したよりに光重合するこ
とができた。
(a9ノ
ー困1−倒一、1見−
1,3−ジグリッジルー5.5−ジメチルヒダントイン
(100g)を、0.6gのテトラメチルアンモニウム
クロライドを含有する195gのシクロヘキサノン中、
94.75#の2.2−ビス(3−アリル−4−ヒドロ
キンフェニル)プロパンと120 ’a +cて6時間
加蘭、進行させた。
(100g)を、0.6gのテトラメチルアンモニウム
クロライドを含有する195gのシクロヘキサノン中、
94.75#の2.2−ビス(3−アリル−4−ヒドロ
キンフェニル)プロパンと120 ’a +cて6時間
加蘭、進行させた。
混合物のエポキシ含量は6時間終了時では10当t /
kt’tでに下がった。中間体は実質的に下式Lll
l (式中、R11′およびRaはそれぞれグリシジル
基を、Xは正の整数を表わす)の化合物である。混合物
を80’0まで冷却後、0.4gの2.6−ジー第3ブ
チル−p−クレゾールを加え、次に172gのメタクリ
ル酸を20分を要し滴下した0次いで、混合物を100
℃にて6時間加熱すると、反応はこの段階で停止され、
*脂のエポキシ含量はα2g当餠/ktまでに下がった
。
kt’tでに下がった。中間体は実質的に下式Lll
l (式中、R11′およびRaはそれぞれグリシジル
基を、Xは正の整数を表わす)の化合物である。混合物
を80’0まで冷却後、0.4gの2.6−ジー第3ブ
チル−p−クレゾールを加え、次に172gのメタクリ
ル酸を20分を要し滴下した0次いで、混合物を100
℃にて6時間加熱すると、反応はこの段階で停止され、
*脂のエポキシ含量はα2g当餠/ktまでに下がった
。
生成物は、実質的に、式Llll :
/QA1
〜’H3
ri、1.11)
(式中、1(31およびR3にの一部が6−(メタクリ
ロイルオキシ)−2−ヒドロキシプロピル基でそしてそ
れらの残余がグリシジル基を表わす)の混合物である。
ロイルオキシ)−2−ヒドロキシプロピル基でそしてそ
れらの残余がグリシジル基を表わす)の混合物である。
この混合物(50y)を実施例1#(紀岐のように無水
コハク酸(1oy)でエステル化した・得られたエステ
ル混合物とペンタエリトリトールテトラチオグリコレー
ト(アリル基当量当り1メル力プlン基当部)の配合物
は実施例1に記載のように元量合することができた一実
施例11 ジ無水ベンゾフェノン−s + ’ + り’+ ’′
−テトラカルボン酸(4ong;無水酢酸より再結晶)
および1200IIのアリルアルコールを1時間還流し
、次いで過剰のアリルアルコールを減圧留去すれば、5
40gのベンゾフェノン−3,4゜s/、al−テトラ
カルボン酸のx 、 x’−ジアリルエステルが残った
。
コハク酸(1oy)でエステル化した・得られたエステ
ル混合物とペンタエリトリトールテトラチオグリコレー
ト(アリル基当量当り1メル力プlン基当部)の配合物
は実施例1に記載のように元量合することができた一実
施例11 ジ無水ベンゾフェノン−s + ’ + り’+ ’′
−テトラカルボン酸(4ong;無水酢酸より再結晶)
および1200IIのアリルアルコールを1時間還流し
、次いで過剰のアリルアルコールを減圧留去すれば、5
40gのベンゾフェノン−3,4゜s/、al−テトラ
カルボン酸のx 、 x’−ジアリルエステルが残った
。
これらのジアリルエステル(150jl)ヲ1200g
のエピクロルヒドリンに溶解させ、混合物を95゛0ま
で加熱した。2.05#のテ)%メチルアンモニウムク
ロライドの水2051溶液を加え、次いで全体を95υ
にて3時間攪拌した。混合物を55’〜60゛0に冷却
し、更6(テトラメチルアンモニウムクロライド(1,
711りを水1,71継に溶解したものを加えた。混合
物は、部分減圧下、混合物より水を連続除去できる装置
中、55”〜57゛0にて還流された。水酸化ナトリウ
ムの50%水溶液(1811)を、25時間を要し攪拌
下に滴下し、次いで攪拌を更に15時間続けた。混合物
を冷却し、減圧をやめ、次いで水(54Ottl)を加
え、混合物を分離したO有機層を最初5%リン酸水素ナ
トリウム水溶液(225at )、次いで223 tx
lの水で洗浄した。過剰のエピクロルヒドリンを減圧下
留去すしば、エホキノ含! 5.1 当@ / *yを
有するベンゾフェノン−5、a 、 57 、4/−テ
トうカルボン酸x 、 x’−ジアリルエステルY、Y
’−ジグリシジルエステル450yが粘稠性油状物とし
て残った。
のエピクロルヒドリンに溶解させ、混合物を95゛0ま
で加熱した。2.05#のテ)%メチルアンモニウムク
ロライドの水2051溶液を加え、次いで全体を95υ
にて3時間攪拌した。混合物を55’〜60゛0に冷却
し、更6(テトラメチルアンモニウムクロライド(1,
711りを水1,71継に溶解したものを加えた。混合
物は、部分減圧下、混合物より水を連続除去できる装置
中、55”〜57゛0にて還流された。水酸化ナトリウ
ムの50%水溶液(1811)を、25時間を要し攪拌
下に滴下し、次いで攪拌を更に15時間続けた。混合物
を冷却し、減圧をやめ、次いで水(54Ottl)を加
え、混合物を分離したO有機層を最初5%リン酸水素ナ
トリウム水溶液(225at )、次いで223 tx
lの水で洗浄した。過剰のエピクロルヒドリンを減圧下
留去すしば、エホキノ含! 5.1 当@ / *yを
有するベンゾフェノン−5、a 、 57 、4/−テ
トうカルボン酸x 、 x’−ジアリルエステルY、Y
’−ジグリシジルエステル450yが粘稠性油状物とし
て残った。
このジアリルエステルージグリノジルエステル(200
g)を0.69のテトラメチルアンモニウムクロライド
お工び04gの2.6−ジー第3ブチル−p−クレゾー
ルの存在Tlと120’Ofで加熱し、メタクリル酸(
52,6II)を35分間を要し滴下した。更に65分
間攪拌を続け、次いで混合物を放冷したO 目的生成物たるベンゾフェノン−’ + ’ + 3’
+ 4 ’−テトラカルボン酸x 、 x’−ジアリル
エステル−Y、Y’−ビス(5−(メタクリロイルオキ
シ)−2−ヒドロキシプロビリ)エステル(すなわ(9
3〕 ち一式XXI中、R9お工びR2Oのうち111i!l
、およびR11お工びR12のうち1閂が各々アリル基
を表わしセしてR9からR11のうちの残った基が各々
式XXII (式中、R5はメチル基を、R2は式l(
式中、Rが水素原子を表わす)の基を表わす〕の化合物
1は、淡黄色、粘稠性油状物であった。
g)を0.69のテトラメチルアンモニウムクロライド
お工び04gの2.6−ジー第3ブチル−p−クレゾー
ルの存在Tlと120’Ofで加熱し、メタクリル酸(
52,6II)を35分間を要し滴下した。更に65分
間攪拌を続け、次いで混合物を放冷したO 目的生成物たるベンゾフェノン−’ + ’ + 3’
+ 4 ’−テトラカルボン酸x 、 x’−ジアリル
エステル−Y、Y’−ビス(5−(メタクリロイルオキ
シ)−2−ヒドロキシプロビリ)エステル(すなわ(9
3〕 ち一式XXI中、R9お工びR2Oのうち111i!l
、およびR11お工びR12のうち1閂が各々アリル基
を表わしセしてR9からR11のうちの残った基が各々
式XXII (式中、R5はメチル基を、R2は式l(
式中、Rが水素原子を表わす)の基を表わす〕の化合物
1は、淡黄色、粘稠性油状物であった。
この生成物(50,9)を実施例1に記載のよらに無水
コハク酸でエステル化した0主としてベンゾフェノン−
31’ 1 M’ ! ’′−テトうカルボン酸x 、
x’−ジアリルエステルY、Y’−ビス(3−(メタ
クリロイルオキシ)−2−(2−カルポキシエトキ7カ
ルボニル)プロピルエステルからなる得られたエステル
と、ペンタエリトリトールテトラチオグリコレート(ア
リル当童当り1メルカプタン基当量)の配合物は4ベン
ジルジメチルケタールを省いても実施例1に記載のよう
に光重合することができた。
コハク酸でエステル化した0主としてベンゾフェノン−
31’ 1 M’ ! ’′−テトうカルボン酸x 、
x’−ジアリルエステルY、Y’−ビス(3−(メタ
クリロイルオキシ)−2−(2−カルポキシエトキ7カ
ルボニル)プロピルエステルからなる得られたエステル
と、ペンタエリトリトールテトラチオグリコレート(ア
リル当童当り1メルカプタン基当量)の配合物は4ベン
ジルジメチルケタールを省いても実施例1に記載のよう
に光重合することができた。
実施例12
1.5−ジグリシジル−5,5−ジメチルヒ々゛ントイ
ン(5og )および2,6−ジー第3ブチル/ Q4
1 −p−クレゾール(o、zp)を混合し、100℃に加
熱した。混合物を1時間を要し、オクタン醪クロムの5
%軽油溶液(o、o5g)を含有するメタクリル酸(3
55g)および2,6−ジー第3ブチル−p−クレゾー
ル(o、2g)と処理した。
ン(5og )および2,6−ジー第3ブチル/ Q4
1 −p−クレゾール(o、zp)を混合し、100℃に加
熱した。混合物を1時間を要し、オクタン醪クロムの5
%軽油溶液(o、o5g)を含有するメタクリル酸(3
55g)および2,6−ジー第3ブチル−p−クレゾー
ル(o、2g)と処理した。
この混合物を100 ’Oにて5時間加熱し、次いで2
.6−シー駆3プ千ルーp−クレゾール(005I)を
含有するメタクリル酸(a、5g)で処理した。加熱を
更に25時間続け、次いでメタクリル酸(2,2y)お
↓び2,6−ジー第6ブ千ルーp〜クレゾール(n、2
y)の是なる量を加えた。混合物を100 ’Oにて2
時間加熱し、メタクリル酸(1,5tt)および2.6
−ジー第3ブチル−p−クレゾール(o、2p)を加え
た。混合物を100 ’0遥こて更lこ075時間加熱
した。この生成物のエポキシ含量は014当tt /
kyであった。
.6−シー駆3プ千ルーp−クレゾール(005I)を
含有するメタクリル酸(a、5g)で処理した。加熱を
更に25時間続け、次いでメタクリル酸(2,2y)お
↓び2,6−ジー第6ブ千ルーp〜クレゾール(n、2
y)の是なる量を加えた。混合物を100 ’Oにて2
時間加熱し、メタクリル酸(1,5tt)および2.6
−ジー第3ブチル−p−クレゾール(o、2p)を加え
た。混合物を100 ’0遥こて更lこ075時間加熱
した。この生成物のエポキシ含量は014当tt /
kyであった。
J−(N、N−ジアリルアミノ)無水フタル酸(86i
19;英国特許第1563577号明細書の実施例2に
従い製造。)を上記混合物へ1時間な袈し加え、100
’0にて更に1時間加熱し、次いで室温まで冷却した
。この生成物、すなわち1,5−ビス(5−(メタクリ
ロイルオキ7)−2−(2−カルボキシ−4−および5
−ジアリルアミノフェニルカルボニルオキシ)グロビル
)−5,5−ジメチルヒダントイン(89)を、トリメ
チロールプロパントリチオグリコレート(4I!;すな
わちアリル当量当り09メルカプタン基当量)お工び2
,2′−アゾビス(2−メチルプロピオニトリル)(0
,4N)と混合した。
19;英国特許第1563577号明細書の実施例2に
従い製造。)を上記混合物へ1時間な袈し加え、100
’0にて更に1時間加熱し、次いで室温まで冷却した
。この生成物、すなわち1,5−ビス(5−(メタクリ
ロイルオキ7)−2−(2−カルボキシ−4−および5
−ジアリルアミノフェニルカルボニルオキシ)グロビル
)−5,5−ジメチルヒダントイン(89)を、トリメ
チロールプロパントリチオグリコレート(4I!;すな
わちアリル当量当り09メルカプタン基当量)お工び2
,2′−アゾビス(2−メチルプロピオニトリル)(0
,4N)と混合した。
この混合物をブリキ板片に塗料として厚さ10祖で塗布
し、120℃にて20分加熱した。塗料は硬く硬化し、
不粘看性の表面となる。
し、120℃にて20分加熱した。塗料は硬く硬化し、
不粘看性の表面となる。
特許出願人 チバーガイギー アクチェンゲゼル〉ヤ
フト代理人 萼 優美 (ほか1名)
フト代理人 萼 優美 (ほか1名)
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 (11次の組成、 (a) 分子甲に、 (1)アクリロイルオキシおよびメタクリロイルオキ7
基から選択される少なくとも1個の基、 (11)芳香族もしくは環式脂肪族核部分を構成する炭
素原子に、血抜もしくはM素原子またはオキシカルボニ
ルJ T−〇〇〇−1を弁し”Cそれぞれ粘付したアリ
ル、メタリルおよび1−プロペニル基より選択1れる少
なくとも1個の基、および 1iii) 少なくとも1個のカルボン酸(−C00
fl)基會含Mする化付物、 Tbl 分子当り、1個もしくは複数の脂肪族炭素原
子に直接紹せした少なくとも2個のメルカプタン基を含
有し、(a)のアリル、メタリルおよび1−プロペニル
基から選択さtした基当り七のようなメルカプタン基が
少なくともα8、しかしくa)のアクリロイル、メタク
リロイル、アリル、メタリルおよび1−プロペニル基か
ら選択てれた基当りそのようなメルカプタン基が1.0
以下で供給チれる割付いで含有する化付物、 から構成される車台性組成物。 (21(a)の基(+)および(11)の金倉が少なく
とも3である特許請求の範囲第1項記載の組成物。 (3)11固または各アクリロイルオキシもしくにメタ
クリロイルオキ7基が芳香族、環式脂肪族もしくは複素
環式核へ、次式■: (式中、Rは水氷原子もしくは少なくともジカルボン酸
の一価アシル残基を表わす。)の基を介して結合してい
る特許請求の範囲第1項17tは第2項の組成物。 (4) 式I中、Rが次式M: −CO−R1−COOHl旧 (式甲、R2はアルキレン、アリーレン(ar>’te
ne)もしくはアルアルキレン!’((&わし、これら
の基は1個もしくはそれ以上のアリル、メタリルもしく
は1−プロペニル基もしくは1・i15もしくはそれ以
上のカルボン酸基によって置換逼れていてもよく、該ア
ルキレン基およびアルアルキレン基のアルキレン部分は
炭素原子数2ないし10個?I−令し、該アリーレン基
およびアルアルキレン基のアリーレン品分は炭素原子数
6ないし10個でおる。) で次わされる狩許開宋の範囲第6項記載の組成物。 (5)取分(a)が多1曲フェノールで、その少なくと
も2個のフェノール性水酸請が軸許趙求の範囲第3項も
しくは第4項で定義した式lのカルボン酸基−含有基全
弁してアクリロイルもしくはメタクリロイル基でエステ
ル1じちれており、七の少なくとも2個のフェノール性
水[&がアリル、メタリルおよび1−プロペニル基から
選択ちれる基で直嵌エーテル化されているものである時
許紬求の範囲第1項ないし第4項のいず牡か1項Vこ6
e+載の組ルに物。 (6〕 成分ialが多価フェノールで、七の少なく
とも2個のフェノール性水酸基が狩許Sn氷の範囲第5
項もしくは第4項で定義した式監のカルボン酸基−含有
基k (r して、アクリロイルおよびメタクリロイル
基から選択ちれた基によりエステル比ちれており、1個
もしくは懐6 ノベンゼンもしくはナフタレン核中の炭
素原子にアリル、メタリルおまひ、1−プロペニル基か
ら選択δれた少女くとも2個の基によ#)Ik接直換さ
れている多価フェノールでめる特許請求の範囲第1項な
いし第4項のいずれか1JJtに記載の組成物。 (7)取分(b)がモノメルカプタンアルキレンカルボ
ン酸と多価アルコールのエステルもしくは■旨l坊族モ
ノメルカプタンー1曲アルコールリカルボン酸のエステ
ルである特許請求の範囲第1項ないし第6項のいずれか
1槍に記載の組成物。 (8) (alの不飽和基(1)および(11)プラ
ス(b)の該メルカプタン基の金貨が4以上の特許請求
の範囲第1項ないし第7項記載のいずfかの組成物ケ、
叉狩体に塗料として塗布し、化学i1i1照射へ蕗元し
塗7h1した成る部分を光][せ埒ぜ、稀アルカリ水鹸
液で塗料を洗い重台しない部分を除き、元電付した部分
を残すようにした印刷版お↓ひプリント回路り製造のた
めの特許請求の範囲第1項記載の組成物。 (9) (a)の不IR和基(1)および(幻プラス
lbJの該メルカプタン基の全量が4である%ffh肖
累の範囲第1項ないし第7項記載のal成りを、支持坏
に室料として塗布し、比学脚照射へ露光し塗布しfc成
る部分金光凰合嘔せ、稀アルカリ水浴徹で塗料會氏い1
台しない部分を除き、光M曾しπ部分を残すようにした
印刷版およびプリント回路の製造のための特許請求の範
囲第1墳me41!の組成物。 四 分子中に、 (1) アクリロイルオキシおよびメタクリロイルオ
キシ基から選択される少なくとも1個の基、 (U) 芳香族もしくは環式脂肪族核部分全構成する
炭素原子に、直接もしくは酸素原子またはオキシカルホ
゛ニル4 (−(JCO−) ’e介してそ扛ぞれM曾
したアリル、メタリルおよび1−プロペニル基より選択
ちれる少なくとも1個の基、および (ilil 少なくとも1個のカルボン酸(−coo
n)7iを含有する次式用〜xxtu : OR2(JOCC=CHg a 5 (XVf) 〔上記式中、 aは、1ないし6の整数を、 各R2に、次式龜ニ =C市CHC)h −(1) R (式中、rtrc少なくともジカルボン酸の一価アシル
ラジカルを衣わ丁) で衣わ芒れるカルボンば一含南基を衣わし、各R”U
、アリル、メタリルもしくに1−プロペニル基を表わす
が、ただし成層および脂に2いては各−CH,−および
I尤3−柄―基:CHa =C(R’l C00R20
−4L < IrJ−R7−K対シテオルトもしくはバ
ラ位(お9、 R4は、炭素−炭素結合、炭素原子e、51でのアルキ
レンもしくはアルキリデン基、エーテル#1素原子、硫
黄原子もしく01式: −(’O−,−8S−もしくは
−8O2−で表わされる基紫衣わし、各Hsは、水素原
子もしくはメチル基′Jk次わし、各R6は、水素原子
、塩素原子もしくは臭素原子、または炭素原子数1ない
し4のアルキル基を表わし、 谷R7は、式:C1−12=C・11も’) C00R
2U−基またはアリルオキシ、メタリル万キ/もしくは
1−プロペニルオキシ基で、少なくとも1個は式:CH
s =C(R町CO(J m’o−の骸晶および少なく
とも2個がそれぞ扛アリルオキシ、メタリルオキシもし
くは1−プロペ;ニルオキシ基ヲ表ワし) R@は、炭素腔子叙1ないし10のアルキル基、炭素原
子数7ないし16のアルアルキル基もしくは炭素原子数
6ないし10の了り−ル基を次わし、 RslおよびKIOの11向、およびR11およびR2
の1個は同一の意味含有しでれぞれアリルもしくはメタ
リル基ヲ株わし g!およびR1”、およびR11およ
びR1!の釜残9のものはアルコール行水酸基を1@L
9去った後のアルコール残−&を表わし、該lA基はカ
ルボン#i1基およびアクリロイルオキシもしくrエメ
タクリロイルオキシ着の両方を含有する、 Hlmは次式: %式%) ( で表わ逼れる基を次わし、そして B14(rlアリル、メタリル、1−プロペニル、アリ
ルオキシカルボニル、メタリルオキ7カルボニル、1−
プロペニルオキシカルボニル、ジアリルアミノ、ジメチ
ルアリルアミノもしくはジ(1−プロペニル)アミノ基
taわす。〕で表わされる化合物。
Applications Claiming Priority (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
GB8119036 | 1981-06-19 | ||
GB8119036 | 1981-06-19 | ||
GB8208667 | 1982-03-24 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS582308A true JPS582308A (ja) | 1983-01-07 |
Family
ID=10522676
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP10608682A Pending JPS582308A (ja) | 1981-06-19 | 1982-06-19 | 重合性組成物 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS582308A (ja) |
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS5812626U (ja) * | 1981-07-17 | 1983-01-26 | ヤンマーディーゼル株式会社 | サ−モスタツト付ピストン冷却装置 |
JP2010523810A (ja) * | 2007-10-26 | 2010-07-15 | エルジー・ケム・リミテッド | アルカリ可溶性樹脂およびこれを含むネガ型感光性樹脂組成物 |
WO2022168974A1 (ja) * | 2021-02-08 | 2022-08-11 | 大阪有機化学工業株式会社 | アルカリ可溶性樹脂、感光性樹脂組成物、硬化物、及び画像表示装置 |
-
1982
- 1982-06-19 JP JP10608682A patent/JPS582308A/ja active Pending
Cited By (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS5812626U (ja) * | 1981-07-17 | 1983-01-26 | ヤンマーディーゼル株式会社 | サ−モスタツト付ピストン冷却装置 |
JP2010523810A (ja) * | 2007-10-26 | 2010-07-15 | エルジー・ケム・リミテッド | アルカリ可溶性樹脂およびこれを含むネガ型感光性樹脂組成物 |
US8951713B2 (en) | 2007-10-26 | 2015-02-10 | Lg Chem, Ltd. | Alkali-soluble resin and negative-type photosensitive resin composition comprising the same |
WO2022168974A1 (ja) * | 2021-02-08 | 2022-08-11 | 大阪有機化学工業株式会社 | アルカリ可溶性樹脂、感光性樹脂組成物、硬化物、及び画像表示装置 |
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