JPS5821318A - ウエハ搬送方式 - Google Patents
ウエハ搬送方式Info
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- JPS5821318A JPS5821318A JP11820181A JP11820181A JPS5821318A JP S5821318 A JPS5821318 A JP S5821318A JP 11820181 A JP11820181 A JP 11820181A JP 11820181 A JP11820181 A JP 11820181A JP S5821318 A JPS5821318 A JP S5821318A
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- JP
- Japan
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- transport
- wafer
- self
- carrier
- room
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- H01L21/67—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
- H01L21/677—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere for conveying, e.g. between different workstations
- H01L21/67763—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere for conveying, e.g. between different workstations the wafers being stored in a carrier, involving loading and unloading
- H01L21/67769—Storage means
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- H—ELECTRICITY
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
この発明は、半導体装置の製造工程において、各処理工
程間のウニｒ搬送方式に関する。
程間のウニｒ搬送方式に関する。
半導体装置の製造において、半導体装置の製造工程を構
成する各処理工程は、通常部屋毎に区分され、半導体基
板（以下ウェハと称する）はこの部屋に所定の順序で搬
送されることＫよって、所定の順序に応じた処理工程を
経て島理される、このようなウェハの移動は、従来複数
個のクエへを収納できるケース（以下キャリヤと称する
）にそのウェハを収納し、さらにヒのキャリ（を搬送専
用の箱に収納して人間が直接持ち運ぶかまたは簡単な直
線コンベヤに塔載して搬送することによって行なわれて
いる。しかしながら、このようなウェハ搬送方式では、
人間が介在して移動させることによ如汚れが発生し九〉
、各処理工程毎の必要な清浄度はそれぞれ異なる九め、
各部屋毎に清浄度を変える場合にはウニへｔＱ移動によ
りて各部屋の清浄度保持に悪影響を与える不都合がある
。を九上記簡単な直線コンベヤによる搬送では、各部屋
毎に必ＩｌＫ応じたウェハ、すなわちキャリヤの供給お
よび排出するための搬送管理を有効に行うことがで亀な
いため、搬送効率が低下する欠点がある。上記の清浄度
保持のために製造工程全体を高清浄度に保持する方法も
考えられるが、設備費、動力費等が嵩み得策ではない。
成する各処理工程は、通常部屋毎に区分され、半導体基
板（以下ウェハと称する）はこの部屋に所定の順序で搬
送されることＫよって、所定の順序に応じた処理工程を
経て島理される、このようなウェハの移動は、従来複数
個のクエへを収納できるケース（以下キャリヤと称する
）にそのウェハを収納し、さらにヒのキャリ（を搬送専
用の箱に収納して人間が直接持ち運ぶかまたは簡単な直
線コンベヤに塔載して搬送することによって行なわれて
いる。しかしながら、このようなウェハ搬送方式では、
人間が介在して移動させることによ如汚れが発生し九〉
、各処理工程毎の必要な清浄度はそれぞれ異なる九め、
各部屋毎に清浄度を変える場合にはウニへｔＱ移動によ
りて各部屋の清浄度保持に悪影響を与える不都合がある
。を九上記簡単な直線コンベヤによる搬送では、各部屋
毎に必ＩｌＫ応じたウェハ、すなわちキャリヤの供給お
よび排出するための搬送管理を有効に行うことがで亀な
いため、搬送効率が低下する欠点がある。上記の清浄度
保持のために製造工程全体を高清浄度に保持する方法も
考えられるが、設備費、動力費等が嵩み得策ではない。
この発明は上記の事情を鑑みてなされたもので、半導体
装置の製造ラインにおいて、各処理工程毎に区分された
各部屋の清浄度を保持でき、しかも必要に応じて各部屋
に対してウェハを収納し九キャリヤの供給および排出を
高効率に行うことができるウェハ搬送方式を提供するこ
とを目的とする。
装置の製造ラインにおいて、各処理工程毎に区分された
各部屋の清浄度を保持でき、しかも必要に応じて各部屋
に対してウェハを収納し九キャリヤの供給および排出を
高効率に行うことができるウェハ搬送方式を提供するこ
とを目的とする。
以下図面を参照してヒの発明の一実施例について説明す
る。ワン７■アの半導体装置の製造２インにおいて各処
理工程毎に区分され、その処理工程に応じた複数の処理
装置を備え丸缶部屋間を接続する如く搬送路である搬送
ツインが設けられる。この搬送ツインは、通常クリーン
′なトンネル構造で複数のウェハを収納するキャリヤを
塔載する密封タイｆＯケースを有する、例えば電動式の
自走軍勢が移動できるラインである。そして上記各部屋
毎の出入口であるｒ−トに図に示すような搬送用ストレ
ージエニ、ト１１（以下単にエニットと称する）が設け
られる。このエニｙ ） １１は、上記搬送ツイン１１
に接続され、上記自走車１１がこの搬送ツイン１１を介
して供給また紘排出される。この自走車ＩＪはエエ、ト
１１に供給される場合、まず搬送ツイン１２用レール等
から二二、ＦＩｌ内のレール等に切換えられて開閉シャ
、り等によって区画された位置１４に移動される。この
位置１４で娘、光電スイッチ等のセンナによりて自走車
１１が検知され、このセンナからの信号に応じて清浄度
の高い空気ムをフィルタ等を介して流出するクリーンシ
ャワーＩＩＩが動作して所定の時間に自走車１１は清浄
されゐ、なおエニｙト１１には、Δスが、クスである吸
引装置１−が設けられ、クリーンシャワー１５と同時に
動作する。さらに開閉シャ、り郷によって区画された位
置１ｒが隣接して設けられ、この位置１１に自走車ＩＪ
が移動される。この位置１１では、自走車１１内のウェ
ハを収納しているキャリヤの移行先、すなわち部屋毎の
処理工程が例えばフード化したマークを自走車ＪＪＫ＃
Ｉ示させ、この！−りをバーコードリーグ等のセンナに
ょゐ検知によりて確認する。そして再度、クリーンシャ
ワーＩＪが動作して、この位置１１は高い清浄度に保持
される。所定０時間後この位置１１から自走車１３は、
工具ット１１のメイン室であるウェハ収納ｉ１１＃に移
動される。このウェハ収納室１１は、ノリーンシャワー
１９によって常に高い清浄度すなわち少なくとも上記各
部屋および搬送ツインのうち最も高い清浄度ることにな
る。自走車ＩＪは壜ずウェハ収納室１＃の所定の位置２
０において、例えばａ−ット等の自動機緘（図示せず）
Ｋよって密封用の蓋が開けられ、ウェハ２１を収納し九
キャリヤ２２が取り出される。このキャリヤｊ２は、ウ
ェハ収納室１ｍに設けられ九Δ、７ア用ストレージ懺置
ＪＪＫ収納される。ζＯ装置Ｊ１は制御信号に応じてキ
ャリヤ２２を所定の位置の塔載台７４に収納または所定
の位置の塔載台２４から取ル出すことのできゐ例えば峰
−タグール方式の装置として構成される。このとき、例
えばウェハ１１と一対でキャリヤ２２に収納されている
ウェハの履歴を識別できるカードがカードリーグ等によ
って読み込まれ、読み込まれたカードは再度ウェハ２１
と一対でキャリヤ２２にセ、トされゐ、とζろで、バッ
ファ用ストレージ装置１１の塔載台２４には、例えば「
Ａ１」〜ｒＡＮＪｔでの専用番号が与えられ、二ａｙ）
１１全体を制御する演算処理装置等の制御装置は、この
搭載台１４の専用番号と上記カードリーグから供給され
るコードを有するウェハ２１を収納するキャリヤ２１を
記憶する。従りて、パ、フ１用ストレージ装置１７の空
席の搭載台１４の照会と次のキャリヤ２２を収納する搭
載台２４の移動等を行うことができる。そして部屋内の
処理工１ｉＫ必要なウェハ２１を呼び出す信号が上記制
御装置へ供給され、この信号に応じてバッファ用ストレ
ージ装置２Ｊから制御装置に制御されて必要なり工へ２
１を収納しているキャリヤ２２が例えば口がット等によ
って取ｐ出され部屋内の処理工程専用の密封式自走車２
Ｊに収納される。この自走車１５は、開閉シャ、り悴で
区画された位置２−へ移動され、センナ等によって検知
されるとクリーンシャワー２１が動作して、この位置１
６の清浄度はウェハ収納室ＩＪと同等に保持される。さ
らに所定の時間後、自走車ｊ５は次の位置２１へ移動さ
れ、この位置２ｒで例えばユニット１１用搬送レールか
ら部屋内用搬送レールに切換えられる。そして自走車２
５は部屋内の所定の＃ｌ＆理工程を行う処理装置に移動
されゐものである。なお、上記搬送ツイン１２から供給
される自走車１３はユニットＪ１から再一度搬送ライン
１１へ排出され、他の部屋のユニットへ移動される。こ
のときクリーンシャワー１ｊは動作しない、壇九部屋内
の処理工程からキャリヤ２１を収納するため自走車２Ｉ
が工＝ｙ ） １１へ供給される場合には、位置ｊ８の
クリーンシャワー２１は動作する。なお、部屋内で処理
終了後のウェハは上記と全く同様の構成で、この場合は
まずユニット１１に自走車ＩＩによりてウェハを収納し
たキャリヤが供給され、必要に応じてウェハは自走車１
３によって他の部屋へ搬送ライン１２を介して転送され
る・従りて上記の場合と、ユニット１１の出入口が逆に
なるだけで、他の動作は同じである。
る。ワン７■アの半導体装置の製造２インにおいて各処
理工程毎に区分され、その処理工程に応じた複数の処理
装置を備え丸缶部屋間を接続する如く搬送路である搬送
ツインが設けられる。この搬送ツインは、通常クリーン
′なトンネル構造で複数のウェハを収納するキャリヤを
塔載する密封タイｆＯケースを有する、例えば電動式の
自走軍勢が移動できるラインである。そして上記各部屋
毎の出入口であるｒ−トに図に示すような搬送用ストレ
ージエニ、ト１１（以下単にエニットと称する）が設け
られる。このエニｙ ） １１は、上記搬送ツイン１１
に接続され、上記自走車１１がこの搬送ツイン１１を介
して供給また紘排出される。この自走車ＩＪはエエ、ト
１１に供給される場合、まず搬送ツイン１２用レール等
から二二、ＦＩｌ内のレール等に切換えられて開閉シャ
、り等によって区画された位置１４に移動される。この
位置１４で娘、光電スイッチ等のセンナによりて自走車
１１が検知され、このセンナからの信号に応じて清浄度
の高い空気ムをフィルタ等を介して流出するクリーンシ
ャワーＩＩＩが動作して所定の時間に自走車１１は清浄
されゐ、なおエニｙト１１には、Δスが、クスである吸
引装置１−が設けられ、クリーンシャワー１５と同時に
動作する。さらに開閉シャ、り郷によって区画された位
置１ｒが隣接して設けられ、この位置１１に自走車ＩＪ
が移動される。この位置１１では、自走車１１内のウェ
ハを収納しているキャリヤの移行先、すなわち部屋毎の
処理工程が例えばフード化したマークを自走車ＪＪＫ＃
Ｉ示させ、この！−りをバーコードリーグ等のセンナに
ょゐ検知によりて確認する。そして再度、クリーンシャ
ワーＩＪが動作して、この位置１１は高い清浄度に保持
される。所定０時間後この位置１１から自走車１３は、
工具ット１１のメイン室であるウェハ収納ｉ１１＃に移
動される。このウェハ収納室１１は、ノリーンシャワー
１９によって常に高い清浄度すなわち少なくとも上記各
部屋および搬送ツインのうち最も高い清浄度ることにな
る。自走車ＩＪは壜ずウェハ収納室１＃の所定の位置２
０において、例えばａ−ット等の自動機緘（図示せず）
Ｋよって密封用の蓋が開けられ、ウェハ２１を収納し九
キャリヤ２２が取り出される。このキャリヤｊ２は、ウ
ェハ収納室１ｍに設けられ九Δ、７ア用ストレージ懺置
ＪＪＫ収納される。ζＯ装置Ｊ１は制御信号に応じてキ
ャリヤ２２を所定の位置の塔載台７４に収納または所定
の位置の塔載台２４から取ル出すことのできゐ例えば峰
−タグール方式の装置として構成される。このとき、例
えばウェハ１１と一対でキャリヤ２２に収納されている
ウェハの履歴を識別できるカードがカードリーグ等によ
って読み込まれ、読み込まれたカードは再度ウェハ２１
と一対でキャリヤ２２にセ、トされゐ、とζろで、バッ
ファ用ストレージ装置１１の塔載台２４には、例えば「
Ａ１」〜ｒＡＮＪｔでの専用番号が与えられ、二ａｙ）
１１全体を制御する演算処理装置等の制御装置は、この
搭載台１４の専用番号と上記カードリーグから供給され
るコードを有するウェハ２１を収納するキャリヤ２１を
記憶する。従りて、パ、フ１用ストレージ装置１７の空
席の搭載台１４の照会と次のキャリヤ２２を収納する搭
載台２４の移動等を行うことができる。そして部屋内の
処理工１ｉＫ必要なウェハ２１を呼び出す信号が上記制
御装置へ供給され、この信号に応じてバッファ用ストレ
ージ装置２Ｊから制御装置に制御されて必要なり工へ２
１を収納しているキャリヤ２２が例えば口がット等によ
って取ｐ出され部屋内の処理工程専用の密封式自走車２
Ｊに収納される。この自走車１５は、開閉シャ、り悴で
区画された位置２−へ移動され、センナ等によって検知
されるとクリーンシャワー２１が動作して、この位置１
６の清浄度はウェハ収納室ＩＪと同等に保持される。さ
らに所定の時間後、自走車ｊ５は次の位置２１へ移動さ
れ、この位置２ｒで例えばユニット１１用搬送レールか
ら部屋内用搬送レールに切換えられる。そして自走車２
５は部屋内の所定の＃ｌ＆理工程を行う処理装置に移動
されゐものである。なお、上記搬送ツイン１２から供給
される自走車１３はユニットＪ１から再一度搬送ライン
１１へ排出され、他の部屋のユニットへ移動される。こ
のときクリーンシャワー１ｊは動作しない、壇九部屋内
の処理工程からキャリヤ２１を収納するため自走車２Ｉ
が工＝ｙ ） １１へ供給される場合には、位置ｊ８の
クリーンシャワー２１は動作する。なお、部屋内で処理
終了後のウェハは上記と全く同様の構成で、この場合は
まずユニット１１に自走車ＩＩによりてウェハを収納し
たキャリヤが供給され、必要に応じてウェハは自走車１
３によって他の部屋へ搬送ライン１２を介して転送され
る・従りて上記の場合と、ユニット１１の出入口が逆に
なるだけで、他の動作は同じである。
なお、上記実施例においてストレーｐ ５− ＝ 。
）１１および各部屋間の搬送ラインを移動する自走車Ｊ
Ｊ等の制御は集中制御方式でもよいし、または各エニッ
ト別の分散制御方式でもよい。
Ｊ等の制御は集中制御方式でもよいし、または各エニッ
ト別の分散制御方式でもよい。
また、５−ニット１１内のバッファ用ストレージ装置２
３はモータゾール方式に限ることなく、ロータリーテー
ブル方式あるいはコンベヤ一方式でもよい。
３はモータゾール方式に限ることなく、ロータリーテー
ブル方式あるいはコンベヤ一方式でもよい。
以上詳述したようにこの発明によれば、半導体装置の製
造ツインにおいて、各処理工程毎に区分され、清浄度の
異なる各部屋にストレージユニットを設け、このユニッ
トを介して各部屋間を搬送ラインによる接続をすること
によりて、各部屋の清浄度を保持でき、シかも必狭に応
じて各部屋に対してウェハの供給および排出を自動化し
て効率よく行うことができるウェハ搬送方式を提供でき
る。
造ツインにおいて、各処理工程毎に区分され、清浄度の
異なる各部屋にストレージユニットを設け、このユニッ
トを介して各部屋間を搬送ラインによる接続をすること
によりて、各部屋の清浄度を保持でき、シかも必狭に応
じて各部屋に対してウェハの供給および排出を自動化し
て効率よく行うことができるウェハ搬送方式を提供でき
る。
図はこの発明の一実施例に係る搬送用ストレージユニ、
トの概略的構成図である。 １１・・・ストレージユニ、）、ＪＪ・・・搬送ライン
、１３．２８・・・自走車、Ｉｉ、１９，１７ｒ−・・
クリーンシャワー、１＃・−吸引装置、２１・・・ウェ
ハ、ＪＪ”・キャリヤ、ｊＪ−・バッファ用ストレージ
装置。
トの概略的構成図である。 １１・・・ストレージユニ、）、ＪＪ・・・搬送ライン
、１３．２８・・・自走車、Ｉｉ、１９，１７ｒ−・・
クリーンシャワー、１＃・−吸引装置、２１・・・ウェ
ハ、ＪＪ”・キャリヤ、ｊＪ−・バッファ用ストレージ
装置。
Claims (3)
- （１） 複数のウェハが所定の順序に応じた処理工程
を経て処理される半導体装置の製造ラインにおいて、上
記各処理工程毎に区分し、その処理工程に応じた複数の
処理装置および異なる清浄度を保持する手段を備えた部
屋と、この部屋内の上記処理装置間を接続する第１の搬
送ラインと、上記部屋間を接続する第２の搬送ツインと
、この第１および第２の搬送ラインを介して上記ウェハ
を搬送する搬送手段と、上記部屋に設けたＡとも１つの
ｒ−）に配置し、上記搬送手段によって搬送されるウェ
ハを収納する手段および内部の清浄度を保持する手段を
備え九搬送用ストレージエ具、トと、上記ウェハの搬送
を制御する演算処理装置とを具備し、上記複数のウェハ
の中で必要なウェハを指示する制御信号に応じて、その
ウェハを上記部屋内の処理工程まえは上記第２の搬送ツ
インを介して所定の部屋に供給する如く構成されること
を特徴とするウェハ搬送方式。 - （２）上記搬送用ストレージ＆二、Ｆ内の清浄度を保持
する手段としてクリーンシャワーとＩ臂ス一、クスを具
備したことを特徴とする特許−求の範囲１１１１項記載
のウェハ搬送方式。 - （３） 上記搬送用ストレージエエ、ト内にカード読
み取ｐ装置が具備され、それによりてウェハ搬送手段に
付属したカードの符号を読み取る如く構成されているこ
とを特徴とする特許請求の範囲第１項記載のウェハ搬送
方式。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP11820181A JPS5821318A (ja) | 1981-07-28 | 1981-07-28 | ウエハ搬送方式 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP11820181A JPS5821318A (ja) | 1981-07-28 | 1981-07-28 | ウエハ搬送方式 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS5821318A true JPS5821318A (ja) | 1983-02-08 |
Family
ID=14730681
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP11820181A Pending JPS5821318A (ja) | 1981-07-28 | 1981-07-28 | ウエハ搬送方式 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS5821318A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS59189643A (ja) * | 1983-04-13 | 1984-10-27 | Fujitsu Ltd | インライン型処理装置 |
| JPH0725500U (ja) * | 1993-10-07 | 1995-05-12 | 株式会社栄晃製作所 | 駐車設備 |
Citations (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS52117564A (en) * | 1976-03-26 | 1977-10-03 | Ibm | Device for treating computerrcontrolled semiconductor wafer |
| JPS5548120A (en) * | 1978-09-30 | 1980-04-05 | Toshiba Corp | Conveying system |
| JPS5619635A (en) * | 1979-07-27 | 1981-02-24 | Hitachi Ltd | Manufacturing apparatus |
-
1981
- 1981-07-28 JP JP11820181A patent/JPS5821318A/ja active Pending
Patent Citations (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS52117564A (en) * | 1976-03-26 | 1977-10-03 | Ibm | Device for treating computerrcontrolled semiconductor wafer |
| JPS5548120A (en) * | 1978-09-30 | 1980-04-05 | Toshiba Corp | Conveying system |
| JPS5619635A (en) * | 1979-07-27 | 1981-02-24 | Hitachi Ltd | Manufacturing apparatus |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS59189643A (ja) * | 1983-04-13 | 1984-10-27 | Fujitsu Ltd | インライン型処理装置 |
| JPS6317333B2 (ja) * | 1983-04-13 | 1988-04-13 | Fujitsu Ltd | |
| JPH0725500U (ja) * | 1993-10-07 | 1995-05-12 | 株式会社栄晃製作所 | 駐車設備 |
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