JPS58199301A - 合成樹脂製レンズの反射防止膜 - Google Patents
合成樹脂製レンズの反射防止膜Info
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- JPS58199301A JPS58199301A JP57082823A JP8282382A JPS58199301A JP S58199301 A JPS58199301 A JP S58199301A JP 57082823 A JP57082823 A JP 57082823A JP 8282382 A JP8282382 A JP 8282382A JP S58199301 A JPS58199301 A JP S58199301A
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- Japan
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- film
- synthetic resin
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- reflection preventing
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- Pending
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-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B1/00—Optical elements characterised by the material of which they are made; Optical coatings for optical elements
- G02B1/10—Optical coatings produced by application to, or surface treatment of, optical elements
- G02B1/11—Anti-reflection coatings
- G02B1/111—Anti-reflection coatings using layers comprising organic materials
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
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- Optics & Photonics (AREA)
- Surface Treatment Of Optical Elements (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は、合成樹脂製レンズの反射防止層に関し、特に
最ｊ層に金１属δ酸化物を用いた合成樹脂ｊｇ ｖ ｙ
Ｘの反射防告旋に関するものである・近年、レンズ材
料として、従来の無機ガラスレンズに代って、合成樹脂
製レンズが多用されるようＫなってきた。
最ｊ層に金１属δ酸化物を用いた合成樹脂ｊｇ ｖ ｙ
Ｘの反射防告旋に関するものである・近年、レンズ材
料として、従来の無機ガラスレンズに代って、合成樹脂
製レンズが多用されるようＫなってきた。
合成樹脂製レンズは、無機ガラスレンズに比べ、軽い、
耐衝撃ｉが高い、染色が出来る等の長所を有しておシ、
眼鏡用レンズをはじめ、カメラ用レンズ等に多く用いら
れている。
耐衝撃ｉが高い、染色が出来る等の長所を有しておシ、
眼鏡用レンズをはじめ、カメラ用レンズ等に多く用いら
れている。
しかし、合成樹脂製レンズは、無機ガラスレンズに比べ
、表面硬度が小さく、耐擦傷性が悪いという欠点があり
九。
、表面硬度が小さく、耐擦傷性が悪いという欠点があり
九。
上記欠点を改善すぺく、現在、合成樹脂製レンズの表面
硬度向上の効果と、反射防止効果を持つ無機物あるいは
有機物のハードコート層と、゛無機物の反射防止層とか
らなる反射防止膜を設けることが多く行なわれている。
硬度向上の効果と、反射防止効果を持つ無機物あるいは
有機物のハードコート層と、゛無機物の反射防止層とか
らなる反射防止膜を設けることが多く行なわれている。
合成樹脂製レンズの反射防止層の一つとして、二酸化硅
素（５ｉｎｓ）が広く用いられている。二酸化硅素（８
４０ｓ）は、合成樹脂製レンズとの密着性も良く、かつ
、硬度も高いのでハードコート層としても広く用いられ
ている。二酸化硅素（ｓｈｏ、）の屈折率％ ｔ！ １
．４６であり、合成樹脂製レンズの反射防止層として用
いられ、＊に、最上層としては、現在、はとんど二酸化
硅−素（８ｔｏｗ）が用いられている。
素（５ｉｎｓ）が広く用いられている。二酸化硅素（８
４０ｓ）は、合成樹脂製レンズとの密着性も良く、かつ
、硬度も高いのでハードコート層としても広く用いられ
ている。二酸化硅素（ｓｈｏ、）の屈折率％ ｔ！ １
．４６であり、合成樹脂製レンズの反射防止層として用
いられ、＊に、最上層としては、現在、はとんど二酸化
硅−素（８ｔｏｗ）が用いられている。
しかし、二酸化硅素（Ｂ１０５）は、水との反応性が高
く、反射防止膜最上層の二酸化゛硅°素（’８（Ｏｓ）
の表・面に水滴等が付着し九場合、水ヤケとな夛易く、
水ヤケと表った場合は、簡単な方法では取り除きにくい
という問題があった。又、二酸化硅素（５ｊＯｓ） Ｋ
は、吸湿性があり経時変化し易い不安定な物質である。
く、反射防止膜最上層の二酸化゛硅°素（’８（Ｏｓ）
の表・面に水滴等が付着し九場合、水ヤケとな夛易く、
水ヤケと表った場合は、簡単な方法では取り除きにくい
という問題があった。又、二酸化硅素（５ｊＯｓ） Ｋ
は、吸湿性があり経時変化し易い不安定な物質である。
そのため膜の耐久性にも問題があった。
本発明は、かかる欠点を除去したもので、その目的は、
合成樹脂製レンズ反射防止層の最上層として、金属の酸
化物を用いることによシ、二酸化硅素（Ｂｉｂ１）の場
合に起こる水ヤケを防止し、更に１吸湿性による膜の経
時変化を防止し、膜の耐久性を向上させた合成樹脂製レ
ンズの反射防止膜を提供することにある。
合成樹脂製レンズ反射防止層の最上層として、金属の酸
化物を用いることによシ、二酸化硅素（Ｂｉｂ１）の場
合に起こる水ヤケを防止し、更に１吸湿性による膜の経
時変化を防止し、膜の耐久性を向上させた合成樹脂製レ
ンズの反射防止膜を提供することにある。
以下実施例に基づいて本発明の詳細な説明する。
従来、合成樹脂製レンズの反射防止膜の膜構成は、第１
図に示すように１合成樹脂製レンズｌＯの上に１ハ一ド
コート層１１を設け、その上［１１，１２，１３といつ
えような、１〜ｇＮｓ度の反射防止層を設けている。こ
の場合の最上層１４には二酸化硅素（８＠０１）が用い
られている。二酸化硅素（５ｉｎｓ）を最上層とし九場
合は、上述のような問題があった０本発明は、かかる欠
点を除去するために、第２図に示すように、反射防止膜
最上層の二酸化硅素（ＪＤＯｘ）層１４の上に、金属の
酸化物層２１を設けている。金属の酸化物は、水に対し
て非常に安定な物質である。したがって水ヤク−を起こ
さず、更に耐久性、耐擦傷性向上等の効果を得ることが
できる。
図に示すように１合成樹脂製レンズｌＯの上に１ハ一ド
コート層１１を設け、その上［１１，１２，１３といつ
えような、１〜ｇＮｓ度の反射防止層を設けている。こ
の場合の最上層１４には二酸化硅素（８＠０１）が用い
られている。二酸化硅素（５ｉｎｓ）を最上層とし九場
合は、上述のような問題があった０本発明は、かかる欠
点を除去するために、第２図に示すように、反射防止膜
最上層の二酸化硅素（ＪＤＯｘ）層１４の上に、金属の
酸化物層２１を設けている。金属の酸化物は、水に対し
て非常に安定な物質である。したがって水ヤク−を起こ
さず、更に耐久性、耐擦傷性向上等の効果を得ることが
できる。
金属の酸化物としては、酸化アルミニウム（Ａｊ雪Ｏｓ
）、−酸化チタン（Ｔｉｅ）、二酸化チタンＣＴｉ０ｓ
）、三酸化チタ〆τｊｓｏｓ） 、酸化ジルコニウム（
ＺｒＯ２）、酸化タンタル（Ｔａｇ Ｏｓ） 勢を用い
た。
）、−酸化チタン（Ｔｉｅ）、二酸化チタンＣＴｉ０ｓ
）、三酸化チタ〆τｊｓｏｓ） 、酸化ジルコニウム（
ＺｒＯ２）、酸化タンタル（Ｔａｇ Ｏｓ） 勢を用い
た。
反射防止膜は、普通真空蒸着法により形成する。
金属の酸化物にりいては、次の方法で形成することがで
きる。一つは真空蒸着法によ多形成する。、′又、金属
そのもの１蒸発源とし、酸素ガス雰囲気中で蒸発させる
ととｋより、金属Ｃ）Ｍ化物を形成することもできる。
きる。一つは真空蒸着法によ多形成する。、′又、金属
そのもの１蒸発源とし、酸素ガス雰囲気中で蒸発させる
ととｋより、金属Ｃ）Ｍ化物を形成することもできる。
たとえば酸化ジルコニウム（ＺｆＯ，）の場合、金属ジ
ルコニウムを蒸発筒とし、酸素ガス雰囲気中で反応蒸着
を行なうととによル得ることができる。その他、アルゴ
ンガス等の放電ガスに、酸素ガスを加えた雰囲気中で、
反応性イオンブレーティング等を行なうことにより得る
こともできる。
ルコニウムを蒸発筒とし、酸素ガス雰囲気中で反応蒸着
を行なうととによル得ることができる。その他、アルゴ
ンガス等の放電ガスに、酸素ガスを加えた雰囲気中で、
反応性イオンブレーティング等を行なうことにより得る
こともできる。
合成樹脂製レンズは、真空蒸着、イオンブレーティング
等によってＭを形成する際、レンズ自体の温度を１００
℃以上に加熱することは困難であるが、上述の方法によ
って得られるＭＦｉ、こういった比較的低い温度条件で
形成された場合でも、緻密で硬く、密着性の良い膜とな
る。
等によってＭを形成する際、レンズ自体の温度を１００
℃以上に加熱することは困難であるが、上述の方法によ
って得られるＭＦｉ、こういった比較的低い温度条件で
形成された場合でも、緻密で硬く、密着性の良い膜とな
る。
金属の酸化物を、反射防止膜最上層に設けた場合の分光
反射率特性及び、膜構成の一例を第２図、ｆａａ図に示
す、第２図に示すように、合成樹脂製レンズ１Ｏ１−１
たとえば、ジエチレングリコールビスアリルカーボネー
ト（ＣＲ−３９）とする。
反射率特性及び、膜構成の一例を第２図、ｆａａ図に示
す、第２図に示すように、合成樹脂製レンズ１Ｏ１−１
たとえば、ジエチレングリコールビスアリルカーボネー
ト（ＣＲ−３９）とする。
その上にハードコート層ｌｉｋ設け、更にその上［１２
，１３，１４の反射防止層を設ける。層１４には二酸化
硅素（Ｓ＜（ｈ）を用いている。基本的表反射防止効果
を得るのは、層１２，１３，１４０反射防止層である。
，１３，１４の反射防止層を設ける。層１４には二酸化
硅素（Ｓ＜（ｈ）を用いている。基本的表反射防止効果
を得るのは、層１２，１３，１４０反射防止層である。
各層の屈折重篤と、光学的展ｎｄｌｉ、層１２で、’
寓１ｅ６ ｓ ｓ ｄ 冨λ／４２層１３は、Ｒ＝２．
０ 、ｓｄｍλ７々２層１４は、ｓｘｌ、４６、％ｄＷ
−λ／４．で二酸化硅素（８ｉ０婁）とした、との場合
の分光反射率特性を第３図３１に示す、二酸化硅素（Ｂ
ｉＪ）層１４の上に、金属の酸化物層は、第２図２１の
ように最上層に設ける。金属の酸化物層は、光学的膜厚
で、０．０１〜０．０３λ程度の薄い膜を設けている。
寓１ｅ６ ｓ ｓ ｄ 冨λ／４２層１３は、Ｒ＝２．
０ 、ｓｄｍλ７々２層１４は、ｓｘｌ、４６、％ｄＷ
−λ／４．で二酸化硅素（８ｉ０婁）とした、との場合
の分光反射率特性を第３図３１に示す、二酸化硅素（Ｂ
ｉＪ）層１４の上に、金属の酸化物層は、第２図２１の
ように最上層に設ける。金属の酸化物層は、光学的膜厚
で、０．０１〜０．０３λ程度の薄い膜を設けている。
このため金属の酸化物は無色透明な膜となる。又、金属
の酸化物の屈折率ｎは、１．６〜２．５程度と高いが、
光学的膜厚が薄いので、分光反射率特性に及ぼす影畳は
小さい。
の酸化物の屈折率ｎは、１．６〜２．５程度と高いが、
光学的膜厚が薄いので、分光反射率特性に及ぼす影畳は
小さい。
第３図３２Ｆｉ、８３図３１の分光反射率特性となる反
射防止膜の最上層に、屈折率算＝２．０の金属の酸化物
を、光学的膜厚で０．Ｏ１２設けた場合の分光反射率特
性を示す。３２に示す分光反射率特性のままでは、３１
と同等の干渉色、反射率を得ることはできないが、３２
０分光反射率特性を、３１０分光反射率特性と＃１とん
ど同一とすることは簡単である。この場合、層１４の二
酸化硅素（８７０゜）の光学的膜厚會λ／４ ＝ ０．
２５λから、０．２３λに薄くすることＫよって、分光
反射率特性３２を３１と同一にすることができる。辷れ
ｄ−られかるように１金属の酸化物層２１の光学的膜厚
を変える場合は、その程度に応じて、層１４−の二酸化
硅素（ＢｉＯ，）の光学的膜厚を変化させれば良いこと
がわかる。したがって、金属の酸化物を反射防止層の最
上層に設けても、分光反射率特性を従来の特性と変更す
ることなく、従来と同一の干渉色を得ることができる。
射防止膜の最上層に、屈折率算＝２．０の金属の酸化物
を、光学的膜厚で０．Ｏ１２設けた場合の分光反射率特
性を示す。３２に示す分光反射率特性のままでは、３１
と同等の干渉色、反射率を得ることはできないが、３２
０分光反射率特性を、３１０分光反射率特性と＃１とん
ど同一とすることは簡単である。この場合、層１４の二
酸化硅素（８７０゜）の光学的膜厚會λ／４ ＝ ０．
２５λから、０．２３λに薄くすることＫよって、分光
反射率特性３２を３１と同一にすることができる。辷れ
ｄ−られかるように１金属の酸化物層２１の光学的膜厚
を変える場合は、その程度に応じて、層１４−の二酸化
硅素（ＢｉＯ，）の光学的膜厚を変化させれば良いこと
がわかる。したがって、金属の酸化物を反射防止層の最
上層に設けても、分光反射率特性を従来の特性と変更す
ることなく、従来と同一の干渉色を得ることができる。
以上から、本発明による合成樹脂製レンズの反射防止Ｍ
Ｆｉ、耐水性・耐久性に優れ、経時変化もなく、かつ、
分光反射率特性本従来と同一の特性が得られるといった
優れた性能を有している。
Ｆｉ、耐水性・耐久性に優れ、経時変化もなく、かつ、
分光反射率特性本従来と同一の特性が得られるといった
優れた性能を有している。
第１図は、従来の合成樹脂製レンズ上のハードコート層
及び、反射防止層の膜構成を示す、１０は合成樹脂製レ
ンズ、１１は有機物あるいは、無□ 機動のハードコート層、１２．１３．１４は反射防止層
管示す。 第２図は、第１図の反射防止層の上に１最上層として、
金属の酸化物２１を設は九場合の膜構成を示す。 第３図は、ｆａ１図、＃Ｉ２図の膜構成による分光反射
率特性を示す、横軸は光の波長、縦軸は一つの面の反射
率である。３１は、第１図膜構成の場合及び、第２図膜
構成の場合で、分光反射率特性を、３１と同じＫするた
めに、光学的膜厚を調整した場合の分光反射率特性を示
す。３２は、第２図膜構成Φ止に七のまま金属の酸化物
を設けた場合の分光反射率特性を示す。 以 上 出願人 松島工業株式会社 株式会社腫訪精工舎
及び、反射防止層の膜構成を示す、１０は合成樹脂製レ
ンズ、１１は有機物あるいは、無□ 機動のハードコート層、１２．１３．１４は反射防止層
管示す。 第２図は、第１図の反射防止層の上に１最上層として、
金属の酸化物２１を設は九場合の膜構成を示す。 第３図は、ｆａ１図、＃Ｉ２図の膜構成による分光反射
率特性を示す、横軸は光の波長、縦軸は一つの面の反射
率である。３１は、第１図膜構成の場合及び、第２図膜
構成の場合で、分光反射率特性を、３１と同じＫするた
めに、光学的膜厚を調整した場合の分光反射率特性を示
す。３２は、第２図膜構成Φ止に七のまま金属の酸化物
を設けた場合の分光反射率特性を示す。 以 上 出願人 松島工業株式会社 株式会社腫訪精工舎
Claims (1)
- 合成樹脂製レンズ表面に設けた反射防止膜の最上層に、
金属の酸化物を用い九ことを特徴とする合成樹脂製レン
ズの反射防止膜。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP57082823A JPS58199301A (ja) | 1982-05-17 | 1982-05-17 | 合成樹脂製レンズの反射防止膜 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP57082823A JPS58199301A (ja) | 1982-05-17 | 1982-05-17 | 合成樹脂製レンズの反射防止膜 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS58199301A true JPS58199301A (ja) | 1983-11-19 |
Family
ID=13785117
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP57082823A Pending JPS58199301A (ja) | 1982-05-17 | 1982-05-17 | 合成樹脂製レンズの反射防止膜 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS58199301A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS63293501A (ja) * | 1987-05-26 | 1988-11-30 | Toshiba Glass Co Ltd | プラスチックレンズの反射防止膜 |
| EP0854202A2 (en) * | 1996-12-17 | 1998-07-22 | Asahi Glass Company Ltd. | Organic substrate provided with a light absorptive antireflection film and process for its production |
-
1982
- 1982-05-17 JP JP57082823A patent/JPS58199301A/ja active Pending
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS63293501A (ja) * | 1987-05-26 | 1988-11-30 | Toshiba Glass Co Ltd | プラスチックレンズの反射防止膜 |
| EP0854202A2 (en) * | 1996-12-17 | 1998-07-22 | Asahi Glass Company Ltd. | Organic substrate provided with a light absorptive antireflection film and process for its production |
| EP0854202A3 (en) * | 1996-12-17 | 1999-12-01 | Asahi Glass Company Ltd. | Organic substrate provided with a light absorptive antireflection film and process for its production |
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