JPS58186425A - 気液接触装置 - Google Patents
気液接触装置Info
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- JPS58186425A JPS58186425A JP57062917A JP6291782A JPS58186425A JP S58186425 A JPS58186425 A JP S58186425A JP 57062917 A JP57062917 A JP 57062917A JP 6291782 A JP6291782 A JP 6291782A JP S58186425 A JPS58186425 A JP S58186425A
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- C12—BIOCHEMISTRY; BEER; SPIRITS; WINE; VINEGAR; MICROBIOLOGY; ENZYMOLOGY; MUTATION OR GENETIC ENGINEERING
- C12M—APPARATUS FOR ENZYMOLOGY OR MICROBIOLOGY; APPARATUS FOR CULTURING MICROORGANISMS FOR PRODUCING BIOMASS, FOR GROWING CELLS OR FOR OBTAINING FERMENTATION OR METABOLIC PRODUCTS, i.e. BIOREACTORS OR FERMENTERS
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は、気液接触装置に関し、更に詳しくは、液体中
で気体を微細化し、液体との接触面積を増加して気体と
液体との接触効率を高めるための気液接触装置に関する
ものである。
で気体を微細化し、液体との接触面積を増加して気体と
液体との接触効率を高めるための気液接触装置に関する
ものである。
従来から、液体中で気体を微細化することlこより、気
体と液体との接触を容易ならしめるために種々の提案が
なされている。例えば、 ■素焼板や焼結金属などの微細孔を通して、液体中に気
体を噴出させるもの。
体と液体との接触を容易ならしめるために種々の提案が
なされている。例えば、 ■素焼板や焼結金属などの微細孔を通して、液体中に気
体を噴出させるもの。
■エジェクターに加圧液を送入し、エジェクター作用に
より生じる負圧部分に気体を導入して、微細化するもの
。
より生じる負圧部分に気体を導入して、微細化するもの
。
■プロペラの如き攪拌機を高速回転して、気体の気泡を
微細化するもの。
微細化するもの。
■プロペラ攪拌機の回転軸、翼などを中空となし、これ
に穿った孔より中空部を通して気体を液中に噴出するも
の。
に穿った孔より中空部を通して気体を液中に噴出するも
の。
■側壁に孔を穿った円管を液中で高速回転し、円管の内
部より気体を夜中に噴出するもの。
部より気体を夜中に噴出するもの。
等がある。然るに、これ等の方法では次のような欠点が
ある。
ある。
■の方法では、微細孔を気体が通過する際の圧力損失が
大きくなること。
大きくなること。
■の方法では、加圧液を送る為lこ大型のポンプが必要
となり、又、導入可能な気体量が液体量に比較して少な
い為、動力消費が大きくなること。
となり、又、導入可能な気体量が液体量に比較して少な
い為、動力消費が大きくなること。
■及び■の方法では、気体気泡の微細化の効率が悪く、
消費動力の大部分が液の攪拌に消費され、かつ又、気泡
の平均径も比較的大きくなること。
消費動力の大部分が液の攪拌に消費され、かつ又、気泡
の平均径も比較的大きくなること。
■の方法は、動力消費は比較的小さいが、微細気泡の発
生量が少なく、又、回転体内部へ気体を導入するための
機構が複雑となる欠点がある。
生量が少なく、又、回転体内部へ気体を導入するための
機構が複雑となる欠点がある。
これらの事から、さらに他の■の方法として、特公昭5
5−50697号公報には消費動力をできるだけ少なく
し、かつ微細気泡を多量に効率よく発生させる方法とし
て、回転羽根を設けた回転体を高速回転させ、回転体と
平行に近接して設置された散気管から吐出された気泡を
剪断力でIHa化する方法が提案されている。しかしな
がら、この方法は、消費動力は比較的小さくなり、微細
気泡の発生量も■の方法に較べれば勝れているが、回転
羽根の液攪拌による消費動力を無視することが出来ず、
又、回転羽根を水平に設置した場合は液中に回転羽根を
保持するための軸受シール部を設けざるを得ず、これは
、たとえば、気液接触装置を醗酵槽として利用する場合
等には、雑菌汚染の原因となる可能性があり好ましくな
い。更に、この方法では、吐出された気体の全てが微細
化されることはなく、一部は、吐出された状態のまま剪
断力を受けず上昇する欠点があり、これは、回転羽根の
周囲に気体がまつわりついた場合に見られる現象であり
、特に気体の吹込量が、増加した場合著しい。
5−50697号公報には消費動力をできるだけ少なく
し、かつ微細気泡を多量に効率よく発生させる方法とし
て、回転羽根を設けた回転体を高速回転させ、回転体と
平行に近接して設置された散気管から吐出された気泡を
剪断力でIHa化する方法が提案されている。しかしな
がら、この方法は、消費動力は比較的小さくなり、微細
気泡の発生量も■の方法に較べれば勝れているが、回転
羽根の液攪拌による消費動力を無視することが出来ず、
又、回転羽根を水平に設置した場合は液中に回転羽根を
保持するための軸受シール部を設けざるを得ず、これは
、たとえば、気液接触装置を醗酵槽として利用する場合
等には、雑菌汚染の原因となる可能性があり好ましくな
い。更に、この方法では、吐出された気体の全てが微細
化されることはなく、一部は、吐出された状態のまま剪
断力を受けず上昇する欠点があり、これは、回転羽根の
周囲に気体がまつわりついた場合に見られる現象であり
、特に気体の吹込量が、増加した場合著しい。
本発明は、前記した従来技術における欠点を除き、回転
板攪拌の消費動力が小さく、しかも散気管から吐出した
気体を効率よく微細化して良好なを新規に提供するもの
である。
板攪拌の消費動力が小さく、しかも散気管から吐出した
気体を効率よく微細化して良好なを新規に提供するもの
である。
なお、液中に軸受シール部を有してもかまわない場合は
装置下部に回転駆動部を設置してもよい。
装置下部に回転駆動部を設置してもよい。
本発明者らは、気体を液中で微細化させる装置について
鋭意検討の結果、本発明を完成するに至った。
鋭意検討の結果、本発明を完成するに至った。
即ち、本発明は、液体を充填した容器内の下部に気体を
放出する散気管を備えた気液接触装置において、周縁部
近傍においてのみ気液の上下方向の通過を許す多数の貫
通口を設けた回転板を上記散気管の上方に近接してその
支軸を上下方向に縦走させて設けると共に、該回転板の
端縁と上記容器の内周壁との間に空隙を設け、かつ上記
回転板を回転駆動する手段を設けたことを特徴とした気
液接触装置に関するものである。
放出する散気管を備えた気液接触装置において、周縁部
近傍においてのみ気液の上下方向の通過を許す多数の貫
通口を設けた回転板を上記散気管の上方に近接してその
支軸を上下方向に縦走させて設けると共に、該回転板の
端縁と上記容器の内周壁との間に空隙を設け、かつ上記
回転板を回転駆動する手段を設けたことを特徴とした気
液接触装置に関するものである。
さらに、本発明の装置は、上記特徴に加えて上記回転板
の上方に液体の旋回を邪魔する整流手段を設けるように
してもよい。本発明の装置に於いて、用いる容器はその
形状が竪型の円筒又は角筒等の液体を充填する構造を持
つものである。また、本発明に於いて、気液接触装置内
に設けられる散気手段は、通常、気体送入管と、その先
端部に取り付けられる散気管からなる。気体送入管は、
容器上部から挿入されてもよく、又側部ないしは、底部
から挿入されてもよい。散気管は、一般には、液面下、
容器底部に配置されるが、容器中間に配置してもよい。
の上方に液体の旋回を邪魔する整流手段を設けるように
してもよい。本発明の装置に於いて、用いる容器はその
形状が竪型の円筒又は角筒等の液体を充填する構造を持
つものである。また、本発明に於いて、気液接触装置内
に設けられる散気手段は、通常、気体送入管と、その先
端部に取り付けられる散気管からなる。気体送入管は、
容器上部から挿入されてもよく、又側部ないしは、底部
から挿入されてもよい。散気管は、一般には、液面下、
容器底部に配置されるが、容器中間に配置してもよい。
しかし、いずれの場合も回転板の下部に配置する。散気
管の形状は、管状、リング状、等いずれでもよいが、気
体は均一に、好まし周縁部において、板下部に吐出され
た気体が押し −れる気液混相流を通過せしめる事の出
来る、貫通および/ヌは欠損部分としての貫通口、例え
ば、貫通孔、スリット、クシ型溝、等を有している。
管の形状は、管状、リング状、等いずれでもよいが、気
体は均一に、好まし周縁部において、板下部に吐出され
た気体が押し −れる気液混相流を通過せしめる事の出
来る、貫通および/ヌは欠損部分としての貫通口、例え
ば、貫通孔、スリット、クシ型溝、等を有している。
この貫通口は、回転板の外周部から中心部に向けて、散
気管から放出される全ての気体を通過させるに十分な開
口面積を有し、かつその端縁で気体を微細に剪断するよ
うに大略均等に配置されることが好ましく、更に回転板
外縁部により接近して配置されることが望ましい。又、
貫通口の形状は、円形、三角形、正方形、長方形等どの
様なものでもその端縁で剪断効果を保つものであればよ
い。
気管から放出される全ての気体を通過させるに十分な開
口面積を有し、かつその端縁で気体を微細に剪断するよ
うに大略均等に配置されることが好ましく、更に回転板
外縁部により接近して配置されることが望ましい。又、
貫通口の形状は、円形、三角形、正方形、長方形等どの
様なものでもその端縁で剪断効果を保つものであればよ
い。
さらに、貫通口の数、及び大きさは吐出される気体の量
、液体あるいは溶液の物性(密度、粘度等)等の要因を
考慮のうえ決定されるが、一般的には、貫通口の面積が
少なすぎると、吐出される気体の一部は、回転板外周部
より短絡し、十分な微粒化が不可能となる一方、貫通口
の面積が多すぎると、気液の剪断以外に貫通口で液体の
攪拌作用が発生し、その結果回転板の攪拌動力が大きく
なり好ましくない。
、液体あるいは溶液の物性(密度、粘度等)等の要因を
考慮のうえ決定されるが、一般的には、貫通口の面積が
少なすぎると、吐出される気体の一部は、回転板外周部
より短絡し、十分な微粒化が不可能となる一方、貫通口
の面積が多すぎると、気液の剪断以外に貫通口で液体の
攪拌作用が発生し、その結果回転板の攪拌動力が大きく
なり好ましくない。
又、回転板の表面は、より平滑である事が好ましく、液
を攪拌するような、突起物や、付属物のない平面性の良
好なものが好適であり、更に、回転板全体として湾曲し
たり、波打ったすせずに回転バランスがとれている事が
望ましい。
を攪拌するような、突起物や、付属物のない平面性の良
好なものが好適であり、更に、回転板全体として湾曲し
たり、波打ったすせずに回転バランスがとれている事が
望ましい。
尚、本発明における散気装置及び回転板は、1槽の気液
接触装置に、各1個のみならず、複数個を設置してもよ
く、又、縦方向、横方向に設置してもよい。
接触装置に、各1個のみならず、複数個を設置してもよ
く、又、縦方向、横方向に設置してもよい。
以下、本発明を図面に示す実施例について、更に詳細に
説明する。
説明する。
第1図に示す気液接触装置は、液体を充填した竪型円筒
状の容器■内の底面近傍の下部中央に、の散気管■を大
略水平に備え、かつ該散気管■の上方に近接して、周縁
部においてのみ上下方向の気液の通過を許す多数の貫通
口■を周縁に設けた円板状の回転板■を上記散気管■と
大略同芯軸に水平に配置してその支軸■を下方向に縦走
させて設けると共に、該回転板■の端縁と上記容器■の
内周壁との間に一定の空隙をあけて、その間に液体をと
下方向に自在に還流させる空隙■を設け、さらに上記回
転板■の支軸■を容器■の底面■の軸受ωに支承させて
、その支軸■を回転駆動する手段として電動機(図示せ
ず)を設ける一方、上記回転板■の上方で容器■の内周
壁に沿い上下方向に縦走して容器■の直径方向に突出し
た容器■内液体の旋回を阻IJ:する整流手段としての
複数の邪魔板■を設けたものである。上記の如き構成よ
りなる気液接触装置において、容器■内に液体を充填し
、かつ回転板■を高速に回転して、散気管■から気体を
液中に放出させると、回転板■の貫通口■を上昇する流
れと上記空隙■を下降する流れが生じて、散気管から回
転板の中央下方へ放出される全ての気体と上記空隙から
回転板の外周下方へ流入する一部の液体が一体的に回転
板の貫通口を下方から上方へ通過するようになるために
その際貫通口の端縁で気液が剪断されて微細化しその微
細気泡が液体中に混合され、かつ該微細気泡と共に回転
板の上方へ流れる気液混合体が上記整流手段の案内で旋
回されずに整流として順次容器内を上昇する。
状の容器■内の底面近傍の下部中央に、の散気管■を大
略水平に備え、かつ該散気管■の上方に近接して、周縁
部においてのみ上下方向の気液の通過を許す多数の貫通
口■を周縁に設けた円板状の回転板■を上記散気管■と
大略同芯軸に水平に配置してその支軸■を下方向に縦走
させて設けると共に、該回転板■の端縁と上記容器■の
内周壁との間に一定の空隙をあけて、その間に液体をと
下方向に自在に還流させる空隙■を設け、さらに上記回
転板■の支軸■を容器■の底面■の軸受ωに支承させて
、その支軸■を回転駆動する手段として電動機(図示せ
ず)を設ける一方、上記回転板■の上方で容器■の内周
壁に沿い上下方向に縦走して容器■の直径方向に突出し
た容器■内液体の旋回を阻IJ:する整流手段としての
複数の邪魔板■を設けたものである。上記の如き構成よ
りなる気液接触装置において、容器■内に液体を充填し
、かつ回転板■を高速に回転して、散気管■から気体を
液中に放出させると、回転板■の貫通口■を上昇する流
れと上記空隙■を下降する流れが生じて、散気管から回
転板の中央下方へ放出される全ての気体と上記空隙から
回転板の外周下方へ流入する一部の液体が一体的に回転
板の貫通口を下方から上方へ通過するようになるために
その際貫通口の端縁で気液が剪断されて微細化しその微
細気泡が液体中に混合され、かつ該微細気泡と共に回転
板の上方へ流れる気液混合体が上記整流手段の案内で旋
回されずに整流として順次容器内を上昇する。
上記したデ液接触装置の容器■は、−実験例として、内
径が145m(空塔断面積が165d)で、高さが10
00ffの円筒を用い、該円筒の大略全体に液を充填す
る。容器■内の底面近くに管径5mで50II1mlの
環状に形成した散気管を大略底面と平行に設けて、散気
管の上面に穿けた散気孔から、−実験例として、通気量
I VV−空気を容器の液体中に放出して、空塔ガス速
度1.05cIII/冠、平均ガス滞留時間的6sec
を得る。散気管の26闘上方に回転板として、例えば、
直径100B、厚さ3nの円板を容器の中央で容器内周
壁との間に22.5 rimの空隙(総クリアランス面
積86.5 d)をおいて、容器底面と大略平行に設け
る。回転板の周縁に設ける貫通口は、第3図のスリット
溝型、第4図のスリット大型、第5図のスリット溝とス
リット大型、第6図の大型、第7図のスリット溝と穴型
、第8図の横スリツト大型等がある。
径が145m(空塔断面積が165d)で、高さが10
00ffの円筒を用い、該円筒の大略全体に液を充填す
る。容器■内の底面近くに管径5mで50II1mlの
環状に形成した散気管を大略底面と平行に設けて、散気
管の上面に穿けた散気孔から、−実験例として、通気量
I VV−空気を容器の液体中に放出して、空塔ガス速
度1.05cIII/冠、平均ガス滞留時間的6sec
を得る。散気管の26闘上方に回転板として、例えば、
直径100B、厚さ3nの円板を容器の中央で容器内周
壁との間に22.5 rimの空隙(総クリアランス面
積86.5 d)をおいて、容器底面と大略平行に設け
る。回転板の周縁に設ける貫通口は、第3図のスリット
溝型、第4図のスリット大型、第5図のスリット溝とス
リット大型、第6図の大型、第7図のスリット溝と穴型
、第8図の横スリツト大型等がある。
第3図のスリット溝型は回転板の外径RQをlo。
〜140Hとしてスリット溝の長さを10〜14朋、巾
を2〜3fl、ピッチを4〜7 tn (円板面積78
.5〜154C4としてスリット面積14.4〜14.
8d)として、回転板の周速度を内側5,65式Wとな
る。第4図のスリット穴は回転板の外径R□を100〜
14Offとしてスリット溝の長さ10〜14NM、巾
2〜3肩l、ピ゛ンチ4〜7Hとし、第5図のスリット
溝とスリット穴は回転板の外径Roを100〜140順
として、スリット溝の長さ14絹、巾2〜3啼、ピッチ
6〜8nとし、かつスリット穴の長さ12m’l、巾1
2Wn11ピッチ6〜811′lIとする。第6図の穴
は回転板の外径Roを100〜140Jffとして直径
2.0〜3.0m、穴ピッチ3.5〜4.5、ピッチ角
度04〜5とし、第7図のスリット溝と穴は、回転板の
外径R□を100〜140mgとして、スリット溝の長
さ10〜14酊、巾2〜3WM、ピッチ6〜8InIと
し、穴の径29XXとする。第8図の横スリツト穴は、
回転板の外径R□を100〜140絹としてスリットの
長さ10〜141n11巾2〜3ItMとし周方向ピッ
チ13〜19鰭、径方向ピッチ3,5〜6.ONとする
。容器■のの 内周壁に設ける邪魔板■は回転板の上方34111所△ に長さ7QQmt、巾27.5xxt、厚み3Hの平板
を4枚夫々容器の軸線と大略平行にして取付ける。
を2〜3fl、ピッチを4〜7 tn (円板面積78
.5〜154C4としてスリット面積14.4〜14.
8d)として、回転板の周速度を内側5,65式Wとな
る。第4図のスリット穴は回転板の外径R□を100〜
14Offとしてスリット溝の長さ10〜14NM、巾
2〜3肩l、ピ゛ンチ4〜7Hとし、第5図のスリット
溝とスリット穴は回転板の外径Roを100〜140順
として、スリット溝の長さ14絹、巾2〜3啼、ピッチ
6〜8nとし、かつスリット穴の長さ12m’l、巾1
2Wn11ピッチ6〜811′lIとする。第6図の穴
は回転板の外径Roを100〜140Jffとして直径
2.0〜3.0m、穴ピッチ3.5〜4.5、ピッチ角
度04〜5とし、第7図のスリット溝と穴は、回転板の
外径R□を100〜140mgとして、スリット溝の長
さ10〜14酊、巾2〜3WM、ピッチ6〜8InIと
し、穴の径29XXとする。第8図の横スリツト穴は、
回転板の外径R□を100〜140絹としてスリットの
長さ10〜141n11巾2〜3ItMとし周方向ピッ
チ13〜19鰭、径方向ピッチ3,5〜6.ONとする
。容器■のの 内周壁に設ける邪魔板■は回転板の上方34111所△ に長さ7QQmt、巾27.5xxt、厚み3Hの平板
を4枚夫々容器の軸線と大略平行にして取付ける。
なお、上記の回転板はその中央に設けた回転用支軸を容
器の軸線上に配置して、その先端を散気管の中心を通し
て容器の底面に設けた軸受に密封しかつ回転自在に支承
させ、支軸の突出端を電動機に連結する。回転板の支軸
は第10図に示す如く容器の上方へ取り出してその突出
端に電動機を設ければ支軸の軸受を密封する必要はなく
なる。また第11図に示す如く容器の底部を狭乍形状に
形成してもよい。さらに第12図に示す如く散気管を一
対の棒状管で形成してもよい。また、邪魔板は、容器の
内周面より中央に向けて取り付けた少なくとも1枚以上
の平板状のものまたはWRコイル管状のものでもよく、
いづれにしても容器の下部から上部へ上昇する気液の旋
回を邪魔して一種の上下方向への整流作用を行はせしめ
るものであればよい。
器の軸線上に配置して、その先端を散気管の中心を通し
て容器の底面に設けた軸受に密封しかつ回転自在に支承
させ、支軸の突出端を電動機に連結する。回転板の支軸
は第10図に示す如く容器の上方へ取り出してその突出
端に電動機を設ければ支軸の軸受を密封する必要はなく
なる。また第11図に示す如く容器の底部を狭乍形状に
形成してもよい。さらに第12図に示す如く散気管を一
対の棒状管で形成してもよい。また、邪魔板は、容器の
内周面より中央に向けて取り付けた少なくとも1枚以上
の平板状のものまたはWRコイル管状のものでもよく、
いづれにしても容器の下部から上部へ上昇する気液の旋
回を邪魔して一種の上下方向への整流作用を行はせしめ
るものであればよい。
いづれlこしても、本発明は容器内に気体吐出用散気管
を備えた気液接触装置に於いて、該散気装置の上部に、
気液が上下方向lr−通過し得る貫通口を有する水平回
転板を設置したことを特徴とするもので、容器に液体を
充填し、通気された気体が、散気管lこより液中に吐出
されて、気液混相流となり上昇し、回転板の貫通口を通
り上昇する際に、この回転板は回転しているため、気泡
は貫通口の端縁で切断され微細化されて容器内へ分散さ
れていくことになる。
を備えた気液接触装置に於いて、該散気装置の上部に、
気液が上下方向lr−通過し得る貫通口を有する水平回
転板を設置したことを特徴とするもので、容器に液体を
充填し、通気された気体が、散気管lこより液中に吐出
されて、気液混相流となり上昇し、回転板の貫通口を通
り上昇する際に、この回転板は回転しているため、気泡
は貫通口の端縁で切断され微細化されて容器内へ分散さ
れていくことになる。
実験例
第1図に示した形式の気液接触装置を用いて、5W/V
%の亜硫酸ソーダ溶液を空気酸化した場合の実験結果を
第1表及び第9図に示す。
%の亜硫酸ソーダ溶液を空気酸化した場合の実験結果を
第1表及び第9図に示す。
1)実験装置の仕様は以下の通りである。
気液接触容器:145jffφX1000at)(?9
C管: 内径5111φステンレスパイプを直径50m
に環状とし、1.。
C管: 内径5111φステンレスパイプを直径50m
に環状とし、1.。
顛φを5ヶ穿ったもの。
回転板 :A)第3図の板:直径100翳φスリッ
ト:巾2B×深さ 10M1172ケ B)第3図の板;直径140 絹φスリット;巾2.5 yns X深さ8M 74ケ C)第6図の板;直径140闘 φ2.4uφ孔360ケ配置 11)実験条件は、以下の如し、 ・亜硫酸ソーダー濃度 :5W/V%、触g Cu
5O4−5I−120添加t : 0.001 mol
・槽内仕込量 :104 ・空気吹込量 ’ 1011/m (IVV
M)・回転多孔板回転数 : 80ト1600 r
Pm・反応温度 :30’C ・分析方法 :ヨードメトリー111)
酸素移動速度(OTR)は次式に従って算出した。
ト:巾2B×深さ 10M1172ケ B)第3図の板;直径140 絹φスリット;巾2.5 yns X深さ8M 74ケ C)第6図の板;直径140闘 φ2.4uφ孔360ケ配置 11)実験条件は、以下の如し、 ・亜硫酸ソーダー濃度 :5W/V%、触g Cu
5O4−5I−120添加t : 0.001 mol
・槽内仕込量 :104 ・空気吹込量 ’ 1011/m (IVV
M)・回転多孔板回転数 : 80ト1600 r
Pm・反応温度 :30’C ・分析方法 :ヨードメトリー111)
酸素移動速度(OTR)は次式に従って算出した。
2(θ2−θ、)
OTR:酸素移動速度(9−m o J /H1、m
i n )C1・C2:時間θ1.θ2に於ける N a 2 S Os 9度(11−mo 1//II
It )θ1.θ2:サンプリング時間(min)(9
m” /Ml・ml n )X6 XI 07→(f−
mo I /i ・Hr )又、攪拌所要動力は、回転
トルクメーターを用いた。攪拌所要動力の計算式は次式
に従って算出した。
i n )C1・C2:時間θ1.θ2に於ける N a 2 S Os 9度(11−mo 1//II
It )θ1.θ2:サンプリング時間(min)(9
m” /Ml・ml n )X6 XI 07→(f−
mo I /i ・Hr )又、攪拌所要動力は、回転
トルクメーターを用いた。攪拌所要動力の計算式は次式
に従って算出した。
P:攪拌所要動力(KW/771′)
k:回転数 Dpm)
【:トルク測定値(’I−m)
1o:空トルク測定値(f−m)
V:液仕込量 (扉)
IV)実験結果
第1表
傘ここではOT艮/攪拌動力を持って酸素移動効率と定
義する。
義する。
て示したものが第9図である。第9図から本発明の気液
接触装置が従来形式のものに比べて数段と少ない攪拌動
力で気体の良好な微細化が出来ることが分る。
接触装置が従来形式のものに比べて数段と少ない攪拌動
力で気体の良好な微細化が出来ることが分る。
@1図は本発明にかかる気液接触装置の一実施例を示す
断面図、第2図は第1図の上面図、第3図(a)(b)
(C)、第4図(a) 、 (b)、第5図(a) 、
(b)、第6図(aL(b)、第7図(a) 、 (
b)、第8図(a) 、 (b)は夫々第1図の装置の
回転板の種々の変形例を示す説明図、第9図は0TR−
攪拌動力線図、第10図乃至第12図は第1図の変形例
を示す断面図である。 1・・・容器、 4・・・散気管、 5・・・貫通口、
6・・・回転板、 8・・・空隙、 11・・・
邪魔板。 特 許 出 願 人 武田薬品工業株式会社代 理 人
弁理士 青 山 葆ほか2名第1図 第31!1Il(a) ^ 第4図(a) 556図(0) 第8図(a) 第9図 □虎悴動グ (に”/ms) 第12図
断面図、第2図は第1図の上面図、第3図(a)(b)
(C)、第4図(a) 、 (b)、第5図(a) 、
(b)、第6図(aL(b)、第7図(a) 、 (
b)、第8図(a) 、 (b)は夫々第1図の装置の
回転板の種々の変形例を示す説明図、第9図は0TR−
攪拌動力線図、第10図乃至第12図は第1図の変形例
を示す断面図である。 1・・・容器、 4・・・散気管、 5・・・貫通口、
6・・・回転板、 8・・・空隙、 11・・・
邪魔板。 特 許 出 願 人 武田薬品工業株式会社代 理 人
弁理士 青 山 葆ほか2名第1図 第31!1Il(a) ^ 第4図(a) 556図(0) 第8図(a) 第9図 □虎悴動グ (に”/ms) 第12図
Claims (1)
- (1)液体を充填した容器内の下部に気体を放出す通口
を設けた回転板を上記散気管の上方に近接してその支軸
を上下方向に縦走させて設けると共に、該回転板の端縁
と上記容器の内周壁との間に空隙を設け、かつ上記回転
板を回転駆動する手段を設けたことを特徴とする気液接
触装置。 (2、特許請求の範囲第1項lこ記載した装置において
、さらに上記回転板の上方に液体の旋回を邪魔する整流
手段を設けたことを特徴とするもの。
Priority Applications (5)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP57062917A JPS58186425A (ja) | 1982-04-14 | 1982-04-14 | 気液接触装置 |
US06/484,552 US4519959A (en) | 1982-04-14 | 1983-04-13 | Gas-liquid contacting apparatus |
DE3313382A DE3313382A1 (de) | 1982-04-14 | 1983-04-13 | Gas-fluessigkeit-kontaktiervorrichtung |
CH2007/83A CH662750A5 (de) | 1982-04-14 | 1983-04-14 | Gas-fluessigkeits-kontaktiervorrichtung. |
GB08310104A GB2121701B (en) | 1982-04-14 | 1983-04-14 | Gas-liquid contacting apparatus |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP57062917A JPS58186425A (ja) | 1982-04-14 | 1982-04-14 | 気液接触装置 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS58186425A true JPS58186425A (ja) | 1983-10-31 |
JPH0420652B2 JPH0420652B2 (ja) | 1992-04-06 |
Family
ID=13214078
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP57062917A Granted JPS58186425A (ja) | 1982-04-14 | 1982-04-14 | 気液接触装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS58186425A (ja) |
Cited By (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2006188726A (ja) * | 2005-01-04 | 2006-07-20 | Fujikura Ltd | 金属粉の製造装置及び金属粉の製造方法 |
WO2014091903A1 (ja) * | 2012-12-11 | 2014-06-19 | 住友金属鉱山株式会社 | 硫化水素を含む貧液の処理方法及び処理装置 |
WO2014091904A1 (ja) * | 2012-12-11 | 2014-06-19 | 住友金属鉱山株式会社 | 重金属除去方法及び重金属除去装置 |
JP2014113564A (ja) * | 2012-12-11 | 2014-06-26 | Sumitomo Metal Mining Co Ltd | 撹拌反応装置 |
JP2017113687A (ja) * | 2015-12-22 | 2017-06-29 | アイシン精機株式会社 | 気液混合装置 |
Citations (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS4829677A (ja) * | 1971-08-21 | 1973-04-19 | ||
JPS5520736A (en) * | 1978-08-01 | 1980-02-14 | Shiseido Co Ltd | Cosmetic |
-
1982
- 1982-04-14 JP JP57062917A patent/JPS58186425A/ja active Granted
Patent Citations (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS4829677A (ja) * | 1971-08-21 | 1973-04-19 | ||
JPS5520736A (en) * | 1978-08-01 | 1980-02-14 | Shiseido Co Ltd | Cosmetic |
Cited By (9)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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JP2006188726A (ja) * | 2005-01-04 | 2006-07-20 | Fujikura Ltd | 金属粉の製造装置及び金属粉の製造方法 |
WO2014091903A1 (ja) * | 2012-12-11 | 2014-06-19 | 住友金属鉱山株式会社 | 硫化水素を含む貧液の処理方法及び処理装置 |
WO2014091904A1 (ja) * | 2012-12-11 | 2014-06-19 | 住友金属鉱山株式会社 | 重金属除去方法及び重金属除去装置 |
JP2014113566A (ja) * | 2012-12-11 | 2014-06-26 | Sumitomo Metal Mining Co Ltd | 重金属除去方法及び重金属除去装置 |
JP2014113564A (ja) * | 2012-12-11 | 2014-06-26 | Sumitomo Metal Mining Co Ltd | 撹拌反応装置 |
JP2014113565A (ja) * | 2012-12-11 | 2014-06-26 | Sumitomo Metal Mining Co Ltd | 硫化水素を含む貧液の処理方法及び処理装置 |
CN104955774A (zh) * | 2012-12-11 | 2015-09-30 | 住友金属矿山株式会社 | 含有硫化氢的贫液的处理方法以及处理装置 |
US9731980B2 (en) | 2012-12-11 | 2017-08-15 | Sumitomo Metal Mining Co., Ltd. | Processing device and processing method for hydrogen-sulphide-containing barren solution |
JP2017113687A (ja) * | 2015-12-22 | 2017-06-29 | アイシン精機株式会社 | 気液混合装置 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPH0420652B2 (ja) | 1992-04-06 |
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