JPS58180033A - 半導体装置 - Google Patents
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- JPS58180033A JPS58180033A JP57062437A JP6243782A JPS58180033A JP S58180033 A JPS58180033 A JP S58180033A JP 57062437 A JP57062437 A JP 57062437A JP 6243782 A JP6243782 A JP 6243782A JP S58180033 A JPS58180033 A JP S58180033A
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- H01L2224/85947—Reshaping, e.g. for severing the wire, modifying the wedge or ball or the loop shape by mechanical means, e.g. "pull-and-cut", pressing, stamping
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- H01L2924/15153—Shape the die mounting substrate comprising a recess for hosting the device
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- H01L2924/151—Die mounting substrate
- H01L2924/1517—Multilayer substrate
- H01L2924/15192—Resurf arrangement of the internal vias
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- H01L2924/18165—Exposing the passive side of the semiconductor or solid-state body of a wire bonded chip
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明はパッケージの薄層化【促進し定半導体装置およ
び七の製造装置に@するものである。
び七の製造装置に@するものである。
牛導体素子ベレン)Q主体とする半導体集積回路装置(
10)等の半導体装置は、電卓や時酊その他の製品に幅
広く使用されてbるか、薄型電卓や薄型時針のように薄
型指向の強い製品でに薄型化の11求が史に強込ものと
なり、椀状のl−根度の厚さの半導体IjMitでにこ
れらの請求に応じることは困難である。
10)等の半導体装置は、電卓や時酊その他の製品に幅
広く使用されてbるか、薄型電卓や薄型時針のように薄
型指向の強い製品でに薄型化の11求が史に強込ものと
なり、椀状のl−根度の厚さの半導体IjMitでにこ
れらの請求に応じることは困難である。
飼えは、従来の半導体iiw:、中でも電卓や時針の基
板としてのPOB(プリント回vt!基倣)に直音半導
体素子ベレットl実装してパッケージkAの所定−所に
くぼみS(凹部)lai形成し、このくぼみtell
l a内にベレット2を固層している。
板としてのPOB(プリント回vt!基倣)に直音半導
体素子ベレットl実装してパッケージkAの所定−所に
くぼみS(凹部)lai形成し、このくぼみtell
l a内にベレット2を固層している。
そして、くぼみ悌1aの崗辺にまで蝙在したリード3と
ベレット2の電極バッドと會ワイヤ4にて接続し、しか
る後K、ベレット2等會ボッティングしたレジン5にて
パッケージしてbるものである。この構成によnFi、
独立してパッケージを行なった半導体装1を會POEに
実装するよりも全体に##に形成することができるが、
くぼみ部1aにおけるPOBの厚さ、ベレット2の岸さ
およびワイヤ4のループに伴なうPOBI表111g1
l+のレジン5の鳩さくJlさ)の各寸法の和がこのパ
ッケージの全体厚さになるために、その薄型化には自か
ら限界がある。籍に、ワイヤ4のループ形状はワイヤボ
ンダの機構上の理由からその高さを低くすることは困難
なため、ワイヤルーズによるPCB&面一11の埋さの
低減に殆んど不可能である。
ベレット2の電極バッドと會ワイヤ4にて接続し、しか
る後K、ベレット2等會ボッティングしたレジン5にて
パッケージしてbるものである。この構成によnFi、
独立してパッケージを行なった半導体装1を會POEに
実装するよりも全体に##に形成することができるが、
くぼみ部1aにおけるPOBの厚さ、ベレット2の岸さ
およびワイヤ4のループに伴なうPOBI表111g1
l+のレジン5の鳩さくJlさ)の各寸法の和がこのパ
ッケージの全体厚さになるために、その薄型化には自か
ら限界がある。籍に、ワイヤ4のループ形状はワイヤボ
ンダの機構上の理由からその高さを低くすることは困難
なため、ワイヤルーズによるPCB&面一11の埋さの
低減に殆んど不可能である。
同僚なことは、セラミック封止型又はプラスチック期止
型kf用する通常のパッケージtVする半導体装置でも
生じており%例えば、第2図に示す工うにリードフレー
ム6のタブ7にベレット8’rliiilI着する一方
、ベレット8とリードフレーム6と?ワイヤ9にて従続
し、七の上でベレしト8等會レジンIOKてモールドし
ているプラスチック刺止型の半導体装置では、ワイヤ9
のループ高さの低減が困難でToシ、このため全体の厚
さの低減の障害になっている。このような場合(前例の
場合も同じであるが)レジンの辱さ【低減させるとワイ
ヤが露出し或いはワイヤか透けて見える等、信頼性や外
観上の点で好ましくない。また、ワイヤループ高さt低
くする几めにワイヤループ會下方へ押し潰したシすると
ワイヤ相互の接触【失して短嬶◆故【生じる原因となる
。
型kf用する通常のパッケージtVする半導体装置でも
生じており%例えば、第2図に示す工うにリードフレー
ム6のタブ7にベレット8’rliiilI着する一方
、ベレット8とリードフレーム6と?ワイヤ9にて従続
し、七の上でベレしト8等會レジンIOKてモールドし
ているプラスチック刺止型の半導体装置では、ワイヤ9
のループ高さの低減が困難でToシ、このため全体の厚
さの低減の障害になっている。このような場合(前例の
場合も同じであるが)レジンの辱さ【低減させるとワイ
ヤが露出し或いはワイヤか透けて見える等、信頼性や外
観上の点で好ましくない。また、ワイヤループ高さt低
くする几めにワイヤループ會下方へ押し潰したシすると
ワイヤ相互の接触【失して短嬶◆故【生じる原因となる
。
更に前記し几各例の−ずれもPOBやタブにベレット全
固層してbる友め、ベレット−着工数か必!となって作
業工数か比較的に多くなる一方、POBやタブとベレッ
トとの熱膨張率の差によってベレットクラックが発生し
易いという問題もある。
固層してbる友め、ベレット−着工数か必!となって作
業工数か比較的に多くなる一方、POBやタブとベレッ
トとの熱膨張率の差によってベレットクラックが発生し
易いという問題もある。
したかつて、本発明の目的は、半導体装置庫さ1r#<
せしめた構造およびその製造方法【提供することにある
。
せしめた構造およびその製造方法【提供することにある
。
さらに、本発明の目的は、半導体t11から引き比され
るリード縁、すなわちビンの数を多く配設せしめること
に適し几刺止構造体およびその製造方法を提供すること
にある。
るリード縁、すなわちビンの数を多く配設せしめること
に適し几刺止構造体およびその製造方法を提供すること
にある。
本発明に従えば、リード一部材とベレットとi電気的接
続させるためのボンディングワイヤにて懸吊支持させた
状態で、パッケージ會行なうように構成する。これによ
って、ワイヤルーズの高さの低敷會可能として装置の薄
型化1を連成することかできる。また%製造工数の低減
t−図ることかできる。さらに、ベレットとリード部材
との接続は。
続させるためのボンディングワイヤにて懸吊支持させた
状態で、パッケージ會行なうように構成する。これによ
って、ワイヤルーズの高さの低敷會可能として装置の薄
型化1を連成することかできる。また%製造工数の低減
t−図ることかできる。さらに、ベレットとリード部材
との接続は。
ワイヤボンティングによるため、多ピン化會実境するこ
とができる。
とができる。
以下1本発明の半導体装置およびその製法につ込て実施
例會径照にして説明する。
例會径照にして説明する。
第3図に本発明の代表的な実施例でFム特にリードl1
tllttlS材としてPCB(プリント回11I8基
−上に午導体素子ベレット2組込んだ半導体装[1示し
ている。即ち、PC!B11fl、カラスエポキシ、ポ
リイミド、トリアジン等の材料からgp1薄く慣by、
ちれている。七の表面には鋼箔tエツチングして作成し
たプリント回路121fr形成し、種々の電子部品yk
実装し得るようにしている。このPOBllの裏面には
、全体の電子回路の^わの他の配線路か鏑箔によって形
成されている。また、このPOBllの一部には、電子
回路が集積回路として形成された半導体ベレン)131
実装し祷るようにこのベレット13の形状に応じてそれ
よりも大きな正方形又は長方形の四角形の打抜部14k
V&し、この打抜部14の周辺には、前記プリントl路
12の一部か接続用のリード15群として配列されてい
る。そして、第415!lIに、七の断面図を示す工う
に、前記ベレット13げこO打抜部14内罠配設した上
で、その電極パッドと前記り−ド15との間1iA7
。
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−上に午導体素子ベレット2組込んだ半導体装[1示し
ている。即ち、PC!B11fl、カラスエポキシ、ポ
リイミド、トリアジン等の材料からgp1薄く慣by、
ちれている。七の表面には鋼箔tエツチングして作成し
たプリント回路121fr形成し、種々の電子部品yk
実装し得るようにしている。このPOBllの裏面には
、全体の電子回路の^わの他の配線路か鏑箔によって形
成されている。また、このPOBllの一部には、電子
回路が集積回路として形成された半導体ベレン)131
実装し祷るようにこのベレット13の形状に応じてそれ
よりも大きな正方形又は長方形の四角形の打抜部14k
V&し、この打抜部14の周辺には、前記プリントl路
12の一部か接続用のリード15群として配列されてい
る。そして、第415!lIに、七の断面図を示す工う
に、前記ベレット13げこO打抜部14内罠配設した上
で、その電極パッドと前記り−ド15との間1iA7
。
ムUなどの金属の極細縁ワイヤ16にて接続し、しかる
後K、ベレット13、リード15t#お工ひワイヤ16
會覆うようにレジン(伺脂)17にでパッケージする。
後K、ベレット13、リード15t#お工ひワイヤ16
會覆うようにレジン(伺脂)17にでパッケージする。
こ八によ1りて、ワイヤ16によって接続されたベレッ
ト13と基板11とに、レジン刺止時に予め懸吊さnた
位置状皇に固層胤持される。丁なわち、本発明に従えば
、ベレット13の表面、つまり、電極パッドを肩する上
置のf1面は、POBIIの表面、丁なわち、リード1
5群のワイヤ接続部の表面よシも一段下かつ次位置にな
るように、封止レジン17によって固着保持させらnる
。
ト13と基板11とに、レジン刺止時に予め懸吊さnた
位置状皇に固層胤持される。丁なわち、本発明に従えば
、ベレット13の表面、つまり、電極パッドを肩する上
置のf1面は、POBIIの表面、丁なわち、リード1
5群のワイヤ接続部の表面よシも一段下かつ次位置にな
るように、封止レジン17によって固着保持させらnる
。
このI#j来ワイヤ16はpaBlli12面上に突出
するループ高さが最小に抑えられ、ループ紮樫うように
設け゛たレジン17のPCBC画表の高さ會格段に低減
することができる。一方、POBIIのa+lにおりて
に、レジン17はベレット13のu+ff1iK−1で
延在され、ベレット13の裏面にレジン17にて覆って
いない。したがって、POBIIS面側のパッケージ嶋
さにレジン上膜けていない分たけ低減でさ、パッケージ
の薄層化を更に促進することができる。
するループ高さが最小に抑えられ、ループ紮樫うように
設け゛たレジン17のPCBC画表の高さ會格段に低減
することができる。一方、POBIIのa+lにおりて
に、レジン17はベレット13のu+ff1iK−1で
延在され、ベレット13の裏面にレジン17にて覆って
いない。したがって、POBIIS面側のパッケージ嶋
さにレジン上膜けていない分たけ低減でさ、パッケージ
の薄層化を更に促進することができる。
ガえV工、本実2i!l1PIのパッケージでは全厚さ
tO15〜0.71でm成することが可能になる。
tO15〜0.71でm成することが可能になる。
次に、以上に述べた半導体装置の製造方法を説明する。
先ず、第5図(A)の工うに、POBllにワイヤボン
ダ18のステージ19上に置き、所定の位置決め1行な
つt上でステージ19上面に開設した真空吸引孔20t
−用いてPOBllに一ステージ19上Kfi持させる
。次に1ベレツト13にコレット(図示されてい逢い)
1澗用して前記ステージ19上にまで搬送し、同様に位
置決め1行なった後に別系統で形成した真空吸引孔21
【用いて庫持させる。しかる後に、ワイヤボンダ18の
ボンディングツール(キャピラリ)22に作動してベレ
ット13の電極パッドとPOBIIのリード15との間
にワイヤ16t−接続する。このワイヤ16の接続によ
りベレット13はPOBIIK懸吊支持され、以後真空
吸引孔20.21による固持tm除してPOB11’に
ステージ19上に持ち上げれはベレット13もPOBに
一体的に持ち上けられる。
ダ18のステージ19上に置き、所定の位置決め1行な
つt上でステージ19上面に開設した真空吸引孔20t
−用いてPOBllに一ステージ19上Kfi持させる
。次に1ベレツト13にコレット(図示されてい逢い)
1澗用して前記ステージ19上にまで搬送し、同様に位
置決め1行なった後に別系統で形成した真空吸引孔21
【用いて庫持させる。しかる後に、ワイヤボンダ18の
ボンディングツール(キャピラリ)22に作動してベレ
ット13の電極パッドとPOBIIのリード15との間
にワイヤ16t−接続する。このワイヤ16の接続によ
りベレット13はPOBIIK懸吊支持され、以後真空
吸引孔20.21による固持tm除してPOB11’に
ステージ19上に持ち上げれはベレット13もPOBに
一体的に持ち上けられる。
このようにして形成された構体11次に四重(→のよう
に中央に〈#宏み@(凹@)23?t−Nするテーブル
24上に載tlL、POBlli−[!Ig23周辺で
支持させた状塾でプランジャ25にてペレット13’r
押し下げる。これによりワイヤ16はその内端鉋がベレ
ット13と共に下方に引張さn、そtlまでのワイヤル
ープ形状が崩さnてルーズの頂点位置が下方へ移動し、
POB1115j面Illおけるループ高さが低減する
。このとき、ベレット13にそのJ1@の略半分;2p
oB11下方へ突出する極度に押し下げるようにするか
、この量はj實1ii1eしてもよ(八。26に真空吸
引孔である。
に中央に〈#宏み@(凹@)23?t−Nするテーブル
24上に載tlL、POBlli−[!Ig23周辺で
支持させた状塾でプランジャ25にてペレット13’r
押し下げる。これによりワイヤ16はその内端鉋がベレ
ット13と共に下方に引張さn、そtlまでのワイヤル
ープ形状が崩さnてルーズの頂点位置が下方へ移動し、
POB1115j面Illおけるループ高さが低減する
。このとき、ベレット13にそのJ1@の略半分;2p
oB11下方へ突出する極度に押し下げるようにするか
、この量はj實1ii1eしてもよ(八。26に真空吸
引孔である。
しかる上で、同図(Qのように、構体會ポツテインダス
テージ27上にS載し、打抜1!814内にレジン17
iボツテイングする。ボッティング時にはステージ27
1r介して多少加熱することt−要し、かつボッテイン
ダ直後に適買の平板會レジン171[押し付けnuレジ
ンパッケージ上面會平坦なものにでき、層さのコントロ
ール會容易に行なうことかでさる。
テージ27上にS載し、打抜1!814内にレジン17
iボツテイングする。ボッティング時にはステージ27
1r介して多少加熱することt−要し、かつボッテイン
ダ直後に適買の平板會レジン171[押し付けnuレジ
ンパッケージ上面會平坦なものにでき、層さのコントロ
ール會容易に行なうことかでさる。
ココテ、ベレット13やワイヤ16等會レシン17tl
(て:giaする場合に、第6図に示すように桝体の上
下にこへ會挾むようにモールド型28.29r配瞑し、
上睦のモールド型28の透孔28巴からレジンI’l1
人してこれt固める。次組、キャスティング技衝によp
好適なパッケージ?4ることもできる。
(て:giaする場合に、第6図に示すように桝体の上
下にこへ會挾むようにモールド型28.29r配瞑し、
上睦のモールド型28の透孔28巴からレジンI’l1
人してこれt固める。次組、キャスティング技衝によp
好適なパッケージ?4ることもできる。
なお、前記レジン17はシリコンレシン【含浸させて耐
温性の向上會図るようにすることが好筐しい。
温性の向上會図るようにすることが好筐しい。
第7図に本発明の他の実施ガ會示す。本実施ガは大略に
お込て前記実施内と構造を同じにしておシ、11にPO
B、13はベレット% 16はベレット13とリード1
5と【接続するワイヤ、また17はこれらtパッケージ
するためのレジンでめる。そして、本案施[Toつては
レジン17の上面に薄板状のキャップ301固着してし
る点か罰ガとは相違している。このキャップ30は金属
材または黒色エポキシ等の不透光性部材ρ・らな9、レ
ジン17上面にレジンの豪着力によって固着している。
お込て前記実施内と構造を同じにしておシ、11にPO
B、13はベレット% 16はベレット13とリード1
5と【接続するワイヤ、また17はこれらtパッケージ
するためのレジンでめる。そして、本案施[Toつては
レジン17の上面に薄板状のキャップ301固着してし
る点か罰ガとは相違している。このキャップ30は金属
材または黒色エポキシ等の不透光性部材ρ・らな9、レ
ジン17上面にレジンの豪着力によって固着している。
このキγツブ3Qkt&けることによ、す、キャップか
黒色エポキシ材料の場合にはベレットの耐湿性、耐光性
に効果かめシかつワイヤの透け(ワイヤかレジンを透し
て外部から見えること)?防止して外戚を向上させる一
方、キャップ30が金属の場合にはベレットの静電対策
上有効になるという効果が前述のエポキシの効果に加え
らnる。また、このようにキャップ30′に設けること
により、レジン17の上面の平坦化が容易であり特にパ
ッケージの〜さのコントロールか容易になる。
黒色エポキシ材料の場合にはベレットの耐湿性、耐光性
に効果かめシかつワイヤの透け(ワイヤかレジンを透し
て外部から見えること)?防止して外戚を向上させる一
方、キャップ30が金属の場合にはベレットの静電対策
上有効になるという効果が前述のエポキシの効果に加え
らnる。また、このようにキャップ30′に設けること
により、レジン17の上面の平坦化が容易であり特にパ
ッケージの〜さのコントロールか容易になる。
このパッケージ構造の製造に際しては、第8図に示すよ
うに、前例と同1aFCして形成した構体上にボッティ
ングにてレジン17に滴下した後レジンが硬化する削に
キャップ30t−レジン17上に押し付けるように丁れ
ばよい。これによp、キャップ’19!望位置まで押し
下げればレジンも押し下げらnてPCB表面−の厚さか
決定される。キャップ30はレジン17によシ接着され
るか、キャップとして金属材料’に*朗する場合には、
そのキャップの長間に接着絶縁材料1予めコートしてお
くか、キャップの金属材料の表面酸化によって敵化伎脱
層ケ予め形成しておき、ボンディングワイヤ相互(口1
のショート防止対策1行なうことかilましbo ま友、池の方法としては、第9図に水子ように、ワイヤ
ボンディングの完了した構体tステージ31上に載せて
ヒータ32等にて加熱状塾に2〈−万、キャラ7’30
には予めその裏面にスクリーン印刷等によってレジン層
17ム會形成しておき、このキャップ30’)i−4体
上に豪せてレジン17At−#融させることによりベレ
ット13婢it−’ジンにて偕うようにする方法がある
。この方法によれば、m述した方法と同様の効果t−庸
すると共に、ボッティング時におけるようなレジン重量
(レジン谷蓋ンのはらつきが殆んど生じることはなく、
均一なレジンのパッケージ構造を祷ることかできる。ま
た。
うに、前例と同1aFCして形成した構体上にボッティ
ングにてレジン17に滴下した後レジンが硬化する削に
キャップ30t−レジン17上に押し付けるように丁れ
ばよい。これによp、キャップ’19!望位置まで押し
下げればレジンも押し下げらnてPCB表面−の厚さか
決定される。キャップ30はレジン17によシ接着され
るか、キャップとして金属材料’に*朗する場合には、
そのキャップの長間に接着絶縁材料1予めコートしてお
くか、キャップの金属材料の表面酸化によって敵化伎脱
層ケ予め形成しておき、ボンディングワイヤ相互(口1
のショート防止対策1行なうことかilましbo ま友、池の方法としては、第9図に水子ように、ワイヤ
ボンディングの完了した構体tステージ31上に載せて
ヒータ32等にて加熱状塾に2〈−万、キャラ7’30
には予めその裏面にスクリーン印刷等によってレジン層
17ム會形成しておき、このキャップ30’)i−4体
上に豪せてレジン17At−#融させることによりベレ
ット13婢it−’ジンにて偕うようにする方法がある
。この方法によれば、m述した方法と同様の効果t−庸
すると共に、ボッティング時におけるようなレジン重量
(レジン谷蓋ンのはらつきが殆んど生じることはなく、
均一なレジンのパッケージ構造を祷ることかできる。ま
た。
この方法では構体−の温度管理か容易でおるため常に安
定し九渥度条件でのレジンパッケージかh[舵でめり、
歩留の向上を図ることかできる。なお、レジンの必要t
t変化させたh場合にに、印刷するレジン層の層さt変
えれFiよい。
定し九渥度条件でのレジンパッケージかh[舵でめり、
歩留の向上を図ることかできる。なお、レジンの必要t
t変化させたh場合にに、印刷するレジン層の層さt変
えれFiよい。
ここで、絹10図に示すように、落6図に示し7t%の
と同様の形状のキャップ33t−接着剤等によってPO
BII表面に先に接着しておき、しかる上でキャンプ3
3内に透孔33aからレジンを注入してパッケージkl
ll成するようにしてもよhoこの11成によnば、キ
ャップ33自身か外力に強くなるtめ、ワイヤ16の外
力による変形に1!効に防止することかできる。
と同様の形状のキャップ33t−接着剤等によってPO
BII表面に先に接着しておき、しかる上でキャンプ3
3内に透孔33aからレジンを注入してパッケージkl
ll成するようにしてもよhoこの11成によnば、キ
ャップ33自身か外力に強くなるtめ、ワイヤ16の外
力による変形に1!効に防止することかできる。
第11回灯本発明の更に他の実N例を示し、籍に削配第
7図の実施かJのものt更に薄型化したものである。図
におりて、11はPOB、13はベレット、16はベレ
ット13とリード15と’に接続するワイヤ、ま7C1
7にこnらtパッケージするためのレジン、30はキャ
ップである。この実歯磨1でに第7図と全く同様にして
パッケージを構成しfC後に、同図に仮想巌にて示すよ
うにベレット13のls、面を所定導さだけ研摩してベ
レット13の全身さ、俟す丁れ龜パッケージの全廖さt
低減している。X14Jでハ0,4諺のベレットを半分
の0.2閣に1で研摩して淳さを低減し、こnにょクパ
ッケージの全#σ’j(0,5m以下にすることか可能
にさ11ている。なお、研Jl’にベレットの性能?阻
害しなし範囲で進めれば第12図に示すようにベレット
13の裏面とPOB11oJ1面とt面一に形成してP
OBJ1面側へのベレットの突出紫なくし、外観上やP
OB構体の取扱いの点でM判になる。
7図の実施かJのものt更に薄型化したものである。図
におりて、11はPOB、13はベレット、16はベレ
ット13とリード15と’に接続するワイヤ、ま7C1
7にこnらtパッケージするためのレジン、30はキャ
ップである。この実歯磨1でに第7図と全く同様にして
パッケージを構成しfC後に、同図に仮想巌にて示すよ
うにベレット13のls、面を所定導さだけ研摩してベ
レット13の全身さ、俟す丁れ龜パッケージの全廖さt
低減している。X14Jでハ0,4諺のベレットを半分
の0.2閣に1で研摩して淳さを低減し、こnにょクパ
ッケージの全#σ’j(0,5m以下にすることか可能
にさ11ている。なお、研Jl’にベレットの性能?阻
害しなし範囲で進めれば第12図に示すようにベレット
13の裏面とPOB11oJ1面とt面一に形成してP
OBJ1面側へのベレットの突出紫なくし、外観上やP
OB構体の取扱いの点でM判になる。
ここで、本ガにおりては114図に示しtようなキャッ
プ1r育しないl1lI成であってもよい。そして、こ
のような構成の場合には、落13恥に示す製造方法か採
用できる。この方法に同図体]のように、先ずベレット
13全体【レジン17Bにてパッケージした上で、レジ
ンの嵌置と裏面とkljI図(B)のように研9a13
4等によって平坦に研削してパッケージの摩さの低敷t
−図るものである。このとき、レジン裏面の研削と同時
にベレット13のamr研〜」することになり、前述と
同様にパッケージ全体の岸さの低減1を図ることかでき
る。この場合、上下のレジン會夫々上下に配設した回転
研摩像にて研摩することになるか、このとき、上下の研
摩機の1g1転方同を互に逆向きに丁れは、ベレット1
3r(に無理な研摩抵抗か影魯せず、ベレン)7債傷す
ることはない。
プ1r育しないl1lI成であってもよい。そして、こ
のような構成の場合には、落13恥に示す製造方法か採
用できる。この方法に同図体]のように、先ずベレット
13全体【レジン17Bにてパッケージした上で、レジ
ンの嵌置と裏面とkljI図(B)のように研9a13
4等によって平坦に研削してパッケージの摩さの低敷t
−図るものである。このとき、レジン裏面の研削と同時
にベレット13のamr研〜」することになり、前述と
同様にパッケージ全体の岸さの低減1を図ることかでき
る。この場合、上下のレジン會夫々上下に配設した回転
研摩像にて研摩することになるか、このとき、上下の研
摩機の1g1転方同を互に逆向きに丁れは、ベレット1
3r(に無理な研摩抵抗か影魯せず、ベレン)7債傷す
ることはない。
ここで、ベレン)71面の研摩は前述のような機械的手
段にて行なう代シに化学薬品(エツチング液)音便用し
比化学的研at利用してもよい。艷に機械的な荒削シの
後に最終的に化学エッチ777行なって更に薄< HJ
!り取るよう(してもより0このように化学エツチン
グを行なえはアニール効米が生じ、ベレット内に潜在す
る内部応力′Ik低減することもできる。
段にて行なう代シに化学薬品(エツチング液)音便用し
比化学的研at利用してもよい。艷に機械的な荒削シの
後に最終的に化学エッチ777行なって更に薄< HJ
!り取るよう(してもより0このように化学エツチン
グを行なえはアニール効米が生じ、ベレット内に潜在す
る内部応力′Ik低減することもできる。
#[14図なL”LiCl2図は夫々本発明の他の実A
l1−示しており、特にPOBの代りにリードフレーム
、チップキャリアを使用し、t:aパッケージCセラミ
ックr使柑し九ガである。即ち、*14図の実施91J
はPOBの代シにリードフレーム35に使用したもので
あり、リードフレーム35のインナリード36とベレッ
ト37の電極パッドと?ワイヤ38にて接続してベレツ
)37’is吊支持し、しかる上でベレット37やイン
ナリード36、ワイヤ38にレジン39にてパッケージ
している。
l1−示しており、特にPOBの代りにリードフレーム
、チップキャリアを使用し、t:aパッケージCセラミ
ックr使柑し九ガである。即ち、*14図の実施91J
はPOBの代シにリードフレーム35に使用したもので
あり、リードフレーム35のインナリード36とベレッ
ト37の電極パッドと?ワイヤ38にて接続してベレツ
)37’is吊支持し、しかる上でベレット37やイン
ナリード36、ワイヤ38にレジン39にてパッケージ
している。
このパッケージに除しては前記各実施例の場合と同様に
上面を平坦に仕上げ、あるいにキャップ會使用してレジ
ンの薄型処理YrNIJ丁ようにする。なお、リードフ
レーム35の製造およびパッケージ後の切断処理等は従
来のリードフレーム?使用するプロセスと同様に達成で
きる。本実施例ではフラットパッケージのfl會示して
いるが、デュアルインライン型のパッケージにあっても
同様であり、パッケージ本体部の摩さの低減を図ること
かできる。
上面を平坦に仕上げ、あるいにキャップ會使用してレジ
ンの薄型処理YrNIJ丁ようにする。なお、リードフ
レーム35の製造およびパッケージ後の切断処理等は従
来のリードフレーム?使用するプロセスと同様に達成で
きる。本実施例ではフラットパッケージのfl會示して
いるが、デュアルインライン型のパッケージにあっても
同様であり、パッケージ本体部の摩さの低減を図ること
かできる。
第15図の実J@1例はPOBの代ヤにチップキャリア
を使用したもので、特に、ガラスエポキシなどのエポキ
シ系材料にて形成したベース4oに銅箔等にてリード4
1を形成する。しかる上で、ベース40の中央に形成し
た孔42内にベレット43【配設してワイヤ44で接続
しがっこntm吊し、しかる上でレジン45にてパッケ
ージを形成することにより、極めて1IJrIiのチッ
プキャリア型の半導体装置1r4ることかできる。なお
、この場合、リード41は、ベース40の上表面のみで
Millδせてもよく、を尺、指状にベース40から突
田させてもよい。
を使用したもので、特に、ガラスエポキシなどのエポキ
シ系材料にて形成したベース4oに銅箔等にてリード4
1を形成する。しかる上で、ベース40の中央に形成し
た孔42内にベレット43【配設してワイヤ44で接続
しがっこntm吊し、しかる上でレジン45にてパッケ
ージを形成することにより、極めて1IJrIiのチッ
プキャリア型の半導体装置1r4ることかできる。なお
、この場合、リード41は、ベース40の上表面のみで
Millδせてもよく、を尺、指状にベース40から突
田させてもよい。
第16図はセラミックペース46とキャップ47とから
なるパッケージ本体と、リードフレーム48奮用いた構
成であシ、リードフレーム48にベレット49ケワイヤ
50にて接続しかつこAt−懸吊支持すると共に、リー
ドフレーム48のインナリードとベレットat覆うよう
に前記ペース46とキャップ47と?低融点ガラス51
にて到止している。この構成によれは、リードフレーム
48にタブklW’lとしないので省資材の点で有利と
なるが、厚さの低減には限度かあ夛、それよりもむしろ
タフへのベレット付の工程か省略できるだけ組立工数の
低減にM効となる。
なるパッケージ本体と、リードフレーム48奮用いた構
成であシ、リードフレーム48にベレット49ケワイヤ
50にて接続しかつこAt−懸吊支持すると共に、リー
ドフレーム48のインナリードとベレットat覆うよう
に前記ペース46とキャップ47と?低融点ガラス51
にて到止している。この構成によれは、リードフレーム
48にタブklW’lとしないので省資材の点で有利と
なるが、厚さの低減には限度かあ夛、それよりもむしろ
タフへのベレット付の工程か省略できるだけ組立工数の
低減にM効となる。
ここで、前配し几各実?IlI例において、リート°圓
部材とベレットの摩嘔や縦横の寸法に図示のものKIN
可さnるものではなく、史に薄型のり一ド冑部材やベレ
ット’2使用丁nは構成さnる半導体装置の薄型化?一
層進めることができる。
部材とベレットの摩嘔や縦横の寸法に図示のものKIN
可さnるものではなく、史に薄型のり一ド冑部材やベレ
ット’2使用丁nは構成さnる半導体装置の薄型化?一
層進めることができる。
以上のようVC本発明の半導体fiIIliによれは、
リード興1部拐にワイヤ接続し几ベレツ)?このツイヤ
にて懸吊支持してパッケージ1施しているので。
リード興1部拐にワイヤ接続し几ベレツ)?このツイヤ
にて懸吊支持してパッケージ1施しているので。
ベレット會リード一部材よりも下方に変位させnはワイ
ヤを張設状態にしてそのループ貴さの低減ヶ図ることが
できるようにな夛、ワイヤループか障害となっていたパ
ッケージの薄型化y2q牝1ζして半導体装負全体の薄
型化を連成できる。ま友、本発明の半導体装#はベレッ
トとリード91部材の接続にワイヤ1用いてワイヤボン
ディング技術によって連成さnるので、バンプ1r利剛
する構成のものと比較して電極パッドの為密度配置、即
ち多ビン化を促進でき、かつバンブとテープキャリア?
併用したものと比較してベレット寸法の変化に対する実
装の7レキシピリテイが向上できる。史に本発明のもの
でにバンプt−IJbI!としな論のでコストの低*を
自pかつ製造の容易化會図って胸造歩wt向上すること
かできるという効果を奏する。
ヤを張設状態にしてそのループ貴さの低減ヶ図ることが
できるようにな夛、ワイヤループか障害となっていたパ
ッケージの薄型化y2q牝1ζして半導体装負全体の薄
型化を連成できる。ま友、本発明の半導体装#はベレッ
トとリード91部材の接続にワイヤ1用いてワイヤボン
ディング技術によって連成さnるので、バンプ1r利剛
する構成のものと比較して電極パッドの為密度配置、即
ち多ビン化を促進でき、かつバンブとテープキャリア?
併用したものと比較してベレット寸法の変化に対する実
装の7レキシピリテイが向上できる。史に本発明のもの
でにバンプt−IJbI!としな論のでコストの低*を
自pかつ製造の容易化會図って胸造歩wt向上すること
かできるという効果を奏する。
一方・′!′発明e半導体装置の製造方ff1Kよnは
・ベレットとペース111部材tワイヤ譬続してパッケ
ージを行なうので、ベレット付等の作東工機数か多くて
作業の困−な工liiを不豊とし、製造工榴数の低減を
図ることができる。また、ワイヤ付の完了したベレット
’2下方に変位させればワイヤ′fr張役してワイヤル
ープの高さ全低減できるので、薄型半導体装itを極め
て容易に得ることかできる。
・ベレットとペース111部材tワイヤ譬続してパッケ
ージを行なうので、ベレット付等の作東工機数か多くて
作業の困−な工liiを不豊とし、製造工榴数の低減を
図ることができる。また、ワイヤ付の完了したベレット
’2下方に変位させればワイヤ′fr張役してワイヤル
ープの高さ全低減できるので、薄型半導体装itを極め
て容易に得ることかできる。
更に、レジン等にてパッケージを形成する場合には、レ
ジンの摩さの!l!IIMt容易に行なうことができる
ので、P9+望の厚さの半導体装置の!lI!造を容易
に行なうことかできるという効果を奏する。
ジンの摩さの!l!IIMt容易に行なうことができる
ので、P9+望の厚さの半導体装置の!lI!造を容易
に行なうことかできるという効果を奏する。
第1スおよび第2必は夫々異なる従来の半導体装置の#
面図、第3図は本発明の半導体装置の一部破乃r斜視図
、第4図はその断面図、第5図(A)〜(C1はこの半
導体装置の製造方法會貌明するための工根図、第6図に
池の製造方法″を説明するだめの断面図、第7図は他の
実施例の半導体装置の1!iIT面図、第8図および第
9因にこの半導体装置の夫々真なる製造方法?説明する
友めの図、第10図なりし第12図框夫々異なる池の実
施例の半導体装置の断面図、第13図体〕、Φ)は更に
他の実NI例の半導体装置の製造方法を示す図と完成さ
れた構成図、lK14図および第15図はリード冑部材
會夫々リードフレーム、チップキャリアにし几実NNの
断面図、第16図はパッケージにセラミックを使用した
実施例の断面図である。 11・・・POB、12・・・プリント回路、13・・
・ベレット、14・・・打抜部、15・・・リード、1
す・・・ワ(−?、17.17ム、17B・・・レジン
、18・・・ワイヤボンダ、19・・・ステージ、20
.21・・・真空吸引孔、22・・・ボンディングツー
ル、25・・・プランジャ、28・・・上型% 29・
・・下製、30・・・キャップ、33・・・キャップ、
34・・・研摩機、35・・・リードフレーム、37・
・・ベレット、38・・・ワイヤ、39・・・レジン、
40・・・チップキャリア、43・・・ベレット、44
・・・ワイヤ、45・・・レジン、46・・・セラミッ
クベース、47・・・セラミックキャップ、48・・・
リードフレーム、49・・・ベレット。 第 5 図 第 6 図 第 7 図 第 8 図 第 9 図 1ゲ1 、、/2 第10図 /J 第11図 第12図 第13図 \ 4
面図、第3図は本発明の半導体装置の一部破乃r斜視図
、第4図はその断面図、第5図(A)〜(C1はこの半
導体装置の製造方法會貌明するための工根図、第6図に
池の製造方法″を説明するだめの断面図、第7図は他の
実施例の半導体装置の1!iIT面図、第8図および第
9因にこの半導体装置の夫々真なる製造方法?説明する
友めの図、第10図なりし第12図框夫々異なる池の実
施例の半導体装置の断面図、第13図体〕、Φ)は更に
他の実NI例の半導体装置の製造方法を示す図と完成さ
れた構成図、lK14図および第15図はリード冑部材
會夫々リードフレーム、チップキャリアにし几実NNの
断面図、第16図はパッケージにセラミックを使用した
実施例の断面図である。 11・・・POB、12・・・プリント回路、13・・
・ベレット、14・・・打抜部、15・・・リード、1
す・・・ワ(−?、17.17ム、17B・・・レジン
、18・・・ワイヤボンダ、19・・・ステージ、20
.21・・・真空吸引孔、22・・・ボンディングツー
ル、25・・・プランジャ、28・・・上型% 29・
・・下製、30・・・キャップ、33・・・キャップ、
34・・・研摩機、35・・・リードフレーム、37・
・・ベレット、38・・・ワイヤ、39・・・レジン、
40・・・チップキャリア、43・・・ベレット、44
・・・ワイヤ、45・・・レジン、46・・・セラミッ
クベース、47・・・セラミックキャップ、48・・・
リードフレーム、49・・・ベレット。 第 5 図 第 6 図 第 7 図 第 8 図 第 9 図 1ゲ1 、、/2 第10図 /J 第11図 第12図 第13図 \ 4
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1、それぞれがワイヤ接続部t?有し%該ワイヤ接続部
の表面か実質的に同一平面上に位置するように配役さn
7tM数のリード部材と、前記リード世相に@接して配
設さt、上衣面か前記リード部材のワイヤ接続部の前記
裸面より下方に位置する工うに位置きn九半導体素子ベ
レットと、前記リード部材のワイヤ接続部に一部が接続
され、他漏か前記半導体素子ベレットの上RmK*続さ
t′した僚数の金属ワイヤと、前記リード部材のワイヤ
接続Sおよび前記半導体ベレットの少なくとも前記上衣
面を包囲するように位置し、かつ前記半導体素子ベレッ
ト會前記リード部材に対して上記し几ような下方位置関
係に固着保持せしめてなるレジン刺止体とゲ肩し、前記
半導体素子ベレットは1!0配金属ワイヤのみによって
電気的接続されてなること′t−特似とする半導体装置
。 2、fjlF牛14俸素子ベレットの上衣面に、別記レ
ジン刺止体から露出されてなること1%像とする脣許帽
求の範囲第1項記載の半導体装置。 3、前記レジン刺止体の表面WAKは前記半導体素子ベ
レットの上聚面を覆うようにキャップか配設されてなる
ことt特徴とする特許請求のm囲第1項又は第2JJi
記載の半導体装置。 4、前記リード部材かプリント回路基板であシ、このプ
リント回路基板に形成した打抜部内に前記ベレットが配
役さt、かつ前記プリント回w1基板の表面に設は定配
細路の一部を前記ワイヤ接続部として便用してなる特許
請求の範囲第1項ないし第3JJolxずれかに記載の
半導体装置。 5、基板やリードフレーム等のリード部材に対して半導
体素子ペレットヲ位置決めし、前記リード部徊と前記半
導体素子ベレットとをワイヤ接続した後4’i!:、
I!tileワイヤにて懸吊支持さtた罰配半辱俸素子
ベレット會パッケージする半導体装置の製造方法。 6、前記半導体素子ベレットとリード部材とのワイヤ接
続後に、1#記半導体素子ベレット’2下方に変位させ
る特許請求の範F!!3第5項記載の半導体装置の製】
前方法。 7、 レジン全ボッティングして前記半導体素子ベレッ
トのパッケージi行なう特許請求の範囲第5項又は第6
項記載の半導体装置の製造方法。 8、 レジン全ボッティングした後にレジンの上面にキ
ャップkWせ、このキャップを押し下げてレジン上面高
さ?設定すると共にキャップtレジン上面に一体に取着
する特許請求の範囲第7項記載の半導体装置の製造方法
。 9 レジンをボッティング等によシ前記半導体素子ベレ
ット全パッケージした後、レジンの上面と下面とを研摩
削成してパッケージ厚さ會所望量に設定する特許請求の
範囲第7項記載の半導体装置の製造方法。 10 レジンのパッケージ完了後に前記半導体素子ベレ
ット裏面?研削する特許請求の範囲第6項なしし第9項
のいずれかに記載の半導体装置の製造方法。 11、jjiJ紀リード部材と罰配牛導体素子ベレット
と全ワイヤボンダのボンディングステージ上に真空吸着
させて位置決めおよび仮固定を行なう特許請求の範囲@
5項記載の半導体装置の製造方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP57062437A JPS58180033A (ja) | 1982-04-16 | 1982-04-16 | 半導体装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP57062437A JPS58180033A (ja) | 1982-04-16 | 1982-04-16 | 半導体装置 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS58180033A true JPS58180033A (ja) | 1983-10-21 |
JPH0218580B2 JPH0218580B2 (ja) | 1990-04-26 |
Family
ID=13200164
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP57062437A Granted JPS58180033A (ja) | 1982-04-16 | 1982-04-16 | 半導体装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS58180033A (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH02134852A (ja) * | 1988-11-15 | 1990-05-23 | Nec Corp | 樹脂封止型半導体装置 |
Citations (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS554942A (en) * | 1978-06-26 | 1980-01-14 | Seiko Epson Corp | Semi-conductor package |
-
1982
- 1982-04-16 JP JP57062437A patent/JPS58180033A/ja active Granted
Patent Citations (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS554942A (en) * | 1978-06-26 | 1980-01-14 | Seiko Epson Corp | Semi-conductor package |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH02134852A (ja) * | 1988-11-15 | 1990-05-23 | Nec Corp | 樹脂封止型半導体装置 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPH0218580B2 (ja) | 1990-04-26 |
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