JPS58177991A - ピリミドベンゾオキサゾ−ル誘導体 - Google Patents

ピリミドベンゾオキサゾ−ル誘導体

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JPS58177991A
JPS58177991A JP57059222A JP5922282A JPS58177991A JP S58177991 A JPS58177991 A JP S58177991A JP 57059222 A JP57059222 A JP 57059222A JP 5922282 A JP5922282 A JP 5922282A JP S58177991 A JPS58177991 A JP S58177991A
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Yoshio Isoda
磯田 純郎
Hisashi Tsukada
恒 塚田
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は式(I) (式中 R1はl又は2H−テトラゾール−5−イル基
、カルボキシル基又は低級アルコキシカルボニル基を、
R2、R3は同−又は興なる水素。
低級アルキル基、低級アルコキシ基、アリル基。
ハロゲン基、トリハロゲノメチル基、ニトロ基。
アミノ基、ジ低級アルキルアミ7基若しくはアシルアミ
ノ基を意味す、、但し pt 、 RRが共に水素の場
合、R1は1又は2H−テトラゾール基を意味し nt
が7位の塩素で、Rm が水素の場合R1はl又は2H
−テトラゾール−5−イル基又は低級アルコキシカルボ
ニル基を意味する)で表わされる新規なピリミドベンゾ
オキサゾール誘導体及びその生体許容塩に関する。
従来本発明化合物と化学構造上類似するピリミドベンゾ
オキサゾール誘導体は数種知られているが、それ等公知
のピリミドベンゾオキサゾール誘導体は抗菌薬に関する
ものであり(J、M2B5゜0hew、、15.120
1〜1206(1972))、ビリジ ドベンゾオキサ
ゾール誘導体と抗アレルギー作用との関係について言及
するものは皆無である。
本発明者等は抗アレルギー作用を有する化合物に関して
鋭意検討した結果、(I)で示される新規ピリミドベン
ゾオキサゾール誘導体が優れた抗アレルギー作用を有す
ることを見出し本発明を完成した。
特に1本発明化合物は抗原抗体反応により惹起されるケ
ミカルメディエータ−の遊離を抑制する抗アレルギー薬
であること及びその作用発現が経口投与で有効に認めら
れる点に特徴を有するものである。
上記の作用機作を有する代表的薬物としてはクロモグリ
ク酸ナトリウムが現在知られているが、この薬物は経口
投与では有効性が認められず粉末吸入投与法又は水溶液
吸入投与法にて使用されている。しかしながら粉末吸入
投与法は乳幼児への適切な投与が難しいこと、或は粉末
刺戟に敏感な患者には適用し難いこと、又水溶液吸入投
与法は適用患蔀が限られること等の欠点を有する為、経
口投与が可能な優れた薬物の開発が要望されて来た。
従って9本発明は新しいタイプの抗アレルギー作用を有
する化合物の提供にも関するものであり、その優れた抗
アレルギー作用により、気管支喘息、アレルギー性胃腸
障害、アレルギー性鼻炎、枯草熱、琳麻疹等の治療又は
予防に有効なものである。
式(I)で示される本発明化合物は下記反応に従って製
造される。
(上記式中 RS Hl及びが は前記に同じであり、
Rは2−第三級プチル−2H−テトラゾール−5−イル
基、1−(2−低級アルコキシカルボニルエチル)−1
H−テトラゾール−5−イル基又は低級アルコキシカル
ボニル基を、R5゜R6はR2、R3と同じ又は還元、
アルキル化、アシル化でp2 、 R3に変り得る基を
 R7は低級アルキル基を意味する) 即ち2本発明化合物は、上記A〜Dのいずれかの製法に
よって製造し得る。各製法に関し以下に詳述する。
製法A: 置換基R′が2−第三級ブチル−2H−テトラゾール−
5−イル基である場合(製法ム−1)。
1−(2−低級アルコキシカルボニルエチル)−IH−
テトラゾール−6−イル基である場合(製法A−2)及
び低級アルコキシカル−ニル基である場合(製法A−3
)とに分けて説明する。
製法A−1に従い目的化合物を製造するには式値)の化
合物を溶媒の存在下又は非存在下醗と約70〜180℃
に約80分〜約10時間加熱すれば良い。使用し得る溶
媒としては水又はダウサムA、スルホラ椰、第三級ブチ
ルベンゼン又はトルエン等の高沸点有機溶媒が例示出来
又醗としては硫酸等の無機酸、パラトルエンスルホン爾
、トリアルオロ酢酸等の有機酸、三ツ、化ホウ素エーテ
ラート等のルイス酸が使用し得る。
製法A−2に従い目的化合物を製造するには。
式(1)の化合物を溶媒の存在下塩基と室温〜100℃
に約80分〜約lθ時間処理すれば良い。使用し得る溶
媒としてはジクロロメタン。
クロロホルム、ベンゼン、トルエン等が例示出来、又塩
基としては炭酸ナトリウム、炭酸カリウム等の無機塩基
、ジアザビシクロノネン、ジアザビシクロウンデセン等
の有機塩基が使用し得る。
製法A−8に従い目的化合物を合成するには。
式値)の化合物を溶媒の存在下又は非存在下ハロゲン化
アルミニウム及びジアルキルスルフィ。
ドと室温で約1〜約50時間攪拌すれば良い。
使用し得る溶媒としてはジクロロメタン、クロ四ホルム
等、ハロゲン化アルミニウムとしては塩化アルミニウム
、臭化アルミニウム、又ジアルキルスルフイツトとして
はジメチルスルフイツト、ジエチルスルフイツト等が例
示出来る。−文武(II)の化合物をアセトニトリル中
ヨウ化ソーダの存在下トリメチルシリルクロリドと処理
しても目的化合物は得られるし1式(II)の化合物を
硫酸と加温しても目的化合物は得られる。
製法B: この製法に従い目的化合物を製造するには。
式(2)の化合物を還元、アルキル化又はアシル化反応
に付せば良く、これ等の反応は常用手段を採用し得る。
例えば置換基R5又はR6のいずれか!ニトロ基であり
、これを還元する場合には還元剤として鉄粉−酢酸等を
使用し得る。アルキル化反応試剤としては代表的なもの
としてアルキルハライド、アルキル硫酸等が挙げられる
又アシル化剤としては酸クロライド、酸無水物等が挙げ
られる。
製法C: この製法に従い目的化合物を製造するには。
式(財)の化合物を溶媒の存在下又は非存在下100〜
!!60℃に加熱するか、溶媒中正フッ化ホウ素エーテ
ラートと100〜250℃に約10分〜約2時間加熱す
れば良い。反応に使用し得る溶媒としては、ダウサムA
、スルホラン、その他トルエン、キシレン等の高沸点有
機溶媒が例示出来る。
製法D: この製法に従い目的化合物を製造するには。
式(ト)の化合物を溶媒の存在下又は非存在下低級アル
コキシメチレンマロン−ジ低級アルキルエステルと約7
0〜200℃に約1−4時間加温し、引き続き溶媒の存
在下又は非存在下約120〜g60℃に加熱するか又は
溶媒中三ツ、化ホウ素エーテラートと約100〜200
℃に約lO分〜約2時間加熱すれば良い。溶媒は製法C
のものと同じものを使用し得る。
なお、製法A −Dに使用される原料化合物のうち式C
I)〜(7)の一部は新規化合物であり、これ等の新規
化合物は下記の方法で製造することが出来る。以下簡略
に原料化合物の製法を説明する。
式(イ)の化合物の中で新規物質は、公知の2−アミノ
ベンゾオキサゾール誘導体の製法に準じて製造すること
が出来る。
式(財)の化合物は式閏の化合物と低級アルコキシメチ
レンマロン酸ジ低級アルキルエステルとを溶媒の存在下
又は非存在下約ioo〜150’t)で約15分〜約4
時間加熱すれば良い。
弐〇)で示される化合物は式(イ)の化合物と2−C2
−第三級ブチル−2H−テトラゾール−5−イル)−8
−ジメチルアミノアクリル際エチルエステルとを酢酸又
はプロピオン酸中約8〜約1!5時間加熱還流させるか
、製法A−8で得られる式(I)の化合物を混合酸無水
物決で2−低級アルコキシカルボニルエチルアミドとし
、塩基存在下ホスゲン又はトリクロロメチルクロロホル
メートと反応させ次いでトリメチルシリルアジドと反応
させるか1式(ト)の化合物と低級アルコキシメチレン
マロン酸ジ低級アルキルエステルとを製法りの反応条件
に準じて反応させれば良い。
式(4)で示される化合物は式01)の化合物と同様の
手段で製造し得る。
なお9式(I)の化合物中 nlが1又は2H−テトラ
ゾール−15−イル基又はカルボキシル基である場合は
、ナトリウム、カリウム等のアルカリ金属、カルシウム
等のアルカリ土類金属又はアンモニア、トリス(ヒドロ
キシメチル)アミノメタン、N−メチルグルカミン等の
アミン類との付加塩を形成することが出来る。
斯くして製造された本発明化合物の優れた抗アレルギー
活性は、卵アルブミンに対するレアギン様抗体を有する
ラット血清を用いた同種ラットの受身皮膚過敏症反応(
POA反応)の抑制率を測定することによりJIilし
た。その結果本発明化合物が静脈内投与のみならず、経
口投与においてもPCA反応を有意に抑制し1強力な抗
アレルギー作用を有することが認められた。
なお、ケミカルメディエータ−抑制薬(抗アレルギー薬
)として周知のクロモグリク酸ナトリウムは経口投与の
場合上記のPCA反応を殆んど抑制しない。
本発明を以下の参考例及び実施例により説明する。
参考例1:  2−(2−第三級プチル−2H−テトラ
ゾール−5−イル)−8−ジ メチルアミノアクリル酸エチルエス テル (2−第三級プチル−2H−テトラゾール−5−イル)
酢酸エチルエステル58.79 トジメチルホルムアミ
ドジエチルア七タール59.79の混合物を100℃で
8時間加熱攪拌する。冷却後析出物を濾取し、エーテル
−石油エーテルより再結晶し融点78〜75℃の標記原
料化合物50.7gを得る。
オキサゾール 2−アミノ−4−フェニルフェノール12.09を95
%メタノール1.Olに溶解しブロムシアン7.9gを
加え室温で18時間攪拌する。減圧下溶媒を留去し残留
物に水を加え1規定苛性ソーダでアルカリ性とする。析
出物を濾取し、融点208〜212℃の標記原料化合物
10.49を得る。
参考例a:  2−アミノ−6−メチルベンゾオキサゾ
ール 参考例2と同様にして標記原料化合物を得る。
融点不鮮明。
ill何例4 2−アミノ−5−イソプロピルベンゾオ
キサゾール 2−ニトロ−4−イソプロピルフェノール18、99を
エタノール150−に溶解し5%パラジウム−炭末を加
え常温常圧で接触還元する。
計算量の水素吸収させた後、触媒を濾別する。
濾液にブロムシアン11.19を加え30分間室室温攪
拌後、同温度で一夜放置する。減圧下溶媒を留去し残留
物に希塩酸を加え活性炭で処理する。活性炭を濾別し濾
液に希アンモニア水を加え析出物を濾取し、ベンゼン−
ヘキサンより再結晶し融点94〜96℃の標記原料化合
物を得る。
参考例5:  2−アミノ−5−トリフルオロメチルベ
ンゾオキサゾール 参考例4と同様にして標記原料化合物を得る。
融点148〜146℃。
参考例5SZ−アミノー4−メチルベンゾオキサゾール 参考側番と同様にして標記原料化合物を得る。
融点158〜160℃。
参考例7: 2−アミノ−7−メチルベンゾオキサゾー
ル 参考例4と同様にして標記原料化合物を得る。
融点152〜155℃。
参考例87 2−アミ/−7−イソプロビル−5−メチ
ルベンゾオキサゾール 4−メチル−2−二トロフェノール88.49を85幡
硫酸814−に溶かし、50〜60℃に加熱攪拌下イソ
プロパツール】4.o−を滴下する。8.8時間後氷水
にあけ析出物を濾取し。
ベンゼンに溶かし、水洗乾燥後シリカゲルのカラムラ通
シ油状の6−イソプロビル−4ニトロル−2−二トロフ
ェノール22.09 ヲllる。これを参考例4と同様
に処理し、ベンゼンより再結晶し、融点121〜128
℃の標記原料化合物を得る。
参考例9: 2−アミノ−5−フルオロ−7−イソプロ
ピルベンゾオキサゾール 参考例8と同様にして標記原料化合物を得る。
融点87〜89℃。
参考例1o:  2−アミノ−5,7−ジイソプロピル
ベンゾオキサゾール 参考例8と同様にして標記原料化合物を得る。
融点188〜189℃。
参考例11+  8−(2−第三級ブチル−2H−テト
ラゾール−5−イル)−フー メチル−4H−ピリミド(2,1−b )ベンゾオキサ
ゾール−4−オン 2−アミノ−5−メチルベンゾオキサゾール1.489
と2−(2−第三級プチル−2H−テトラゾール−5−
イル)−8−ジメチルアミノアクリル酸エチルエステル
2.5739を酢酸8〇−に溶解し、28時間加熱還流
する。減圧下溶媒を留去し、残留物にメタノールを加え
析出物を濾取し、ベンゼンより再結晶し融点285〜2
87℃の標記原料化合物1.529を得る。
参考例11と同様にして下記の式Q[)で示される原料
化合物(但し、R4は2−第三級ブチル−2H−テトラ
ゾール−5−イル基である)を得る。
参考例21:  8−(1−(2−エトキシカルボニル
エチル)−1H−テトラゾ ールー5−イル〕−7−二トロー 4H−ピリミド(2,1−1))ベン ゾオキサゾール−4−オン 7−二トロー4−オキソ−4H−ピリミド(2,1−b
)ベンゾオキサゾール−8−カルボン酸8.09及Uト
リエチルアミン8.8−をクロロホルム50@tに加え
、水冷攪拌下エチルクロロホルメー) 1.809を滴
下する。80分後。
β−アラニンエチルエステル塩酸塩入δ09を加える。
1時間後、溶媒を減圧下留去し残留物に氷水を加え析出
物を濾取し、水、エタノールで順次洗い融点160〜1
68℃のN−(2−エトキシカルボニルエチル)−7−
ニトロ−令−オキソー4H−ピリミド(z、1−b)ベ
ンゾオキサゾール−3−カルボキサミド2.619を得
る。
得られたカルボキサミド体2.499及びピリジン2.
689をクロロホルム40・−に加え水冷攪拌下、この
溶液にトリクロロメチルクロロホルメー) 1.459
を滴下する。室温でδθ分間攪拌後、トリメチルシリル
アジド0.849を加え攪拌し、2時間後トリメチルシ
リルアジド0.849を追加し、−夜放置後減圧下低沸
点物を留去する。残留物に氷水を加え析出物を濾取し、
ジメチLホルムアミドーエタノールより再結晶し融点1
98〜194.5℃の標記原料化合物2.05 gを得
る。
参考例!I2: δ−(1−(!−エトキシカルボニル
エチル)−1H−テトラゾ ールー5−イル〕−7−7エニル ー48−ピリミド(2vl−b)ベ ンゾオキサゾール−4−オン 参考例21と同様にして標記原料化合物を得る。融点2
24〜226℃ 参考例28:  (5−フルオロベンゾオキサゾール−
2−イル)アミノメチレン マロン酸ジメチルエステル 2−アミノ−5−フルオロベンゾオキサゾールL849
とメトキシメチレンマロン酸ジメチルエステル8.48
9とを140tlで2時間加熱攪拌する。放冷後イソプ
ロパツールを加え析出物を濾取し、メタノールより再結
晶し融点155〜156℃の標記原料化合物4.809
を得る。
参考例24:  (5−フルオロベンゾオキサソール−
2−イル)アミノメチレン マロン酸ジエチルエステル 参考例28と同様にして標記原料化合物を得る。融点1
08〜110t)。
参考例25:  (4−メチルベンゾオキサゾール−2
−イル)アミ/メチレンマ ロン酸ジエチルエステル 参考例2δと同様にして標記原料化合物を得るヶ融点1
1ffi〜114℃。
実施例1: 7−メチル−8−(1又は2H−テトラゾ
ール−5−イル)−4H− ピリミド(z、1−b)ベンゾオキサ ゾール−4−オン 8−(2−第三級ブチル−2H−テトラゾール−5−イ
ル)−7−メチル−4H−ピリミド(z、t−b)ベン
ゾオキサゾール−4−オン1.889に濃硫酸4gkl
を加え100〜110℃で5時間加熱攪拌する。冷却後
氷水にあけ析出物を濾取し、ジメチルホルムアミドより
再結晶し分解点298〜1SO1t+の標記目的化合物
0、909を得る。
実施例1と同様にして下記の式(I)の目的化合物(但
し Hlはl又は2M−テトラゾール−5−イル基であ
る)を得る。
実施例6: ツーメトキシ−8−(l又は2H−テトラ
ゾール−5−イル)−4H ピリミド(2,1−b)ベンゾオキサ ゾール−4−オン 8−(2−第三級プチル−2H−テトラゾール−5−イ
ル)−7−メドキシー4H−ピリミド(2,1−b )
ベンゾオキサゾール−4−オン2.059をスルホラン
8−に懸濁させ180〜190℃で加熱攪拌する。これ
にパラトルエンスルホン酸(LaO2を加え同温度にL
5時間加熱する。放冷後析出物を濾取し、ジメチルホル
ムアミドより再結晶し融点800℃以上の標記目的化合
物0.859を得る。
実施例6と同様にして下記の式(I)の目的化合物(但
し R1は1又は2H−テトラゾール−5−イル基であ
る)を得る。
実施例11:  7−7エニルー8−(l又は2H−テ
トラゾール−5−イル) 一4H−ピリミド(g、u−b)ベ ンゾオキサゾール−4−オン δ−(1−(g−エトキシカルボニルエチル)−1H−
テトラゾール−5−イル〕−7−フェニルー4H−ピリ
ミド(!、1−b)ベンゾオキサゾール−4−オン0.
50 g及びジアザビシクロウンデ七ン0.589をベ
ンゼン15−に加え4.6時間加熱還流する。溶媒を減
圧留去し、残留物に氷水及び希塩酸を加え析出物を濾取
し。
ジメチルホルムアミドより再結晶し、融点800℃以上
の標記目的化合物0.269を得る。
実施例12: 7−二トロー8−(1又は2H−テトラ
ゾール−5−イル)− 4H−ピリミド(2,1−b)ベン ゾオキサゾール−4−オン 実施例11と同様にして標記目的化合物を得る。融点a
oot+以上。
実施例18: 7−メチル−4−オキソ−4H−ピリミ
ドIJI−b)ベンジオ キサゾール−8−カルボン酸 7−メチル−4−オキソ−4H−ピリミド(2,1−b
)ベンゾオキサゾール−3−カルボン酸メチルエステル
4.90 ’Iをジクロロメタン70−に溶かし、攪拌
下臭化アルミニウム6.089及びジメチルスルフイツ
ト15−を加える。引き続き室温で24時間攪拌後、低
沸点物を減圧下留去する。残留物に氷水及び希塩酸を加
え析出物を濾取し、ジメチルホルムアミドより再結晶し
融点260〜262℃の標記目的化合物8.209を得
る。
実施例18と同様にして下記の式(I)の目的化合物(
但し R1はカルボキシル基である)を得る。
−ビリミド(2,l−b )ベンゾオ キサゾール−8−カルボン酸 8−メチル−4−オキソ−4H−ピリミド(2,1−b
 )ベンゾオキサゾール−8−カルボン酸メチルエステ
ル2.589とヨウ化ソーダ4.52をアセトニトリル
45−に加え1次いでトリメチルシリルクロリド8゜2
69を加えた後60〜70℃で19時間加熱攪拌する。
減圧下低沸点物を留去し、残留物に水を加え析出物を濾
取し、ジメチルホルムアミドより再結晶し融点268〜
264℃の標記目的化合物1.709を得る。
実施例28: 7÷トリフルオロメチル−4−オキソ−
4H−ピリミド(2,1−b)ベンゾオキサゾール−8
−カルボ ン醗 7−トリフルオロメチル−4−オキソ−4H−ピリミド
(2tl−b)ベンゾオキサゾール−3−カルボン醗エ
チルエステルh459telk硫#20@tに加え55
〜66℃で80分間加熱攪拌後氷水にあけ析出物を濾取
し、水及びジクロロメタンで洗浄し実施例24で得たと
同一の標記目的化合物を得る。
実施例29: 7−アミノ−4−オキソ−4H−ビリミ
ド(2,1−b )ベンゾオ キサゾール−8−カルボン酸エチ ルエステル 7−二トロー4−オキソ−4H−ピリミド(2,1−b
 )ベンゾオキサゾール−8−カルボン酸エチルエステ
ル2.5gを酢醗45−に溶かし、80℃に加温攪拌し
、鉄粉4.5gを少量ずつ加える。1時間後熱時不溶物
を濾別し、濾液を減圧濃縮する。残留物に水を加え析出
物を濾取し、クロロホルムより再結晶し融点21z〜2
14℃の標記目的化合物1.929を得る。
実施例80: 8−アミノ−4−オキソ−4H−ピリミ
ド(w、x −b )ベンゾオキサゾール−8−カルボ
ン酸エチ ルエステル 実施例29と同様にして標記目的化合物を得る。融点2
04〜207℃。
実施例81: ツージメチルアミノ−4−オキソ−4H
−ピリミド〔亀1−b〕 ベンゾオキサゾール−8−カルボ ン酸エチルエステル ?−アミノー4−オキソー4H−ピリミド(2,1−b
 )ベンゾオキサゾール−8−カルボン酸エチルエステ
ル0.709をクロロホルムlO−に溶かし、:lつ化
メチル1.5−及びトリエチルアミン1.5−を加える
と発熱して還流する。還流が止ったのち室温に2日放置
し、クロロホルムlO−、ヨウ化メチル1.O−及びト
リエチルアミンl:5−を追加し室温に一夜放置し低沸
点物を減圧留去する。残留物をクロロホルAに溶かし水
洗乾燥後クロロホルムを減圧留去し、残留物をベンゼン
より再結晶し融点195〜196℃の標記目的化合物o
、4syを得る。
実施例32) 8−ジメチルアミノ−4−オキソ−4H
−ピリミド(2,1−b) ベンゾオキサゾール−8−カルボ ン酸エチルエステル 実施例81と同様にして標記目的化合物を得る。融点2
35〜286℃。
実施例83; 7−アセチルアミノ−4−オキソ−4H
−ピリミド(2,x−b) ベンゾオキサゾール−δ−カルボ ン酸エチルエステル 7−アミノ−4−オキソ−4H−ピリミド(2,1−b
 )ベンゾオキサゾール−3−カルボン酸エチルエステ
ル0.629と無水酢酸z、t5s/を2時間加熱還流
させる。放冷後氷水を加え析出物を濾取し、ジメチルホ
ルムアミド−メタノールより再結晶し融点268〜26
5℃の標記目的化合物0.609を得る。
実施例84: 8−アセチルアミノ−4−オキソ−4H
−ピリミド(?!、1− b )ベンゾオキサゾール−
8−カルボ ン酸エチルエステル 実施例8δと同様にして標記目的化合物を得る。融点8
00℃以上。
実施例35: 7−フルオロ−4−オキソ−4H−ピリ
ミド(2,1−b )ベン ゾオキサゾール−8−カルボン酸 メチルエステル (5−フルオロベンゾオキサゾール−2−イル)アミノ
メチレンマロン酸ジメチルエステル4.209を加熱還
流中のダウサムA8−に加え一55分間加熱還流する。
冷却後メタノールを加え析出物を濾取し、メタノールよ
り再結晶し融点188〜186℃の標記目的化合物LO
9を得る。
実施例86:  7:フルオロー4−オキソ−4H−ピ
リミド(g、1−b)ベン ゾオキサゾール−8−カルボン酸 エチルエステル 実施例85と同様にして標記目的化合物を得る。融点1
52〜154℃。
実施例87= 6−メチル−4−オキソ−4H−ビリミ
ド(g、1.−b)ベンゾオ キサゾール−8−カルボン醗エチ ルエステル 実施例85と同様にして標記目的化合物を得る。融点1
86〜188℃。
実施例88: 7−メチル−4−オキソ−48−一ビリ
ミド(2,1−b)ベンゾオ キサゾール−3−カルボン醗メチ ルエステル 2−アミノ−5−メチルベンゾオキサゾール2.969
とメトキシメチレンマレン酸ジメチルエステル8,60
9とを混じ、140℃で1時間次いで180℃で8時間
加熱攪拌する。放冷後析出物をメタノールより再結晶し
、融点165〜】f37℃の標記目的化合物8.18g
を得る。
実施例88と同様にして下記の式(I)の目的化合物(
但し、R+はメトキシカルボニル基である)を得た。
又、同様にして下記の式(I)の目的化合物(但し 1
1はエトキシカルボニル基である)を得た。
実施例66: 6−メチル−4−オキソ−4H−ピリミ
ド(2,1−b )ベンゾオ キサゾール−8−カルボン醗メチ ルエステル 2−アミノ−4−メチルベンゾオキすゾール6.679
及びメトキシメチレンマロン酸ジメチルエステル7.8
8gを180〜b 間加温後加熱還流中のダウサムA30−に加え。
引き続き50分間加熱還流する。冷却後シリカゲルのカ
ラムクロマトにかけダウサムAを除きメタノールより再
結晶し融点169〜171℃の標記目的化合物1.90
fを得る。
実m例67:  フッ9−ジイソプロピル−8−(l又
は2H−テトラゾール−5 一イル)−4H−ピリミド〔2,1 −b)ベンゾオキサゾール−4− オン トリス(ヒドロキシメチル) アミ/メタン塩 7.9−ジイソプロピル−8−(1又は2H−テトラゾ
ール−5−イル)−4H−ピリミド(2,1−b )ベ
ンゾオキサゾール−4−オン0.6779とトリス(ヒ
ドロキシメチル)アミノメタン0.2549とをメタノ
ールに溶解する。
減圧下濃縮し残留物にエーテルを加え析出物を濾取し融
点210〜211℃の標記目的化合物0.569を得る
実施例68ニア、9−ジイソプロピル−8−(l又は2
H−テトラゾール−5 一イル)−4H−ピリミド〔2,1 −b)ベンゾオキサゾール−4− オン N−メチルグルカミン塩 +水和物 実施例67と同様にして標記目的化合物を得る。融点1
04〜108℃。
実施例69: 7−メチル−4−オキソ−4H−ピリミ
ド(t、x −b )ベンゾオキサゾール−8−カルボ
ン噌 ト リス(ヒドロキシメチル)了ミノ メタン塩 実施例67と同様にして標記目的化合物を得る。融点1
76〜178℃。
実施例70:  7,9−ジイソプロピル−4−オキソ
−4H−ピリミド(2,1−b) ベンゾオキサゾール−3−カルボ ン醗トリス(ヒドロキシメチル) アミ/メタン塩。
実施例67と同様にして標記目的化合物を得る。融点1
61〜164℃。
実施例フ1: 8−メトキシ−4−オキソ−4H−ピリ
ミド(!、1−t+)ベン ゾオキサゾール−8−カルボン酸 トリス(ヒドロキシメチル)ア ミノメタン塩 実施例67と同様にして標記目的化合物を得る。融点1
78〜175℃。
実施例’It:  7−イソプロビル−4−オキソ−4
H−ピリミド(g、’t + b )ベンゾオキサゾー
ル−3−カルボン 酸 トリス(ヒドロキシメチル) アミノメタン塩 実施例67と同様にして標記目的化合物を得る。融点1
74〜176℃。
実施例78:  PCA試験 PCA試験は次の様に行なった。
体重170〜220りのスプラグドーレー系雄性う、)
(CD−8D系9日本チャールスリバー)の背部皮肉に
生理的食塩水で稀釈した抗血清0.05−を注射し、そ
の48時間後卵アルブミン5119を含む0.5%エバ
ンスブルー生理的食塩水溶液1−を静脈内投与すること
によりPCA反応を惹起した。惹起後80分にラットを
断頭放血死させ、背部皮膚を剥離し、前条スボ、ト(色
素漏出斑)の面積を測定した。但し。
上記惹起注射前80分に被験化合物を0.5%CMC液
に懸濁し各う、トに50II9/体重〜ずつを経口投与
した(薬物投与群)。又、対照群には0.5%CMC液
のみを投与した。薬物投与群のPCA反応抑制率は下式
により求めた。
PCA反応の抑制率(矯 −B −−X  100 A:対照群の前条スポット面積の平均値B:薬物投与群
の前条スポ、ト面積の平均値なお1本試験に於いて用い
た卵アルブミンに対するレアギン様抗体を有する抗血清
は次の方法により得た。即ち体重300〜850gのC
D−8D系雄性う、トに一匹当り11”9の卵アルブミ
ンを生理的食塩水に溶解し筋肉内へ投与し、かつ2 X
 10”個のボルデテラ・ペルッシス(Bordete
lla pertussis )死菌を生理的食塩水に
懸濁し腹腔内へ投与した。その14日後採血分離して抗
血清を得た。
こ\に得た抗血清を上記対照′群における前条スポ、ト
が直径7〜Qsmを示す様に生理的食塩水で稀釈して用
いた。
本試験の結果得られた被験化合物、即ち本発明化合物及
びクロモグリク酸ナトリウムのPCL反応抑制率を次表
に示す。
なお、実施例1〜71に記した化合物の元素分析値を次
表に示す(但し、実施例28.47及び72は除く)。

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 (式中 ulはl又は2H−テトラゾール−5−イル基
    、カルボキシル基又は低級アルコキシカルボニル基を 
    nt 、 Rmは同−又は異なる水素原子、低級アルキ
    ル基、低級アルコキシ基、アリル基、ハロゲン基、トリ
    ハロゲノメチル基。 二Fロ基、アミノ基、ジ低級アルキルアミ7基若しくは
    アシルアミノ基を意味す。但し、1.R1が共に水素の
    場合 nlはl又は2H−テトラゾール−5−イル基を
    意味し ntが)位の塩素でR3が水素の場合、R1は
    1又は2H−テトラゾール−5−イル基又は低級アルフ
    キジカルボニル基を意味する)で表わされるピリミドベ
    ンゾオキサゾール訴導体及びその生体許容塩。
JP57059222A 1982-04-09 1982-04-09 ピリミドベンゾオキサゾ−ル誘導体 Granted JPS58177991A (ja)

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