JPS58171573A - 座標検出電極の形成方法 - Google Patents
座標検出電極の形成方法Info
- Publication number
- JPS58171573A JPS58171573A JP57054580A JP5458082A JPS58171573A JP S58171573 A JPS58171573 A JP S58171573A JP 57054580 A JP57054580 A JP 57054580A JP 5458082 A JP5458082 A JP 5458082A JP S58171573 A JPS58171573 A JP S58171573A
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- JP
- Japan
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- buses
- etching
- detecting
- vertical
- horizontal
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- Pending
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
四 発明の技術分野
本発明はＸＹ座標検出パネルにおける検出電極の形成方
法に関するもので、さらに詳しく言えば指タツチ式の検
出部を構成すあ検出電極となるべき透明導電膜をバター
ニングする際に、縦および横方向の各母線がおかされな
いエツチング液とその組成比に関するものである。
法に関するもので、さらに詳しく言えば指タツチ式の検
出部を構成すあ検出電極となるべき透明導電膜をバター
ニングする際に、縦および横方向の各母線がおかされな
いエツチング液とその組成比に関するものである。
近年各種の高性能のディスプレイ装置が開発されるに及
んで、各種のＸＹ座標検出パネルないしはその製造方法
が盛んに研究されている。このＸＹ座標検出バネ／Ｌ／
（以下単にバネμと略称する）の全貌は第１図に示すよ
うなもので、ガラスまたはサファイヤのような透明な絶
縁基板１上に、縦方向の母線Ｙと横方向の母線Ｘとがそ
れぞれ複数本配設されたものである。そしてその両母線
Ｘ。
んで、各種のＸＹ座標検出パネルないしはその製造方法
が盛んに研究されている。このＸＹ座標検出バネ／Ｌ／
（以下単にバネμと略称する）の全貌は第１図に示すよ
うなもので、ガラスまたはサファイヤのような透明な絶
縁基板１上に、縦方向の母線Ｙと横方向の母線Ｘとがそ
れぞれ複数本配設されたものである。そしてその両母線
Ｘ。
Ｙの交叉点近傍（第１図において点線で囲んだ部分６）
を拡大して描けば第２図に示したようになってお抄、こ
れは上記各母線Ｘ、Ｙと電気的にそれぞれ連結されては
いるが、互いに離されている横方向検出を極２（透明電
極）と縦方向検出電極８（透明電極）とが入り組んだ形
で備わっており、ここでは第２図の一点鎖線で囲んだ検
出部を４として示す。
を拡大して描けば第２図に示したようになってお抄、こ
れは上記各母線Ｘ、Ｙと電気的にそれぞれ連結されては
いるが、互いに離されている横方向検出を極２（透明電
極）と縦方向検出電極８（透明電極）とが入り組んだ形
で備わっており、ここでは第２図の一点鎖線で囲んだ検
出部を４として示す。
ちなみに５はＸ、Ｙ両母線をその交叉点で絶縁するクロ
ス材であって、これは例えばアルミナ（Ａｇ、０３ ）
を材料として作られているものである。
ス材であって、これは例えばアルミナ（Ａｇ、０３ ）
を材料として作られているものである。
ところで上記横方向検出電極２と縦方向検出域ａ！ｉ８
とは、例えばインジウム錫酸化物（ＩｎｄｉｕｍＴｉｎ
０ｘｉｄｅ、以下ＩＴ○と略称する）を材料とする透
明電極であるが、これはＸ、Ｙ＠母線が配設された後に
その上面に一様に工Ｔｏｌｌを被着し。
とは、例えばインジウム錫酸化物（ＩｎｄｉｕｍＴｉｎ
０ｘｉｄｅ、以下ＩＴ○と略称する）を材料とする透
明電極であるが、これはＸ、Ｙ＠母線が配設された後に
その上面に一様に工Ｔｏｌｌを被着し。
レジストを用いて所定の形状にバターニングして互いに
分離して作ったものである。
分離して作ったものである。
＋０１ 従来技術と問題点
しかるにと記両母線Ｘ、Ｙはクローム（Ｏｒ）の上に銅
（Ｃｕ）を配設した総計の厚さが例えば２１１ｍで幅が
１００μｍ程度の２層構造の金属からなっているもので
ある。従来は工ＴＯｗ！４のエツチング液と２しては熱
塩酸（Ｈｏｔ ＨＱＩ ）が用いられて来たが。
（Ｃｕ）を配設した総計の厚さが例えば２１１ｍで幅が
１００μｍ程度の２層構造の金属からなっているもので
ある。従来は工ＴＯｗ！４のエツチング液と２しては熱
塩酸（Ｈｏｔ ＨＱＩ ）が用いられて来たが。
このエツチング液を使用すると、工ＴＯＷＩ４の下にＣ
ｕとｃｒの２重構造からなる母線があるために、Ｃｕが
一緒にｒｇ４食されて行き、ついにはＸ、Ｙ母線が断線
してしまうという欠点がめった。
ｕとｃｒの２重構造からなる母線があるために、Ｃｕが
一緒にｒｇ４食されて行き、ついにはＸ、Ｙ母線が断線
してしまうという欠点がめった。
ｔｃｔ＋ 発明の目的
本発明は１紀従来の欠点に！み、検出ｗＬ極２゜８はき
れいにエツチングされるが、縦横副母線Ｘ。
れいにエツチングされるが、縦横副母線Ｘ。
ＹＦｉはとんどエツチングされないような新規なエツチ
ング液とその組成を提供することを目的とするものであ
る。
ング液とその組成を提供することを目的とするものであ
る。
（θ） 発明の構成
そしてこの目的は、本発明によれば、透明な絶縁基板上
に金属薄膜からなる縦および横方向の各母線を配設し、
その全面を透明導電膜で被覆した債に、リン酸と塩酸の
混α液であって、その組成比が１０対０から５対６の範
囲にあるエツチング准をもって上記透明導電膜を所定形
状にバターニングして、削紀各母線と電気的に連結され
た横および縦方向の各検出を極を形成することを特徴と
する座標検出ｖｔｆｆｉの形成方法を提供することによ
って達成される。
に金属薄膜からなる縦および横方向の各母線を配設し、
その全面を透明導電膜で被覆した債に、リン酸と塩酸の
混α液であって、その組成比が１０対０から５対６の範
囲にあるエツチング准をもって上記透明導電膜を所定形
状にバターニングして、削紀各母線と電気的に連結され
た横および縦方向の各検出を極を形成することを特徴と
する座標検出ｖｔｆｆｉの形成方法を提供することによ
って達成される。
（ｆｌ 発明の夾施例
以下本発明の実施例について詳述する。
すなわち本発明者等はこのエツチング液について多くの
実験を這ねた結果、こうしたバネ〜のいわば多１＃１４
Ｗｊのエツチング液としてはリン酸（Ｈａｐｏ、）とＨ
ＣＩｊが良好な結果をもたらすことを見出し尼、但し、
このＨ３ＰＯ４とＨ（Ｊとの混合比次第では前記母線Ｘ
、ＹのＣｕの腐食が顕著な場合も生じてくるのでさらに
詳細に検討を重ねた結果、第３図のような結果が得られ
ることが判って来た。
実験を這ねた結果、こうしたバネ〜のいわば多１＃１４
Ｗｊのエツチング液としてはリン酸（Ｈａｐｏ、）とＨ
ＣＩｊが良好な結果をもたらすことを見出し尼、但し、
このＨ３ＰＯ４とＨ（Ｊとの混合比次第では前記母線Ｘ
、ＹのＣｕの腐食が顕著な場合も生じてくるのでさらに
詳細に検討を重ねた結果、第３図のような結果が得られ
ることが判って来た。
この図を眺めれば直ちに判るように、エツチング液とし
てＨ３ＰＯ４のみで構成するならば、Ｃｕが腐食をされ
ることなく工ＴＯ膜だけがエツチングされて都合がよい
のであるが、Ｈ３ＰＯ４に亜鉛（Ｚｎ）の粉末を混入し
てエツチング液の活性化を行なっておく必要性がある。
てＨ３ＰＯ４のみで構成するならば、Ｃｕが腐食をされ
ることなく工ＴＯ膜だけがエツチングされて都合がよい
のであるが、Ｈ３ＰＯ４に亜鉛（Ｚｎ）の粉末を混入し
てエツチング液の活性化を行なっておく必要性がある。
そしてｆ（３ＰＯ，とＨＣｌとの比が５対５である場合
には結果はやや良好ではあるが多少Ｃｕが腐食される傾
向は避けられない。またやや結果が良好でｂったのはＨ
３Ｐ０．とＨ（Ｊとの比が６対４の場合であり、特に何
の操作も行わずに最も結果が良好であったのは、上記比
が８対２の場合でおった。
には結果はやや良好ではあるが多少Ｃｕが腐食される傾
向は避けられない。またやや結果が良好でｂったのはＨ
３Ｐ０．とＨ（Ｊとの比が６対４の場合であり、特に何
の操作も行わずに最も結果が良好であったのは、上記比
が８対２の場合でおった。
これに対して上記比が５対５以下から０〜ｌＯの各場合
ではＣｕの腐食の程度が著しく実用的でないということ
が明瞭となった。
ではＣｕの腐食の程度が著しく実用的でないということ
が明瞭となった。
したがって上記エツチング液の組成比は強いてｄうなら
ば１０対Ｏ〜５対５の範囲であるといえる。
ば１０対Ｏ〜５対５の範囲であるといえる。
ちなみにこのエツチンク：操作としては例えば写真現憾
、用のバットのような容轡中に上記エツチング液を満た
し、エツチングを行うべきバネ／Ｌ／ｌ−この中に浸す
ようにすることが一つの方法として考えられる。
、用のバットのような容轡中に上記エツチング液を満た
し、エツチングを行うべきバネ／Ｌ／ｌ−この中に浸す
ようにすることが一つの方法として考えられる。
こうしたことから判るように座標検出電極の形成法に用
いるエツチング液としてはＨ３ＰＯ４とＨＣＩとの混合
液を用い、その組成比をｌθ対２から５対５の軸回に選
ぶことが望ましいが、最も優れていた組成は８対２でめ
るとビえ、これによれば工Ｔｏを充分にバターニングす
る丘でＸ、Ｙ両母線のＣｕＯ縞貧が顧普に進行するおそ
れはなくなる。
いるエツチング液としてはＨ３ＰＯ４とＨＣＩとの混合
液を用い、その組成比をｌθ対２から５対５の軸回に選
ぶことが望ましいが、最も優れていた組成は８対２でめ
るとビえ、これによれば工Ｔｏを充分にバターニングす
る丘でＸ、Ｙ両母線のＣｕＯ縞貧が顧普に進行するおそ
れはなくなる。
リ 発明の効果
以上、詳細に説明したように、座標検出バネｌしにおけ
る横出電榔用として本究明に休るエツチング液を用いれ
ば、Ｘ、Ｙｌ＃母巌を損傷することなく構出電極をバタ
ーニングすることができるために、信顧性、歩留りなど
が大きく向上し、実用上多大の効果が期待できる。
る横出電榔用として本究明に休るエツチング液を用いれ
ば、Ｘ、Ｙｌ＃母巌を損傷することなく構出電極をバタ
ーニングすることができるために、信顧性、歩留りなど
が大きく向上し、実用上多大の効果が期待できる。
第１図はＸ、Ｙ座標検出パネルの全貌を示す図、第２図
は上記第１図中の点線で囲んだ部分６すなわち検出部を
主とした部分の構造を示す図、第８図は本発明に係る座
標検あ電極の形成方法に用いられるエツチング液とその
組成の実験結果を示す図である。 図においてｌは絶縁基板、２．８は横方向および縦方向
の各検出ＩＥ極、４は検出部、５はりｐス材のそれぞれ
を示す。 第１凶 り 第２１′省 第３図
は上記第１図中の点線で囲んだ部分６すなわち検出部を
主とした部分の構造を示す図、第８図は本発明に係る座
標検あ電極の形成方法に用いられるエツチング液とその
組成の実験結果を示す図である。 図においてｌは絶縁基板、２．８は横方向および縦方向
の各検出ＩＥ極、４は検出部、５はりｐス材のそれぞれ
を示す。 第１凶 り 第２１′省 第３図
Claims (1)
- 透明な絶縁基板上に金属薄膜からなる縦および横方向の
各母線を配設し、〜その全面を透明導電膜で被覆した後
に、リン酸と塩酸の混合液で゛あって、その組成比が１
０対０から５対５の範囲にあるエツチング液をもって上
記透明導電膜を所定形状にパターニングして、前記各母
線と電気的に連結された横および縦方向の各検出電極を
形成することを特徴とする座ｌｌｌ検出電極の形成方法
。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP57054580A JPS58171573A (ja) | 1982-03-31 | 1982-03-31 | 座標検出電極の形成方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP57054580A JPS58171573A (ja) | 1982-03-31 | 1982-03-31 | 座標検出電極の形成方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS58171573A true JPS58171573A (ja) | 1983-10-08 |
Family
ID=12974631
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP57054580A Pending JPS58171573A (ja) | 1982-03-31 | 1982-03-31 | 座標検出電極の形成方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS58171573A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US9213376B2 (en) | 2007-04-27 | 2015-12-15 | Tpk Touch Solutions (Xiamen) Inc. | Conductor pattern structure of a capacitive touch panel comprising a plurality of first-axis conductor cells and a plurality of second-axis conductor cells |
| US9454267B2 (en) | 2010-06-12 | 2016-09-27 | Tpk Touch Solutions (Xiamen) Inc. | Touch sensing circuit and method for making the same |
-
1982
- 1982-03-31 JP JP57054580A patent/JPS58171573A/ja active Pending
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US9213376B2 (en) | 2007-04-27 | 2015-12-15 | Tpk Touch Solutions (Xiamen) Inc. | Conductor pattern structure of a capacitive touch panel comprising a plurality of first-axis conductor cells and a plurality of second-axis conductor cells |
| US9557780B2 (en) | 2007-04-27 | 2017-01-31 | Tpk Touch Solutions Inc. | Transparent conductor pattern structure of a capacitive touch panel comprising a plurality of conductor cells |
| US9454267B2 (en) | 2010-06-12 | 2016-09-27 | Tpk Touch Solutions (Xiamen) Inc. | Touch sensing circuit and method for making the same |
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