JPH037877Y2 - - Google Patents

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JPH037877Y2
JPH037877Y2 JP14358684U JP14358684U JPH037877Y2 JP H037877 Y2 JPH037877 Y2 JP H037877Y2 JP 14358684 U JP14358684 U JP 14358684U JP 14358684 U JP14358684 U JP 14358684U JP H037877 Y2 JPH037877 Y2 JP H037877Y2
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thin
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insulating
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JP14358684U
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  • Vessels, Lead-In Wires, Accessory Apparatuses For Cathode-Ray Tubes (AREA)
  • Cathode-Ray Tubes And Fluorescent Screens For Display (AREA)

Description

【考案の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本考案は、ガラスなどの絶縁基板上に薄膜Al
層を配線層として形成した陽極基板を具備する螢
光表示管に関し、特に陽極基板の端子構造に関す
るものである。
〔従来の技術〕
近年、螢光表示管の表示機能が拡大するに伴つ
て陽極基板上での配線密度が著しく増大し、従来
からの厚膜印刷による陽極基板の作成にかえて、
薄膜形成技術を利用して陽極基板を作成する方法
が開発され実用化されている。この種の陽極基板
の作成法としては、構造的に大別して、2層の薄
膜導電層を絶縁層を介して立体的に交叉して形成
するクロスオーバタイプのものと、薄膜導電層を
1層で形成するノンクロスオーバタイプのものと
があるが、いずれのものも薄膜導電層を配線層と
する場合、そのリード端子部分はハンダ付け等に
より基板の外部へ導通をとるため、厚膜印刷によ
る厚膜導電層が形成されている。
第2図aおよびbは従来の螢光表示管において
用いられている陽極基板の一例を示す主要断面図
およびその平面図であり、1つのリード端子部分
を示す。すなわち、従来では、第2図に示すよう
に、絶縁基板としてのガラス基板1上の全面にス
パツタ法等により薄膜Al層を形成したうえ、こ
の薄膜Al層をフオトリソグラフイ技術によりパ
ターニングして陽極などの配線パターンに対応す
る薄膜Al層2を配線層としてそれぞれ形成する
とともに、リード端子部分に対応する薄膜Al層
21を導出導電層として形成する。次いで、この
ガラス基板1上の前記薄膜Al層2を含むほぼ全
面に、ガラスを主成分とする絶縁体ペーストを用
いてスクリーン印刷により厚膜絶縁層3をオーバ
コート層として形成する。これにより、各リード
端子部分となる薄膜Al層21が露出される。し
かる後、この露出した各々の薄膜Al層21上に、
Agを主成分とするAgペーストを用いてスクリー
ン印刷により厚膜Ag層4が前記絶縁層3の端面
3aと所定のギヤツプを有してそれぞれ形成され
ている。
〔考案が解決しようとする問題点〕
しかし、このような従来の陽極基板は、リード
端子部分となる薄膜Al層21の一部22が露出
されているため、その薄膜Al層21と厚膜Ag層
4との境が反応しやすくなる。すなわち、一般に
AlとAgとは高温で合金化するものの、低温(封
着温度450〜500℃)においても両者のイオン半径
が異なるため、イオン半径の小さいAlがイオン
半径の大きいAgの中に入り込む(拡散が起る)
ためにAlの結合が崩壊し、従つてもろくなりや
すい。この現象は両者が空気中にさらされている
場合、特に早く進行することになり、これは酸素
が触媒的な役割をするものと考えられている。そ
の結果、Alの金属結合が崩壊するために、高低
抗となるか又は導通不良となる。また、Alが空
気中に露出した部分があると、その露出部分と封
着部が重なつた場合封着用フリツトガラスが固化
時に収縮し、これに伴なつてAlにも収縮が起り
断線に至ることがある。さらには、作業中に露出
した薄いAl層にキズが入つたりして断線を起こ
すおそれもあつた。
本考案は、かかる点に鑑みてなされたもので、
上記した従来の欠点を解消した螢光表示管を提供
することを目的とする。
〔問題点を解決するための手段〕
このような目的を達成するために、本考案は、
絶縁基板上に薄膜Al層を配線層として形成した
陽極基板を具備する螢光表示管において、前記絶
縁基板上に前記薄膜Al層の各々のリード端子部
分を露出させて絶縁層を形成し、これらリード端
子部分に、該各リード端子部分をそれぞれ被覆す
べく前記絶縁層の一部に重ねて厚膜Ag層を形成
したものである。
〔作用〕
本考案においては、薄膜Al層の露出している
リード端子部分を厚膜Ag層で被覆することによ
り、薄膜Al層の露出部がなくなるので、この薄
Al電層を効果的に保護することができる。
〔実施例〕 第1図aおよびbは本考案の一実施例による陽
極基板の主要断面図およびその平面図であり、同
図において第2図と同一または相当部分は同一符
号を付している。この実施例の陽極基板は、ガラ
ス基板1上の全面に薄膜Al層を形成したうえ、
この薄膜Al層をパターンニングして陽極などの
配線パターンに対応する薄膜Al層2を配線層と
して形成するとともに、リード端子部分に対応す
る薄膜Al層21を導出導電層として形成する点
は第2図に示す従来のものと同様であるが、ガラ
ス基板1上に前記薄膜Al層2の各々のリード端
子部分となる薄膜Al層21を露出させて絶縁層
3を形成し、これらリード端子部分の薄膜Al層
21上に、該各薄膜Al層21をそれぞれ被覆す
べく厚膜Ag層41を前記絶縁層3の一部に重ね
て積層形成したものである。
このように構成された陽極基板は、リード端子
部分となる薄膜Al層21すべてが厚膜Ag層41
で被覆されるので、このAl層21は、上述した
従来のように、封着用フリツトガラスと接するこ
とがなくなり、そのフリツトガラスとの反応もな
く断線の発生がなくなる。また、作業中にキズが
入ることもなく、キズによる断線のおそれもなく
なるとともに、薄膜Al層21と厚膜Ag層41と
の境の反応もなくなる等の利点を奏する。
〔考案の効果〕
以上説明したように、本考案に係る螢光表示管
によれば、陽極基板上のリード端子部分となる薄
Al電層のすべてを被覆することにより、この薄
膜Al層にキズが入つたり、断線の発生もなくな
り、しかも厚膜Ag層との境の反応もなくなるの
で、配線の信頼性向上にすぐれた効果がある。
【図面の簡単な説明】
第1図aおよびbは本考案の一実施例における
陽極基板の主要断面図およびその平面図、第2図
aおよびbは従来の一例を示す陽極基板の主要断
面図およびその平面図である。 1……ガラス基板、2……薄膜Al層、21…
…リード端子部分の薄膜Al層、3……絶縁層、
41……厚膜Ag層。

Claims (1)

    【実用新案登録請求の範囲】
  1. 絶縁基板上に薄膜Al層を配線層として形成し
    た陽極基板を具備する螢光表示管において、前記
    絶縁基板上に前記薄膜Al層の各々のリード端子
    部分を露出させて絶縁層を形成し、これらリード
    端子部分に、該各リード端子部分をそれぞれ被覆
    すべく前記絶縁層の一部に重ねて厚膜Ag層を形
    成したことを特徴とする螢光表示管。
JP14358684U 1984-09-25 1984-09-25 Expired JPH037877Y2 (ja)

Priority Applications (1)

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JP14358684U JPH037877Y2 (ja) 1984-09-25 1984-09-25

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JP14358684U JPH037877Y2 (ja) 1984-09-25 1984-09-25

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Publication Number Publication Date
JPS6160455U JPS6160455U (ja) 1986-04-23
JPH037877Y2 true JPH037877Y2 (ja) 1991-02-27

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