JPS58168272A - Mis形半導体記憶装置 - Google Patents

Mis形半導体記憶装置

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JPS58168272A
JPS58168272A JP57050085A JP5008582A JPS58168272A JP S58168272 A JPS58168272 A JP S58168272A JP 57050085 A JP57050085 A JP 57050085A JP 5008582 A JP5008582 A JP 5008582A JP S58168272 A JPS58168272 A JP S58168272A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
transistors
bit line
transistor
voltage
memory device
Prior art date
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Pending
Application number
JP57050085A
Other languages
English (en)
Inventor
Keizo Aoyama
青山 慶三
Takahiko Yamauchi
山内 隆彦
Teruo Seki
照夫 関
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Fujitsu Ltd
Original Assignee
Fujitsu Ltd
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Filing date
Publication date
Application filed by Fujitsu Ltd filed Critical Fujitsu Ltd
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Priority to DE8383301617T priority patent/DE3364334D1/de
Priority to EP19830301617 priority patent/EP0090591B1/en
Priority to IE71683A priority patent/IE54670B1/en
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Pending legal-status Critical Current

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    • GPHYSICS
    • G11INFORMATION STORAGE
    • G11CSTATIC STORES
    • G11C7/00Arrangements for writing information into, or reading information out from, a digital store
    • G11C7/10Input/output [I/O] data interface arrangements, e.g. I/O data control circuits, I/O data buffers
    • G11C7/1006Data managing, e.g. manipulating data before writing or reading out, data bus switches or control circuits therefor
    • GPHYSICS
    • G11INFORMATION STORAGE
    • G11CSTATIC STORES
    • G11C11/00Digital stores characterised by the use of particular electric or magnetic storage elements; Storage elements therefor
    • G11C11/21Digital stores characterised by the use of particular electric or magnetic storage elements; Storage elements therefor using electric elements
    • G11C11/34Digital stores characterised by the use of particular electric or magnetic storage elements; Storage elements therefor using electric elements using semiconductor devices
    • G11C11/40Digital stores characterised by the use of particular electric or magnetic storage elements; Storage elements therefor using electric elements using semiconductor devices using transistors
    • G11C11/41Digital stores characterised by the use of particular electric or magnetic storage elements; Storage elements therefor using electric elements using semiconductor devices using transistors forming static cells with positive feedback, i.e. cells not needing refreshing or charge regeneration, e.g. bistable multivibrator or Schmitt trigger
    • G11C11/413Auxiliary circuits, e.g. for addressing, decoding, driving, writing, sensing, timing or power reduction
    • G11C11/417Auxiliary circuits, e.g. for addressing, decoding, driving, writing, sensing, timing or power reduction for memory cells of the field-effect type
    • G11C11/419Read-write [R-W] circuits

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 α) −明の技術分野 本−明は、ビット線からデータバスへの情報0転道連駅
を早めることによってアクセスタイムを蝋細し九MIS
形牛導体記憶装置に関する。
(り 技術の背景 一般に%MIS形半導体記憶装置においては、マトリク
ス状に配設され九メモリセルのうち行デコーダによって
選択され九メモリセルが対応するビット線に接続され、
かつ骸ビット線を列デコーダによって制御されるトラン
スファゲートを介して5−ターにall!シ、該データ
線から読み出しデータを暇り出す、したがって、骸トラ
ンスファゲートがオフからオンの状態になる場合の立上
が9速度等骸トランスファゲートの性能がアクセスタイ
ムに影譬を与える。
(3)  従来技術と間聰点 従来MIS形半導体配憶vkIllにおいては、ビット
−とデータ線との間に設けられたトランスファゲートと
して骸記憶装龜の他の回路部分と同じしきい筐を有する
エンハンスメント形トランジスタを使用していた。その
ため、#J記従従来においては、トランス7アゲートを
構成するトランジスタのしきい籠が高く、したがって該
トランジスタのゲートソース間電圧が充分大きくならな
ければ骸トランジスタが導通せず、したがって列デコー
ダから印加される列選択信号がかな)高レベルになるま
で該トランジスタが導通しなか〜た。そのため、ビット
線からデータ線への情報の転送速度が遍くなシ、したが
って半導体記憶装置のアクセスタイムが長くなるという
不都合があった。
(4)  −明の目的 本発明の目的は、―述O従来形における間聰点に1み、
MIa形半導体記憶装置において、ビット線とデータ線
とのMKIkけられ次トランスファケートをし自い籠の
低いエンハンスメント形トランジスタを用いて構成する
という構想に基づき、ビット線からデータ線へO情報の
転送連at遁くし、記憶tiiiのアクセスタイムを蝋
−することKある。
(5)  発明の構成    “ そしてこの目的は、本発明によれば、ビット−、ワード
線、該ビット伽と骸ワード線との交轟に配設されたメモ
リセル、データ線、および鋏ビット線ト該デーメ纏との
間にII!絖されたトランスファゲート用トランジスタ
を真備し、該トランスファゲート用トランジスタをオン
とすることによって該メモリセルからの情1ill(I
F号を該ビット線を介して皺データ繍に読み出すMIS
形半導体記憶装置において、該トランス7アゲート用ト
ランジスメを皺記憶装置円の他の回路部分に使用される
エンハンスメント形トランジスタより低いしきい筐を有
するMIS形トランジスタで構成したことを特徴とする
MIa形半導体配憶装置を提供することによって連成さ
れる。
(6)  1il明の実施り 以下、図面を用いて本−明の実施例を説明する。
観1図は、本発明の1実施例に係るMIS形半導体記憶
Il!置装構成を部分的に示す、lW1図に門いて、B
L、BLは1対のビット線でTo9、皺ビット線BLお
よびBLはそれぞれ負荷トランジスタQlおよびQ、を
介して電源VccK接繍されている。トランジスタらな
いしqおよび抵抗R1およびへはいわゆるフリップフロ
ップ形のメモリセルを構成し。
トランジスタQ、およびqは該メモリセルとビット線対
BL 、BLと接続するゲート回路を構成している。該
トランジスタQ、およびQ4はワード線WLに接続され
、ワード線WLは行デコーダRDKil続されている。
また、ピッ)fiBLおよびBLはそれぞれトランスフ
ァゲートを構成するトランジスタ9丁および偽を介して
データ一対を゛構成する各データ線DBおよびDB K
接線されている。トランジスタQ7および−のゲートは
共に判デコーダCDに接線されている。またトランジス
タQおよび偽のゲートソース間電圧のしきいI[は、該
牛導□体記憶餉皺の他の回III!部分に均いられてい
るエンハンスメント形トランジスタのしきい値より低く
な−ている。すなわち、一般に111図に示すような半
4体記憶装置に使用されているエンハンスメント形トラ
ンジスタのし龜い籠電圧は例えば0.7ナイし0.9 
V−C”あるが、@1klo19j@におけるトランジ
スタQ7および偽のしきい甑はこの籠より低くまたOよ
シ大きな鎗に設定されている。
@1図の回路の動作を説明する0あるメモリセルから情
報taみ出す場合は対応する行デコーダRDKよってワ
ード1iWLを高レベルにしてメモリセルからの信号を
トランジスタQ3およびqを介してビット線BLおよび
BLK叡り出すとともに、判デコーダCDによってトラ
ンス7アゲートを桟取するトランジスタQ、およ、びQ
、を導通させメモリセルからの・情報をビット#BLお
よびBLからデータIDBおよびDBに散う出し、図示
しないセンスアンプtqして出力する。
この−合、例えばI!214%ム(a)に示すように、
従来形においてはトランジスタQ7およびQ、のしきい
飯が大きいので1行デコーダRDによってメモリセルの
電圧がビットMBLおよびBLK叡り出されてビットI
Ij!BLおよびBLの電圧が交差し友時点から該ビッ
ト線の電圧変1!がデータ細DBおよびDBに転送され
てデータ線DBおよびDBの電圧が交差する時点までの
時間td、がかなシ長くなる。
すなわち、りUデコーダCDの出力電圧Yが上昇してビ
ット1iiiBLの電圧との差がトランジスタ瞭および
偽のゲートソース間電圧のしきい厘を越えた時に初めて
トランジスタQ7およびQ、が導通し、ビット線の電圧
がデータ總に転送されるが、トランジスタQ7および電
のゲートソース間電圧のしきい値が大きいために列デコ
ーダCDの出力電圧とピッ)IilBLの電圧との差が
かなり大きくなるまでトランジスタQ7および1が導通
しない。そのため。
夕IJデコーダCDの出力電圧Yが立上りはじめてから
かなりの時間を経過したのちに初めてトランジスタQ7
および電が導通するなめアクセスタイムがか謙り長くな
る。
これに対して本発明の爽施内に係る半導体記憶装置にお
いては、トランジスタQ7およびQ8のしきい値電圧を
低くしであるので、112図(bl K示すように、列
デコーダCDの出力電圧Yが立上り始めてから短時間で
該電圧Yとピノ)iiBLの電圧との差がトランジスタ
Qt、Qi=のしきい値電圧より大きくなり、醸トラン
ジスタQ、、 Q、、が速やかに導通を開始する。した
がりて、ピッ)mBLおよびBLの1圧変化は急速にデ
ータI!DBおよびDBに転送され、ビット線電圧の交
点からデータ鎧電圧の交点に至る時間td、が非常に小
さくなる。tた、トランジスタQ、およびへのしきい値
電圧を小さくすることKより、−じゲートソース間驚、
圧の場合に従来形に比しトランジスタのgm を大きく
することができるため、ビット線からデータ紐への情報
の転送速度をさらに速くすることができる。
なお、上述においてはMI8スタチイック形ラソランダ
ムアクセスメモリについて説明したが1本発明はこれに
限らずビット線とデータバスとの間にトランスファゲー
ト用のトランジスタを具備するすべての記憶装置K適用
できることは明らかである。
(7)発明の効果 このように、本発明によれば、回路構成を全く変罠する
ことなくビット線からデータバスへの情報の転送速度を
上昇させることができ、半導体記憶装置のアクセスタイ
ムを短縮することができる。
【図面の簡単な説明】
第1図は本発明のl実施IpHに係るMIS形手番手導
体記憶装置放を示す部分的プロンク回路囚、そして 182図−)および11112図ら)はそれぞれ従来形
および本−明0実mガに係る半導体記憶*mの動作を説
明するための波形図である。 BL、BL・・・・・・ビットI1.WL・・・・・・
ワード線。 DB、DB・・・・・・データバス−Qs−Qs・・・
・・・負荷トランジスタ% Qz* Q4* QB+ 
Q@・・・・・・メ49セル用トランジスタ、Qy、Q
a・・・・・・トランス7アゲート用トランジスタ、R
t、Rm・・・・・・負荷IIk抗、RD・・・・・・
行デコー/、CD・・・・・・列デコーダ。 特許出動人 冨士通株式会社 特許出願代理人 弁理士 育 木    朗 弁理士 画 舘 和 之 弁理士 円 1)阜 男 弁理士 山 口 昭 之

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. ビット線、ワード線、l[ビット線と該ワード線との交
    点に配設されたメモリセル、データ線、および該ビット
    線と骸データ曽との聞Kli’絖され九トランスファゲ
    ート用トランジスタを具備し、□該トランスファゲート
    用トランジスタをオンとすることによって該メモリセル
    からの情報傷号を該ビット線を介して骸データーK1m
    み出すMIS形半導体記憶装置1において、該トランス
    7アゲート用トランジスタを鋏記憶装置円の他の一1i
    部分に使用されるエンハンスメント形トランジスタよシ
    低いし暑い墓を有するMIS形Fランジスタで構成し九
    ことを特徴とするMISy#半導体記憶装置。
JP57050085A 1982-03-30 1982-03-30 Mis形半導体記憶装置 Pending JPS58168272A (ja)

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JP57050085A JPS58168272A (ja) 1982-03-30 1982-03-30 Mis形半導体記憶装置
DE8383301617T DE3364334D1 (en) 1982-03-30 1983-03-23 Semiconductor memory device
EP19830301617 EP0090591B1 (en) 1982-03-30 1983-03-23 Semiconductor memory device
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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US4195356A (en) * 1978-11-16 1980-03-25 Electronic Memories And Magnetics Corporation Sense line termination circuit for semiconductor memory systems

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EP0090591A3 (en) 1984-08-15
EP0090591B1 (en) 1986-07-02
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