JPS58162576A - イミダゾ−ル誘導体の製造法 - Google Patents
イミダゾ−ル誘導体の製造法Info
- Publication number
- JPS58162576A JPS58162576A JP57043721A JP4372182A JPS58162576A JP S58162576 A JPS58162576 A JP S58162576A JP 57043721 A JP57043721 A JP 57043721A JP 4372182 A JP4372182 A JP 4372182A JP S58162576 A JPS58162576 A JP S58162576A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- methylimidazole
- reaction
- cysteamine
- formula
- aminoethyl
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
- 150000002460 imidazoles Chemical class 0.000 title 1
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 claims abstract description 26
- UFULAYFCSOUIOV-UHFFFAOYSA-N cysteamine Chemical compound NCCS UFULAYFCSOUIOV-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 15
- 229960003151 mercaptamine Drugs 0.000 claims abstract description 15
- 150000003242 quaternary ammonium salts Chemical class 0.000 claims abstract description 15
- JEOZNMMOIBLWLV-UHFFFAOYSA-N 2-[(5-methyl-1h-imidazol-4-yl)methylsulfanyl]ethanamine Chemical compound CC=1N=CNC=1CSCCN JEOZNMMOIBLWLV-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 9
- 125000004433 nitrogen atom Chemical group N* 0.000 claims abstract description 7
- -1 alkali metal alkoxide Chemical class 0.000 claims abstract description 6
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 claims abstract description 5
- 239000002253 acid Substances 0.000 claims abstract description 4
- 125000003342 alkenyl group Chemical group 0.000 claims abstract description 4
- 125000003710 aryl alkyl group Chemical group 0.000 claims abstract description 4
- 125000000623 heterocyclic group Chemical group 0.000 claims abstract description 4
- 229910052783 alkali metal Inorganic materials 0.000 claims abstract description 3
- 239000003518 caustics Substances 0.000 claims abstract description 3
- 239000003495 polar organic solvent Substances 0.000 claims abstract description 3
- 239000003513 alkali Substances 0.000 claims abstract 2
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 claims description 24
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 17
- 125000002496 methyl group Chemical group [H]C([H])([H])* 0.000 claims description 7
- ZCYVEMRRCGMTRW-UHFFFAOYSA-N 7553-56-2 Chemical group [I] ZCYVEMRRCGMTRW-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- 229910052740 iodine Inorganic materials 0.000 claims description 4
- 239000011630 iodine Substances 0.000 claims description 4
- OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N Methanol Chemical compound OC OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 23
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 abstract description 17
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 13
- XLSZMDLNRCVEIJ-UHFFFAOYSA-N 4-methylimidazole Chemical compound CC1=CNC=N1 XLSZMDLNRCVEIJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 6
- 150000003512 tertiary amines Chemical class 0.000 abstract description 6
- 229940122957 Histamine H2 receptor antagonist Drugs 0.000 abstract description 2
- 208000025865 Ulcer Diseases 0.000 abstract description 2
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 abstract description 2
- 239000003485 histamine H2 receptor antagonist Substances 0.000 abstract description 2
- 231100000397 ulcer Toxicity 0.000 abstract description 2
- 230000029936 alkylation Effects 0.000 abstract 1
- 238000005804 alkylation reaction Methods 0.000 abstract 1
- 239000003814 drug Substances 0.000 abstract 1
- DMMJRSZZJPTYFU-UHFFFAOYSA-M trimethyl-[(5-methyl-1h-imidazol-4-yl)methyl]azanium;iodide Chemical compound [I-].CC=1NC=NC=1C[N+](C)(C)C DMMJRSZZJPTYFU-UHFFFAOYSA-M 0.000 abstract 1
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 21
- 239000002994 raw material Substances 0.000 description 10
- KWYUFKZDYYNOTN-UHFFFAOYSA-M Potassium hydroxide Chemical compound [OH-].[K+] KWYUFKZDYYNOTN-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 9
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 9
- 238000003756 stirring Methods 0.000 description 8
- NTYJJOPFIAHURM-UHFFFAOYSA-N Histamine Chemical compound NCCC1=CN=CN1 NTYJJOPFIAHURM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 239000002585 base Substances 0.000 description 6
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 description 6
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N Sulfuric acid Chemical compound OS(O)(=O)=O QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 230000002378 acidificating effect Effects 0.000 description 4
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 4
- 150000003839 salts Chemical class 0.000 description 4
- OGMADIBCHLQMIP-UHFFFAOYSA-N 2-aminoethanethiol;hydron;chloride Chemical compound Cl.NCCS OGMADIBCHLQMIP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-N Acetic acid Chemical compound CC(O)=O QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- YNAVUWVOSKDBBP-UHFFFAOYSA-N Morpholine Chemical group C1COCCN1 YNAVUWVOSKDBBP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- VRIFPEPYORJLHN-UHFFFAOYSA-N NC#N.COC(=S)SC Chemical compound NC#N.COC(=S)SC VRIFPEPYORJLHN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M Sodium hydroxide Chemical compound [OH-].[Na+] HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 3
- 239000013078 crystal Substances 0.000 description 3
- 229940097265 cysteamine hydrochloride Drugs 0.000 description 3
- 229960001340 histamine Drugs 0.000 description 3
- FUKUFMFMCZIRNT-UHFFFAOYSA-N hydron;methanol;chloride Chemical compound Cl.OC FUKUFMFMCZIRNT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- INQOMBQAUSQDDS-UHFFFAOYSA-N iodomethane Chemical compound IC INQOMBQAUSQDDS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229940044551 receptor antagonist Drugs 0.000 description 3
- 239000002464 receptor antagonist Substances 0.000 description 3
- QDRKDTQENPPHOJ-UHFFFAOYSA-N sodium ethoxide Chemical compound [Na+].CC[O-] QDRKDTQENPPHOJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- UVDNQCJTLKYZME-UHFFFAOYSA-N 2-[(5-methyl-1h-imidazol-2-yl)methylsulfanyl]ethanamine Chemical compound CC1=CN=C(CSCCN)N1 UVDNQCJTLKYZME-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- LXBGSDVWAMZHDD-UHFFFAOYSA-N 2-methyl-1h-imidazole Chemical compound CC1=NC=CN1 LXBGSDVWAMZHDD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N Hydrochloric acid Chemical compound Cl VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- AFVFQIVMOAPDHO-UHFFFAOYSA-N Methanesulfonic acid Chemical compound CS(O)(=O)=O AFVFQIVMOAPDHO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- UIIMBOGNXHQVGW-UHFFFAOYSA-M Sodium bicarbonate Chemical compound [Na+].OC([O-])=O UIIMBOGNXHQVGW-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- WQDUMFSSJAZKTM-UHFFFAOYSA-N Sodium methoxide Chemical compound [Na+].[O-]C WQDUMFSSJAZKTM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000002168 alkylating agent Substances 0.000 description 2
- 229940100198 alkylating agent Drugs 0.000 description 2
- 150000001450 anions Chemical class 0.000 description 2
- 239000007864 aqueous solution Substances 0.000 description 2
- GDTBXPJZTBHREO-UHFFFAOYSA-N bromine Substances BrBr GDTBXPJZTBHREO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052794 bromium Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910052801 chlorine Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000000460 chlorine Substances 0.000 description 2
- 239000013065 commercial product Substances 0.000 description 2
- DZGCGKFAPXFTNM-UHFFFAOYSA-N ethanol;hydron;chloride Chemical compound Cl.CCO DZGCGKFAPXFTNM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000001495 ethyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 2
- 238000002474 experimental method Methods 0.000 description 2
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 2
- 238000009776 industrial production Methods 0.000 description 2
- 230000003472 neutralizing effect Effects 0.000 description 2
- 239000002244 precipitate Substances 0.000 description 2
- BDERNNFJNOPAEC-UHFFFAOYSA-N propan-1-ol Chemical compound CCCO BDERNNFJNOPAEC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000010992 reflux Methods 0.000 description 2
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 2
- JOXIMZWYDAKGHI-UHFFFAOYSA-N toluene-4-sulfonic acid Chemical compound CC1=CC=C(S(O)(=O)=O)C=C1 JOXIMZWYDAKGHI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- AXJZCJSXNZZMDU-UHFFFAOYSA-N (5-methyl-1h-imidazol-4-yl)methanol Chemical compound CC=1N=CNC=1CO AXJZCJSXNZZMDU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NWUYHJFMYQTDRP-UHFFFAOYSA-N 1,2-bis(ethenyl)benzene;1-ethenyl-2-ethylbenzene;styrene Chemical compound C=CC1=CC=CC=C1.CCC1=CC=CC=C1C=C.C=CC1=CC=CC=C1C=C NWUYHJFMYQTDRP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CNMUGSJVSYLQOX-UHFFFAOYSA-N 2-(1h-imidazol-5-ylmethylsulfanyl)ethanamine Chemical compound NCCSCC1=CNC=N1 CNMUGSJVSYLQOX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000000022 2-aminoethyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])N([H])[H] 0.000 description 1
- 125000003903 2-propenyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])=C([H])[H] 0.000 description 1
- BMYNFMYTOJXKLE-UHFFFAOYSA-N 3-azaniumyl-2-hydroxypropanoate Chemical compound NCC(O)C(O)=O BMYNFMYTOJXKLE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KCNIZWOQRIXMCR-UHFFFAOYSA-N 4-(2-sulfanylethyl)isoindole-1,3-dione Chemical compound SCCC1=CC=CC2=C1C(=O)NC2=O KCNIZWOQRIXMCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- APZXPRHPPCTRHN-UHFFFAOYSA-N 4-(chloromethyl)-5-methyl-1h-imidazole Chemical compound CC=1NC=NC=1CCl APZXPRHPPCTRHN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PPWIQMPCJPFEFN-UHFFFAOYSA-N 4-[(5-methyl-1h-imidazol-4-yl)methyl]morpholine Chemical compound N1C=NC(CN2CCOCC2)=C1C PPWIQMPCJPFEFN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QCQCHGYLTSGIGX-GHXANHINSA-N 4-[[(3ar,5ar,5br,7ar,9s,11ar,11br,13as)-5a,5b,8,8,11a-pentamethyl-3a-[(5-methylpyridine-3-carbonyl)amino]-2-oxo-1-propan-2-yl-4,5,6,7,7a,9,10,11,11b,12,13,13a-dodecahydro-3h-cyclopenta[a]chrysen-9-yl]oxy]-2,2-dimethyl-4-oxobutanoic acid Chemical compound N([C@@]12CC[C@@]3(C)[C@]4(C)CC[C@H]5C(C)(C)[C@@H](OC(=O)CC(C)(C)C(O)=O)CC[C@]5(C)[C@H]4CC[C@@H]3C1=C(C(C2)=O)C(C)C)C(=O)C1=CN=CC(C)=C1 QCQCHGYLTSGIGX-GHXANHINSA-N 0.000 description 1
- UGYXPZQILZRKJJ-UHFFFAOYSA-N 4-methylhistamine Chemical compound CC=1NC=NC=1CCN UGYXPZQILZRKJJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VHUUQVKOLVNVRT-UHFFFAOYSA-N Ammonium hydroxide Chemical compound [NH4+].[OH-] VHUUQVKOLVNVRT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WKBOTKDWSSQWDR-UHFFFAOYSA-N Bromine atom Chemical compound [Br] WKBOTKDWSSQWDR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZAMOUSCENKQFHK-UHFFFAOYSA-N Chlorine atom Chemical compound [Cl] ZAMOUSCENKQFHK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DGAQECJNVWCQMB-PUAWFVPOSA-M Ilexoside XXIX Chemical compound C[C@@H]1CC[C@@]2(CC[C@@]3(C(=CC[C@H]4[C@]3(CC[C@@H]5[C@@]4(CC[C@@H](C5(C)C)OS(=O)(=O)[O-])C)C)[C@@H]2[C@]1(C)O)C)C(=O)O[C@H]6[C@@H]([C@H]([C@@H]([C@H](O6)CO)O)O)O.[Na+] DGAQECJNVWCQMB-PUAWFVPOSA-M 0.000 description 1
- 238000006683 Mannich reaction Methods 0.000 description 1
- ZLMJMSJWJFRBEC-UHFFFAOYSA-N Potassium Chemical compound [K] ZLMJMSJWJFRBEC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RWRDLPDLKQPQOW-UHFFFAOYSA-N Pyrrolidine Chemical group C1CCNC1 RWRDLPDLKQPQOW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000001298 alcohols Chemical class 0.000 description 1
- 230000002152 alkylating effect Effects 0.000 description 1
- 150000001412 amines Chemical class 0.000 description 1
- 125000003277 amino group Chemical group 0.000 description 1
- 235000011114 ammonium hydroxide Nutrition 0.000 description 1
- 238000010923 batch production Methods 0.000 description 1
- 125000001797 benzyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(C([H])=C1[H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 125000001246 bromo group Chemical group Br* 0.000 description 1
- 239000006227 byproduct Substances 0.000 description 1
- 239000003153 chemical reaction reagent Substances 0.000 description 1
- 239000007810 chemical reaction solvent Substances 0.000 description 1
- 239000003638 chemical reducing agent Substances 0.000 description 1
- 125000001309 chloro group Chemical group Cl* 0.000 description 1
- 238000011033 desalting Methods 0.000 description 1
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 1
- PSLIMVZEAPALCD-UHFFFAOYSA-N ethanol;ethoxyethane Chemical compound CCO.CCOCC PSLIMVZEAPALCD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000001704 evaporation Methods 0.000 description 1
- 229910052731 fluorine Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000012458 free base Substances 0.000 description 1
- 229910052736 halogen Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000002367 halogens Chemical class 0.000 description 1
- IXCSERBJSXMMFS-UHFFFAOYSA-N hydrogen chloride Substances Cl.Cl IXCSERBJSXMMFS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910000041 hydrogen chloride Inorganic materials 0.000 description 1
- XMBWDFGMSWQBCA-UHFFFAOYSA-N hydrogen iodide Chemical compound I XMBWDFGMSWQBCA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000002883 imidazolyl group Chemical group 0.000 description 1
- PNDPGZBMCMUPRI-UHFFFAOYSA-N iodine Chemical compound II PNDPGZBMCMUPRI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000002497 iodine compounds Chemical group 0.000 description 1
- 239000003456 ion exchange resin Substances 0.000 description 1
- 229920003303 ion-exchange polymer Polymers 0.000 description 1
- 238000002955 isolation Methods 0.000 description 1
- 229940098779 methanesulfonic acid Drugs 0.000 description 1
- QNJKCKMBDGMOHY-UHFFFAOYSA-N n,n-dimethyl-1-(5-methyl-1h-imidazol-4-yl)methanamine Chemical compound CN(C)CC=1N=CNC=1C QNJKCKMBDGMOHY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000006386 neutralization reaction Methods 0.000 description 1
- 125000001557 phthalyl group Chemical group C(=O)(O)C1=C(C(=O)*)C=CC=C1 0.000 description 1
- 125000003386 piperidinyl group Chemical group 0.000 description 1
- 229920001467 poly(styrenesulfonates) Polymers 0.000 description 1
- 229910052700 potassium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011591 potassium Substances 0.000 description 1
- 239000000047 product Substances 0.000 description 1
- 125000006239 protecting group Chemical group 0.000 description 1
- 230000035484 reaction time Effects 0.000 description 1
- 238000001953 recrystallisation Methods 0.000 description 1
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 1
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 1
- 229910052708 sodium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011734 sodium Substances 0.000 description 1
- 229910000030 sodium bicarbonate Inorganic materials 0.000 description 1
- 235000017557 sodium bicarbonate Nutrition 0.000 description 1
- 239000012279 sodium borohydride Substances 0.000 description 1
- 229910000033 sodium borohydride Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000001179 sorption measurement Methods 0.000 description 1
- 239000007858 starting material Substances 0.000 description 1
- 125000001424 substituent group Chemical group 0.000 description 1
- 150000003460 sulfonic acids Chemical class 0.000 description 1
- 230000002194 synthesizing effect Effects 0.000 description 1
- 229940126585 therapeutic drug Drugs 0.000 description 1
- 238000005406 washing Methods 0.000 description 1
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は式
〔式中H1,Ha 、 R3は同一または異なって低級
アルキル基、アルケニル基、アラルキル基を示し、R1
およびR2は隣接する窒素原子と共に異項環を形成して
本よい。 Qは酸残基を示す〕で表わされる四級アン
モニウム塩をシステアミンと反応させることを特徴とす
る4−(2−アミノエチル)チオメチル−5−メチルイ
ミダゾールの製造法に関する。
アルキル基、アルケニル基、アラルキル基を示し、R1
およびR2は隣接する窒素原子と共に異項環を形成して
本よい。 Qは酸残基を示す〕で表わされる四級アン
モニウム塩をシステアミンと反応させることを特徴とす
る4−(2−アミノエチル)チオメチル−5−メチルイ
ミダゾールの製造法に関する。
本発明の方法によシ製造される4−(2−アミノエチル
)チオメチル−5−メチルイミダゾールは、ヒスタミン
H2−受容体拮抗剤として知られる潰瘍治療薬の製造中
間体として有用である。
)チオメチル−5−メチルイミダゾールは、ヒスタミン
H2−受容体拮抗剤として知られる潰瘍治療薬の製造中
間体として有用である。
従来、4−(2−アミノエチル)チオメチル−5−メチ
ルイミダゾールの製造法としていくつかの方法が提案さ
れている。 それら製造法のうち代表的な二法:〔ム
コ4−ヒドロキシメチル−5−メチルイミダゾールとシ
ステアミンを酸性条件下に加熱する方法r CB)
’−クロルメチルー5−メチルイミダゾールとシステア
ミンを塩基性条件下に反応させる方法:が特開昭4ツ一
23411号に記載されている。
ルイミダゾールの製造法としていくつかの方法が提案さ
れている。 それら製造法のうち代表的な二法:〔ム
コ4−ヒドロキシメチル−5−メチルイミダゾールとシ
ステアミンを酸性条件下に加熱する方法r CB)
’−クロルメチルー5−メチルイミダゾールとシステア
ミンを塩基性条件下に反応させる方法:が特開昭4ツ一
23411号に記載されている。
しかしこれら上記の方法には工業的製法として適さない
いくつかの問題点が指摘される。
いくつかの問題点が指摘される。
すなわち〔A法〕では1強酸性条件下での長時間の加熱
還流が要求され、しかも反応後には使用した強酸性溶媒
の完全な留去が必要であ、る。
還流が要求され、しかも反応後には使用した強酸性溶媒
の完全な留去が必要であ、る。
ま九原料となる番−ヒドロキシメチル−5−メチルイミ
ダゾールはその簡便な製造法がない比較的高価な化合物
である。 次にCB)法は。
ダゾールはその簡便な製造法がない比較的高価な化合物
である。 次にCB)法は。
〔A〕法に比べ収率が劣りその改善には本来経済的でな
いシステアミンのフタリル基による保護が必要となる。
いシステアミンのフタリル基による保護が必要となる。
しかも原料の4−クールメチル−5−メチルイミダ
ゾールの入手には[A)法の原料である4−ヒドロキシ
メチル−5−メチルイミダゾールをクロル化する必要が
ある。
ゾールの入手には[A)法の原料である4−ヒドロキシ
メチル−5−メチルイミダゾールをクロル化する必要が
ある。
また本発明者らが実験等により得九知見によれば、4−
(2−アミノエチル)チオメチル−5−メチルイミダゾ
ールの製法として知られる上記以外の方法は、各製造工
程の収率が低かったりあるいは高価な試薬や煩雑な操作
を必要とするなど、工業的製法としては全て適さないも
のである。
(2−アミノエチル)チオメチル−5−メチルイミダゾ
ールの製法として知られる上記以外の方法は、各製造工
程の収率が低かったりあるいは高価な試薬や煩雑な操作
を必要とするなど、工業的製法としては全て適さないも
のである。
本発明者らはこれらの事情を考慮し、4−(2−アミノ
エチル)チオメチル−5−メチルイミダゾールのさらに
安価で有利な製造法を確立すべく検討を行なった結果1
式(1)の四級アンモニウム塩がシステアミンとの反応
によシ容易に目的の4−(2−アミノエチル)チオメチ
ル−5−メチルイミダゾールへ転換されることを知った
。
エチル)チオメチル−5−メチルイミダゾールのさらに
安価で有利な製造法を確立すべく検討を行なった結果1
式(1)の四級アンモニウム塩がシステアミンとの反応
によシ容易に目的の4−(2−アミノエチル)チオメチ
ル−5−メチルイミダゾールへ転換されることを知った
。
また本発明者らは、その四級アンモニウム塩(1)が経
済的製法によシ容易に入手できる原料であり、この種の
中間体として従来の化合物にはない多くの利点を有する
ことを発見して本発明を完成した。
済的製法によシ容易に入手できる原料であり、この種の
中間体として従来の化合物にはない多くの利点を有する
ことを発見して本発明を完成した。
本発明の製法の原料である四級アンモニウム塩は式(1
)で表わされる。 式(11のR1、R2゜R3で示
される置換基は、同一または異なって低級アルキル基、
アルケニル基、アラルキル基またはそのうち2つが隣接
する窒素原子と共に異項環を形成するものを表わし、そ
の具体例には。
)で表わされる。 式(11のR1、R2゜R3で示
される置換基は、同一または異なって低級アルキル基、
アルケニル基、アラルキル基またはそのうち2つが隣接
する窒素原子と共に異項環を形成するものを表わし、そ
の具体例には。
メチル基、エチル基、アリル基、ベンジル基または窒素
原子と共にピロリジン環、ピペリジン環もしくはモルホ
リン環を形成するものなどがある。 またQは酸残基
であり、具体的には塩素、臭素、ヨウ素のハロゲン、メ
タンスルホン酸、p−トルエンスルホン酸などの有機ス
ルホン酸、あるいは硫酸などのアニオンが挙げられる。
原子と共にピロリジン環、ピペリジン環もしくはモルホ
リン環を形成するものなどがある。 またQは酸残基
であり、具体的には塩素、臭素、ヨウ素のハロゲン、メ
タンスルホン酸、p−トルエンスルホン酸などの有機ス
ルホン酸、あるいは硫酸などのアニオンが挙げられる。
さらにより具体的に本発明の好適な原料化合物(1
)の例を挙げれば; R1,R2,R3が共にメチル基
であυQがヨウ素の化合物;R1゜R”、R3が共にメ
チル基でありQ、が塩素の化合物: Hl、 R2、R
5が共にエチル基でありQが臭素の化合物;R1とR2
が窒素原子と共にモルホリン墳を形成しR3がメチル基
Qがヨウ素である化合物;などがある。
)の例を挙げれば; R1,R2,R3が共にメチル基
であυQがヨウ素の化合物;R1゜R”、R3が共にメ
チル基でありQ、が塩素の化合物: Hl、 R2、R
5が共にエチル基でありQが臭素の化合物;R1とR2
が窒素原子と共にモルホリン墳を形成しR3がメチル基
Qがヨウ素である化合物;などがある。
この式(1)で表わされる化合物のうちR1,x*。
R3が共にメチル基でありqがヨウ素である化合物は公
知であり、その記載が薬学雑誌72巻11B2頁(19
52年)に見られる。 しかし上記文献においては
その製造の具体的な記述はなく、ま九その化学的性質に
ついてもなんら言及されていない。 このため本発明
者らはこの化合物の合成法を参考例として後記する。
知であり、その記載が薬学雑誌72巻11B2頁(19
52年)に見られる。 しかし上記文献においては
その製造の具体的な記述はなく、ま九その化学的性質に
ついてもなんら言及されていない。 このため本発明
者らはこの化合物の合成法を参考例として後記する。
式(1)の化合物を製造するには、安価な原料である4
−メチルイミダゾールをマンニッヒ反応に付すことによ
シ得られる式 〔式中H1,R1は前記と同じ意味を有する〕で表わさ
れる三級アミンに式 %式%(1) 〔式中R3およびQは前記と同じ意味を有する〕で表わ
されるアルキル化剤を反応させればよい。
−メチルイミダゾールをマンニッヒ反応に付すことによ
シ得られる式 〔式中H1,R1は前記と同じ意味を有する〕で表わさ
れる三級アミンに式 %式%(1) 〔式中R3およびQは前記と同じ意味を有する〕で表わ
されるアルキル化剤を反応させればよい。
また別法には、4−クロルメチル−5−メチルイミダゾ
ールを直接三級アミン(R” R”R311)と反応さ
せて式(I)の化合物を得る方法もある。
ールを直接三級アミン(R” R”R311)と反応さ
せて式(I)の化合物を得る方法もある。
式(II)のアミンを式(1)のアルキル化剤でアルキ
ル化する反応は、イミダゾール環の窒素原子の存在にも
かかわらず定量的に進行する。
ル化する反応は、イミダゾール環の窒素原子の存在にも
かかわらず定量的に進行する。
このため通常はこのアルキル化した反応液をそのまま本
発明の製法に使用するが、生成した四級アンモニウム塩
(1)をいつ九ん単離することも可能である。 単離
された式(I)の塩は。
発明の製法に使用するが、生成した四級アンモニウム塩
(1)をいつ九ん単離することも可能である。 単離
された式(I)の塩は。
たとえばR1,R1、RlSが共にメチル基でqがヨウ
素の化合物などにおいては極めて結晶性がよい安定な物
質であり、原料中間体として優れた特性を有している。
素の化合物などにおいては極めて結晶性がよい安定な物
質であり、原料中間体として優れた特性を有している。
本発明の製造法は上記の四級アンモニウム塩(1)にシ
ステアミンを反応させ4−(2−アミノエチル)チオメ
チル−5−メチルイミダゾールを得る方法である。
この四級アンモニウム塩(1)は前記したように対応す
る三級アミン(1)から製造されるが、このアミン(1
)を直接の原料とするシステアミンとの反応による4−
(2−アミノエチル)チオメチル−5−メチルイミダゾ
ールの製造法が特開昭53−98966号に記載されて
いる。 しかし上記特許にはその具体的製法や収率
は明示されておらず、また本発明者らが追試した結果で
は、該反応における4−(2−アミノエチル)チオメチ
ルイミダゾールの生成量は数−を越えない僅かなもので
あった。 しかるに本発明は、その同じ原料である
三級アミン(II)を等モルのアルキル剤(曹)で処理
するだけでシステアミンとの反応が定量的に進行し4−
(2−アミノエチル)チオメチル−6−メチル−イミダ
ゾールが得られるという製法であり、上記特許の方法と
比較してその有用性は明らかである。
ステアミンを反応させ4−(2−アミノエチル)チオメ
チル−5−メチルイミダゾールを得る方法である。
この四級アンモニウム塩(1)は前記したように対応す
る三級アミン(1)から製造されるが、このアミン(1
)を直接の原料とするシステアミンとの反応による4−
(2−アミノエチル)チオメチル−5−メチルイミダゾ
ールの製造法が特開昭53−98966号に記載されて
いる。 しかし上記特許にはその具体的製法や収率
は明示されておらず、また本発明者らが追試した結果で
は、該反応における4−(2−アミノエチル)チオメチ
ルイミダゾールの生成量は数−を越えない僅かなもので
あった。 しかるに本発明は、その同じ原料である
三級アミン(II)を等モルのアルキル剤(曹)で処理
するだけでシステアミンとの反応が定量的に進行し4−
(2−アミノエチル)チオメチル−6−メチル−イミダ
ゾールが得られるという製法であり、上記特許の方法と
比較してその有用性は明らかである。
本発明の製造法を実施するには1通常式(1)の化合物
とシステアミンを反応に関与しない溶媒中で、好ましく
は塩基の存在下に反応させる。
とシステアミンを反応に関与しない溶媒中で、好ましく
は塩基の存在下に反応させる。
使用される溶媒は極性の有機溶媒が好ましく。
特にはメタノール、エタノール、プロピルアルコールあ
るいはイングロビルアルコールナトf)低級アルコール
が最適である。 反応は通常塩基性条件下9%に好ま
しくは強塩基の存在下に行なわれる。 使用される強
塩基の例としては、ナトリウムメトキシド、ナトリウム
エトキシドなどのアルカリ金属アルコキシドもしくは水
酸化ナトリウム、水酸化カリウムなどの苛性アルカリな
どを挙げることができる。 塩基の使用量は式(1)
の四級アンモニウム塩に対し、アニオンを完全に中和す
るに足る1モル以上が必要であり9通常はl−1モルが
使用される。 反応時間および反応温度は使用される
溶媒、塩基などの種類によりi千異なシはするが、一般
にはO〜100Cの温度、好ましくは室温付近の温度で
、数分〜数時間の反応により実施される。
るいはイングロビルアルコールナトf)低級アルコール
が最適である。 反応は通常塩基性条件下9%に好ま
しくは強塩基の存在下に行なわれる。 使用される強
塩基の例としては、ナトリウムメトキシド、ナトリウム
エトキシドなどのアルカリ金属アルコキシドもしくは水
酸化ナトリウム、水酸化カリウムなどの苛性アルカリな
どを挙げることができる。 塩基の使用量は式(1)
の四級アンモニウム塩に対し、アニオンを完全に中和す
るに足る1モル以上が必要であり9通常はl−1モルが
使用される。 反応時間および反応温度は使用される
溶媒、塩基などの種類によりi千異なシはするが、一般
にはO〜100Cの温度、好ましくは室温付近の温度で
、数分〜数時間の反応により実施される。
なお反応は通常過剰の塩基の存在下に行なわれるためシ
ステアミンは遊離塩基である必要はなく、市販品として
入手が容易な塩酸塩をそのまま使用することが可能であ
る。 また反応液中に水素化ホウ素ナトリウムなどの
還元剤を存在させれば、市販品としてさらに入手が容易
なシステミン塩酸塩を使用することもできる。
ステアミンは遊離塩基である必要はなく、市販品として
入手が容易な塩酸塩をそのまま使用することが可能であ
る。 また反応液中に水素化ホウ素ナトリウムなどの
還元剤を存在させれば、市販品としてさらに入手が容易
なシステミン塩酸塩を使用することもできる。
このほかシステアミンはアミノ基をフタル基などで保護
されたものであってもよく、その場合は反応後の適当な
時期に保護基を脱離させる。
されたものであってもよく、その場合は反応後の適当な
時期に保護基を脱離させる。
反応はほぼ定量的に進行し副生物もほとんど生成しない
ため反応後の後処理は極めて平易である。 すなわち
反応溶媒を中和後溶媒を留去し、必要ならイオン交換樹
脂などにより脱塩するだけで目的の4−(2−アミノエ
チル)チオメチル−5−メチルイミダゾールが得られる
。
ため反応後の後処理は極めて平易である。 すなわち
反応溶媒を中和後溶媒を留去し、必要ならイオン交換樹
脂などにより脱塩するだけで目的の4−(2−アミノエ
チル)チオメチル−5−メチルイミダゾールが得られる
。
それはまた塩化水素で処理して二塩酸塩の結晶として単
離すること本できる。 しかし本製法の利点として
、この生成物の単離操作を行なわず反応液をそのままヒ
スタミンH8−受容体拮抗剤製造の一括工程の中に組み
込む方法がある。
離すること本できる。 しかし本製法の利点として
、この生成物の単離操作を行なわず反応液をそのままヒ
スタミンH8−受容体拮抗剤製造の一括工程の中に組み
込む方法がある。
すなわち9本発明は薬効を有する化合物の製造中間体と
して有用な4−(2−アミノエチル)チオメチル−5−
メチルイミダゾールの工業的に価値の高い製造法である
。 さらに本発明の製法の最大の特徴は、製造により
得られた反応液をそのfまヒスタミンEra−受容体拮
抗剤製造過程の以後の反応に利用できることである。
して有用な4−(2−アミノエチル)チオメチル−5−
メチルイミダゾールの工業的に価値の高い製造法である
。 さらに本発明の製法の最大の特徴は、製造により
得られた反応液をそのfまヒスタミンEra−受容体拮
抗剤製造過程の以後の反応に利用できることである。
この結果本発明の製法を利用すれば、、安価な出発原料
である式(…)の三級アミンから実質的に−ボットでヒ
スタミンH8−受容体拮抗剤が製造できることとなる。
である式(…)の三級アミンから実質的に−ボットでヒ
スタミンH8−受容体拮抗剤が製造できることとなる。
以下に参考例および実施例をあげて本発明を具体的に説
明する。
明する。
参考例
4−(N、N−ジメチルアミノメチル)−5−メチルイ
ミダゾール2’/、8fをエタノール10〇−に溶解し
、ヨウ化メチル15.6−を加えて室温で15時間攪拌
する。 析出晶をF取するとN−(5−メチルイミダ
ゾール一番−イル)メチル−N、N、N−)リメチルア
ンモニウムアイオダイドが得られる。 収量52t(
収率93 %)。
ミダゾール2’/、8fをエタノール10〇−に溶解し
、ヨウ化メチル15.6−を加えて室温で15時間攪拌
する。 析出晶をF取するとN−(5−メチルイミダ
ゾール一番−イル)メチル−N、N、N−)リメチルア
ンモニウムアイオダイドが得られる。 収量52t(
収率93 %)。
m、p、 1フ2−1’74 C0
実施例1
システアミン塩酸塩2.Ofをエタノール2〇−に溶解
し、ナトリウムエトキシドの2規定エタノール溶液27
.5−を流加後、N−(5−メチルイミダゾール−4−
イル)メチル−N、 N、 N−トリメチルアンモニウ
ムアイオダイド5.Ofを加えて室温で2時間攪拌する
。 過剰のナトリウムエトキシドを塩化水素−エタノ
ール溶液で中和後、無機塩をP別しF液を蒸発する。
残査を水に溶かし、ダウエックス50’W −X 4
の強酸性樹脂に吸着後3規定アンモニア水で溶出する。
し、ナトリウムエトキシドの2規定エタノール溶液27
.5−を流加後、N−(5−メチルイミダゾール−4−
イル)メチル−N、 N、 N−トリメチルアンモニウ
ムアイオダイド5.Ofを加えて室温で2時間攪拌する
。 過剰のナトリウムエトキシドを塩化水素−エタノ
ール溶液で中和後、無機塩をP別しF液を蒸発する。
残査を水に溶かし、ダウエックス50’W −X 4
の強酸性樹脂に吸着後3規定アンモニア水で溶出する。
抽出液を蒸発し、残査を塩化水素−エタノールの溶
液で処理すると4−(2−アミノエチル)−5−メチル
イミダゾールの二塩酸塩の結晶が得られる。 収量3
.5F(収率81チ)。
液で処理すると4−(2−アミノエチル)−5−メチル
イミダゾールの二塩酸塩の結晶が得られる。 収量3
.5F(収率81チ)。
m、p、165−16フC0
実施例2
システアミン塩酸塩2.Ofと水酸化カリウム3.Of
をメタノール50−に溶解し、N−(5−メチルイミダ
ゾール−4−イル)メチル−NNN−トリメチルアンモ
ニウムアイオダイド5.Ofヲ加えて室温で3時間攪拌
する。
をメタノール50−に溶解し、N−(5−メチルイミダ
ゾール−4−イル)メチル−NNN−トリメチルアンモ
ニウムアイオダイド5.Ofヲ加えて室温で3時間攪拌
する。
この液に2規定塩化水素−メタノール溶液8−を加え1
次いで無機塩をF別しF液をシアナミドジチオ炭酸ジメ
チルエステル&’/fのメタノール溶液に加える。
室温で5時間攪拌後。
次いで無機塩をF別しF液をシアナミドジチオ炭酸ジメ
チルエステル&’/fのメタノール溶液に加える。
室温で5時間攪拌後。
溶媒を蒸発し残査を水で洗浄する。 沈殿を炉板し、
乾燥後エタノール−エチルエーテルから再結晶するとN
−シアノ−N’−(:2−(5−メチルイミダゾール−
4、−イル)メチルチオエチルツー8−メチルイソチオ
尿素が得られる。
乾燥後エタノール−エチルエーテルから再結晶するとN
−シアノ−N’−(:2−(5−メチルイミダゾール−
4、−イル)メチルチオエチルツー8−メチルイソチオ
尿素が得られる。
収量&、2f(収率88%)。 m、p、139−1
40 U 0実施例3 N−(5−メチルイミダゾール−4−イル)メチルモル
ホリン1.8fをメタノール20−に溶解し、ヨウ化メ
チル0.9−を加えて室温で6時間攪拌する。 溶媒
と過剰のヨウ化メチルを蒸発し、残査をメタノールlo
++dに溶解する。
40 U 0実施例3 N−(5−メチルイミダゾール−4−イル)メチルモル
ホリン1.8fをメタノール20−に溶解し、ヨウ化メ
チル0.9−を加えて室温で6時間攪拌する。 溶媒
と過剰のヨウ化メチルを蒸発し、残査をメタノールlo
++dに溶解する。
この液をシステアミン塩酸塩1.1tと水酸化カリウム
1.ツfをメタノール20−に溶解した液に加えて室温
で3時間攪拌する。
1.ツfをメタノール20−に溶解した液に加えて室温
で3時間攪拌する。
上記の反応液に2規定塩化水素−メタノール5−および
シアナミドジチオ炭酸ジメチルエステル1.51を加え
て室温で5時間攪拌する。
シアナミドジチオ炭酸ジメチルエステル1.51を加え
て室温で5時間攪拌する。
溶媒を蒸発し、残査を水で洗浄すると実施例2で得られ
た化合物が得られる。
た化合物が得られる。
ノ
実施側番
番−クロルメチル−5−メチルイミダゾール二塩酸塩0
.5fをエタノールlo++dに溶解し、30チドリメ
チルアミン水溶液5−を加えて室温で3時間攪拌する。
.5fをエタノールlo++dに溶解し、30チドリメ
チルアミン水溶液5−を加えて室温で3時間攪拌する。
反応液を蒸発し、残査をメタノール10−に溶解し
た液をシステアミン0.34fと水酸化カリウム0.6
8Fをメタノール10−に溶解した液に加えて室温で3
時間攪拌する。
た液をシステアミン0.34fと水酸化カリウム0.6
8Fをメタノール10−に溶解した液に加えて室温で3
時間攪拌する。
上記の反応液に2規定塩化水素−メタノール1.5−を
加え9次いでシアナミドジチオ炭酸ジメチルエステル0
.45fを加えて室温で5時間攪拌する。 反応液を
蒸発し、残査を水で洗浄すると実施例2で得られた化合
物が得られる。
加え9次いでシアナミドジチオ炭酸ジメチルエステル0
.45fを加えて室温で5時間攪拌する。 反応液を
蒸発し、残査を水で洗浄すると実施例2で得られた化合
物が得られる。
収量o、7or(収率87%)。
実施例5
エタノール30−にナトリウムO,14rとN−(2−
メルカプトエチル)フタルイミド0.42Fを溶解し、
N−(5−メチルイミダゾール一番−イル)メチル−N
、N、N −トリメチルアンモニウムアイオダイド0.
56fを加えて室温で1時間攪拌する。 酢酸を加え
中和後溶媒を蒸発し。
メルカプトエチル)フタルイミド0.42Fを溶解し、
N−(5−メチルイミダゾール一番−イル)メチル−N
、N、N −トリメチルアンモニウムアイオダイド0.
56fを加えて室温で1時間攪拌する。 酢酸を加え
中和後溶媒を蒸発し。
残査を水に溶かす。 この液を炭酸水素ナトリウムで
アルカリ性とし、沈殿をP取後50%含水メタノールか
ら再結晶すると4=(2−フタルイミド−エチル)チオ
メチル−5−メチルイミダゾールが得られる。
アルカリ性とし、沈殿をP取後50%含水メタノールか
ら再結晶すると4=(2−フタルイミド−エチル)チオ
メチル−5−メチルイミダゾールが得られる。
収量0.52F(収率8ツqb>。
Jp、153〜155 C0
このフタルイミド体を48%臭化水素酸水溶液と6時間
加熱還流すると4−(2−アミノエチル)チオメチル−
5−メチルイミダゾールの二臭化水素酸塩が得られる。
加熱還流すると4−(2−アミノエチル)チオメチル−
5−メチルイミダゾールの二臭化水素酸塩が得られる。
特許出願人 萬有製薬株式会社
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 (η式 〔式中H1,BF 、 R3は同一または異なって低級
アルキル基、アルケニル基、アラルキル基を示し R1
およびR1は隣接する窒素原子と共に異項環を形成して
もよい。 Qは酸残基を示す〕 で表わされる四級アンモニウム塩をシステアミンと反応
させることを特徴とする4−(2−アミノエチル)チオ
メチル−5−メチルイミダゾールの製造法。 (2)式のR1、R11、R3がいずれもメチル基であ
りQがヨウ素である特許請求の範囲第(M項記載の製造
法。 (3)反応を極性有機溶媒中で塩基性条件下に行なうこ
とを特徴とする特許請求の範囲第(1)項記載の製造法
。 (4)極性有機溶媒としてメタノール、エタノールもし
くはインプロパツールを使用することを特徴とする特許
請求の範囲第(3)項記載の製造法。 (5)塩基性条件としてアルカリ金属アルコキシドもし
くは苛性アルカリを使用することを特徴とする特許請求
の範囲第(3)項記載の製造法。 (6)反応を温度OC乃至35 Uで、5分乃至3時間
行なうことを特徴とする特許請求の範囲第(η項記載の
製造法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP57043721A JPS58162576A (ja) | 1982-03-20 | 1982-03-20 | イミダゾ−ル誘導体の製造法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP57043721A JPS58162576A (ja) | 1982-03-20 | 1982-03-20 | イミダゾ−ル誘導体の製造法 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS58162576A true JPS58162576A (ja) | 1983-09-27 |
Family
ID=12671652
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP57043721A Pending JPS58162576A (ja) | 1982-03-20 | 1982-03-20 | イミダゾ−ル誘導体の製造法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS58162576A (ja) |
-
1982
- 1982-03-20 JP JP57043721A patent/JPS58162576A/ja active Pending
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JPH0245624B2 (ja) | ||
JPS61161247A (ja) | N‐置換アルフア‐アミノ酸の製造方法 | |
KR930005446B1 (ko) | 2-알콕시-n-(1-아자비사이클로[2.2.2]옥탄-3-일)아미노 벤즈아미드의 제조방법 | |
JPS5810542A (ja) | 四級アンモニウム塩及びその製法 | |
US2537834A (en) | Substituted guanylmelamines | |
JPS58162576A (ja) | イミダゾ−ル誘導体の製造法 | |
SU677657A3 (ru) | Способ получени -формилированных соединений | |
US3030367A (en) | N -substituted derivatives of n- | |
JPS6296481A (ja) | N−スルフアミル−3−(2−グアニジノ−チアゾ−ル−4−イル−メチルチオ)−プロピオンアミジンの製造方法 | |
JP2001521498A (ja) | O−(3−アミノ−2−ヒドロキシ−プロピル)−ヒドロキシミック酸ハロゲン化物の製造方法 | |
JPH0625191B2 (ja) | 1−[2−(フエニルメチル)フエニルピペラジン化合物、その製造方法および医薬組成物 | |
US3059029A (en) | Process for alkyl and aralkyl biguanides | |
JP5078211B2 (ja) | 複素環式化合物の製造方法 | |
JP2851162B2 (ja) | 低塩化物イオン1,2,4―トリアゾール―5―オンの改良製造方法 | |
US3377381A (en) | N'-(1-naphthylmethyl)-n3-aminoguanidine and salt thereof | |
CA1154023A (en) | Process for preparing imidazole derivative | |
JPH08176150A (ja) | 5−クロロ−4−(2−イミダゾリン−2−イルアミノ)−2,1,3−ベンゾチアジアゾール又はその塩の製造方法 | |
US2785161A (en) | 3, 6-bis (di-lower-alkylamino) pyridazines and preparation thereof | |
JP2565372B2 (ja) | チオール化合物の製造方法 | |
JP4739695B2 (ja) | 5−アミノ―1―置換―1,2,4―トリアゾールの製造方法、及び該製造方法で得られるトリアゾール誘導体 | |
HU198179B (en) | Process for producing n-methyl-1-alkylthio-2-nitroethenamine derivatives | |
US20220073467A1 (en) | Chemical Compound Manufacture, New Salt Form, And Therapeutic Uses Thereof | |
FI76787C (fi) | Foerfarande foer framstaellning av 5-(cyan eller karbamyl)-/3-4'-bipyridin/-6(1h)-on och iminiumsalt till anvaendning som mellanprodukt i foerfarandet. | |
JPS6183168A (ja) | 2−メルカプト−4−アミノ−5−ホルミルピリミジンおよびその製法 | |
JPS58116473A (ja) | シトシンの製造方法 |