JPS58154569A - クマリニル・エステル誘導体およびその製造方法および液晶組成物 - Google Patents
クマリニル・エステル誘導体およびその製造方法および液晶組成物Info
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- JPS58154569A JPS58154569A JP3773582A JP3773582A JPS58154569A JP S58154569 A JPS58154569 A JP S58154569A JP 3773582 A JP3773582 A JP 3773582A JP 3773582 A JP3773582 A JP 3773582A JP S58154569 A JPS58154569 A JP S58154569A
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- cyano
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明はクマリニル・エステル誘導体およびその製造方
法およびこれを用いた液晶組成物に関するものである。
法およびこれを用いた液晶組成物に関するものである。
イ・マチックまたはネマチック−コレステリンク液晶物
質は電場の影響下で光散乱、複屈折2反射能または色な
どの光学的性質が著しく変化する特性を示すことで、電
気光学的表示素子として広く利用されている。この様な
表示機能は、例えばねじれセ/l/ (twtsted
cell )中のシャット−へルフリッヒ効果、整列
相の歪、動的散乱現象またはコレステリック−ネマチッ
ク相転移などに基づいている。
質は電場の影響下で光散乱、複屈折2反射能または色な
どの光学的性質が著しく変化する特性を示すことで、電
気光学的表示素子として広く利用されている。この様な
表示機能は、例えばねじれセ/l/ (twtsted
cell )中のシャット−へルフリッヒ効果、整列
相の歪、動的散乱現象またはコレステリック−ネマチッ
ク相転移などに基づいている。
これらの効果を電気光学的表示素子として工業的に利用
するためには、種々の要求に応じ得る液晶組成物が必要
となる。ここで特に重要とされるのは湿気や空気および
物理的影響(例えば熱、赤外、可視または紫外部領域の
光の輻射、および直流まだは交流電場)に対する化学的
安定性である。
するためには、種々の要求に応じ得る液晶組成物が必要
となる。ここで特に重要とされるのは湿気や空気および
物理的影響(例えば熱、赤外、可視または紫外部領域の
光の輻射、および直流まだは交流電場)に対する化学的
安定性である。
更に工業的に使用し得る液晶組成物としては、少なくと
もo℃〜50℃の温度範囲、好捷しくは一30’C〜8
6℃以上の温度範囲において液晶メゾフェイズ状態とし
て存在し、使用温度範囲内での粘度が低いものが要求さ
れる。しかし公知の化合物中には、要求される温度範囲
で液晶メゾンエイズを示す単一化合物は今のところ見当
らない。
もo℃〜50℃の温度範囲、好捷しくは一30’C〜8
6℃以上の温度範囲において液晶メゾフェイズ状態とし
て存在し、使用温度範囲内での粘度が低いものが要求さ
れる。しかし公知の化合物中には、要求される温度範囲
で液晶メゾンエイズを示す単一化合物は今のところ見当
らない。
従って、一般には2種まだはそれ以上の化合物を混合し
た液晶組成物として用いられている。この目的の7こめ
に、通常低融点かつ低透明点の化合物をそれよりかなり
高い透明点を有する化合物と混合する。これにより、融
点の低い方の成分より低い融点を有し、透明点は両成分
の透明点の中間にある組成物が得られる。
た液晶組成物として用いられている。この目的の7こめ
に、通常低融点かつ低透明点の化合物をそれよりかなり
高い透明点を有する化合物と混合する。これにより、融
点の低い方の成分より低い融点を有し、透明点は両成分
の透明点の中間にある組成物が得られる。
本発明の目的は、ネマチック温度範囲を拡げるのに有用
な新規な液晶化合物を提供することにある。
な新規な液晶化合物を提供することにある。
本発明者らは、一般式(1)
で示される基であり、Zは−C−o−またはnは止の整
数。〕で示される新規な3−シアノ−7−クマリニル・
エステル誘導体が液晶組成物製造用の基礎材料として極
めて有用であることを見出した。
数。〕で示される新規な3−シアノ−7−クマリニル・
エステル誘導体が液晶組成物製造用の基礎材料として極
めて有用であることを見出した。
一般式(1)で示される本発明のクマリニル・エステル
誘導体の合成は、一般式(It) 示されるカルボン酸誘導体を示す。なお、nは正の整数
。〕で示される化合物に約6倍モルの塩化チオニルを加
えて約2時間還流する。次いで過剰の塩化チオニルを減
圧留去し、残渣にベンゼンを加えた後、 し 〔式中22は一〇Hで示される3−シアノ−7−ヒドロ
キシ・クマリン誘導体を示す。〕で示される化合物を化
合物(n)と等モルのピリジン溶液を加え、約8時間還
流する。その後反応溶液を希塩酸水溶液中に入れ、エー
テルで抽出する。エーテル抽出層は希塩酸水溶液2食塩
水の順で洗浄した後エーテルを減圧留去し、目的の粗化
合物を製造する。粗化合物はカラムクロマトグラフィー
(吸着剤としてソリ力ゲル、展開溶媒としてクロロホル
ム)による精製を経てエタノールとベンゼンとの等重量
混合溶媒中での再結晶を繰り返し 一定の融点になるま
で行ない精製される。
誘導体の合成は、一般式(It) 示されるカルボン酸誘導体を示す。なお、nは正の整数
。〕で示される化合物に約6倍モルの塩化チオニルを加
えて約2時間還流する。次いで過剰の塩化チオニルを減
圧留去し、残渣にベンゼンを加えた後、 し 〔式中22は一〇Hで示される3−シアノ−7−ヒドロ
キシ・クマリン誘導体を示す。〕で示される化合物を化
合物(n)と等モルのピリジン溶液を加え、約8時間還
流する。その後反応溶液を希塩酸水溶液中に入れ、エー
テルで抽出する。エーテル抽出層は希塩酸水溶液2食塩
水の順で洗浄した後エーテルを減圧留去し、目的の粗化
合物を製造する。粗化合物はカラムクロマトグラフィー
(吸着剤としてソリ力ゲル、展開溶媒としてクロロホル
ム)による精製を経てエタノールとベンゼンとの等重量
混合溶媒中での再結晶を繰り返し 一定の融点になるま
で行ない精製される。
以下に、本発明を更に具体的なものとするために実施例
を挙げて詳細に説明する。実施例中、m 、 p 、お
よびc、p、は各々融点および透明点を意味し、特に指
摘しないかぎりm、p、からc、p、 iでの温度領域
ではネマチック相を示す。
を挙げて詳細に説明する。実施例中、m 、 p 、お
よびc、p、は各々融点および透明点を意味し、特に指
摘しないかぎりm、p、からc、p、 iでの温度領域
ではネマチック相を示す。
(実施例1)
p−ヒドロキン安息香酸0.145モルとヨウ化−n−
ヘキンル0.145モルトヲエタノール300m1に溶
解せしめ、これに水酸化カリウムQ 、 293モルを
溶解した水30 mlを加えた後、8時間還流する。反
応終了後水を加え、塩酸酸性溶液とし、析出しだ結晶を
沢過して集め、メタノール溶液から再結晶を行ない、n
−ヘキシルオキシ安息香酸を得る。
ヘキンル0.145モルトヲエタノール300m1に溶
解せしめ、これに水酸化カリウムQ 、 293モルを
溶解した水30 mlを加えた後、8時間還流する。反
応終了後水を加え、塩酸酸性溶液とし、析出しだ結晶を
沢過して集め、メタノール溶液から再結晶を行ない、n
−ヘキシルオキシ安息香酸を得る。
一方、2−4−ジヒドロキシベンズアルデヒド0.03
6モルおよびマロンニトリル0.036モルとを脱水エ
タノール30 mlに溶解させ、これにピペリジン1〜
2滴を加えると発熱する。そして橙赤色の溶液から黄色
の固体が分離する。これを約300 mlの水に加えて
攪拌し、12規定の塩酸100 atを加えると反応液
は透明になり、それからただちに黄色の沈澱が析出する
ので、30分間約70℃に加温し、冷却後結晶をJ別し
エタノール溶媒から再結晶して、3−シアノ−7−ヒト
ロキシクマリンを得る。
6モルおよびマロンニトリル0.036モルとを脱水エ
タノール30 mlに溶解させ、これにピペリジン1〜
2滴を加えると発熱する。そして橙赤色の溶液から黄色
の固体が分離する。これを約300 mlの水に加えて
攪拌し、12規定の塩酸100 atを加えると反応液
は透明になり、それからただちに黄色の沈澱が析出する
ので、30分間約70℃に加温し、冷却後結晶をJ別し
エタノール溶媒から再結晶して、3−シアノ−7−ヒト
ロキシクマリンを得る。
この様にして得たn−へキシルオキ7安息香酸5 、8
8X10 モルを約6倍モルの塩化チオニルに溶解
させ、1時間還流する。過剰の塩化チオニルは減圧留去
し、残渣にベンゼンを加える。それに3−ンアノー7−
ヒドロキシクマリン5.88X10−3モルを溶解した
ピリジン溶液を加え8時間還流する。その後反応液を希
塩酸水溶液に入れ、エーテル抽出する。エーテル抽出層
は希塩酸水溶液1食塩水の順で洗浄した後、エーテルを
減圧留去シて3−シアノ−7−クマリニルー4′−n−
へキシルオキシベンゾエート の粗化合物を得る。これを前述のカラムクロマトグラフ
ィーにより精製し、さらにエタノールとベンゼンとの等
重量混合溶媒中から再結晶を行う。
8X10 モルを約6倍モルの塩化チオニルに溶解
させ、1時間還流する。過剰の塩化チオニルは減圧留去
し、残渣にベンゼンを加える。それに3−ンアノー7−
ヒドロキシクマリン5.88X10−3モルを溶解した
ピリジン溶液を加え8時間還流する。その後反応液を希
塩酸水溶液に入れ、エーテル抽出する。エーテル抽出層
は希塩酸水溶液1食塩水の順で洗浄した後、エーテルを
減圧留去シて3−シアノ−7−クマリニルー4′−n−
へキシルオキシベンゾエート の粗化合物を得る。これを前述のカラムクロマトグラフ
ィーにより精製し、さらにエタノールとベンゼンとの等
重量混合溶媒中から再結晶を行う。
得られた化合物のm、p、は154.2℃、C,p。は
144.9℃(たたしモノトロピックなネマチック相)
であった。
144.9℃(たたしモノトロピックなネマチック相)
であった。
同様にして、以下の3−シアノ−7−ツマリニル−4′
−アルコキシベンゾエート誘導体を製造。
−アルコキシベンゾエート誘導体を製造。
精製することが出来る。
3−シアノ−7−クツリニル−4フーメドキシベンノ゛
ニー ト 3−7アノー7−クマリニルー4′−エトキシベンゾエ
ート 3−7アノー7−クマリニルー47−n−プロポキシベ
ンゾエート 3−シアノ−7−クツリニル−4′−n−ブトキシm、
p、184℃ 3−シアノ−7−クマリニルー4/ n−ペンチルオ
キシベンゾエート 3−シアノ−7−クマリニルー47 n−へブチルオ
キシベンゾエート これら製造、精製した化合物は赤外線吸収スペクトルの
測定により固定を行い、各々C−0結合の伸縮振動に帰
属される吸収スペクトルが1730crn−1に、C=
Hの伸縮振動に帰属される吸収スペクトルが2230(
1) に認められた。
ニー ト 3−7アノー7−クマリニルー4′−エトキシベンゾエ
ート 3−7アノー7−クマリニルー47−n−プロポキシベ
ンゾエート 3−シアノ−7−クツリニル−4′−n−ブトキシm、
p、184℃ 3−シアノ−7−クマリニルー4/ n−ペンチルオ
キシベンゾエート 3−シアノ−7−クマリニルー47 n−へブチルオ
キシベンゾエート これら製造、精製した化合物は赤外線吸収スペクトルの
測定により固定を行い、各々C−0結合の伸縮振動に帰
属される吸収スペクトルが1730crn−1に、C=
Hの伸縮振動に帰属される吸収スペクトルが2230(
1) に認められた。
またこれら製造、精製した化合物の元素分析結果の一例
を示すと、3−シアノ−7−クマリニル47 n−ブ
トキシベンゾエート の場合、C: 69.25チ(理論値69.41チ)。
を示すと、3−シアノ−7−クマリニル47 n−ブ
トキシベンゾエート の場合、C: 69.25チ(理論値69.41チ)。
H: 4.57%(理論値4.72%)、 N : 3
.84a/#(理論値3.86%)であり、 3−シアノ−7−クマリニルー4′−n−へキシルオキ
シベンゾエート の場合、C: 70.39チ(理論値70.57チ)。
.84a/#(理論値3.86%)であり、 3−シアノ−7−クマリニルー4′−n−へキシルオキ
シベンゾエート の場合、C: 70.39チ(理論値70.57チ)。
H:5.25%(理論値5.41 % )、N:3.4
9%(理論値3.68%)であり、はぼ一致した結果で
あった。
9%(理論値3.68%)であり、はぼ一致した結果で
あった。
(実施例2)
n−ペンチル安息香酸5.88X10 モルと前述の
実施例1と同様の方法にて製造、精製した3−シアノ−
7−ヒドロキシクマリン5.88X10””6モルとか
ら同様の方法にて3−シアノ−7−クマIJ =ルー
4’ −n−ヘンチルベンゾエートm、p、127.6
℃、c、p、110.0℃(ただしモノトロピックなネ
マチック相) を製造、精製して得た。
実施例1と同様の方法にて製造、精製した3−シアノ−
7−ヒドロキシクマリン5.88X10””6モルとか
ら同様の方法にて3−シアノ−7−クマIJ =ルー
4’ −n−ヘンチルベンゾエートm、p、127.6
℃、c、p、110.0℃(ただしモノトロピックなネ
マチック相) を製造、精製して得た。
同様にして、以下の3−ンアノー7−クマリニルー47
−アルキルベンゾエート誘導体を製造、精製することが
出来る。
−アルキルベンゾエート誘導体を製造、精製することが
出来る。
3−シアノ−了−クマリニル−4’−)fルベンン゛エ
ート 3−ンアノー7−クマリニルー41−エチルベンゾエー
ト 3−シアノ−7−クツリニル−4’−n−フ’ロビルペ
ンゾエート 3−シアノ−7−ツマリニル−4′−n−ブチルベンゾ
エート 3−シアノ−7−クマリニルー4I n−ヘキシル3
−シアノ−7−クマリニルー4’−n−へブチルベンゾ
エート () これら製造、精製した化合物は赤外線吸収スペクトルの
測定により同定を行い、各々C=O結合の伸縮振動に帰
属される吸収スペクトルが1730crn−1に、C=
Hの伸縮振動に帰属される吸収スペクトルが2230(
7) に認められた。
ート 3−ンアノー7−クマリニルー41−エチルベンゾエー
ト 3−シアノ−7−クツリニル−4’−n−フ’ロビルペ
ンゾエート 3−シアノ−7−ツマリニル−4′−n−ブチルベンゾ
エート 3−シアノ−7−クマリニルー4I n−ヘキシル3
−シアノ−7−クマリニルー4’−n−へブチルベンゾ
エート () これら製造、精製した化合物は赤外線吸収スペクトルの
測定により同定を行い、各々C=O結合の伸縮振動に帰
属される吸収スペクトルが1730crn−1に、C=
Hの伸縮振動に帰属される吸収スペクトルが2230(
7) に認められた。
(実施例3)
実施例1と同様の方法で製造、精製したp−n−ブトキ
シ安息香酸0.0555モルを約3倍モルの塩化チオニ
ルに入れ、約1時間還流する。その後過剰の塩化チオニ
ルを減圧留去し、その残渣をベンゼンに溶解させる。そ
のベンゼン溶iにp−ヒドロキシ安息香酸0.0555
モルを溶解したピリジン溶液を加え、8時間還流する。
シ安息香酸0.0555モルを約3倍モルの塩化チオニ
ルに入れ、約1時間還流する。その後過剰の塩化チオニ
ルを減圧留去し、その残渣をベンゼンに溶解させる。そ
のベンゼン溶iにp−ヒドロキシ安息香酸0.0555
モルを溶解したピリジン溶液を加え、8時間還流する。
冷却後、反応溶液を希塩酸水溶液中に投入し、エーテル
で抽出する。その抽出液を希塩酸水溶液9食塩水の順で
洗浄後、エーテルを減圧留去する。得られた粗4−(4
’−n−ブトキシベンゾイルオキシ)安息香酸をベンゼ
ンにて再結晶を繰り返し、精製する。このようにして得
た4−(4’−n−ブトキシベンゾイルオキシ)安息香
酸s、5ax1o−’モルと実施例1と同様の方法で製
造、精製した3−シアノ−7−ヒドロキシクマリン5.
88X10 モルとかう同様の方法で製造、精製して
3−シアノ−7−クマリニル〜4 ″−n−ブトキシベ
ンゾイルオキシ−4′−ベンゾエート m、p、184..5℃、c、p、366.8℃を得た
。
で抽出する。その抽出液を希塩酸水溶液9食塩水の順で
洗浄後、エーテルを減圧留去する。得られた粗4−(4
’−n−ブトキシベンゾイルオキシ)安息香酸をベンゼ
ンにて再結晶を繰り返し、精製する。このようにして得
た4−(4’−n−ブトキシベンゾイルオキシ)安息香
酸s、5ax1o−’モルと実施例1と同様の方法で製
造、精製した3−シアノ−7−ヒドロキシクマリン5.
88X10 モルとかう同様の方法で製造、精製して
3−シアノ−7−クマリニル〜4 ″−n−ブトキシベ
ンゾイルオキシ−4′−ベンゾエート m、p、184..5℃、c、p、366.8℃を得た
。
同様にして、以下の3−シアノ−7−クマリニルー4“
−アルコキシベンゾイルオキシ−4′−ベンゾエート誘
導体を製造、精製することが出来る。
−アルコキシベンゾイルオキシ−4′−ベンゾエート誘
導体を製造、精製することが出来る。
3−シアノ−7−クツリニル−4〃−メトキシベンゾイ
ルオキシ−4′−ベンゾニート リ 3−’/7/−7〜クマリニルー4“−エトキシベンゾ
イルオキ7〜47−ベンゾエート 3−シアノ−7−クマリニルー4“−n−プロホキジベ
ンゾイルオキシ−4′−ベンゾエート3−ンアノー7〜
クマリニルー4“〜n−ペンチルオキシベンゾイルオキ
シ−4′−ベンゾエート3−シフ/−7−クマリニルー
4“−n−へキシルオキシベンゾイルオキシ−47−ベ
ンゾエート3−シアノ−7−クマリニルー4“−n−へ
ブチルオキシベンゾイルオキシ−41−ベンゾエート3
−シアノ−7−クマリニルー4 ” −n−オクチルオ
キシベンゾイルオキシ−4′−ベンゾエートo
O これら製造、精製した化合物は赤外線吸収スペクトルの
測定により同定を行い、各々C==O結合の伸縮振動に
帰属される吸収スペクトルが1730cm1に、CミN
の伸縮振動に帰属される吸収スペクトルが223om−
”に認められた。
ルオキシ−4′−ベンゾニート リ 3−’/7/−7〜クマリニルー4“−エトキシベンゾ
イルオキ7〜47−ベンゾエート 3−シアノ−7−クマリニルー4“−n−プロホキジベ
ンゾイルオキシ−4′−ベンゾエート3−ンアノー7〜
クマリニルー4“〜n−ペンチルオキシベンゾイルオキ
シ−4′−ベンゾエート3−シフ/−7−クマリニルー
4“−n−へキシルオキシベンゾイルオキシ−47−ベ
ンゾエート3−シアノ−7−クマリニルー4“−n−へ
ブチルオキシベンゾイルオキシ−41−ベンゾエート3
−シアノ−7−クマリニルー4 ” −n−オクチルオ
キシベンゾイルオキシ−4′−ベンゾエートo
O これら製造、精製した化合物は赤外線吸収スペクトルの
測定により同定を行い、各々C==O結合の伸縮振動に
帰属される吸収スペクトルが1730cm1に、CミN
の伸縮振動に帰属される吸収スペクトルが223om−
”に認められた。
捷だこれら製造、精製した化合物の元素分析結果の一例
を示すと、 3−ンアノー7−クマリニル−4−n−ブトキシヘンソ
イル万キシー4′−ベンゾエートの場合、C:69.5
7チ(理論値69.56%)。
を示すと、 3−ンアノー7−クマリニル−4−n−ブトキシヘンソ
イル万キシー4′−ベンゾエートの場合、C:69.5
7チ(理論値69.56%)。
H: 4.19%(理論値4.38チ)、N:2.85
%(理論値2,90チ)であり、はぼ一致した結果であ
った。
%(理論値2,90チ)であり、はぼ一致した結果であ
った。
(実施例4)
アセチルクロライド0.127モル、無水塩化アルミニ
ウム0.127モルとを塩化メチレンに加え、約1時間
氷冷しながら攪拌する。その中にp−ヒドロキシビフェ
ニルと臭化−n−ブチルとから実施例1と同様の方法に
て製造、精製したp −n −ブトキシビフェニル0.
106モルを溶解させた塩化メチレン溶液を徐々に滴下
する。滴下後、約3時間攪拌を行い、反応液を氷を入れ
た希塩酸水溶液中に入れ、有機層のみを分離する。分離
した有機層を希塩酸水溶液、炭酸す) IJウム水溶液
1食塩水の順で洗浄したのち、溶媒を減圧留去して得ら
れた残渣をエタノールから再結晶して4−アセチル−4
′−n−ブトキシビフェニルを得る。この様にして得た
4−アセチル−4′−n−ブトキシビフェニルを用いて
、モレキュラークリスタルス・アンド・リキッドクリス
タルス(Mo1ecularCrystals and
Liquid Crys+ta1g)第38巻。
ウム0.127モルとを塩化メチレンに加え、約1時間
氷冷しながら攪拌する。その中にp−ヒドロキシビフェ
ニルと臭化−n−ブチルとから実施例1と同様の方法に
て製造、精製したp −n −ブトキシビフェニル0.
106モルを溶解させた塩化メチレン溶液を徐々に滴下
する。滴下後、約3時間攪拌を行い、反応液を氷を入れ
た希塩酸水溶液中に入れ、有機層のみを分離する。分離
した有機層を希塩酸水溶液、炭酸す) IJウム水溶液
1食塩水の順で洗浄したのち、溶媒を減圧留去して得ら
れた残渣をエタノールから再結晶して4−アセチル−4
′−n−ブトキシビフェニルを得る。この様にして得た
4−アセチル−4′−n−ブトキシビフェニルを用いて
、モレキュラークリスタルス・アンド・リキッドクリス
タルス(Mo1ecularCrystals and
Liquid Crys+ta1g)第38巻。
346ページ、1977年出版に記載のビー、グー、ザ
ダシバ他(B、に、 5adashiva at al
)の方法に従ってal n−ブトキシビフェニル−
4−カルホン酸ヲ得る。4′−n−ブトキシビフェニル
−4−カルボン酸6.36X10 モルと前述の実施
例1と同様の方法で得た3−シアノ−7−ヒトロキシク
マリン6.36X10 モルとから同様の方法にて3
−ンアノー7−クマリニルー4’−n−プトキシヒフェ
ニルー4′−カルボキシレートm、p、180.2℃、
c、p、300℃以上を製造、精製して得た。
ダシバ他(B、に、 5adashiva at al
)の方法に従ってal n−ブトキシビフェニル−
4−カルホン酸ヲ得る。4′−n−ブトキシビフェニル
−4−カルボン酸6.36X10 モルと前述の実施
例1と同様の方法で得た3−シアノ−7−ヒトロキシク
マリン6.36X10 モルとから同様の方法にて3
−ンアノー7−クマリニルー4’−n−プトキシヒフェ
ニルー4′−カルボキシレートm、p、180.2℃、
c、p、300℃以上を製造、精製して得た。
同様にして以下の3−シアノ−7−クマリニルー4”−
n−アルコキシビフェニル−4′−カルボキシレート誘
導体を製造、精製することが出来る。
n−アルコキシビフェニル−4′−カルボキシレート誘
導体を製造、精製することが出来る。
3−シアノ−7−クマリニルー4“−メトキシビフェニ
ル−47−カルボキシレート リ 3−シアノ−7−クツリニル−4″−エトキフビフエニ
ル−4′−カルボキシレート す 3−シアノ−7−クマリニルー4 ” −n−プロピル
オキシビフェニル−4′−カルボキシレート3−シアノ
−7−クマリニルー4 ” −n−ペンチルオキシビフ
ェニル−4′−カルボキシレート3−シアノ−7−クマ
リニルー4′−n−へキシルオキシビフェニル−4′−
カルボキシレート3−シアノ−7−クマリニルー4 ”
−n−ヘプチルオキシビフェニル−4′−カルボキシ
レート(実施例6) p−n−プロピルビフェニルを用いて実施例4と同様の
方法により4−アセチル−4’−n−プロピルピフェニ
ルを経て4′−n−プロピルピフェニル−4−カルボン
酸を得る。4′−n−プロピルピフェニル−4−カルボ
ン酸6.36×10 モルと実施例1と同様の方法で得
た3−シアノ−7−ヒドロキシ2マリン6.36X10
モルとから同様の方法にて3−シアノ−7−クマリ
ニルー4 ” −n−プロピルピフェニル−4′−カル
ボキシレートm、p、210.0℃、c、p、280℃
以上を製造、精製して得た。
ル−47−カルボキシレート リ 3−シアノ−7−クツリニル−4″−エトキフビフエニ
ル−4′−カルボキシレート す 3−シアノ−7−クマリニルー4 ” −n−プロピル
オキシビフェニル−4′−カルボキシレート3−シアノ
−7−クマリニルー4 ” −n−ペンチルオキシビフ
ェニル−4′−カルボキシレート3−シアノ−7−クマ
リニルー4′−n−へキシルオキシビフェニル−4′−
カルボキシレート3−シアノ−7−クマリニルー4 ”
−n−ヘプチルオキシビフェニル−4′−カルボキシ
レート(実施例6) p−n−プロピルビフェニルを用いて実施例4と同様の
方法により4−アセチル−4’−n−プロピルピフェニ
ルを経て4′−n−プロピルピフェニル−4−カルボン
酸を得る。4′−n−プロピルピフェニル−4−カルボ
ン酸6.36×10 モルと実施例1と同様の方法で得
た3−シアノ−7−ヒドロキシ2マリン6.36X10
モルとから同様の方法にて3−シアノ−7−クマリ
ニルー4 ” −n−プロピルピフェニル−4′−カル
ボキシレートm、p、210.0℃、c、p、280℃
以上を製造、精製して得た。
同様にして以下の3−シアノ−7−クマリニルー4“−
アルキルビフェニル−4′−カルボキシレート誘導体を
製造、精製することが出来る。
アルキルビフェニル−4′−カルボキシレート誘導体を
製造、精製することが出来る。
3−シアノ−7−クマリニルー4“−メチルビフェニル
−4′−カルボキシレート 3−シアノ−7−クマリニルー4“−エチルビフェニル
−4′−カルボキシレート 3−シアノ−7−クマリニルー4 ” −n−ブチルビ
フェニル−4′−カルボキシレート () 3−シアノ−7−クマリニルー4”−n−ペンチルビフ
ェニル−4′−力ルポキシレート ○ 3−’/7/−7−クマリニルー4′−n−へキシルビ
フェニル−4′−カルボキンレート す 3−シフ/−7−クマリニルー4/ n−へフチルビ
フェニル−4′−力ルポキシレート (実施例6) p−n−ブトキシベンズアルデヒド0.08モルとマロ
ン酸0.126モルおよヒヒペリジン0.4厘jとを溶
解させたピリジン溶液を100℃に3時間加熱し、その
後反応溶液を氷冷した希塩酸水溶液に投入して析出した
結晶をI別して集める。集めた結晶を希塩酸水溶液、水
の順で洗浄した後、氷酢酸から再結晶を繰り返して、P
”−ブトキシケイ皮酸を得る。この様にして得たp−n
−ブトキシケイ皮酸5.88X10 モルと実施例1
と同様の方法で製造、精製した3−シアノ−7−ヒドロ
キシ2マリン6.88X10−3モルとから同様の方法
で製造、精製して、 3−シアノ−7−クマリニルー4 ’ −n −7’ト
キシシンナメート O m、p、157.6℃、 c、p、213.1℃を製
造して、精製して得だ。
−4′−カルボキシレート 3−シアノ−7−クマリニルー4“−エチルビフェニル
−4′−カルボキシレート 3−シアノ−7−クマリニルー4 ” −n−ブチルビ
フェニル−4′−カルボキシレート () 3−シアノ−7−クマリニルー4”−n−ペンチルビフ
ェニル−4′−力ルポキシレート ○ 3−’/7/−7−クマリニルー4′−n−へキシルビ
フェニル−4′−カルボキンレート す 3−シフ/−7−クマリニルー4/ n−へフチルビ
フェニル−4′−力ルポキシレート (実施例6) p−n−ブトキシベンズアルデヒド0.08モルとマロ
ン酸0.126モルおよヒヒペリジン0.4厘jとを溶
解させたピリジン溶液を100℃に3時間加熱し、その
後反応溶液を氷冷した希塩酸水溶液に投入して析出した
結晶をI別して集める。集めた結晶を希塩酸水溶液、水
の順で洗浄した後、氷酢酸から再結晶を繰り返して、P
”−ブトキシケイ皮酸を得る。この様にして得たp−n
−ブトキシケイ皮酸5.88X10 モルと実施例1
と同様の方法で製造、精製した3−シアノ−7−ヒドロ
キシ2マリン6.88X10−3モルとから同様の方法
で製造、精製して、 3−シアノ−7−クマリニルー4 ’ −n −7’ト
キシシンナメート O m、p、157.6℃、 c、p、213.1℃を製
造して、精製して得だ。
同様にして以下の3−シアノ−7−ツマリニル−4′−
アルコソンンナメート誘導体を製造、精製することが出
来る。
アルコソンンナメート誘導体を製造、精製することが出
来る。
3−シアノ−7−クツリニル−4′−メトキシンナメー
ト 3−シアノ−7−ツマリニル−4フーニトキシンナメー
ト 3−シアノ−7−クマリニルー4 ’ ” n −フロ
ホキシンナメート 3−シアノ−7−クツリニル−4′−n−ペンチルオキ
シシンナメート ○ 3−シアノ−7−クマリニルー4′−n−へキシルオキ
シシンナメート 3−シアノ−7−クマリニルー4′−n−へブチルオキ
シシンナメート 次に、このようにして製造、精製した本発明のクマリニ
ル・エステル誘導体は液晶組成物製造用の基礎材料とし
て極めて有用であり、特に低融点。
ト 3−シアノ−7−ツマリニル−4フーニトキシンナメー
ト 3−シアノ−7−クマリニルー4 ’ ” n −フロ
ホキシンナメート 3−シアノ−7−クツリニル−4′−n−ペンチルオキ
シシンナメート ○ 3−シアノ−7−クマリニルー4′−n−へキシルオキ
シシンナメート 3−シアノ−7−クマリニルー4′−n−へブチルオキ
シシンナメート 次に、このようにして製造、精製した本発明のクマリニ
ル・エステル誘導体は液晶組成物製造用の基礎材料とし
て極めて有用であり、特に低融点。
低透明点を示す液晶誘電体と混合して用いることにより
、ネマチックメゾフェイズを示す温度範囲、特に透明点
を高め、かつあまり粘度を高くしないという点で極めて
有用であることを見出した。
、ネマチックメゾフェイズを示す温度範囲、特に透明点
を高め、かつあまり粘度を高くしないという点で極めて
有用であることを見出した。
本発明に係るクマリニル・エステル誘導体の有用性を一
層具体化するために、その−例の特性を次表に示す。な
お、低融点、低透明点を示す液晶誘電体として CH3(CH2)30品GOC2H。
層具体化するために、その−例の特性を次表に示す。な
お、低融点、低透明点を示す液晶誘電体として CH3(CH2)30品GOC2H。
50重量%
の混合物(以下、液晶誘電体Aと記す)を用いた。
表には、全ての混合物について透明点(c−p、)のみ
を記載し、融点(m、p、)については記載しなかった
。その理由は全ての混合物は過冷却された溶融体を形成
する傾向が強いことで再現性のある融点を測定すること
が困難であった。しかし、これらの融点は一般に室温よ
り低く、一部は0℃以下であると考えられる。また表中
のΔξは誘電率の異方性を示している。
を記載し、融点(m、p、)については記載しなかった
。その理由は全ての混合物は過冷却された溶融体を形成
する傾向が強いことで再現性のある融点を測定すること
が困難であった。しかし、これらの融点は一般に室温よ
り低く、一部は0℃以下であると考えられる。また表中
のΔξは誘電率の異方性を示している。
(以 下 余 白)
表中には液晶誘電体Aと混合した例を示したが、その他
の好ましい液晶誘電体としては、アゾベンゼン類、アゾ
キシベンゼン類、ビフェニル類、シッフ塩基、特にベン
ジリデン誘導体、フェニルベンゾエート類、フェニルシ
クロヘキサン類、シクロヘキシルベンゾエート類、ピリ
ミジン類、ピペラジン類、チオエステル類からなる群か
ら選ばれる液晶化合物または液晶組成物がある。
の好ましい液晶誘電体としては、アゾベンゼン類、アゾ
キシベンゼン類、ビフェニル類、シッフ塩基、特にベン
ジリデン誘導体、フェニルベンゾエート類、フェニルシ
クロヘキサン類、シクロヘキシルベンゾエート類、ピリ
ミジン類、ピペラジン類、チオエステル類からなる群か
ら選ばれる液晶化合物または液晶組成物がある。
以上の説明から明らかなように、本発明に係る新規なり
マリニル・エステル誘導体は、液晶組成物製造用の基礎
材料として極めて有用であり、得られた液晶組成物のネ
マチックメゾフェイズを示す温度範囲も広く、工業的価
値の大なるものである。
マリニル・エステル誘導体は、液晶組成物製造用の基礎
材料として極めて有用であり、得られた液晶組成物のネ
マチックメゾフェイズを示す温度範囲も広く、工業的価
値の大なるものである。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 (1)一般式(1) 〔式中XはCnH2n+1−またはcnH2n+10−
で示される基であり、Zは一〇−〇−またはnは正の整
数。〕で示されることを特徴とするり→リニル・エステ
ル誘導体。 〔式中XはCnH2n+1−またはCnH2n+10−
で1 示される基であり、2は−C−o−またはnは正の整数
。〕で示される3−シアノ−7−クマリニル・エステル
誘導体を製造するに際し、一般式(n) 〔式中Z1は−COOHまたはその反応性誘導体を示す
。〕で示される化合物と一般式(Ill)〔式中22は
一〇Hまたはその反応性誘導体を示す。〕で示される化
合物とを等モル混合し、塩化チオニルの存在下で反応せ
しめることを特徴とするクマリニル・エステル誘導体の
製造方法。 (3)少なくとも2種の液晶成分からなり、その1種は
一般式(1) 〔式中XはCH−またはCnH2n+10− でn
2n+1 整数。〕で示される化合物群から選ばれることを特徴と
する液晶組成物。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP3773582A JPS58154569A (ja) | 1982-03-09 | 1982-03-09 | クマリニル・エステル誘導体およびその製造方法および液晶組成物 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP3773582A JPS58154569A (ja) | 1982-03-09 | 1982-03-09 | クマリニル・エステル誘導体およびその製造方法および液晶組成物 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS58154569A true JPS58154569A (ja) | 1983-09-14 |
JPH0314032B2 JPH0314032B2 (ja) | 1991-02-25 |
Family
ID=12505737
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP3773582A Granted JPS58154569A (ja) | 1982-03-09 | 1982-03-09 | クマリニル・エステル誘導体およびその製造方法および液晶組成物 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS58154569A (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2006232727A (ja) * | 2005-02-24 | 2006-09-07 | Chisso Corp | クマリン誘導体、この化合物を含有する液晶組成物およびこの液晶組成物を含有する液晶表示素子 |
-
1982
- 1982-03-09 JP JP3773582A patent/JPS58154569A/ja active Granted
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2006232727A (ja) * | 2005-02-24 | 2006-09-07 | Chisso Corp | クマリン誘導体、この化合物を含有する液晶組成物およびこの液晶組成物を含有する液晶表示素子 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPH0314032B2 (ja) | 1991-02-25 |
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