JPS6130564A - シクロヘキサンカルボニトリル類 - Google Patents

シクロヘキサンカルボニトリル類

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JPS6130564A
JPS6130564A JP14237485A JP14237485A JPS6130564A JP S6130564 A JPS6130564 A JP S6130564A JP 14237485 A JP14237485 A JP 14237485A JP 14237485 A JP14237485 A JP 14237485A JP S6130564 A JPS6130564 A JP S6130564A
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は新規なシクロヘキサンカルボニトリル類、その
製造、該化合物を含む液晶混合物、並びに電子−光学目
的に対するその用途に関する。
最近、液晶は表示装置の誘電体としてかなり重要性を増
してきておシ、その理由は、かかる物質の光学特性が印
加電圧によって影響され得るためである。液晶に基づく
電子−光学装置は当該分野に精通せる者にとってはよく
知られており、種々な効果、例えば動的散乱(dyna
mic  5catte−デ’n17)、整列した相の
変形1DAPタイプ)、シャット−へルフリツヒ(5c
hadt−Eelfrich)効果〔ねじれたネマティ
ク・セル(twisted−namattc  cel
l ):l、ゲスト/ホスト(guest/host 
)効果(ゲスト/ホスト・セル)またはコレステリック
ーネマティク相転移(cholestertc−ngm
atic  phasetransition)(相変
化効果)に基づくコトができる。
使用する液晶は熱、空気、電磁対照、電場等に対して良
好な安定性をもたなければならない。更に、液晶は無色
であるべきであシ、短い応答時間及び低粘度を有すべき
であシ、良好なコントラストを示すべきであシ、そして
液晶セルを操作する全体の温度範囲においてネマテイク
またはコレステリック中間相(mesophαse)を
有すべきである。通常、液晶は混合物として用いられる
ために、各成分が相互に良好な混和性を有し、同時にネ
マティクまだはコレステリック中間相を形成することが
更に重要である。他の特性、例えば導電率、閾値電位(
thrttahold potttntial )、多
重性及び誘電異方性が、使用するセルのタイプに応じて
、異なる条件を満たされなければならない。
誘電率の負の異方性(Δ6=ε1ビε工く0、ε11は
分子Ω縦軸に沿う誘電率を表わし、ε、はこれに垂直な
誘電率を表わす)を有する液晶は、例えば光散乱タイプ
の液晶セル、J′)APセルまたはゲスト/ホスト・セ
ルにおいて用いることができる。更に、2−周波数マト
リックス・アドレッシング法(two−frequen
cy tnatrixαddressing )が、特
にねじれたネマテイク・セル及びゲスト/ホスト・セル
の液晶装置の多重調節において、多重比を改善するため
に提案されている(例えばドイツ国特許出願公開明細書
第2856134号及び同第2907940号)。
I交す周波数1(cross −over freqw
−e、ncy”)(ε11=ε工における誘電緩和周波
数)以上での誘電異方性を改善するために、負の誘電異
方性を有する成分を対応する誘電体に加えることができ
る(例えばドイツ国特許出願公開明細書第322146
2号ン。
誘電率の大きな負の異方性を有する化合物はすでに公知
でアシ、かかる化合物の例はピリダジン類、ピリダジン
オキシド類及び2,5−ジシアノ−1,4−フェニレン
基を含む化合物である。しかしながら、これらの化合物
は種々な欠点、例えば混合物への乏しい溶解度、高粘度
、高融点、強いスメクティク傾向、化学的不安定性、高
導電率または混合物における透明点降下を有し、従って
極めて現られた範囲でのみ使用可能である。
今回、一般式 %式% 式中、Xlは単一共有結合、−CH,CB、−1−CO
O−1−OOC−または1.・・4−フェニレンを表わ
し;記号Y″及びY″の一方は水素を表わし、且つ他方
はシアンを表わり、:R”uトランス−1−アルケニル
、シス−2−フルケニル、トランス−3−フルケニル、
4−アルケニルまたはアルキルを表わし;R1は基R1
1−A4− 、(l−を表わし、そしてA4及びAsは
相互に独立に単一共有結合1.1 + 4−フェニレン
−またはトランス−1,4−シクロヘキシレンを表bL
 i R”Fi トランス−1−アルケニル、シス−2
−フルケニル、トランス−3−フルケニル、4−アルケ
ニル、トランス−2−アルケニルオキシ、6−アルケニ
ルオキシまたはR2がアルケニル基を表わす場合には、
またアルキルもしくはアルコキシを表わし:環A1は1
,4−フェニレンまたは一般式 の基を表わし;そしてYs及びY4は水素を表わすか、
或いは、Xlが−CH,CH,−1−coo−または−
ooc−を表わす限シにおいて、記号Y3及びY4の一
方はまたシアンを表わす、 の化合物は、誘電率の比較的大きな負の異方性、他の液
晶成分との良好な混和性及び低粘度を有することが見出
された。本化合物は無色であり、そして良好な化学的安
定性を有している。R1及び/またはR2がトランス−
1−アルケニル、トーランスー3−アルケニルマタハト
ランス−2−アルケニルオキシ基を含む式■の化合物は
特に好ましい中間相範囲を有し、一方、R′及び/また
はR2がシス−2−アルケニル、4−アルケニルまたは
5−アルケニルオキシ基を含む式■の化合物は弾性定数
に8.(曲げ)及びに8.(広げ)の好ましい比を主と
して有し、そして比較的低い閾値電位を示す。従って、
本発明による化合物は負の誘電異方性を有する液晶混合
物の成分として、そして2−周波数マトリックス・アド
レッシングに用いる液晶混合物の成分として特に適当で
ある。A4及び、4mが単一共有結合を表わす、即ちR
1がR11を表わす式Iの化合物は低粘度を有する基本
成分として主に適し、一方、残シの式Iの化合物は主に
適し、一方、残シの式Iの化合物は主として透明点を増
加させる添加物として有用である。しかしながら、また
本発明による化合物は、例えば使用する電子−光学一ル
に対する閾値電位を適合させるために、正の誘電異方性
を有する混合物に用いることもできる。
本発明の範囲において、「アルキル」なる用語は好まし
くは直鎖状アルキル、例えばメチル、エチル、プロピル
、ブチル、ペンチル、ヘキシル、ヘプチル、オクチル、
ノニル、テシル、ウンデシル及びドデシルを表わす。「
トランス−1−アルケニル、1なる用語には1E−アル
ケニル残基、例エバビニル、1E−ゾロベニル、1E−
ブテニル、1E−ペンテニル、1E−へキセニル、1E
−ヘゲテニル、1E−オクテニル、1E−ノネニル、1
E−デセニル、1E−クンデセニル及び1E−ドデセニ
ルが包含される。1−シス−2−アルケニル」なる用語
には2Z−アルケニル残基、例えば2−′fゾロベニル
2Z−ブテニル、22−ペンテニル、2Z−へキセニル
、2Z−へグチニル、2Z−オクテニル、2Z−ノネニ
ル、2Z−デセニル、2Z−ウンデセニル及び2Z−ド
デセニルが包含される。[トランス−5−アルケニル−
1なる用語には3E−アルケニル残基、例えば5−ブテ
ニル、5E−ペンテニル、5E−へキセニル、5E−ヘ
ゲテニル、3E−オクテニル、6E−ノネニル、5E−
デセニル、5E−ウンデセニル及ヒ3E−ドセニルが包
含される。「4−アルケニル」なる用語には残基、例え
ば4−ペンテニル並びに4−へキセニル、4−へブテニ
ル、4−オクテニル、4−ノネニル、4−7’セニル、
4−ウンデセニル及び4−ドデセニルのE−及び/また
はZ−型が包含される。[アルコキシ−1なる用語には
好ましくは直鎖状アルコキシ、例えばメトキシ、エトキ
シ、グロビルオキシ、ブチルオキシ、ペンチルオキシ、
ヘキシルオキシ、ヘゲチルオキシ、オクチルオキシ、ノ
ニルオキシ、デシルオキシ、ウンデシルオキシ及びドデ
シルオキシが包含される。
「トランス−2−アルケニルオキシ」なる用語にh2E
−アルケニルオキシ残基、例えば2−プロペニルオキシ
、2E−ブテニルオキシ、2−ペンテニルオキシ、2E
−へキセニルオキシ、2E−へブテニルオキシ、2E−
オクテニルオキシ、2E−ノネニルオキシ、2E−デセ
ニルオキシ、2語には残基例えば5−ブテニルオキシ並
びに5−ペンテニルオキシ、3−ヘキセニルオキシ、5
−へブテニルオキシ、5−オクテニルオキシ、5−ノネ
ニルオキシ、6−デセニルオキシ、6−ウンデセニルオ
キシ及び6−ドデセニルオキシのE−及び/またはZ−
型が包含される。
本発明の範囲において、[ハロゲン1なる用語は塩素、
臭素またはヨウ素を表わし、てして「アルカリ金属」な
る用語はリチウム、ナトリウムまたはカリウムを表わす
。[アリールIなる用語はフェニル、トリル等を表わす
上記の式Iには次の式が包含される: yl        l(H t d ”                I fY! Y″        し h Y” 式中、記号Y′及びY2の一方は水素を表わし且つ他方
はシアンを表わし;Y3及びYlは水素を表わすか、ま
たは記号ys及びY4の一方はまたシアノを表わし;そ
してRI及びR2は上記の意味を有する。
式■及び式Iα〜Ijの好ましい化合物はA5わす化合
物が特に好ましい。
RI及びR2は好ましくは最大12・個の炭素原子を有
する直鎖状残基、特に炭素原子2〜12個を有する直鎖
状トランス−1−アルケニル、炭素原子3〜12個を有
する直鎖状シス−2−アルケニル、炭素原子4〜12個
を有する直鎖状トランス−3−アルケニル、炭素原子5
〜12個を有する直鎖状4−アルケニルを表わすか、或
いは残基RI′及びR1の1つはまた炭素原子1〜12
個を有する直鎖状アルキルを表わす。最大7個の炭素原
子を有する残基R11及びR1が特に好ましい。
好ましくは、R11及びR1は相互に独立にトランス−
1−アルケニル、トランス−3−アルケニルま・たは4
−アルケニルを表わすか、或いは残基′R11及びR2
の一方、好ましくはR11はまたアルキルを表わす。残
基R11及びR2の一方がトランス−3−アルケニルを
表わし且つ他方がトランス−1−アルケニル、トランス
−5−アルケニル、4−アルケニルまたはアルキルを表
わす式Iまたは式lα〜Ijの化合物が特に好ましい。
環A′が1.4−フェニレンを表わす式Iの化合物、即
ち式la、I’%  IIS Ig及びljの化合物に
おいて、RIは好ましくはトランス−3−アルケニル、
4−アルケニルまたはアルキルを表わす。
R1及び/またはR2に存在し得る4−アルケニル残基
並びにRIに存在し得る6−アルケニルオキシ残基は好
ましくはZ−型を有する。
特に好ましいアルケニル残基は3−ブテニル、4−ペン
テニル、゛5E−ペンテニル及び1E−ペンテニルでち
る。
式■dの好ましい化合物はys及びY4が水素を表わす
もの、並びにY4Aび同時にYtがシアノを表わす化合
物である。残シの式lの化合物の中で、Ylがシアノを
表わし、そして存在し得る置換基ya及びY4が水素を
表わす化合物が一般に好ましい。
更に、環A1がトランス−1,4−シクロヘキシレンを
表わす大lの化合物、即ち式1.6及びIjの化合物、
並びにY8及びY4が水素を表わす式Hd、I/及び■
んの化合物が一般に好ましい。
本発明に従えば、式Iの化合物は、 α)  XIが一〇゛00−または−ooc−を表わす
式Iの化合物を製造するために、一般式の化合物を一般
式 式中、Zi及びZ2の一方は一〇〇〇Hまたは−coc
tを表わし且つ他方は一〇Hを表わし;環A1は1.4
−フェニレンまたは上記式■の基を表わし;式■におけ
るY8及びY4は水素を表わすか、またはこれらの記号
の1つはまたシアンを表わし;そしてBt 、Rt 、
yl及びYtは上記の意味を有する、 の化合物でエステル化するか、 6)XIが単一共有結合、−CH,CH,−または1,
4−フェニレンを表わし、Ylがシアジノを表わし、そ
してR2がシス−2−アルケニル、トランス−3−アル
ケニル、4−アルケニルまたはアルキルを表わす式Iの
化合物を製造するために、一般式 の化合物を最初に塩基と反応させ、次に一般式za  
Bs           V1式中、X!は単一共有
結合、−CH,CH,−または1,4−フェニレンを表
わし;環、4tは1,4−フェニレンまたは式■の基を
表わし;式■におけるYs及びY4は水素を表わすか、
または、X2が−CHtCH,−を表わす限シにおいて
、記号Y8及びY4の一方はまたシアノを表わしjZ”
はハロゲンを表わし;Rsはシス−2−アルケニル、ト
ランス−5−アルケニル、4−アルケニルまたはアルキ
ルを表わし;そしてR1は上記の意味を有する、 の化合物と反応させるか、 6)X’が単一共有結合または−C1l。
CH,−を表わし、環、41 がトランス−1,4−シ
クロヘキシレンを表わし、そしてYlがシアンを表わす
式Iの化合物を製造するために、一般式の化合物を最初
に塩基と反応させ、次に一般式式中、nは数0を表わし
、そして環A3はシス−1,4−7クロヘキ7レンを表
ワ−rか、nは数2を表わし、そして環Aaはトランス
−1,4−シクロヘキシレンをl)し;Z8はハロゲン
を表わし:そして7?1及びR2は上記の意味を有する
、。
の化合物と反応させるか、 d)XIが単一共有結合、−CH,OH,−または1,
4−フェニレンを表わし、そしてYlがシアノを表わす
式Iの化合物を製造するために、の化合物を最初に塩基
と反応させ、次に一般式式中、X2は単一共有結合、−
CH,CH2−または1,4−フェニレンを表わし;環
A2は1,4−フェニレンまたは式■の基を表わし;式
■におけるYs及びY4は水素を表わすか、または、X
!が−CH,CB、−を表わす限りにおいて、゛記号Y
a及びY′の一方はまたシアノを表わし;Zsはハロゲ
ンを表わし;そしてR′及びR2は上記の意味を有する
、 の化合物と反応させるか、 e)X’が単一共有結合、−CH,’CH,−または1
,4−フェニレンを表わし、Y!がシアノを表わし、そ
してR2がトランス−j−アルケニルを表わす式Iの化
合物を製造するためeこ、一般式 式中、、X” tl−共有結合、−C1l、CH,−ま
たは1,4−フェニレンを表わし;環A2は1,4−フ
ェニレンまたは式■の基を表わし、;式■におけるYs
及びY4は水素を表わすか、または、X2が−C1l、
C’H,−を表わす限りにおいて、記号Y3及びY4の
一方はまたシアノを衣、わし;そしてRsは式Iにおい
てR1として示した意味を有する、 の化合物を塩基の存在下においてアルキル−トリアリー
ルホスホニウムハライドと反応させるか、f)X”が単
一共有結合、−CH,CH,−または′1,4−フェニ
レンを表わす式■の化合物を製造するだめに、一般式 式中、A2は単一共有結合、−CH2CHt−または1
,4−フェニレンを表わし;環A″は1.4−フェニレ
ンまたは式■の基を表わし;式■におけるya及びY4
は水素を表わすか、または、Xまが−CH,CH,−を
表わす限りにおいて、記号Y3及びY4の一方はまたシ
アノを表わし;点線の1つは追加の結合を表わし;そし
てR1及びR2は上記の意味を有する、 の化合物にHCNを付加するか、或いはg)Xlが単一
共有結合、−CH,CH雪−または1,4−フェニレン
を表わし、そしてR1がトランス−2−アルケニルオキ
シ、3−アルケニルオキシまたはアルコキシを表わす式
■の化合物を製造するために、一般式 式中、Xtは単一共有結合、−CH,CH,−1たti
l、4−フェニレンを表わし冨環A2は1.4−フェニ
レンまたは式■の基を表わし;式■におけるY8及びY
4は水素を表わすか、または、Xlが−CH,CH,−
を宍わす限りにおいて、記号Y8及びY4の一方はまた
シアノを表わし;そしてA41.41、R雪、YI及び
ytは式Iに示した意味を有する、 の化合物をトランス−2−アルケニル/・ライド、3−
アルケニルノ・2イドまたはアA/棒ルノ・ライドでエ
ーテル化する、 ことによって製造することができる。
式■の化合物の式(IV)の化合物によるエステル化(
方法α)はそれ自体公知の方法において行−うことかで
きる。酸塩化物(例えば塩化チオニルと共に加熱するこ
とによってカルボン酸から得られるもの)のエステル化
は例えばジエチルエーテル、テトラヒドロフラン、ジメ
チルホルムアミド、ベンゼン、トルエン、四塩化炭素、
ピリジン等中で行うことができる。カルボン酸のエステ
ル化は好ましくは4−(ジメチルアミノ)ピリジン及び
ジシクロへキシルカルボジイミドの存在下において、或
いは塩化オキザリル及びジメチルホルムアミドの存在下
において行われる。このエステル化反応を行う温度及び
圧力は臨界的ではない。一般に、大気圧及び約−30℃
乃至反応混合物の沸点−間の温度が用いられる。
式v1■またはIX−二)リルと塩基との反応、続いて
式■、■またはXのハライドとの反応(方法す、d )
はまたそれ自体公知の方法において行なうことができる
。好ましいハロゲンZaは臭素である。適当な塩基は例
えば水素化ナトリウム、ナトリウムアミド、リチウムジ
イソプロピルアミド、カリ、ラムt−ブチレート等であ
る。好ましい塩基はアルカリ金属ジアルキルアミドであ
り、この場合に、「アルキル」なる用語は好ましくは炭
素原子1〜5個を有する直鎖状または分枝鎖状残基を表
わす。特に好ましい塩基はリチウムジイソプロピルアミ
ドでるる。この反応は有利には不活性有機溶媒、例えば
エーテル、芳香族炭化水素、アミドまたはスルホキシド
、例えばテトラヒドロフラン、ジオキサン、ジエチルエ
ーテル、トルエン、ジメチルホルムアミドまたはジメチ
ルスルホキシド中で行われる。温度及び圧力は臨界的で
はない;しかしながら、−的方法す及びCは大気圧及び
約−80℃乃至室温で行われ、そして方法dは大気圧及
び約0〜150℃の温度で行われる。
式XIの化合物とアルキル−トリアリールホスホニウム
ハライド、好ましくはアルキル−トリフェニルホスホニ
ウムクロライドまたはアルキル−トリフェニルホスホニ
ウムブロマイドとの反応(方法e)はまたそれ自体公知
の方法において行うことができる。適当な塩基は上記の
方法す、dに述べた塩基である。しかしながら、好まし
い塩基はアルカリ金属炭酸塩及び特に炭素原子1〜5個
を有するアルカリ金属アルコレートである。好ましい塩
基の例は炭酸カリウム、ナトリウムメチレート及びカリ
ウムt−ブチレートである。この反応は有利には不活性
有機溶媒、例えばエーテル、例えばジエチルエーテル、
テトラヒドロフランまたはジオキサン中で行われる。温
度及び圧力は臨界的ではない;しかしながら、この反応
は大気圧及び室温乃至還流温度間で行われる。
また式X■の化合物にECMの付加(方法f)はそれ自
体公知の方法において行うことができる。
この反応は有利には不活性有機溶媒、例ればニトリリル
、アミドまたは塩素化された炭化水素、例えばアセトニ
トリル、ジメチルホルムアミド、塩化メチレンまたはク
ロロホルム中で行われる。温度及び圧力は臨界的ではな
い;しかしながら、一般にこの反応は約−10°C〜1
50℃の温度及び約1〜100バールの圧力下で行われ
る。必要に応じて、またこの反応を触媒、例えばパ2ジ
クムーピスーC2,5−0−インプロピリデン−2,5
−ジヒドロキシ−1,4−ビス(ジフェニルホスフィノ
)ブタン〕等の存在下において行うこともできる。
式LXXXlの化合物のエーテル化(方法g)はまたそ
れ自体公知の方法において行うことができる。この反応
は有利には不活性有機溶媒中で、塩基、例えば水素化ナ
トリウム、ナトリウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム
等の存在下において行われる。好ましいハライドはブロ
マイド及び特にアイオダイドである。この反応は好まし
くは大気圧及び室温乃至還流温度で行われる。
R′またはR2がアルキルまたはアルコキシ基を表わす
式m〜v1■〜X及びLXXXIの化合物並びに式■の
化合物は公知の化合物であるか、または公知の化合物の
同族体である。
残シの出発物質、即ちRgfたはBqがアルケニルまた
はアルケニルオキシ基を表わす式m−v。
■〜X及びLXXXIの化合物並びに式XI及び■の化
合物は新規なものでめる。これらの出発物質の製造を次
の反応式1〜12に基づいて説明する:式中、Rはアル
キルを表わし R4は水素またはアルキルを表わし、1
’BPはテトラヒドロピラニル基を表わし、R5はシス
−2−アルケニル、トランス−5−フルケニル、4−ア
ルケニル噴たはアルキルを表わし、そしてR1、R2、
Ba、Xt及び環A!は上記の意味を有する。
喚                       く
り                        
  (〇 0                     リ磯 
            − リ    に                   
       1〜≧ <           リ            
     )#                  
 るは       −〉 ′C鴫            ミ 中           ≧ く             ζ <                   0=嘔  
             ( 嘔       (ミ 上記の反応において、ある場合には、シス/トランス−
異性シクロヘキサン誘導体が得られるが、しかしながら
、このものをそれ自体公知の方法において、例えばクロ
マトグラフィー及び/または結晶化によって分離するこ
とができる。更ニ、する場合には、特にアルケニル基を
ピツテイヒ(JF’i−ttig )反応によって導入
する際に、シス/トランス−異性アルケニル化合物の混
合物が得られる。
またこれらのものけそれ自体公知の方法に従って、例え
ばクロマトグラフィーによって分離することができる。
この場合、−酸銀を含浸させたシリカゲルが特に有利で
あることがわかった。必要に応じて、望まぬアルケニル
異性体を、例えばP−)ルエンスルフィン酸との反応に
よって、またはエポキシドを介して、例えば炭酸カリウ
ムの存在下においてm−クロロ過安息香酸との反応、ベ
ンゼン中でトリフェニルホスフィン−臭素によるエポキ
シドのハロダン化及び該ハライドの氷酢酸中の亜鉛によ
る還元によって、所望の異性体に転化することができる
反応式3.7.8及び10VC示したものに対する追加
のアルケニル誘導並びに式IXの追加の化合物は反応式
2に示した方法に従ってアルデヒドを長鎖にした後に得
ることができる。
式Illの範囲vcあるRIがアルケニル基を表わすフ
ェノール類は、残基R′の代りにホルミル基を有する対
応するフェノール類から、例えば2−メトキシエトキシ
メチル保護基を導入し、随時あらかじめ鎖を長くした後
(反応式2と同様の方法で入ビツテイヒ反応によってア
ルケニル基を導入し、そして最稜に、臭化亜鉛を用いて
保護基を開裂させることによって、得ることができる。
R3がアルキルまたはトランス−1−アルケニルを表わ
す式LX■の化合物(反応式12)は公知の化合物でお
るか、或いは公知の化合物の同族体である。式LX■の
残りの化合物はマロン酸ジエチルから、例えばリチウム
ジインプロピルアミド及び臭化アルケニルとの反応によ
って得ることができる。
本発明による化合物は相互の、或いは他の液晶、例えば
シップ塩基、アンベンゼン類、アゾキシベンゼン類、安
息香酸フェニル類、シクロヘキサンカルテン酸フェニル
エステル類、シクロヘキサンカルゲン酸シクロヘキシル
エステル類、ビフェニル類、ターフェニル類、フェニル
シクロヘキサン類、シクロヘキシルビフェニル類、フェ
ニルピリミジン類、ジフェニルビリミジン類、シクロヘ
キシル−フェニルビリミジン類、フェニルジオキサン類
、フェニルピリダジン類、2.3−ジシアノ−1,4−
フェニレン誘導体等の群からの物質との混合物の形態で
用いることができる。かかる化合物は当紋分野に精通せ
る者にとって公知であり、更にこれらの多くのものは市
販品である。
本発明による混合物は好ましくけ式■の化合物約1〜9
0重量%、殊に約10〜50重量%を含有する。
好ましくは、本発明による化合物を負の誘電異方性を有
する混合物に、或いは2−周波数調節に適する混合物に
用いる。かかる混合物の製造はそれ自体公知である。
2−周波数マトリックス・アトレッジ、ングに対する本
発明による混合物は好ましくFi−2以下の誘電異方性
を有する成分A並びに+10以上の誘電異方性、少なく
とも100℃の透明点及び20℃で多くと+15KHz
の全混合物におゆる交す周波数を有する成分Bを含有す
る。成分Aの量は好ましくけ約5〜85重量%及び成分
Bの量は好ましくは約3〜30重量%である。2−周波
数マトリックス・アドレッシングに対する本発明による
混合物には追加の化合物、好ましくは多くとも40Cp
の粘度(カサ粘度)、少なくとも40℃の透明点及び−
2乃至+1間の誘電異方性を有する成分Cを含ませるこ
とができる。成分Cの量は有利には約0〜70重量%、
そして好ましくけ約10〜50重量%である。成分A、
 B及びCは各々1種またはそれ以上の化合物からなり
、そして成分Aけ少なくとも1種の上記式■の化合物を
含有する。
更に成分AKは、1種またはそれ以上の式■の化合物と
け別に、例えば一般式 式中、環Bけ1.4−フェニレンまたはトランス−1,
4−シクロヘキシレンヲ表ワし;X3は単一共有結合、
−CH,CH−または−COO−を表わし;R6及びR
?け直鎖状C7〜C7−アルキルを表わし;そしてR8
は直鎖状C8〜C1−アルキルまたは直鎖状Cr1〜C
6−アルコキシを表わす、 の化合物を含ませることができる。
成分Bは好ましくけ少なくとも1種の一般式式中、環B
は1.4−フエニ、レンまたはトランス−1,4−シク
ロヘキシレンヲ表ワし;X4け単一共有結合、−CH,
CH,−1−COO−4たは1.4−フエニレンヲ表ワ
し;Raは直鎖状C0〜C1−アルキル、または“ベン
ゼン環上の直鎖状C1〜C6−アルコキシを表わし;Y
IFi水素または塩素を表わし;Y6及びY?はシアノ
、ニトロ、フッ素、塩素または臭素を表わすか、或いF
i711は水素を表わし、そしてY’ Id2 。
2−ソシアノビニルまたは2.2−ジシアノ−1−メチ
ルビニルを表わす、 の化合物を含有する。
成分Cとして適する化合物及び混合物は大部分は公知で
ある。好ましくは成分Cは1種またはそれ以上の次の一
般式の化合物を含有する:XXX 式中、環B及びCは1.4−7エニレンま1et)ラン
ス−1,4−シクロヘキシレンを表わし;R6は直鎖状
C1〜C?−アルキルを表わし;R6は直鎖状C1〜C
7−アルキルまたは直鎖状C8〜C6−アルコキシを表
わし;R9は直鎖状C1〜C1−アルキル、直鎖状04
〜−(?y−)ランス−5−アルケニルまたはシクロヘ
キサンもしくはソオキサン環上の直鎖状C1〜C1−ト
ランス−1−アルケニルを表わし;R10はアルキル、
アルコキシ、p−アルキルフェニル、P−フルコキシフ
ェニル、トランス−4−アルキルシクロヘキシル 4’
−フルキル−4−ビフェニリル、7)−()ランス−4
−アルキルシクロヘキシルJフェニル、2−()ランス
−4−アルキルシクロヘキシル)エチル、p−(2−(
)ランス−4−アルキルシクロへキシル】エチル〕フェ
ニルマタハ2−(p−(トランス−4−アルキルシクロ
ヘキシル)フェニル〕エチルヲ表わし、そしてR10v
cおけるアルキル及びアルコキシ残基は炭素原子1〜7
個を有する直鎖状残基である。
LXXI及びLxxm〜LXXXの化合物を含有する。
また、本発明による混合物KFi光学的に活性な化合物
(例えば光学的に活性なビフェニル類)及び/または二
色性着色物質(dichroic colotbrin
ggwbztαnceg)(例えばアゾ、アゾキシまた
はアントラキノン着色物質)を含ませることができる。
かかる化合物の量は溶解度及び所望の色調(pitc処
色、吸光等によって決定される。好ましくは、光学的活
性化合物の量は全混合物において最大約4重量%であり
、そ(−て二色性着色物質の量は最大約10重量%であ
る。
本発明による混合物の製造はそれ自体公知の方法におい
て、例えば各成分の混合物をわずかに透明点以上の温度
に加熱し、次に該混合物を冷却して行うことができる。
また電子−光学装置の製造はそれ自体公知の方法におい
て、例えば適当なセルを空にし、そしてこの空にしたセ
ル中に該混合物を導入することによって行うことができ
る。
R9がアルケニルを表わす式L X X ITI〜LX
XXの化合物は新規なものである。これらの化合物は、
式Iの化合物の製造に関して述べた方法と同様にして得
ることができる。残りの式L X X m〜L X X
 X (’) 化合物及ヒ式L X X −L X X
 TI (D化合物は公知の化合物であるか、或いは公
知の化合物の同族体である。
次の混合物1〜6は本発明による好ましい混合物の例で
ある。Voはホメオトロピック(homeo−trop
ic )閾値電位を表わし、△εは誘電異方性を表わし
、そして△ルは光学的異方性を表わし、22℃で測定し
た。
混合物1 トランス−4−ブチルシクロヘキサンカルボン酸p−エ
トキシフェニルエステル8.544t!、トランス−4
−ペンチルシクロヘキサンカルがンHp−メトキシフェ
ニルエステルスs4重i%、4−エトキシ−1−(2−
()ランス−4−ペンチルシクロヘキシル)エチル〕ベ
ンゼン99.2 i景チ、 1−[2−(トランス−4−ブチルシクロヘキシル)エ
チル)−4−(トランス−4−ペンチルシクロヘキシル
)ベンゼン11、OO重j1%、4−(2−()7ンス
ー4−ブチルシクロヘキシル)エチル)−4” ()ラ
ンス−4−ペンチルシクロヘキシル)−1,1−エチレ
ンジベンゼン7、0 ’0重量%、 r−1−シアノ−1−(5−ブテニル)−シス−4−(
)ランス−4−ブチルシクロヘキシル)シクロヘキサン
20,00重量%、 r−1−シアノ−1−(3−ブテニル)−シス−4−(
)ランス−4−ペンチルシクロヘキシル)シクロヘキサ
ン10.00重量%、 γ−1−シアノー1−(3−ブテニル)−シス−4−(
)ランス−4−ヘプチルシクロヘキシル)シクロヘキサ
ン26.00重量%; 融点−20℃以下、透明点73℃、ネマテイク;△ε=
−4、VO=1.75F:Δn = o、 o 6゜混
合物2 トランス−4−ブチルシクロヘキサンカルボン酸P−エ
トキシフニニルエステル7.8重量%、トランス−4−
ブチルシクロヘキサンカルボン酸p−ペンチルオキシフ
ェニルエステル3.7t!−%、トランス−4−ペンチ
ルシクロヘキサンカルボン酸p−メトキシフェニルエス
テル7.7重i%、1−〔2−(トランス−4−ブチル
シクロヘキシル)エチル)−4−()ランス−4−ペン
チルシクロヘキシル)ベンゼン13.0ffii%、4
−(2−()ランス−4−7”チルシクロヘキシル)エ
チル〕−4“−(トランス−4−ペンチルシクロヘキシ
ル)−1,1−エチレンジベンゼン90重量%、 r−1−シアノ−1−(3−ブテニル)−シス−4−(
)ランス−4−ブチルシクロヘキシル)シクロヘキサン
17.7重量饅、 r−1−シアノ−1−(3−グチニル)−シス−4−(
)ランス−4−ペンチルシクロヘキシル)シクロヘキサ
ン6.1重tチ、 ?”−1−シアノ−1−(5−ブテニルツーシス−4−
(2−()ランス−4−プロビルシクロヘキ△、6 =
、 −3,8、Vo =1.85 F : △n ””
Ω、o5゜混合物3 トランス−4−ブチルシクロヘキサンカルビン酸P−エ
トキシフェニルエステル11.0tt%、トランス−4
−ブチルシクロヘキサンカルがン酸p−<メチルオキン
フェニルエステル10.o]i量チ、 トランス−4−ペンチルシクロヘキサンカルがン酸p−
メトキシフェニルエステル10.0重fi%、トランス
−4−ペンチルシクロヘキサンカルぎンHp−プロピル
オキシフェニルエステル9.5i量チ、 1−・C2−(+ランスー4〜ブチルシクロへキシル〕
エチル)−4−()ランス−4−ペンチルシクロヘキシ
ル)ベンゼン10.0重量%、4−(2−()ランス−
4−ブチルシクロヘキシル)エチル−4−(トランス−
4−インチルシクロヘキシル)ビフェニル4.0 重1
1 %、4−(2−(’)ランス−4−ブチルシクロへ
キシルクエチル)−4’−()ランス−4−ペンチルシ
クロヘキシル) −1、1’−エチレンベンゼン5.0
重tチ 4−ブチル−1(2−()ランス−4−ブチルシクロヘ
キシル)エチル)−2,3ジシアノベンゼン6.5重量
%、 4−ブチル−1−〔2−(トランス−4−4ンチルシク
ロへキシル」エチル]−2.3−ソシアノベンゼン75
重景チ、 r−1−シアノ−1−(5−ブテニル)−シス−4−(
)ランス−4−ブチルシクロヘキシル)シクロヘキサン
26.5重量%; 透明点67℃、ネマテイク。
混合物4 トランス−4−ブチルシクロヘキサンカルがン酸p−エ
トキシフェニルエステル7.755重量、ト97スー4
−1チルシクロヘキサンカルぎン酸P−(メチルオキシ
フェニルエステル5.641J量チ、 トランス−4−ペンチルシクロヘキサンカルがンHp−
メトキシフェニルエステル7、77重量%、1−(2−
()ランス−4−ブチルシクロヘキシル)エチル)−4
−()ランス−4−インチルシクロヘキシル)(ンゼン
15.00重t%、4−[2−()ランス−4−ブチル
シクロへキシルクエチル)−4’−()ランス−4−ペ
ンチルシクロヘキシル) −,1、1’−エチレンベン
ゼン9、00重量%、 r−1−シアノ−1−(3−ブテニル)−シス−4−(
)ランス−4−ブチルシクロヘキシルクシクロヘキサン
14.00重量%、 r−1−シアノ−1−(6−ブテニル)−シス−4−(
トランス−4−ペンチルシクロヘキシル)シクロヘキサ
ン4.80重量%、 r−1−シアノ−1−(3−ブテニル)−シス−4−[
2−()ランス−4−プロピルシクロヘキシル)エチル
〕シクロヘキテン40.00重tl:融点−20℃以下
、透明点70℃、ネマテイク;△t=−3,82、V6
 =1.85V ;Δn=0.055゜混合物5 トランス−4−ブチルシクロヘキサンカルがン酸p−エ
トキシフェニルエステル2.80重tJ、トランス−4
−ペンチルシクロヘキサンカルがンHP−1トキシフェ
ニルエステル2.59i−31%、4−エトキシ−1−
[:2−()ランス−4−ペンチルシクロヘキシル)エ
チレンベンゼン9.00 i量チ、 1−(2−()ランス−4−ブチルシクロヘキシル)エ
チル)−4−()ランス−4−ペンチルシクロへキシル
)ベンゼン14.20 重量%、4−(2−()ランス
−4−ブチルシクロヘキシル)エチル) −4’−()
 ランス−4−ペンチルシクロヘキシル) −1、1’
−エチレンベンゼン9.777重量、 r−1−シアノ−1−(−s−ブテニル)−シス−4−
()ランス−4−ブチルシクロヘキシル)シクロヘキサ
ン14.00重量%、 f−1−シアノ−1−(3−ブテニル)〜シスー4−(
トランス−4−ペンチルシクロへキシルンシクaヘキサ
ン5.54重量%、 r−1−シアノ−1−1:2−()ランス−4−ゾロビ
ルシクロへキシル)エチルツーシス−4−(3−ブテニ
ル)シクロヘキサン42.10重量%、融点−20℃以
下、透明点64℃、ネマテイク;△g = −4,04
、Vo=1.8F;△n=0.05゜混合物6 トランスー4−ブチルシクロヘキサンカルがン酸p−エ
トキシフェニルエステル6.90重(1%、トランス−
5−ペンチルシクロヘキサンカルぎン酸7’−メ)キシ
フェニルエステル6.42Ji量%、4−エトキシ−1
−(2−()ランス−4−ペンチルシクロヘキシル)エ
チル〕ベンゼン19.23重量%、 1−(2−()ランス−4−ブチルシクロヘキシル)エ
チル]−4−()ランス−4−ペンチル7クロヘキシル
)ベンゼン1i、 55 ft%、4−ブチル−1−+
:2−()ランス−4−ブチルシクロヘキシル)エチル
)−2,5−ジシアノベンゼン6.79重量%、 4−ブチル−1−(2−(トランス−4−ペンチルシク
ロヘキシル)エチル]−2,3−ジシアノベンゼン8,
55重量%、 r−1−シアノ−1−(6−ブテニル)−シス−4−(
トランス−4−ブチルシクロヘキシル)シクロヘキサン
25.14重量%、 τ−1−シアノー1−(3−ブテニル)−シス−4−(
4’−ペンチルー4−ビフェニル)シクロヘキサン15
.42重量%; 透明点52℃、ネマティック。
式Iの化合物の製造を次の実施例によって更に説明する
。Cは結晶相を表わし、Sはスメクテイク(gmgct
ic )相を表わし、Nはネマティック相を表わし、そ
してIはイントロピック(1rotrop−ic)相ケ
表わす□ 実施例 1 無水テトラヒドロフラン95−中のソイソプロビルアミ
ン1.1579の溶液を、−74℃乃至−69℃で攪拌
し1つ窒素通気しながら、ヘキサン中のブチルリチウム
の1.6M溶液7.0−で2分間以内に滴下処理した。
混合物をこの温度で15分間攪拌し、次に一50℃で3
分間以内に、無水テトラヒドロフラン8.5d中の4′
−ペンチルー4−ビシクロへキシルカルダニトリル2.
52の溶液で滴下処理し、この混合物を一50℃で更に
60分攪拌した。その後、混合物を7分間以内に無水テ
トラヒドロフランa5ゴ中の4−プロモー1−ブテン1
.291Fの溶液で滴下処理し、生じた混合物を一50
℃で更に’ 1.5時間、次に室温で1.5時間攪拌し
た。次に反応混合物を飽和塩化アンモニウム溶液19O
1nl中に注ぎ、ジエチルエーテルで抽出した。有機相
を水で洗浄し、硫酸ナトリウム上で乾燥し、真空下で溶
媒を除去した。残った黄色液結晶性の油(2,9s2r
)をヘキサン中にてシリカゲル90f上でクロマトグラ
フィーにかけた。ヘキサン/トルエン(容量比9:1.
8:2及び7:3)Kより、冷却した際に晶出する無色
の液晶性油としてτ−1−シアノー1−(3−ブテニル
)−シス−4−()ランス−4−ペンチルシクロ−・キ
シルンシクロヘ”キサンが溶離された。
メタノールから再結晶させ、融点(C−N)26.0℃
及び透明点(N−1)61℃を有する無色の結晶を得た
同様の方法において、次の化合物を製造した:r−1−
シアノー1−(3−ブテニル)−シス−4−()ランス
−4−エチルシクロヘキシル)シクロヘキサン;融点(
C−1)23.0℃及び25.6℃(2変態)、透明点
(N−4)13.8℃、r−1−シアノ−1−(6−ブ
テニル)−シス−4−()ランス−4−プロピルシクロ
ヘキシル)シクロヘキサン;融点(C−N)31.4℃
、透明点(N−1)4B3℃、 r−1−シアノ−(5−ブテニル)→シスー4−(トラ
ンス−4−ブチルシクロヘキシル)シクロヘキサン; 融点(C−#)29.5℃、透明点(N−1)51.2
℃、 r−1−シアノ−1−(3−:rテニル)−シス−4−
()ランス−4−へブチルシクロヘキシル)シクロヘキ
サン;融点(C−5121,5℃、転移点(S−N)2
7℃、透明点(N−1)63.5℃、τ−1−シアノー
1− (5B−ペンテニル]−シス−4−()ランス−
4−ペンチルシクロヘキシル)シクロヘキサン;融点(
C−N)43.0℃、透明点(N−1)68.6℃、 r−1−シアノ−1−(4−被ンテニル)−シス−4−
(トランス−4−ペンチルシクロヘキシルjシクロヘキ
サン;融点<C−514,6℃、透明点(S−1721
,9℃、 r−1−シアノ−1−(3−ブテニル)−シス−4−(
:2−()ランス−4−ブチルシクロヘキシル)エチル
コシクロヘキサン:融点(C−N160.5℃、透明点
(N−4144,5℃、r−1−シアノ−(3−ブテニ
ル)−シス−4−I:2−()ランス−4−プロピルシ
クロヘキシル)エチルコシクロヘキサン:融点(C−N
110.1℃及び12.3℃(2変態)、透明点(N−
7)40.1℃、 ’r−1−シアノー1−(3−ブテニル)−シス−a 
−C2−、()ランス−4−ペンチルシクロヘキシル)
エチルコシクロヘキサン”、9点(C−A’)27.1
℃、透明点(N−4J54.1℃、r−1−シアノ−1
−(3−ブテニル)−シス−4−(4−ペンチルフェニ
ル)シクロヘキサン;融点20℃以下、沸点(0,1−
ぐ−ル)155〜160℃、 r−1−シアノ−1−(3−ブテニル)−シス−4−(
4’−ペンチル−4−ビフェニリル)シクロヘキサン;
融点(C−#)ss、6℃、透明点(N−1)134.
7℃。
実施例 2 無水テトラヒドロフラン480 cal中のソイソデロ
ビルアミン5.9559の溶液を、−72℃乃至−70
℃で攪拌し且つ窒素通気しながら11分間以内に、ヘキ
サン中のブチリチウムの1.6M溶液55、5 mlで
滴下処理した。この混合物をこの温度で15分間攪拌し
、次に一50℃で8分間以内に、無水テトラヒドロフラ
ン45−中の4−(3−ブテニル)シクロヘキサンカル
がニトリルa02の溶液で滴下処理しく無水テトラヒド
ロフラン6−ですすぎ】、生じた混合物を一50℃で更
に15分間攪拌した。その後、混合物を無水テトラヒド
ロフラ/asmz中のトランス−4−プロピル−1−(
2−ブロモエチル)シクロヘキサン11.422の溶液
で10分間以内に滴下処理し、生じた混合物を一50℃
で更に1,5時間、次に室温で1.5時間攪拌した。次
に反応混合物を飽和塩化アンモニウム溶液111中に注
ぎ、ジエチルエーテルで抽出した。有機相を水で洗浄し
、硫酸マグネシウム上で乾燥し、真空下で溶媒を除去し
た。残った黄色油<16.1t)をヘキサン中にてシリ
カグル300を上でクロマトグラフィーにかけた。ヘキ
サン/トルエン(容量比19:1.9:1.8:2及び
7:5)Kより、帯黄色消としてr−i−シアノ−1−
[2−()ランス−4−プロピルシクロヘキシルJエチ
ル〕−シス−4−(5−グチニル)シクロヘキサンが溶
離され、このものは冷却した際、液晶性であ抄、これを
結晶化させた。
2−プロ・ぐノールから再結晶させ、融点(C−N)5
.5℃及び透明点(N−/)29.3℃を有する純粋な
生成物を得た。
出発物質として用いた4−(3−ブテニル)シクロヘキ
サンカルボニトリルは次の如くして製造した: α)無水ソエチルエーテル1200m/i中のメトキシ
メチル−トリフェニルホスホニウムブロマイド133.
7fの懸濁液を、室温で攪拌し目つ窒素通気し々から、
固体のカリウムt−ブチレート46.6tで処理し、こ
の混合物を室温で更に1時間攪拌した。次に混合物を一
60℃に冷却し、無水テトラヒドロフラン200−中の
4−シアノシクロヘキサンカルがキシアルデヒド35.
7fの溶◆ 液で20分間以内に滴下処理した。反応混合物を放置し
て2.5時間以内に室温にし、次に回転蒸発機により5
0℃で溶媒を除去した。残った赤−褐色の粘性油を塩化
メチレンに採り入れ、この溶液を水で2回洗浄した。水
相を塩化メチレンで2回逆抽出した。有機相を硫酸ナト
リウム上で乾燥し、そして真空下で蒸発させた。残渣を
トルエン/ヘキサンから再結晶させて、トリフェニルホ
スフインオギシドを不完全に除去した。F液をヘキサン
/トルエン(容量比1:1)中にてシリカrル6oog
上でクロマトグラフィーにかけた。トルエン/ヘキサン
(容量比1:1)、トルエン及′びトルエン/アセトン
(容量比97.5:2.5)により、帯黄色液体として
4−(2−メトキシビニル)シクロヘキサンカルボニト
リル39.+6orが溶離された。
b)4−(2−メトキシビニル)シクロヘキサンカルボ
ニトリル59.55Of、テトラヒドロフラン387−
及び2N塩酸97m1!の混合物を、攪拌1〜目一つ窒
素通気しながら、還流下で1時間加熱した。冷均後、反
応混合物を水900af!に注ぎ、塩化メチレンで3回
抽出した。有機相を水で2回洗浄し、硫酸す) IJウ
ム上で乾燥し、真空下で溶媒を除去した。帯黄色液体と
して4−シアノシクロヘキシル−アセトアルデヒド34
.9Pが得うレ、このものを追加精製せずに更に反応さ
せた。
c)無水ジエチルエーテル100〇−中のメトキシメチ
ル−トリフェニルホスホニウムクロライド118.5f
の懸濁液を、室温で攪拌し目、っ窒素通気しながら、固
体のカリウムt−ブチレート41.3Fで処理し、この
混合物を室温で更に1時間攪拌した。次に混合物を−3
0”GK冷却し、無水ジエチルエーテル20〇−中の4
−シアノシクロヘキシル−アセトアルデヒド54.9f
の溶液で18分間以内に滴下処理した。反応混合物を放
置して2時間以内に室温にし、次に回転蒸発機で50℃
にて溶媒を除去した。残った褐色油を塩化メチレンに採
り入れ、この溶液を水で2回洗浄した。水相を塩化メチ
レンで2回逆抽出した。有機相を硫酸ナトリウム上で乾
燥し、そして真空下で蒸発゛させた。残渣をトルエン/
ヘキサンから再結晶させて、トリフェニルホスフィンオ
キシトを一部分除去した。p液をヘキサン/トルエン(
容量比1:1)中にてシリカグル400v上でクロマト
グラフィーKかけた。トルエン/ヘキサン(容を比i 
: 11、)ルエン及びトルエン/アセトン(容量比9
7.5:2.53により、帯黄色液体として4−(3−
メトキシ−2−7’ロペニル)シクロヘキサンカルがニ
トリル36.297Fが溶離された。
d、 ) 4− (3−メトキシ−2−プロペニル)シ
クロヘキサンカルボニトリル36.2971?、テトラ
ヒドロフラン360rne及び2N塩酸83m1の混合
物を、攪拌し且つ窒素通気しながら、60分間還流下で
加熱した。冷却後、反応混合物を水76Srnl中に注
ぎ、塩化メチレンで6回抽出した。
有機相を水で2回洗浄し、硫酸ナトリウム上で乾燥し、
真空下で溶媒を除去した。淡い帯褐色油として3−(4
−シアノシクロヘキシル)プロピオンアルデヒド3.2
.7fが得られ、このものを追加精製せずに更に反応さ
せた。
ell無水−ブチルメチルエーテル350 ml中のメ
チル−トリフェニルホスホニウムブロマイド2Z92の
懸濁液を、室温で攪拌し1つ窒素通気しながら、固体の
カリウムt−ブチレート8.87で処理し、この混合物
を室温で更vc1時間攪拌した。次に混合物を無水t−
ブチルメチルエーテル90m/!中の6−(4−シアノ
シクロヘキシル)fロビオンアルデヒドa61の溶液で
16分間以内に滴下処理し、この黄色懸濁液を室温で更
に2時間攪拌した。次に反応混合物から溶媒を回転蒸発
機により50℃で除去した。残渣をメタノール/水(容
量比6:4)に採り入れ、この溶液をヘキサン200−
で1回、ヘキサン各100y、A:で2回抽出した。抽
出液をメタノール/水(容量比6:4)130−で1回
、水で2回洗浄し、硫酸ナトリウム上で乾燥し、真空下
で溶媒を除去した。得られた4−(3−ブテニルフシク
ロヘキサンカルボニトリルを更に精製せずに用いた。
また出発物質として用いたトランス−4−プロピル−1
−(2−ブロモエチルフシクロヘキサンは下記のペンチ
ル誘導体と同様の方法で製造した:f)無水ソエチルエ
ーテル500 ml中の(トランス−4−ペンチルシク
ロヘキシル)アセチルクロライド76.1Fの溶液を攪
拌しながら、反応混合物をはげしく沸騰せぬようにして
、無水ソエチルエーテル75〇−中の水素化リチウムア
ルミニウム12.5fの懸濁液に滴下した。この混合物
を更に2時間攪拌し、次いでまずアセトン30−1その
抜水75−で処理した。反応混合物を6N塩酸で酸性に
し、有機相を分離し、水相をソエチルエーテル200r
n1.で逆抽出した。合液した有機相を水で洗浄して中
性にし、硫酸ナトリウム上で乾燥し、濃縮し、かくして
、帯黄色液体として2−(トランス−4−ペンチルシク
ロヘキシル)エタノール62.6fが得られた。
g)ジクロロメタン16〇−中の2−()ランス−4−
ペンチルシクロへキシル)エタノール49.6F及び)
リフェニルホスフィン71.5M’の溶液に、攪拌し吐
つ水浴で冷却しながら、温度が30℃以上に上昇せぬよ
うにしてN−ブロモコハク酸イミド50.1りを一部ず
つ加えた。次に混合物を更に6時間攪拌し、この懸濁液
を吸引濾過し、F液を回転蒸発機で濃縮した。末だ熱い
残渣(2相)を振盪しながらヘキサン200 mlで徐
々に処理した。細かい粒状の橙色沈殿物を吸引戸別し、
ヘキサンで3回すすいだ。r液を濃縮し、得られり粗製
のトランス−4−ペンチル−1−(2−ブロモエチル)
シクロヘキサンを真空下で蒸留した。
収量:主留出物55.3 f :沸点93〜99°C/
約(3,1torr’、純度9a2%。
同様の方法において、次の化合物を製造した二r−1−
シアノ−1−[2−(トランス−4−プロピルシクロヘ
キシル)エチルツーシス−゛4−(1E−ペンテニルン
シクロヘキサン;融点(”C−I)2B、5°C1透明
点(#−1ン22°C1r−1−シアノ−1−(2−(
トランス−4−プロピルシクロヘキシル)エチルツーシ
ス−4−(3E−ペンテニル)シクロヘキサン;融点(
C−#)26.5℃、透明点(#−4141.8°C1
τ−1−シアノ−1−(2−(’+−ランスー4−プロ
ぎルシクロヘキシル)エチルツーシス−4−(4−ペン
テニル)シクロヘキサンSM点((?−7725.3℃
実施例 6 α)温度計、機械的攪拌機、滴下ロート及び固体物質添
加用管を備えたスルホン化用フラスコ中のt−ブチルメ
チルエーテル60m1に、アルゴン通気しながら、トリ
フェニルーメトキシメチルーホヌホニウムクロライド1
0.71’を懸濁させ、この懸濁液を一10℃で10分
間以内に、固体のカリウムt−ブチレート3.69で処
理した。添加終了後、混合物を一10℃〜0℃で更に5
0分間攪拌し、次vc#い橙色の均質反応混合物を0℃
にて無水テトラヒドロフラン5〇−中の4−(p−シア
ノフェニルンシクロへキサノン4.2fの溶液で滴下処
理した。次に反応混合物を室温で更[2時間攪拌し、ヘ
キサン50〇−中に注ぎ、そしてヂ過した。濃縮した残
渣(7,1f )をシリカゲル上で、酢酸エチル/石油
エーテル(容量比5:95)を用いて、低圧クロマトグ
ラフィー(0,5バール)にかけ、無色の油としてp−
C4−(メトキシメチレン)シクロヘキシル〕ベンゾニ
ドlJル4.5f(94弼)を得た;純度95%、Rf
値(酢酸エチル/石油エーテル、容量比1:9)0.3
0゜h)p−C4−(メトキシメチレン)シクロヘキシ
ル〕ベンゾニトリル4.22及びテトラヒドロフラフ 
/ 2 N塩酸(容量比4:IJ100m/の混合物を
丸底フラスコ中にて還流下で30分間加熱した。次に反
応混合物を水10〇−中に注ぎ、ソエチルエーテル各1
00−で6回抽出した。有機相を水1D Otnfで1
回洗浄し、硫酸マグネシウム上で乾燥し、そして濃縮し
た。無色の油として4−<p−シアノフェニル)シクロ
ヘキサンカルボキシアルデヒド3.9r(1o’o%)
が得られ、このものを更に精製せずに次の工程に用いた
ニドランス/シス比約3=1、Rf値(酢酸エチル/石
油エーテル、容量比3ニア)0.41゜ヘキサンから結
晶化させ、融点57.1℃の純粋なトランス−4−(7
)−シアノフェニル)シクロヘキサンカルボキシアルデ
ヒドを得ることができた。
実施例 4 σ)メトキシメチル−トリフェニルホスホニウムクロラ
イド149を及びt−ブチルメチルエーテル860■を
、室温で攪拌し且つ窒素通気しながら、スルホン化用フ
ラスコ中に入れ、この懸濁iを一10℃に冷却し、カリ
ウムt−グチレート51.62で10分間以内に処理し
た。この懸濁液を一10℃〜0℃で更に10分間攪拌し
、次に0℃で45分間以内に1テトラヒドロフラン72
0H中の4.4−エチレンソオキシクロへキサノン47
.3 tの溶液で滴下処理した。橙色懸濁液を室温で更
に2時間攪拌し、次にヘキサン5ノ中に注ぎ、10分間
攪拌し、そして吸引濾過した。p液を真空下で濃縮し、
得られた帯黄−褐色油h04.1f)をヘキサン500
−で処理し、そして吸引濾過した。p液を真空下で濃縮
し、かくして、帯黄−褐色油61.7fが得られた。こ
の粗製の生成物をシリカゲル上で、塩化メチレン/アセ
トン(容量比98:2及び95:5)を用いて、クロマ
トグラフ的に分離し、最終的に、無色の油として1.1
−エチレンソオキシー4−(メトキシメチレン)シクロ
ヘキサン53.5 Fを得た。
b)1.1−エチレンソオキシー4−(メトキシメチレ
ン)シクロヘキサン2a2f、氷酢酸770 d及び水
385−の混合物を丸底フラスコ中にて窒素通気しなが
ら還流下で1時間加熱した。
その後、帯黄色の透明な溶液を室温に冷却し、水800
ゴで希釈し、塩化メチレン各700−で3回抽出した。
有機相を10%(wt / vol )炭酸ナトリウム
溶液各500ゴで2回洗浄し、硫酸ナトリウム上で乾燥
し、濾過し、そして濃縮した。
得られた帯褐色液体(1a5t)をシリカゲル上で、溶
離剤として塩化メチレンを用いて、クロマトグラフ的に
分離し、最終的に、帯褐色油として4−ホルミルシクロ
へキサノン16.72を得た。
C)p−シアノベンジル−トリフェニルホスホニウムク
ロライド6 &3 f、カリウムt−ブチレ−) 17
.2 f及びエチレングリコールツメチルエーテル19
5dを、攪拌し且つ窒素通気しながら、スルホン化用フ
ラスコ中に入れ、かくして、内部温度が44℃に上昇し
た。この褐色懸濁液を0℃に冷却し、エチレングリコー
ルツメチルエーテル10〇−中の4−ホルミルシクロへ
キサノン16.7Fの溶液で2分間以内に処理した。そ
の後、冷却浴を除去し、反応混合物を室温で更に3.5
時間攪拌した。次に懸濁液を水500d中に注ぎ、塩化
メチレン各600−で3回抽出した。有機相を10 %
 (wt / voL )塩化ナトリウム溶液各500
−で2回洗浄し、硫酸ナトリウム上で乾燥し、濾過し、
そして濃縮シ、かくして、帯褐色のペースト76.91
が残った。この粗製の生成物をシリカゲル上で、溶離剤
として塩化メチレンを用いて、クロマトグラフ的に分離
し、帯黄褐色油として4−[2−(,7)−シアノフェ
ニル)ビニルコシクロヘキサノン33. Ofを得た。
d14−C2−(p−シアノフェニル)ビニルコシクロ
ヘキサノン53.Of、)ルエン520 mlエタノー
ル26 Q mt、及び・(ラジウム/炭素(5%)6
.2りの混合物を、磁気攪拌機を備えた丸底フラスコ中
VC室温で入れ、この混合物を水素の吸収が終る“まで
水素添加した。次に黒色懸濁液全吸引しくトルエンです
すぎ」、r液を真空下で濃縮した。
得られたやや濁った帯黄電油(34,1f)をシリカゲ
ル上でクロマトグラフィーによって分離した。
塩化メチレン/ヘキサン(容量比1:1)、塩化メチレ
ン/ヘキサン(容量比8:2)及び塩化メチレンにより
、帯黄電油25.6Fが溶離され、このものをt−ブチ
ルメチルエーテルから結晶させた。
かくして、融点62,5〜64.6℃を有する無色の結
晶トシて4−[2−(P−シアノフェニル)エチルコシ
クロヘキサノン−22,6Fが得られた。
実施例 5 a)メトキシメチル−トリフェニルホスホニウムクロラ
イド261.2fをt−ブチルメチルエーテル550づ
に懸濁させ、この懸濁液を一10℃にてカリウムt−ブ
チレートで処理した。冷却浴を除去し、混合物を室温で
更に1時間攪拌した。
次にこの懸濁液を一10℃にてテトラヒドロフラン55
0m1’A?の4.4−エチレンジオキシシクロへキサ
ノン70Fの溶液で徐々に処理し、この混合物を室温で
更に1時間攪拌し、次に水で処理し、ソエチルエーテル
で3回抽出した。有機相を水で2回洗浄し、水相をソエ
チルエーテルで逆抽出した。合液した有機相を硫酸マグ
ネシウム上で乾燥L、そして濃縮した。得られた結晶性
残渣を酢酸エチルに溶解し、石油エーテルで希釈し、濾
過し、そl〜て溶媒を除去した。得られた黄色油(10
0り)を蒸留し、主留(71℃70.20〜0.17t
orr)中に、透明な無色の液体として1.1−エチレ
ンジオキシー4−(メトキシメチレン)シクロヘキサン
7s、2sr (91,17%)を得た。
/1)1.1−エチレンジオキシー4−(メトキシメチ
レン)シクロヘキサン10.55F、水130n+5!
及び氷酢酸200Wl!の混合物を還流下で1時間加熱
した。次に溶媒を回転蒸発機で留出物を塩化メチレンで
2回抽出した。蒸留残渣(黄電油)を水200−で希釈
し、炭酸ナトリウム溶液で中和し、塩化メチレンで6回
抽出した。有機相を飽和炭酸ナトリウム溶液で洗浄し、
水相を塩化メチレンで逆抽出した。有機相を硫酸マグネ
シウム上で乾燥し、そして蒸発した。残った黄電油を蒸
留し、70°G/ 0.15 torrで、4−ホルミ
ルシクロへキサノン6.7r(95%)を得た。
C)塩化メチレン20Dtne中のトリフェニルホスフ
ィン36.729の溶液を一20℃にて四臭化炭素23
.22 fで徐々に処理し、この混合物を更[10分間
撹拌した。次に混合物を塩化メチレン100、m/!中
の4−ホルミルシクロへキサノン6.3Of’の一60
℃に冷却した溶液にカニユーレを用いて滴下した。反応
混合物を一60℃で更に15分間攪拌し、次に水/塩化
メエチン中に分配させた。水相を塩化メチレンで2回抽
出した。有機相を水で2回洗浄し、硫酸マグネシウム上
で乾燥し、そして蒸発させた。得られた淡黄電油(16
91をシリカゲル上で、酢酸エチル/石油エーテル(容
量比10:90)を低圧クロマトグラフィーかけ、淡黄
色の液体として4−(2,2−ジブロモビニル)シクロ
ヘキサノン12.08F(85,8%)を得た。
d)4− (2,2−ジブロモビニル)シクロヘキサノ
ン2f、エチレングリコール3.43f、P−トルエン
スルホンH0,202を及Uベンゼン240−の混合物
を、水を分離しながら、還流下で5時間沸騰させた。次
に反応混合物を炭酸カリウムで処理し、短時間攪拌し、
そして−夜装置した。その後、混合物をF遇し、p液か
ら回転蒸発機によって溶媒を除去した。残漬を塩化メチ
レン200m1K採り入れ、この溶液を希釈水酸化ナト
リウム溶液で2回、そして水で1回洗浄した。水相を塩
化メチレンで逆抽出した。有機相を硫酸マグネシウム上
で乾燥し、濾過し、そして蒸発させた。かくして、軽い
黄色の晶出する液体として1.1−エチレンジオキシー
4−(2,2−ジブロモビニル)シクロヘキサン1a 
y カ4 ラレ?c。
e)テトラヒドロフラッフ0mt中の1.1−エチレン
ジオキシ−4−(2,2−ジブロモビニル)シクロヘキ
サン14fの溶液を一20℃に冷却し、この温度にてヘ
キサン中のブチリルチウムの1.4M溶液76.62−
で徐々に処理した(発熱反応)。
冷却浴を除去し、混合物を放置して約20分間以内に2
0℃に加温した。次に反応混合物を水150rnl:で
処理し、ジエチルエーテルで6回抽出した。有機相を水
で2回洗浄し、洗浄水をジエチルエーテルで逆抽出した
。有機相を硫酸マグネシウム上で乾燥し、濾過し、そし
て蒸発させた。残った黄色液体(8F)をシリカゲル上
で、酢酸エチル/石油エーテル(容量比7:93Jを用
いて低圧クロマトグラフィーにかけ、透明な液体として
4−エチニル−1,1−エチレンジオキシシクロヘキサ
ン6.!M(91チ)を得た。
f)テトラヒドロフラン40イ中の4−エチニル−1−
11−エチレンジオキシシクロヘキサン6.5fの溶液
を一20℃にてヘキサン中のブチルリチウムの1.4M
溶$59.1−で処理した。次に混合物を0℃にてヘキ
サメチルリン酸トリアミドbOtplで処理しくしばら
く温度が26℃に上昇フ、次にヨウ化プロピル6、5 
meで滴下処理した。冷却浴を除去し、混合物を放置し
て室温に加温した。
白色沈殿物を生じた。60分後、反応混合物を水150
−で処理し、ヘキサンで5回抽出した。有機相を水で3
回洗浄し、洗浄水をヘキサンで逆抽出した。有機相を硫
酸マグネシウム上で乾燥し、濾過し、回転蒸発機によっ
て溶媒を除去した。得られた黄色液体く9?)をシリカ
ゲル上で、酢酸エチル/石油エーテル(容量比10:9
0)を用いて低圧クロマトグラフィーにかけ、活性炭で
処理し、やや淡黄色の液体として1.1−エチレンジオ
キシーa−(1−ペンチニル)シクロヘキサン6.26
y(76、s%)を得た。
1)テトラヒドロフラン54m1中の1.1−エチレン
ソオキシー4−(1−ペンチニル)シクロヘキサン4,
5vの溶液を、磁気攪拌機を備えたスルホン化用フラス
コ中で、予備凝縮したアンモニア約50m4で滴下処理
した。次に混合物を一78℃にて7時間以内にす) l
)ラム1.6Fで一部ずつ処理した。最後Vcm>加し
て1.5時間後、アンモニアを蒸発させて反応混合物を
25%塩酸で中和し、−夜装置した。その後、反応混合
物を水/ジエチルエーテル中に5回分配させた。有機相
をジエチルエーテルで逆抽出した。有機相を硫酸マグネ
シウム上で乾燥し、回転蒸発機によって溶媒を除去した
。得られた淡黄色液体(3,8f lをアセトン20 
[1me及び濃8It酸0,1カで処理した。混合物を
還流下で10分間加熱し、水で処理し、回転蒸発機によ
ってアセトンを除去した。残渣を塩化メチレン/水中に
6回分配させた。水相を塩化メチレンで逆抽出した。有
機相を硫酸マグネシウム上で乾燥し、そして蒸発させた
。残った黄色液体(3,5r )をシリカゲル上で、酢
酸エチル/石油エーテル(容量比7:951を用いて、
クロマトグラフ的に分離し、淡黄色液体として4−(ト
ランス−1−ペンテニルンシクロヘキサノン6.Of(
83,5チ)を得た。
A)4−()ランス−1−ペンテニル)シクロヘキサノ
ン1.65 ftをジエチルエーテル8m/及びエタノ
ール14rN、中に溶解した。次にこの溶液をアンモニ
ア約70ゴで滴下処理し、この混合物を、反応混合物の
色が1.5時間一定に保持されるまで、リチウム線で一
部ずつ処理した(リチウム線約1、3 f )。その後
、アンモニアを蒸発させ、混合物を塩化アンモニウム及
び塩酸で酸性にし、3日間放置した。反応混合物をジエ
チルエーテル/水中に分配させ、水相をジエチルエーテ
ルで逆抽出した。有機相を硫酸マグネシウム上で乾燥し
、い遇し、回転蒸発機によって溶媒を除去した。残った
黄電油をシリカゲル上で、酢酸エチル/石油エーテル(
容は比10:90)を用いて低圧クロマトグラフィーに
かけ、軽い黄色の粘性油としてトランス−4−()ラン
ス−1−橡ンテニル)シクロヘキサノール1.47 S
F (s q、1チ)を得た。
実施例6 α)メトキシメチル−トリフェニルホスホニウムクロラ
イド’lをt−ブチルメチルエーテル35−に懸濁させ
、この懸濁液を一20℃にてカリウムt−ブチレートλ
4311で処理した。混合物を室温で更に1時間攪拌し
、次に一20℃にてテトラヒドロ7ラン184中の4−
(トランス−1−ペンテニル)シクロヘキサノン2gの
溶液テ滴下処理し、この混合物を室温で更に1時間攪拌
した。次に反応混合物を水で処理し、ジエチルエーテル
各50m1で3回抽出した。抽出液を水で洗浄し、洗浄
水をジエチルエーテルで逆抽出した。
有機相を硫酸マグネシウム上で乾燥し、溶媒を除去した
。残渣を酢酸エチルに溶解し、この溶液を石油エーテル
で希釈し、濾過によって沈殿したトリフェニルホスフィ
ンオキシトを除去し、F液を濃縮した。トリフェニルホ
スフィンオキシトの分離操作を2回くシ返し行い、得ら
れた粗製の生成物α1−(メトキシメチレン)−4−(
)うyクー1−ペンテニル)シクロヘキサンを更にnM
せずに処理した。
6)t−(メトキシメチレン)−4−()ランス−1−
ペンテニル)シクロヘキサン(節αによる粗製の生成物
)L7511をテトラヒドロフラン72N塩酸(容量比
4:1)100−と共に沸点に30分間加熱し、次に室
温で一夜攪拌した。次に混合物を水100mで処理し、
ジエチルエーテル各100−で3回抽出した。抽出液を
希釈炭酸水素ナトリウム溶液及び水で洗浄し、水相をジ
エチルエーテルで逆抽出した。有機相を硫酸マグネシウ
ム上で乾燥し、そして蒸発させた。残った帯黄色液体(
2−5Ii)をシリカゲル上で、石油エーテル及び酢酸
エチル/石油エーテル(容量比3:97)を用いて低圧
クロマトグラフィーにかけ、4−()ランス−1−ペン
テニル)シフ四ヘキサンカ′ルボキシアルデヒドto5
I(yB)を得た。
C)アセトン120d中の4−(トランス−1−ペンテ
ニル)シクロヘキサンカルボキシアルデヒド1.6 I
lの溶液を一10℃に冷却し、反応混合物の色が褐−橙
色に保持されるまで、8Nクロム酸(約10−)で処理
し、混合物を更に1時間攪拌した。過剰量のクロム酸を
イソプロパツールによって還元した。次に緑色溶液を水
/塩化メエチン中に3回分配させた。有機抽出液を水で
2回洗浄し、洗浄水を塩化メチレンで逆抽出した。有機
相を硫酸マグネシウム上で乾燥し、そして蒸発させた。
淡褐色の結晶性残渣(ZOl、9)を石油エーテル20
m/に一部溶解させた。未溶解残渣を炉別し、F液を蒸
発させた。得られた残渣を石油エーテル60ばから一7
8℃で再結晶させ、白色結晶として4−(トランス−1
−ペンテニル)シクロヘキサンカルボン酸866119
(49,5%)ヲ得た。
d)4−()ランス−1−ペンテニル)シクロヘキサン
カルボン酸L299及びジエチレングリコール中の水酸
化カリウムの11 % (w t /vol、 )溶液
20−の混合物をアルゴン通気しながら還流下で20時
間沸騰させた。次に反応混合物を25チ塩酸でやや酸性
にし、水/塩化メエチン中に3回分配させた。有機抽出
液を水で2回洗浄し、洗浄水を塩化メチレンで逆抽出し
た。有機相を硫酸マグネシウム上で乾燥し、回転蒸発機
によって溶媒を除去した。得られた暗褐色の結晶する油
(1,17g)を石油エーテル5oゴから一78℃で再
結晶させ、淡褐色結晶としてトランス−4−(トランス
−1−ペンテニル)シクロヘキサンカルホン酸0.44
 Ilを得た。粗製のシス/トランス−4−()ランス
−1−ペンテニル)シクロヘキサンカルボン酸0.69
577を含む母液は処理しなかった。
実施例7 テトラヒドロフラン75mA!中の2− ()ランス−
1−ペンテニル)マロン酸ジエチル〔ナト2ヘドロン・
レターズ(Tetrahedron Lett、 )1
979゜861 ) 16.111の溶液を1不活性ガ
ス雰囲気下で攪拌しながら、乾燥テトラヒドロ7ラン2
00m1中の水素化リチウムアルミニラみ5,3gの懸
濁液に5℃で1時間以内に滴下した。混合物を室温で3
.5時間攪拌し、次に順次、アセトン15d及び飽和炭
酸水素ナトリウム溶液20−で滴下処理した。反応混合
物を濾過し、F液を濃縮し、残渣(&2JF)を原管中
にて150℃/約I Torrで蒸留した。かくして、
無色の油として2−(トランス−2−ペンテニル)−1
,3−7’ロパンジオール6.5 IIが得られた。
実施例8 無水テトラヒドロフラン138罰中のジイソプロピルア
ミン1.692の溶液を、−73℃乃至−70℃で攪拌
し且つ窒素通気しながら、ヘキサン中のブチルリチウム
の1.6M溶液10.2−で3分間以内に滴下処理した
。混合物をこの温度で15分間攪拌し、次に一50℃で
3分間以内に、無水テトラヒドロンラフ12.5111
j中の4−(2r−(トランス−4−ペンチル−シス−
1−シアノシクロヘキシル)エチルツー1−シクロヘキ
サンカルボニトリル(シス/トランス混合物)4.4o
pの溶液で滴下処理した(無水テトラヒドロフラン7ば
ですすいだ)。との黄色溶液を一50’Cで15分間攪
拌し、無水テトラヒドロンランIZ5ml中の4−プロ
モー1−ブテン1.889 Fの溶液で7分間以内に滴
下処理し、−50℃で更に1.5時間、次に室温で1.
5時間攪拌した。反応混合物を飽和塩化アンモニウム溶
液280ゴ中に注ぎ、ジエチルエーテルで抽出した。有
機相を水で洗浄し、硫酸ナトリウム上で乾燥し、真空下
で溶媒を除去した。黄色固体残渣(5,41N)をトル
エン中にてシリカゲル上でクロマトグラフィーにかけた
。トルエン及ヒドルエン/1%アセトンによシ、無色の
結晶性1’−(3−ブテニル)−4α−ペンチル−1,
4α−エチレンジ−1α−シクロヘキサンカルボニトリ
ル3.161が溶離された。ジエチルエーテル/ヘキサ
ンから再結晶させ、融点110.2℃を有する純粋な生
成物を得た。
出発物質として用いた4−C2r−()ランス−4−ペ
ンチル−シス−1−シアノシクロヘキシル)エチルツー
1−シク四ヘキサすカルボニトリルは次の如くして製造
した: a)メタノール400d中の4−シアノシクロヘキシル
−アセトアルデヒド38.711の溶液を、O“℃で攪
拌し且つ窒素通気し々から、固体の水素化ホウ素ナトリ
ウム9.6.7Fで20分間以内に一部ずつ処理した。
発熱反応が終った後、この帯黄色反応混合物を0℃で3
0分間攪拌し、氷水ll中に注ぎ、塩化メチレンで抽出
した。有機相を水で洗浄し、硫酸ナトリウム上で乾燥し
た。真空下で溶媒を除去した後、2−(4−シアノシク
ロヘキシル)エタノール38.4 IIが得られた。
b)無水塩化メチレン8501中の2−(4−シアノシ
クロヘキシル)エタノール3&4JF及びトリフェニル
ホスフィン69.1 Nの溶液ヲ、−t。
℃で攪拌し且つアルゴン通気しながら1時間以内に、固
体のテトラブロモメタン87.3.9で一部ずつ処理し
た。この帯黄色の透明表溶液を一10℃で更に30分間
、15℃で30分間攪拌し、次に真空下で溶媒を除去し
た。残った奇禍電油を塩化メチレンに溶解し、塩化メチ
レン中のシリカゲルカラムを通して沖過した。かくして
、粗製の4−(2−プロモエチル)シクロヘキサンカル
ボニトリル(シス/トランス混合物)6Z6Nが得られ
た。蒸留により、沸点(0,6ミリノ(−ル)111〜
112℃を有する無色の液体を得た。
C)無水テトラヒドロフラン500−中のジイソプロピ
ルアミン6、1 T 6 #の溶液を、−72℃乃至−
70℃で攪拌し且つ窒素通気し麦から4分間以内に、ヘ
キサン中のブチルリチウムの1.7M溶液37mで滴下
処理し、この混合物を更に15分間攪拌した。次に混合
物を一50℃で4分間以内に、無水テトラヒドロフラン
45−中のトランス−4−ペンチルシクロヘキサンカル
ボニトリル9、147 Nの溶液で滴下処理しく無水テ
トラヒドロフラン6dですすいだ)、生じた混合物を更
に15分間攪拌した。その後、混合物を一50℃で10
分間以内に、無水テトラヒト四フラン45vnl中の4
−(2−プロモエチル)シクロヘキサンカルボニトリル
11.022Ilの溶液で滴下処理した。
得られた黄色溶液を一50℃で更にt5時間、そして室
温で1.5時間攪拌し、次に飽和塩化アンモニウム溶液
llI中に注ぎ、ジエチルエーテルで抽出した。有機相
を水で洗浄し、硫酸ナトリウム上で乾燥し、真空下で溶
媒を除去した。黄色の半固体残渣(1&5II)をヘキ
サン/塩化メチレン(容量比9:1)に溶解し、シリカ
ゲル上でヘキサン/塩化メチレン(塩化メチレンの量を
増加させながら)を用いてクロマトグラフィーにかけた
かくして、帯黄電油として4−(2r−()ランス−4
−ペンチル−シス−1−シアノシクロヘキシル)エチル
ツー1−シク四ヘキサすカルボニトリル&87ONが得
られた。続いて塩化メチレンにより、1−(2−()ラ
ンス−4−シアノシクロヘキシル)エチル)−4/α−
ペンチル−1゜1′−エチレンジ−1α−シクロヘキサ
ンカルボニトリルa415jlが溶離され、このものは
ジエチルエーテル/ヘキサンから再結晶させた後、融点
158.9〜159.5℃を有していた。
同様の方法において、次の化合物を製造した=1′−(
4/ペンテニル)−4α−ペンチルー1゜4′α−シク
ロヘキサンカルボニトリル;融点109、7℃。
実施例9 無水テトラヒドロンラン99+l+7!中のジイソプロ
ピルアミン1.214f9の溶液を、−73℃乃至−7
0℃で攪拌し且つ窒素通気しながら2分間以内に、ヘキ
サン中のブチルリチウムの1.6M溶液7、33111
1で滴下処理した。混合物をとの温度で更に15分間攪
拌し、次に一50℃で3分間以内に、無水テトラヒドロ
フラン9d中の4−C2r−(トランス−4−(4−ペ
ンテニル)−シス−1−シアノシクロヘキシル)エチル
ツー1−シクロヘキサンカルボニトリル(シス/トラン
ス混合物)a、t441!の溶液で滴下処理した(無水
テトラヒドロフラン5mlですすいだ)。この帯黄色溶
液を一50℃で更に15分間攪拌し、無水テトラヒドロ
フランQWLl中の4−プロモー1−ブテン1.358
gの溶液で4分間以内に滴下処理し、得られた帯赤色溶
液を一50℃で更に1.5時間、次に室温で1.5時間
攪拌した。反応混合物を飽和塩化アンモニウム溶液20
〇−中に注ぎ、ジエチルエーテルで抽出した。有機相を
水で洗浄し、硫酸ナトリウム上で乾燥し、真空下で溶媒
を除去した。黄色固体残渣(a、gos#)をトルエン
中にてシリカゲル上でクロマトグラフィーにかけた。ト
ルエンにより、無色結晶性1’−(3−ブテニル)−4
α−(4−ペンテニル)−1,4’α−エチレンジ−1
α−シクロヘキサンカルボニトリル236Iが溶離され
た。ジエチルエーテル/ヘキサンから再結晶させ、融点
106゜1℃を有する純粋な生成物が得られた。
出発物質として用いた4−〔2γ−(トランス−4−(
4−ペンテニル)−シス−1−シアノシクロヘキシル)
エチルツー1−シクロヘキサンカルボニトリルは次の如
くして製造した:α)無水ジエチルエーテル910−中
のメトキシメチル−トリフェニルホスホニウムクロライ
ド101.9.9の懸濁液を、室温で攪拌し且つ窒素通
気しながら、固体のカリウムt−ブチシー)35.51
で処理し、この混合物を更に1時間攪拌した。
次に混合物を2℃で18分間以内に、無水ジエチルエー
テルzsOd中の3−(4−シアノシクロヘキシル)プ
ロピオンアルデヒド3L7jlの溶液で滴下処理し、生
じた混合物を室温で1.5時間攪拌し、真空下で溶媒を
除去した。褐色の残渣を塩化メチレンに採シ入れ、この
溶液を水で洗浄し、−硫酸す) IJウム上で乾燥し、
真空下で蒸発させた。
褐色固体残渣をトルエン/ヘキサンから再結晶させてト
リフェニルホスフィンオキシトを一部分除去し、P液を
ヘキサン/トルエン中にてシリカゲル上でクロマトグラ
フィーにかけた。ヘキサン/トルエン、トルエン及ヒド
ルエン/アセトンニヨリ、帯黄色液体として4−(4−
メトキシ−3−プテニル)シクロヘキサンカルボニトリ
ル33.80gが溶離された。
6)4− (4−メトキシ−3−ブテニル)シクロヘキ
サンカルボニトリルt 6. i 781 Nテトラヒ
ドロフラン125 ml及び2N塩酸31m/の混合物
を、攪拌し且つ窒素通気しながら、還流下で30分間加
熱した。冷却後、反応混合物を水29〇−中に注ぎ、塩
化メチレンで抽出した。有機相を水で洗浄し、硫酸ナト
リウム上で乾燥し、真空下で溶媒を除去した。黄電油と
して4−(4−シアノシクロヘキシル)ブチルアルデヒ
ドl 4.3 Iiが得られた。
C)無水t−ブチルメチルエーテル530 ml中のメ
チル−トリフェニルホスホニウムブロマイド42.8g
の懸濁液を、室温で攪拌し且つ窒素通気しながら、固体
のカリウムt−ブチレート13.5gで処理し、この混
合物を更に1時間攪拌した。
次に黄色反応混合物を無水t−ブチルメチルエーテル1
3:17!中の4−(4−シアノシクロヘキシル)ブチ
ルアルデヒド14.3 gの溶液で35分間以内に滴下
処理し、生じた混合物を室温で更に25時間攪拌した。
次に真空下にて50℃で反応混合物から溶媒を除去した
。残渣をメタノール/水(容量比6:4)300mに採
り入れ、この溶液をヘキサン3101n/で1回、そし
てヘギサン各150mI!で2回抽出した。ヘキサン抽
出液をメタノール/水(容量比6:4)で1回、そして
水で2回洗浄し、次に硫酸ナトリウム上で乾燥した。
真空下で溶媒を除去した後、4−(4−ペンテニル)シ
クロヘキサンカルボニトリルが得られた。
d)無水テトラヒト四フラン382−中のジイソプロピ
ルアミン4.?12JFの溶液を、−73℃乃至−70
℃で攪拌し且つ窒素通気しながら3分間以内に、ヘキサ
ン中のブチルリチウムの1.6M溶液28.21!I7
1で滴下処理し、この混合物をこの温度で更に15分間
攪拌した。次に混合物を一50℃で5分間以内、無水テ
トラヒドロフ2フ34m!中の4−(4−ペンテニル)
シクロヘキサンカルボニトリル&9Iiの溶液で滴下処
理しく無水テトラヒドロフ:)15mtですすぎ)、生
じた混合物を更に15分間攪拌した。次に混合物を一5
0℃で9分間以内に、無水テトラヒドロ7ラン34罰中
の4−(2−7”ロモエチル)シクロヘキサンカルボニ
トリル8.411Fの溶液で滴下処理した。この反応混
合物を一50℃で1.5時間、そして室温で更に1.5
時間攪拌し、次に飽和塩化アンモニウム溶液750M中
に注ぎ、ジエチルエーテルで抽出した。有機相を水で洗
浄し、硫酸ナトリウム上で乾燥し、真空下で溶媒を除去
した。黄色油状残渣(13,2,9)をヘキサン/塩化
メチレン(容量比9:1)に溶解し、ヘキサン/塩化メ
チレン中にてシリカゲル上でクロマトグラフィーにかけ
た。
ヘキサン/塩化メチレンにより、黄色油として4−(2
?’−()ランス−4−(4−ペンテニル)−シスー1
−シアノシクロヘキシル)エチルツー1−シクロヘキサ
ンカルボニトリル6、30 Nが溶離された。続いて塩
化メチレンにより、1−(2−(トランス−4−シアノ
シクロヘキシル)エチル〕−4′α−(4−ペンテニル
)−1,1′−エチレンジ−1α−シクロヘキサンカル
ボニトリル2.925Nが溶離された;アセトン/ヘキ
サンから再結晶させた後の融点14&6〜149.2℃
同様の方法において、次の化合物を製造した:1′ニブ
チルー4α−(4−ぺ/テニル)−1゜4、α−エチレ
ンジ−1α−シクロヘキサンカルボニトリル;融点11
29℃。
実施例110 無水ナト2ヒドロフラン87 ml中の4−ブチルフェ
ノール1.939Ii及び4−(ジメチルアミノ)ピリ
ジン0.25811の溶液を、磁気攪拌子を用いて攪拌
しながら、無水塩化メチレン43ゴ中の4−シス−シア
ノ−4−(3−7’テニル)シクロヘキサンカルボン酸
(4−)ランス−シアノ異性体11チ含有)2.675
gの溶液で、次にジシクロへキシルカルボジイミド3.
197 、!Fで処理した。
この反応混合物を室温で5時間攪拌し、次に吸引済過l
〜た。沈殿物を塩化メチレンですすぎ、ろ液を真空下で
濃縮した。残った黄色油(5,4881)をヘキサン/
トルエン(容量比1:1)中にて7リカゲル上でクロマ
トグラフィーにかけた。トルエン/ヘキサン(容量比1
:1)、トルエン及ヒドルエン/アセトン(容量比99
:1)により、無色の結晶として4−シス−シアノ−4
−(3−ブテニル)シクロヘキサンカルボン酸4−ブチ
ルフェニルエステルがitsサレ*。ジエチルエーテル
/ヘキサンから再結晶させ、融点59.1℃を有する純
粋な生成物が得られた。
出発物質として用いた4−シス−シアノ−4−(3−ブ
テニル)シクロヘキサンカルボン酸は次の如くして得ら
れた。
無水テトラヒドロフラン360 ml中のジイソプロピ
ルアミン8.996Fの溶液を、−73℃乃至−63℃
で攪拌し且つ窒素通気しながら6分間以内に、ヘキサン
中のブチルリチウムの1.6M溶液54、5 rugで
滴下処理し、この混合物を一70℃で更に15分間攪拌
した。次に混合物を一50℃で7分間以内に、無水テト
ラヒドロフラン4QmJ中の4−シアノシクロヘキサン
カルボン酸5.7gの溶液で滴下処理した(無水ナト2
ヒドロフラン10プですすいだ)。この帯赤色懸濁液を
一50℃で更VCl5分間攪拌し、次に無水テトラヒド
ロフラン35d中の4−プロモー1−ブテン5.025
1の溶液で9分間以内に滴下処理した(無水テトラヒド
ロフラン10mですすいだ)。帯赤色の透明な溶液を一
50℃でL5時間、そして室温で更に1.5時間攪拌し
、・次に水500d中に注ぎ1.。
ジエチルエーテルで抽出した。有機相を水苔250tt
+lで3回洗浄し、そしてすてた。水相を合液し、 、
半濃度の塩酸でコンゴ−酸性にし、塩化メチレンで抽出
した。塩化メチレン相を水で洗浄し、硫酸ナトリウム上
で乾燥した。真空下にて50℃で溶媒を除去した後、黄
色固体生成物として4−シス−シアノ−4−(3−7’
テール)シフ買ヘキサンカルボン酸(4−トランス−シ
アノ異性(IN1%含有)7.003Nが得られ九〇 同様の方法において、次の化合物を製造した:4−シス
ーシアノー4−(3−7’テニル)シスiヘキサンカル
ボン酸4−エトキシフェニルエステル;融点(C−N)
57.2℃、透明点(N−1)6&1℃、 4−シス−シアノ−4−ブチルシクロヘキサンカルボン
酸4−アリルオキシフェニルエステル1融点(C−1)
17.2℃、透明点(N−1) 61.0℃、 4−シス−シフノー4−(3−ブテニル)シクロヘキサ
ンカルボン酸4−トyンスー(4−7”チルフェニル)
シクロヘキシルエステル3111点(C−N)67.4
℃、透明点(N−z)1ozs℃、4−シス−シアノ−
4−(3−7’テニル)シクロヘキサンカルボン酸4−
トランス−ブチルシクロヘキシルエステルr融点(C−
1>2o、s℃、透明点(N−1)−1,5℃。
実施例11 無水塩化メチレン50aJ中の4−シス−シアノ−4−
(3−ブテニル)シクロヘキサノールR27?l及び4
−(ジメチルアミノ)ピリジン0、2541の溶液を、
磁気攪拌子を用いて攪拌しながら、無水塩化メチレン1
00d中の4−エトキシ安息香酸2.110JIの懸濁
液で、次にジシクロへキシルカルボジイミド11451
1で処理した。
反応混合物を室温で更に2.5時間攪拌し、そして−夜
装置した。沈殿物を吸引炉別し、塩化メチレンですすい
だ。ろ液を真空下で濃縮した。残った黄色の半固体生成
物(s、 a y )を塩化メチレンに溶解し、との溶
液をシリカゲルsagで処理し、そして蒸発させた。残
渣をトルエン/ヘキサン(容量1:1)に懸濁させ、ト
ルエン/ヘキサン(容量比1:1)中にシリカゲルを含
むカラムに加エタ。トルエン/ヘキサン、トルエン及ヒ
ドルエン/アセトンによル、無色の結晶する油とじて4
−エトキシ安息香酸4−シス−シアノ−4−(3−ブテ
ニル)シクロヘキシルエステルカ溶離された。ジエチル
エーテル/ヘキサンから再結晶させ、融点85.4℃を
有する純粋な生成物を得た。
出発物質として用いた4−シス−シアノ−4−(3−ブ
テニル)シクロヘキサノールは次の如くして製造した: α)4−アセトキシシクロヘキサンカルボン酸1131
1及び塩化チオニル25011/の混合物を室温で1時
間放置し、次に還流下で2時間沸謄させた。過剰量の塩
化チオニルを留去1−1残−がら、残りの塩化チオニル
を真空下で除去した。得られた4−アセトキシシクロヘ
キサンカルボン酸クロライ)” (139,1,9)を
無水塩化メチレン500Mで処理し、この混合物を、ア
ンモニアガスで飽和サセ且つ一10℃に冷却した塩化メ
チレンz51に滴下した。攪拌しながら仁の帯赤色懸濁
液にアンモニアガスを更に2時間導入した。次に反応混
合物から真空下にて50℃で塩化メチレンをできるだけ
多く除去した。帯赤色残液を水で処理し、塩化メチレン
で抽出した。有機抽出液を飽和塩化ナトリウム溶液で洗
浄し、硫酸ナトリウム上で乾燥し、真空下で蒸発させた
。残渣(XO9#)をジエチルエーテル500dに懸濁
させた。この懸濁液を室温で30分間攪拌し、次に吸引
濾過した。
残渣をジエチルエーテルで洗浄し、そして乾燥し、カく
シて、粗製の4−アセトキシシクロヘキサンカルボン酸
アミド94Iが得られた。
b)無水ピリジン200d中の粗製の4−アセトキシシ
クロヘキサンカルボン酸アミド68.877の懸濁液を
攪拌しながら塩化ベンゼンスルホニル78、777で処
理し、この混合物を一夜放置した。
その後、反応混合物を氷水830m及び濃塩酸415d
上に注ぎ、ジエチルエーテルで抽出した。
エーテル抽出液を水で洗浄し、硫酸ナトリウム上で乾燥
し、真空下で蒸発させ、かくして、奇禍色の液体として
粗製の4−アセトキシシクロヘキサンカルボニトリル5
9.5 fが得られた。
C)トルエン52−中の粗製の4−アセトキシシクロヘ
キサンカルボニトリル18.74 、pの溶液を、攪拌
し且つ窒素通気しながら、水45プ中の水酸化ナトリウ
ム6、65.9の溶液で処理し、との混合物を更に5時
間攪拌した。反応混合物を塩化エチレ/で抽出し、有機
相を飽和塩化ナトリウム溶液で洗浄し、硫酸ナトリウム
上で乾燥し、そして蒸発させた。残った奇禍電油(14
,61)をトルエンに溶解し、シリカゲル上でクロマト
グラフィーによって分離した。トルエン/アセトン混合
物により、非極性の副生成物6.99の外に、無色の油
として4−ヒドロキシシクロヘキサンカルボニトリル(
シス/トランス混合物) 7.577が溶離された。
d ) 無水ジエチルエーテル250mj中の4−ヒド
ロキシンクロヘキサンカルボニトリル19.1 、Fの
溶液をジヒドロピラン21.21及びp−トルエンスル
ホン酸1.51で処理し、この混合物を一夜放置した。
次に反応混合物を3N水酸化ナトリウム溶液100 m
l及び氷100I!の混合物上に注ぎ、エーテル相を分
離し、水相を塩化メチレンで抽出した。合液した有機相
を飽和塩化す) IJウム溶液で洗浄し、硫酸ナトリウ
ム上で乾燥し、真空下で溶媒を除去した。得られた粗製
のテトラヒドロピラニルエーテル(39,s 11 )
 t )ルエンに溶解L、トルエン中に酸化アルミニウ
ムを含むカラムを通して濾過した(トルエン/ジエチル
エーテルですスイタ)。4−ヒドロキシシクロヘキサン
カルボニトリルのテトラヒドロピラニルエーテル(シス
/トランス混合物)37−5gが得られた。
e)無水テトラヒドロフラン575d中のジイソプロピ
ルアミン7、11119の溶液を、−73°Cで攪拌し
且つ窒素通気しながら5分間以内に、ヘキサン中のブチ
ルリチウムの1.6M溶液427mA’で滴下処理し、
この混合物を一70℃で更に15分間攪拌した。次に混
合物を一50℃で4分間以内に無水テトラヒドロフラン
43m中の4−ヒドロキシヘキサンカルボニトリルのテ
トラヒドロピラニルエーテルIL238Fの溶液で滴下
処理しく無水テトラヒドロフラン14dでススいだ)、
この黄色溶液を一50’Cで15分間攪拌した。次に反
応混合物を一50’Cで8分間以内に、無水テトラヒド
ロフラン43m1中の4−プロモー1−ブテン7、89
8 I!の溶液で滴下処理した(無水テトラヒドロフラ
ン14m/ですすいだ)。黄色反応溶液を一50℃で1
.5時間、そして室温で更に1.5時間攪拌し、次に飽
和塩化ナトリウム溶液640ゴ中に注ぎ、ジエチルエー
テルで抽出した。有機相を水で洗浄し、硫酸ナトリウム
上で乾燥し、真空下で溶媒を除去した。残った黄色油(
15,2g )をテトラヒドロフラン145dに溶解し
、この溶液をIN塩酸50m1で処理し、そして一夜放
置した。次に混合物をIN水酸化ナトリウム溶液47.
5mlで処理し、真空下でテトラヒドロフランを除去し
た。得られた乳液を塩化メチレンで抽出した。
有機相を飽和塩化す) IJウム溶液で洗浄し、硫酸ナ
トリウム上で乾燥し、真空下で溶媒を除去した。
残った黄色油(13,91)をトルエンに溶解し、トル
エン中にてシリカゲル上でクロマトグラフィーによって
分離した。トルエン/アセトンにより、まず無極性の不
純物2.’1811、次に沸点(0,3ミリバール)1
20℃を有する無色の液体として4−シス−シアノ−4
−(3−ブテニル)シクロヘキサノール7、59 Ii
が溶離された。
同様の方法におhて、次の化合物を製造した=4 ’ヘ
ンチ/I/ −p−ターフェニルカルボン酸4−シス−
シアノ−4−(3−プfニル)シクロヘキシルエステル
;融点(C−N)  154.4℃、透明点(N−1)
2’12℃、 4−トランス−(4′−ペンチルビフェニル)シクロヘ
キサンカルボン酸4−シス−シアノ−4−(3−ブチ千
ル)シクロヘキシルエステル;融点(C−N)127.
8℃、透明点(#−7)225℃、 4−ペンチル安息香酸4−シス−シアノ−4−(3−7
/テニル)シクロヘキシルエステル;融点(C−1)7
1.2℃、 4−ペンチル−4−ビフェニルカルボン酸4−シスーシ
7ノー4−(3−ブテニル)シクロヘキシルエステル;
融点(c−#)s9.s℃、透明点(#−7)129.
7℃、 4−)?ンスーペンチルシクロヘキサンヵルボン酸4−
7スーシアノー3−(3−ブテニル)シクロヘキシルエ
ステルi融点((’−7)74.9℃、4−トランス−
(4−ペンチルフェニル)シクロヘキサンカルボン酸4
−シス−シアノ−4−(3−ブテニル)シクロヘキシル
エステル;融点(C−1)8’1.2℃、透明点(#−
4)66.5℃。

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1、一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼ 式中、X^1は単一共有結合、−CH_2CH_2−、
    −COO−、−OOC−または1,4−フェニレンを表
    わし;記号Y^1及びY^2の一方は水素を表わし且つ
    他方はシアノを表わし; R^2はトランス−1−アルケニル、シス−2−アルケ
    ニル、トランス−3−アルケニル、4−アルケニルまた
    はアルキルを表わし; R^1は基R^1^1−A^4−A^5−を表わし、そ
    してA^4及びA^5は相互に独立に単一共有結合、1
    ,4−フェニレンまたはトランス−1,4−シクロヘキ
    シレンを表わし; R^1^1はトランス−1−アルケニル、シス−2−ア
    ルケニル、トランス−3−アルケニル、4−アルケニル
    、トランス−2−アルケニルオキシ、3−アルケニルオ
    キシまたはR^2がアルケニル基を表わす場合には、ま
    たアルキルもしくはアルコキシを表わし; 環A^1は1,4−フェニレンまたは一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼ の基を表わし;そして Y^3及びY^4は水素を表わすか或いは、X^1が−
    CH_2CH_2−、−COO−または−OOC−を表
    わす限りにおいて、記号Y^3及びY^4の一方はまた
    シアノを表わす、 の化合物。 2、R^1及びR^2が相互に独立にトランス−1−ア
    ルケニル、シス−2−アルケニル、トランス−3−アル
    ケニルまたは4−アルケニルを表わすか、或いは残基R
    ^1及びR^2の一方はまたアルキルを表わし、そして
    式IIにおけるY^3及びY^4が水素を表わすか、或い
    はX^1が−COO−または−OOC−を表わす限りに
    おいて、記号Y^3及びY^4の一方はまたシアノを表
    わす特許請求の範囲第1項記載の化合物。 3、X^1が−CH_2CH_2−を表わし、R^1及
    びR^2が相互に独立にトランス−1−アルケニル、シ
    ス−2−アルケニル、トランス−3−アルケニルまたは
    4−アルケニルを表わすか、或いは残基R^1及びR^
    2の一方はまたアルキルを表わし、環A1が式IIの基を
    表わし、そして記号Y^3及びY^4の一方が水素を表
    わし、且つ他方がシアノを表わす特許請求の範囲第1項
    記載の化合物。 4、R^1及びR^2が最大12個の炭素原子、好まし
    くは最大7個の炭素原子を有する残基を表わす特許請求
    の範囲第2項または第3項記載の化合物。 5、R^1及びR^2が相互に独立にトランス−1−ア
    ルケニル、トランス−3−アルケニルまたは4−アルケ
    ニルを表わすか、或いは残基R^1及びR^2の一方、
    好ましくはR^1がまたアルキルを表わす特許請求の範
    囲第2〜4項のいずれかに記載の化合物。 6、残基R^1及びR^2の一方がトランス−3−アル
    ケニルを表わし且つ他方がトランス−1−アルケニル、
    トランス−3−アルケニル、4−アルケニルまたはアル
    キルを表わす特許請求の範囲第5項記載の化合物。 7、Y^1及び随時存在していてもよい置換基Y^3が
    水素を表わし、そしてY^2がシアノを表わす特許請求
    の範囲第1〜6項のいずれかに記載の化合物。 8、少なくとも1つの成分が特許請求の範囲第1項に定
    義した式 I の化合物である少なくとも2成分を有する
    液晶混合物。 9、a)X^1が−COO−または−OOC−を表わす
    式 I の化合物を製造するために、一般式▲数式、化学
    式、表等があります▼III の化合物を一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼IV 式中、Z^1及びZ^2の一方は−COOHまたは−C
    OClを表わし且つ他方は−OHを表わし; 環A^1は1,4−フェニレンまたは特許請求の範囲第
    1項に定義した式IIの基を表わし; 式IIにおけるY^3及びY^4は水素を表わすか、また
    はこれらの記号の1つはまたはシアノを表わし;そして R^1、R^2、Y^1及びY^2は特許請求の範囲第
    1項記載の意味を有する、 の化合物でエステル化するか、 b)X^1が単一共有結合、−CH_2CH_2−また
    は1,4−フェニレンを表わし、Y^2がシアノを表わ
    し、そしてR^2がシス−2−アルケニル、トランス−
    3−アルケニル、4−アルケニルまたはアルキルを表わ
    す式 I の化合物を製造するために、一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼V の化合物を最初に塩基と反応させ、次に一般式Z^3−
    R^5VI 式中、X^2は単一共有結合、−CH_2CH_2−ま
    たは1,4−フェニレンを表わし; 環A^2は1,4−フェニレンまたは式IIの基を表わし
    ; 式IIにおけるY^3及びY^4は水素を表わすか、また
    は、X^2が−CH_2CH_2−を表わす限りにおい
    て、記号Y^3及びY^4の一方はまたシアノを表わし
    ; Z^3はハロゲンを表わし; R^5はシス−2−アルケニル、トランス−3−アルケ
    ニル、4−アルケニルまたはアルキルを表わし;そして R^1は特許請求の範囲第1項記載の意味を有する、 の化合物と反応させるか、 c)X^1が単一共有結合または−CH_2CH_2−
    を表わし、環A^1がトランス−1,4−シクロヘキシ
    レンを表わし、そしてY^1がシアノを表わす式 I の
    化合物を製造するために、一般式▲数式、化学式、表等
    があります▼VII の化合物を最初に塩基と反応させ、次に一般式▲数式、
    化学式、表等があります▼VIII 式中、nは数0を表わし、そして環A^3はシス−1,
    4−シクロヘキシレンを表わすか、nは数2を表わし、
    そして環A^3はトランス−1,4−シクロヘキシレン
    を表わし; Z^3はハロゲンを表わし;そして R^1及びR^2は特許請求の範囲第1項記載の意味を
    有する、 の化合物と反応させるか、 d)X^1が単一共有結合、−CH_2CH_2−また
    は1,4−フェニレンを表わし、そしてY^1がシアノ
    を表わす式 I の化合物を製造するために、一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼IX の化合物を最初に塩基と反応させ、次に一般式▲数式、
    化学式、表等があります▼X 式中、、X^2は単一共有結合、−CH_2CH_2−
    または1,4−フェニレンを表わし; 環A^2は1,4−フェニレンまたは式IIの基を表わし
    ; 式IIにおけるY^3及びY^4は水素を表わすか、また
    は、X^2が−CH_2CH_2−を表わす限りにおい
    て、記号Y^3及びY^4の一方またはシアノを表わし
    ; Z^3はハロゲンを表わし; そしてR^1及びR^2は特許請求の範囲第1項記載の
    意味を有する、 の化合物と反応させるか、 e)X^1が単一共有結合、−CH_2CH_2−また
    は1,4−フェニレンを表わし、Y^2がシアノを表わ
    し、そしてR^2がトランス−1−アルケニルを表わす
    式 I の化合物を製造するために、一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼X I 式中、X^2は単一共有結合、−CH_2CH_2−ま
    たは1,4−フェニレンを表わし; 環A^2は1,4−フェニレンまたは式IIの基を表わし
    ; 式IIにおけるY^3及びY^4は水素を表わすか、また
    は、X^2が−CH_2CH_2−を表わす限りにおい
    て、記号Y^3及びY^4の一方はまたシアノを表わし
    ;そして R^3は式 I においてR^1として示した意味を有す
    る、 の化合物を塩基の存在下においてアルキル−トリアリー
    ルホスホニウムハライドと反応させるか、 f)X^1が単一共有結合、−CH_2CH_2−また
    は1,4−フェニレンを表わす式 I の化合物を製造す
    るために、一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼XII 式中、X^2は単一共有結合、−CH_2CH_2−ま
    たは1,4−フェニレンを表わし; 環A^2は1,4−フェニレンまたは式IIの基を表わし
    ; 式IIにおけるY^3及びY^4は水素を表わすか、また
    は、X^2が−CH_2CH_2−を表わす限りにおい
    て、記号Y^3及びY^4の一方はまたシアノを表わし
    ; 点線の1つは追加の結合を表わし;そして R^1及びR^2は特許請求の範囲第1項記載の意味を
    有する、 の化合物にHCNを付加するか、或いは g)X^1が単一共有結合、−CH_2CH_2−また
    は1,4−フェニレンを表わし、そしてR^1がトラン
    ス−2−アルケニルオキシ、3−アルケニルオキシまた
    はアルコキシを表わす式 I の化合物を製造するために
    、一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼LXXX I 式中、X^2は単一共有結合、−CH_2CH_2−ま
    たは1,4−フェニレンを表わし; 環A^2は1,4−フェニレンまたは式IIの基を表わし
    ; 式IIにおけるY^3及びY^4は水素を表わすか、また
    は、X^2が−CH_2CH_2−を表わす限りにおい
    て、記号Y^3及びY^4の一方はまたシアノを表わし
    ;そして A^4、A^5、R^2、Y^1及びY^2は式 I に
    示した意味を有する、 の化合物をトランス−2−アルケニルハライド、3−ア
    ルケニルハライドまたはアルキルハライドでエーテル化
    する ことを特徴とする特許請求の範囲第1項に定義した式
    I の化合物の製造方法。 10、電子光学目的のために特許請求の範囲第1項に定
    義した式 I の化合物の使用。
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