JPS58152891A - 新規エチニレンポリシラン系化合物およびその製造方法 - Google Patents
新規エチニレンポリシラン系化合物およびその製造方法Info
- Publication number
- JPS58152891A JPS58152891A JP3382282A JP3382282A JPS58152891A JP S58152891 A JPS58152891 A JP S58152891A JP 3382282 A JP3382282 A JP 3382282A JP 3382282 A JP3382282 A JP 3382282A JP S58152891 A JPS58152891 A JP S58152891A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- general formula
- compound
- compound represented
- novel
- chi
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は、新規エチニレンボリシラン系化合物およびそ
の製造方法に関する。
の製造方法に関する。
二価の反応性中間体であるシリレンは、極めて反応性に
富むことから、高分子の架橋剤中断しい有機合成反応へ
の利用が期待され、広く研究されている。有機シリレン
（：８ｉＲｖ）の発生法としては、各種の方法が公知で
あり、例えばポリシラン類を光分解する方法がある。こ
の方法は操作が容易であることから応用範囲が広い。
富むことから、高分子の架橋剤中断しい有機合成反応へ
の利用が期待され、広く研究されている。有機シリレン
（：８ｉＲｖ）の発生法としては、各種の方法が公知で
あり、例えばポリシラン類を光分解する方法がある。こ
の方法は操作が容易であることから応用範囲が広い。
上記の方法の一つに鎖状フェニルジシラン類を光分解す
る方法が知られているが、この方法によると１．５−ケ
イ素転位したシラエテンを主に生成し、有機シリレンの
生成収率は低い。
る方法が知られているが、この方法によると１．５−ケ
イ素転位したシラエテンを主に生成し、有機シリレンの
生成収率は低い。
ま九その感光波長が紫外線領域に限られる。
本発明の目的は、光分解で有機シリレンを高収率で発生
する新規なエチニレンボリシ５ノ系化合物およびその製
造方法を提供するにある。
する新規なエチニレンボリシ５ノ系化合物およびその製
造方法を提供するにある。
上記目的の丸めに各種のポリエテニレンポリシラン系化
合物を合成し、有機シリレンの発生収率を調べ九結果以
下に示される新規なエチニレンポリシラン系化合物が有
用であることを見出し友。
合物を合成し、有機シリレンの発生収率を調べ九結果以
下に示される新規なエチニレンポリシラン系化合物が有
用であることを見出し友。
本発明の新規エチニレンボリシラン系化合物は、以下の
一般式（４）、（６）、（８）で示される。
一般式（４）、（６）、（８）で示される。
（４） （ｄ）ル
（一般式（４）、（６）、（８）中の
（８）
Ｒはアルキル基を表わす。）
本発明の新規エチニレンボリシラン系化合物としては、
例えば次のものがあげられる。
例えば次のものがあげられる。
（リ ５，５，４，４，５，５，８，８，９．９−デカ
メチル−！Ｓ、４，５，１３．９−ペンタシラー１．６
−シクロノナジイン。
メチル−！Ｓ、４，５，１３．９−ペンタシラー１．６
−シクロノナジイン。
（２） ５，５，４，４，７，７，８．８−オクタメ
チロオクタジイン。
チロオクタジイン。
（５） ５ 、５ 、６ 、６ 、７ 、７−ヘキサ
メチル−５゜６．７−）リシラシクロへブタ−１，４−
ジイン。
メチル−５゜６．７−）リシラシクロへブタ−１，４−
ジイン。
本発明による新規ポリエチニレ／ボリシツン系化合物は
、例えば次のような反応によシ合成できる。
、例えば次のような反応によシ合成できる。
まず乾燥窒素雰囲気下、エーテル溶液中、１゜２−ジェ
チニル−１，１，２，２−テトラメチルジシランとフェ
ニルマグネシウムブロマイドとの反応によ如相当するジ
グｌＪニヤール試薬を得る。この溶液を攪拌しながら、
１．５−ジクロロ−ヘキサメチルトリジ２ンのエーテル
溶液を滴下し、室温にて反応させ、さらに還流させるこ
とＫよシ、目的とする５、５，４，４，５，５，８８．
９．９−デカメチル−５，４，５，８，９−ペンタシラ
ー１．６−シクロノナジイン（−１［（４）においてＲ
−メチル基、ｎ−１の化合物）を合成できる。
チニル−１，１，２，２−テトラメチルジシランとフェ
ニルマグネシウムブロマイドとの反応によ如相当するジ
グｌＪニヤール試薬を得る。この溶液を攪拌しながら、
１．５−ジクロロ−ヘキサメチルトリジ２ンのエーテル
溶液を滴下し、室温にて反応させ、さらに還流させるこ
とＫよシ、目的とする５、５，４，４，５，５，８８．
９．９−デカメチル−５，４，５，８，９−ペンタシラ
ー１．６−シクロノナジイン（−１［（４）においてＲ
−メチル基、ｎ−１の化合物）を合成できる。
５．５，４，４，７，７，８．８−オクタメチル−５，
４，７，８−テトラシラー１．５−シクロオクタジイン
（一般式（６）において几＝メルチ基、ｎ−１である化
合物）は上記５，５，４，４，５，５゜８’、８，９．
９−デカメチル−５，４，５，８，９−ペンタシラー１
．６−シクロノナジイ／（一般式（４）においてＲ−メ
チル基、ｎ−１である化合物）の６５０℃、１０〜１ｏ
における熱分解にょシ合成できる。
４，７，８−テトラシラー１．５−シクロオクタジイン
（一般式（６）において几＝メルチ基、ｎ−１である化
合物）は上記５，５，４，４，５，５゜８’、８，９．
９−デカメチル−５，４，５，８，９−ペンタシラー１
．６−シクロノナジイ／（一般式（４）においてＲ−メ
チル基、ｎ−１である化合物）の６５０℃、１０〜１ｏ
における熱分解にょシ合成できる。
５ 、５ 、６ 、、６ 、７ 、７−へキサメチル−
５，６゜７−トリシラシクロへブタ−１，４−ジイン（
一般式（８）において、Ｒ−メチル基、ｎ＝１である化
合物）は、上記５，５，４，４，７，７．Ｂ、８−オク
タメチル−５，４，７，８−テトラシラー１゜５−シク
ロオクタジイン（一般式（６）において、ルーメチル基
、ｎ−１である化合物）の６８Ｏ℃１０〜１０ 閤Ｈ
ｇＫおける熱分解にょシ合成できる。
５，６゜７−トリシラシクロへブタ−１，４−ジイン（
一般式（８）において、Ｒ−メチル基、ｎ＝１である化
合物）は、上記５，５，４，４，７，７．Ｂ、８−オク
タメチル−５，４，７，８−テトラシラー１゜５−シク
ロオクタジイン（一般式（６）において、ルーメチル基
、ｎ−１である化合物）の６８Ｏ℃１０〜１０ 閤Ｈ
ｇＫおける熱分解にょシ合成できる。
次に本発明の実施例を示す。
実施例１
２００ｍ１５つロプラスコを窒素置換し死後、その中に
１，２−ジエチ＝ルー１，１，２，２．−テトラメチル
ジシラン２ｇ （０，０１２モル）を入れ、５０ｍ１の
ジエチルエーテルを加え、フラスコを氷冷し九。次にこ
の溶液を攪拌しながら、フェニルマグネシウムブロマイ
ドの２規定ＴＨＦ ＠ ａ１２ｍｌ （；ｙエエルマグ
ネシウムプロマイドとして０．０２４モル）を約１０分
間で滴下し、さらに室温で２０分間攪拌した。これに１
．５−ジクロロ−ヘキサメチルトリシラン２．９４ｇ
（０，０１２モル）とジエチルエーテル２ ｏｍｌの混
合溶液を−ｆ−ζ添加し、室温にて１時間攪拌した後、
１時間還流させた。常法通ＤＫ処理した後、粗生成吻を
減圧蒸留によシ精製し、白色固体を得九。この固体が本
発明の５．５，４，４，５，５，８，８，９．９−デカ
メチル−５，４，５，８，９−ペンタシラー１．６−シ
、クロッチジインであることは、核磁気共鳴スペクトル
（Ｈ−ＮＭＲ）および高分解能マススペクトルにおける
以下の結果から確認さ□ れた。収率５７９Ｉｍｐ、５
５−５６℃（リ −−ＮＭＲ（６１）Ｐｍ／ＣＤＣ１
ｍ ）ｏ、１７ （６Ｈ，シングレット、メチル基）
０，２！Ｓ （１２Ｈ，’／：／／Ｌｙ ット、）ｆｋ
基） ０．２４ （１２Ｈ，シングレット、メチル基） （２）高分解能マススペクトル Ｃ＋４Ｈｓｏ８ｉｉの計算値コ５５８．８２４実測値口
５５８．８２！Ｓ 実施例２ 実施例１において合成された５、５，４，４，５５．８
，８，９．９−デカメチル−５，４，５，８，９−ペン
タシラー１．６−シクロノナジインをフラツシエバキエ
ームピロリシス装置に入れ、６５０゛０．１０ 〜１０
−Ｈｇの条件で熱分解すると、反応は有機シリレンの発
生を伴って進行した。分解反応残渣を再結晶により精製
し、本発明の５゜５．４，４，７，７，８．８−オクタ
メチル−５，４゜７．８−テトラシラー１．５−シクロ
オクタジインを得た。本化合物の構造は核磁気共鳴（Ｈ
−８ＭＢ ）および高分解能マススペクトルにおける以
下の結果から確ｇ−４れた。収率６５％ ｍｐ、１５８
１５〜１５９℃ （１） Ｈ−ＮＭＲ（（ｊ”ｐｐｍ／ＣＤ０１ｇ）
０．２５ （２４Ｈ，シングレット、メチル基）（２）
高分解能マススペクトル Ｃ目出ａｓｉ４の計算憶説２８０．６５６実測値り２Ｂ
０．６５６ 実施例５ 実施例２において合成されたＳ、５，４，４，７７．８
．８−オクタメチル−５，４，７，８−ナト２シラー１
．５−シクロオクタジインを実施例２ト１ｉｔ１４１１
に７ラツシエバキエームピロリシス装置によＦ）、６８
０”０．１０〜１０ ｌｌｌＨｇで熱分解した。
１，２−ジエチ＝ルー１，１，２，２．−テトラメチル
ジシラン２ｇ （０，０１２モル）を入れ、５０ｍ１の
ジエチルエーテルを加え、フラスコを氷冷し九。次にこ
の溶液を攪拌しながら、フェニルマグネシウムブロマイ
ドの２規定ＴＨＦ ＠ ａ１２ｍｌ （；ｙエエルマグ
ネシウムプロマイドとして０．０２４モル）を約１０分
間で滴下し、さらに室温で２０分間攪拌した。これに１
．５−ジクロロ−ヘキサメチルトリシラン２．９４ｇ
（０，０１２モル）とジエチルエーテル２ ｏｍｌの混
合溶液を−ｆ−ζ添加し、室温にて１時間攪拌した後、
１時間還流させた。常法通ＤＫ処理した後、粗生成吻を
減圧蒸留によシ精製し、白色固体を得九。この固体が本
発明の５．５，４，４，５，５，８，８，９．９−デカ
メチル−５，４，５，８，９−ペンタシラー１．６−シ
、クロッチジインであることは、核磁気共鳴スペクトル
（Ｈ−ＮＭＲ）および高分解能マススペクトルにおける
以下の結果から確認さ□ れた。収率５７９Ｉｍｐ、５
５−５６℃（リ −−ＮＭＲ（６１）Ｐｍ／ＣＤＣ１
ｍ ）ｏ、１７ （６Ｈ，シングレット、メチル基）
０，２！Ｓ （１２Ｈ，’／：／／Ｌｙ ット、）ｆｋ
基） ０．２４ （１２Ｈ，シングレット、メチル基） （２）高分解能マススペクトル Ｃ＋４Ｈｓｏ８ｉｉの計算値コ５５８．８２４実測値口
５５８．８２！Ｓ 実施例２ 実施例１において合成された５、５，４，４，５５．８
，８，９．９−デカメチル−５，４，５，８，９−ペン
タシラー１．６−シクロノナジインをフラツシエバキエ
ームピロリシス装置に入れ、６５０゛０．１０ 〜１０
−Ｈｇの条件で熱分解すると、反応は有機シリレンの発
生を伴って進行した。分解反応残渣を再結晶により精製
し、本発明の５゜５．４，４，７，７，８．８−オクタ
メチル−５，４゜７．８−テトラシラー１．５−シクロ
オクタジインを得た。本化合物の構造は核磁気共鳴（Ｈ
−８ＭＢ ）および高分解能マススペクトルにおける以
下の結果から確ｇ−４れた。収率６５％ ｍｐ、１５８
１５〜１５９℃ （１） Ｈ−ＮＭＲ（（ｊ”ｐｐｍ／ＣＤ０１ｇ）
０．２５ （２４Ｈ，シングレット、メチル基）（２）
高分解能マススペクトル Ｃ目出ａｓｉ４の計算憶説２８０．６５６実測値り２Ｂ
０．６５６ 実施例５ 実施例２において合成されたＳ、５，４，４，７７．８
．８−オクタメチル−５，４，７，８−ナト２シラー１
．５−シクロオクタジインを実施例２ト１ｉｔ１４１１
に７ラツシエバキエームピロリシス装置によＦ）、６８
０”０．１０〜１０ ｌｌｌＨｇで熱分解した。
有機シリレンの発生とともに本発明の５．５，４６．７
．７−へキサメチル−５、６、７−）サシ２シクロヘプ
ター１，４−ジインが収率６．５−で得られた。単離は
ガスクロマトグラフィーによシ行なった。ｍｐ、６４〜
６５℃。本化合物の構造は核磁気共鳴（Ｈ−ＮＭＲ）お
よび高分解能マススペクトルにおける以下の結果から確
認され九。
．７−へキサメチル−５、６、７−）サシ２シクロヘプ
ター１，４−ジインが収率６．５−で得られた。単離は
ガスクロマトグラフィーによシ行なった。ｍｐ、６４〜
６５℃。本化合物の構造は核磁気共鳴（Ｈ−ＮＭＲ）お
よび高分解能マススペクトルにおける以下の結果から確
認され九。
（１） ’Ｈ−ＮＭａ （６ｐｐｍ／ＣＤＣｌ ｓ
）０．３４ （１２Ｈ，シングレット、メチル基）０．
５５ （６Ｈ，シングレット、メチル基）（２）高分解
能マススペクトル （：＋ｏｌ（＋＠８ｉｉの計算値＝ ２２２．５１２実
測値−２２２，５１１ 実施例４ 実施例１〜５の方法により合成した化合物２ｇをそれぞ
れベンゼン５０ｍ１に、溶かし、さらにシリレン捕捉剤
としてジエチルメチル７ラン２．９ｇを加え５００Ｗ低
圧水銀燈で１０分間光照射した。
）０．３４ （１２Ｈ，シングレット、メチル基）０．
５５ （６Ｈ，シングレット、メチル基）（２）高分解
能マススペクトル （：＋ｏｌ（＋＠８ｉｉの計算値＝ ２２２．５１２実
測値−２２２，５１１ 実施例４ 実施例１〜５の方法により合成した化合物２ｇをそれぞ
れベンゼン５０ｍ１に、溶かし、さらにシリレン捕捉剤
としてジエチルメチル７ラン２．９ｇを加え５００Ｗ低
圧水銀燈で１０分間光照射した。
反応混合物をガスクロマトグラフィーで分離し標準試料
との比較ならびにマススペクトルによって分析した。そ
の結果、シリレンの捕捉によって生じ九１．１−ジエチ
ル−１，２，２−）リメチルジ７ランはシリレン捕捉剤
に対してそれぞれ収率７５％％８４％、 ｓ２％を得た
。
との比較ならびにマススペクトルによって分析した。そ
の結果、シリレンの捕捉によって生じ九１．１−ジエチ
ル−１，２，２−）リメチルジ７ランはシリレン捕捉剤
に対してそれぞれ収率７５％％８４％、 ｓ２％を得た
。
以上述べたように、本発明の新規エチニレンボリシ２ン
系化合物はσ′（Ｓｉ−８ｉ）−π共役に基づく強い吸
収を紫外線領域に有するため光分解による有機シリレン
の発生効率が嵩く新しいシリレン発生剤として有用であ
る。
系化合物はσ′（Ｓｉ−８ｉ）−π共役に基づく強い吸
収を紫外線領域に有するため光分解による有機シリレン
の発生効率が嵩く新しいシリレン発生剤として有用であ
る。
また、次のように光電変換膜の形成に使用できる。例え
ば実施例１〜５の方法で合成した化合物をそれぞれトル
エンに溶解して得九トルエン溶液（５〜１０重１日を導
電性基板上に塗布し、乾燥成膜の後全面を低圧水鋼溶で
照射すれば不溶性の光電変換薄膜を形成できる。
ば実施例１〜５の方法で合成した化合物をそれぞれトル
エンに溶解して得九トルエン溶液（５〜１０重１日を導
電性基板上に塗布し、乾燥成膜の後全面を低圧水鋼溶で
照射すれば不溶性の光電変換薄膜を形成できる。
さらに、同様の方法により、レーザービームパターニン
グシステムにおける感光体として用いつる。即ち上記と
同様の方法により作製し九本新規物質薄膜に対して、レ
ーザービーム照射により光電導性の不溶性薄膜パターン
を形成できる。
グシステムにおける感光体として用いつる。即ち上記と
同様の方法により作製し九本新規物質薄膜に対して、レ
ーザービーム照射により光電導性の不溶性薄膜パターン
を形成できる。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 ｔ 一般式（１）で表わされる化合物よシなるととを特
徴とする新規エチニレンポリ７ラン系化金物。 ルキル基であり、ｎは１以上の整 数である。 ２、一般式（１）で示される化合物が、５．．５．４４
．５，５，８，８，９，９．−デカメチル−５、４、５
゜Ｊ９−ペンタシラー１．６−シクロノナジイン−５，
５，４，４，７，７，８，８−オクタメチル−５゜４．
７．８−テトラシラー１．５−シクロオクタジイン、５
，５，６，６，７．７−ヘキサメチル−Ｓ。 ６ 、７− ）リシラシクロへブタ−１，４−ジインの
うちから選ばれた一種類の化合物であることをｑ＃歇と
する新規エチニレンボリシラン系化合物。 ３一般式（２）で表わされる化合物と、一般式（５）で
表わされる化合物とを反志させて、一般式（４）で表わ
される化合物を得ることを％歇とする新規エチニレンボ
リ７ラン系化合物の製造方法。 Ｒ＋ 几 Ｒ （２） （３） ＲＲ （４） 但し、一般式（２）、（３）、（４）中のＲはいずれも
アルキル基であり、一般式（２１％ （５）中のＸはＣ
Ｉ又はＢｒであり、一般式（２）、（４）中のｎは１以
上の整数である。 ４、一般式（２）で表わされる化合物と、一般式（５）
で表わされる化合物とを反応させて一般式（４）で表わ
される化合物を合成し、ついでこの化合物を光又は熱で
分解して一般式（６）で表わされる化合物を得ることを
％隊とする新規エチニレンポリシッン系化合物の製造方
法。 （２） （。 ＲｆＬ ＲＲ （４） ＲＲ （６） 但し、一般式（２）、（５）、（４）、（６）、（７）
中の８はいずれもアルキル基であり、一般式（２）、（
３）、（５）中のＸはＣＩ又はＢｒであシ、一般式（２
）、（４）、（６）中のｎは１以上の整数である。 ５、一般式（２）で表わされる化合物と、一般式（５）
で表わされる化合物とを反応させて一般式（４）で表わ
される化合物を合成し、ついでこの化合物を光又は熱で
分解して一般式（６）で表わされる化合物を得、この化
合物を更に熱分解して一般式（８）で表わされる化合物
を得ることを％隊とする新規エチニレンポリシラン系化
合物の製造方法。 （２） 、 （５）（４）
（５）ＲＲ （６） （ａ）但し、一般
式（２）、（５）、（４）、（６）、（７）、（８）中
のＲはいずれもアルキル基でオシ、一般式（２）、 （
５）、（５）中のＸはＣ１又はＢｒであり、一般式（２
）、（４）、（６）、（８） Ｉ−Ｆのｎは１以上の整
数である。 ６一般式（２）で表わされる化合物が される化合物力ｃｌｓｉ（Ｃｔｌすｍ８ｉ（ＣＩ−１ｓ
）ａｓｉ（ＣＨすｔｃｌもしくはｉ３ ｒ ８ ｉ （
ＣＨすａｓｉ（Ｃｆ（ｓ）ｍ８ｉ（ＣＨすｇＢｒであり
、一般式（４）で示される化合物が５．５，４，４゜５
．５，８，８，９．９−デカメチル−５，４，５，８９
−ペンタン９−１．６−シクロノナイシンであることを
特徴とする特許請求の範囲第５項記載の新規エチニレン
ボリシフン系化合物の製造方法。 ｌ 一般式（２）で表わされる化合物がｂ サｔＬ ／
） 化−ｆｔ 物カＣｌ５ｉ（Ｃｄｓ ） ａｓｉ（Ｑ
−ｆｉ ）ｍ８１（Ｃ）（ｓ ）ｍＣ１モｌ、 （ｔｄ
Ｂｒ８ｉ（Ｃ１−１ｉ）ａｓｉ（Ｃ）（ｌ）ｍ８ｉ（
ＣＨｉ）ｇＢｒ テあり、一般式（４）で示される化合
物が５．５，４，４５．５，８，８，９．９−デカメチ
ル−５，４，５，８９−ペンタシラー１．６−シクロノ
ナイジンであシ、一般式（６）で示される化合物が５．
５，４゜４．７，７，８，８−オクタメチル−５，４，
１，Ｊ−テトラン２−１．５−シクロオクタジインであ
ることを特徴とするＩ＋＃杵請求の範囲第４項記載の新
規エチニレンボリシラン系化合物の製造方法。 ＆ 一般式（２）で表わされる化合物が表わされる化合
物がＣｌ５ｉ（ＣＨｉ）ａｓｉ（ＣＨｉ）！８ ｉ （
ＣＨｉ 、）ＩＣｔもしくはＢｒ５ｉ（ＣＨｉ ） ｚ
ｓｉ（ＯＨすｘ ８ ｉ （ＣＩ（ｉ戸Ｂｒであり、一
般式（４）で示される化合物が３．５４．４，５，５，
８，８，９．９−デカメチル−５，４，５８，９−ペン
タシ：７−１．６−シクロノナイシンであり、一般式（
６）で示される化合物が５，５゜４．４，７，７，８．
８−オクタメチル−５，４，７゜８−ナト２シラー１．
５−フクロオクタジインであり、一般式（８）で示され
る化合物が５．５，６，６７．７−へキサメチル−５、
６、７−）リシラシクロへブタ−１，４−ジインである
ことを特徴とする特許請求の範囲第５項記載の新規エチ
ニレンポリシラン系化合物の製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3382282A JPS58152891A (ja) | 1982-03-05 | 1982-03-05 | 新規エチニレンポリシラン系化合物およびその製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3382282A JPS58152891A (ja) | 1982-03-05 | 1982-03-05 | 新規エチニレンポリシラン系化合物およびその製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS58152891A true JPS58152891A (ja) | 1983-09-10 |
| JPS6340434B2 JPS6340434B2 (ja) | 1988-08-11 |
Family
ID=12397170
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP3382282A Granted JPS58152891A (ja) | 1982-03-05 | 1982-03-05 | 新規エチニレンポリシラン系化合物およびその製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS58152891A (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| GB2209530A (en) * | 1987-09-04 | 1989-05-17 | Dow Corning | Producing silicon carbide preceramic vinyl-containing polysilanes |
| WO1990001515A1 (en) * | 1988-08-03 | 1990-02-22 | Kanegafuchi Kagaku Kogyo Kabushiki Kaisha | Ethynylene-disilanylene copolymers and method of preparing same |
| US4996341A (en) * | 1990-07-05 | 1991-02-26 | Kanegafuchi Chemical Industry Co., Ltd. | Condensed bicyclic disilanylene-acetylene compound and method for preparing the same |
-
1982
- 1982-03-05 JP JP3382282A patent/JPS58152891A/ja active Granted
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| GB2209530A (en) * | 1987-09-04 | 1989-05-17 | Dow Corning | Producing silicon carbide preceramic vinyl-containing polysilanes |
| GB2209530B (en) * | 1987-09-04 | 1991-11-06 | Dow Corning | An improved method of producing silicon carbide preceramic vinyl-containing polymers |
| WO1990001515A1 (en) * | 1988-08-03 | 1990-02-22 | Kanegafuchi Kagaku Kogyo Kabushiki Kaisha | Ethynylene-disilanylene copolymers and method of preparing same |
| US4996341A (en) * | 1990-07-05 | 1991-02-26 | Kanegafuchi Chemical Industry Co., Ltd. | Condensed bicyclic disilanylene-acetylene compound and method for preparing the same |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS6340434B2 (ja) | 1988-08-11 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| Houlihan et al. | Nitrobenzyl ester chemistry for polymer processes involving chemical amplification | |
| Crivello et al. | Complex triarylsulfonium salt photoinitiators. I. The identification, characterization, and syntheses of a new class of triarylsulfonium salt photoinitiators | |
| Li et al. | Synthesis and reactivities of intramolecular. eta. 2-arene and-alkene species via insertion of norbornadiene into palladium-carbon bonds. Preparation of 3, 5-disubstituted nortricyclenes from these complexes | |
| Klei et al. | Reaction of titanocene allyls | |
| CN110669066B (zh) | 一种二硅烷及其制备方法 | |
| Jones et al. | Photochemical treatment of transition metal substituted disilanes,(. eta. 5-C5H5) Fe (CO) 2Si2Me4 (C6H4X)(X= Cl, CF3, NMe2, OMe, H), including trapping of expelled silylene | |
| Nebe et al. | Photolysis of cis, cis-1, 3-cyclooctadiene | |
| JPS58152891A (ja) | 新規エチニレンポリシラン系化合物およびその製造方法 | |
| JP2009263316A (ja) | 不完全縮合オリゴシルセスキオキサンの製造方法 | |
| Gaspar et al. | 2, 6-Dimethoxyphenylphosphirane Oxide and Sulfide and their Thermolysis to Phosphinidene Chalcogenides—Kinetic and Mechanistic Studies | |
| Crivello et al. | Studies of synthesis and cationic photopolymerization of three isomeric monoterpene diepoxides | |
| JPH01100179A (ja) | 有機金属含有化合物 | |
| JPS6340435B2 (ja) | ||
| JPH05255240A (ja) | スルホニウム塩、光酸発生剤、光カチオン重合開始剤およびレジスト組成物 | |
| JPH03148257A (ja) | 光重合開始剤として有用な新規スルホニウム塩 | |
| Miyashita et al. | Synthesis and reactivities of novel η2-(C, O) alkylphenylketene complexes of nickel. Coordination-mode switching reaction of the ketene ligand | |
| JPS6340436B2 (ja) | ||
| US5997637A (en) | Method of producing a semiconducting material | |
| JPS60108841A (ja) | 感光性耐熱材料 | |
| US5162559A (en) | Silylation reagents for preparing binders which are soluble in aqueous alkali and contain silanyl groups in the side chain | |
| Naddaka et al. | π-Telluranes: Synthesis, Structure and Reactivity | |
| JP2712562B2 (ja) | ケイ素―ケイ素結合及びアセチレン結合を有する重合物ならびにその製造法 | |
| Badyal et al. | Investigations of heterocylic systems containing nitrogen-tellurium bonds | |
| JPS5821684A (ja) | 新規フェニルジシラン系化合物とそれを製造する方法 | |
| JP2670583B2 (ja) | ポリシラン化合物、その製造方法及びその用途 |