JPS6340436B2 - - Google Patents
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- JPS6340436B2 JPS6340436B2 JP3382482A JP3382482A JPS6340436B2 JP S6340436 B2 JPS6340436 B2 JP S6340436B2 JP 3382482 A JP3382482 A JP 3382482A JP 3382482 A JP3382482 A JP 3382482A JP S6340436 B2 JPS6340436 B2 JP S6340436B2
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- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 claims description 22
- 229920000548 poly(silane) polymer Polymers 0.000 claims description 12
- 125000005677 ethinylene group Chemical group [*:2]C#C[*:1] 0.000 claims description 9
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 claims description 5
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 claims description 4
- BLRPTPMANUNPDV-UHFFFAOYSA-N Silane Chemical group [SiH4] BLRPTPMANUNPDV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N Diethyl ether Chemical compound CCOCC RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- 238000000034 method Methods 0.000 description 7
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 5
- UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N Benzene Chemical compound C1=CC=CC=C1 UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N Toluene Chemical compound CC1=CC=CC=C1 YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 3
- 125000002496 methyl group Chemical group [H]C([H])([H])* 0.000 description 3
- ANRQGKOBLBYXFM-UHFFFAOYSA-M phenylmagnesium bromide Chemical compound Br[Mg]C1=CC=CC=C1 ANRQGKOBLBYXFM-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 3
- 239000010409 thin film Substances 0.000 description 3
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- VXZHPKCBWCBOAU-UHFFFAOYSA-N bis[chloro(dimethyl)silyl]-dimethylsilane Chemical compound C[Si](C)(Cl)[Si](C)(C)[Si](C)(C)Cl VXZHPKCBWCBOAU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000010408 film Substances 0.000 description 2
- 238000001819 mass spectrum Methods 0.000 description 2
- QSHDDOUJBYECFT-UHFFFAOYSA-N mercury Chemical compound [Hg] QSHDDOUJBYECFT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052753 mercury Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 2
- 238000006303 photolysis reaction Methods 0.000 description 2
- 230000015843 photosynthesis, light reaction Effects 0.000 description 2
- -1 polyethynylene Polymers 0.000 description 2
- 239000002516 radical scavenger Substances 0.000 description 2
- 238000003756 stirring Methods 0.000 description 2
- 238000005160 1H NMR spectroscopy Methods 0.000 description 1
- AFCARXCZXQIEQB-UHFFFAOYSA-N N-[3-oxo-3-(2,4,6,7-tetrahydrotriazolo[4,5-c]pyridin-5-yl)propyl]-2-[[3-(trifluoromethoxy)phenyl]methylamino]pyrimidine-5-carboxamide Chemical compound O=C(CCNC(=O)C=1C=NC(=NC=1)NCC1=CC(=CC=C1)OC(F)(F)F)N1CC2=C(CC1)NN=N2 AFCARXCZXQIEQB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000005481 NMR spectroscopy Methods 0.000 description 1
- 239000004698 Polyethylene Substances 0.000 description 1
- 229910008045 Si-Si Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910006411 Si—Si Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000010521 absorption reaction Methods 0.000 description 1
- 239000003153 chemical reaction reagent Substances 0.000 description 1
- 230000021615 conjugation Effects 0.000 description 1
- 239000003431 cross linking reagent Substances 0.000 description 1
- 239000012043 crude product Substances 0.000 description 1
- JQZUMFHYRULBEN-UHFFFAOYSA-N diethyl(methyl)silicon Chemical compound CC[Si](C)CC JQZUMFHYRULBEN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KPISIPFWLMPWOU-UHFFFAOYSA-N dimethylsilyl-diethyl-methylsilane Chemical compound CC[Si](C)(CC)[SiH](C)C KPISIPFWLMPWOU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000003814 drug Substances 0.000 description 1
- 229940079593 drug Drugs 0.000 description 1
- 238000004817 gas chromatography Methods 0.000 description 1
- YFIBSNDOVCWPBL-UHFFFAOYSA-N hexa-1,5-diyne Chemical compound C#CCCC#C YFIBSNDOVCWPBL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000001678 irradiating effect Effects 0.000 description 1
- 238000004949 mass spectrometry Methods 0.000 description 1
- 125000001570 methylene group Chemical group [H]C([H])([*:1])[*:2] 0.000 description 1
- 239000011259 mixed solution Substances 0.000 description 1
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000000655 nuclear magnetic resonance spectrum Methods 0.000 description 1
- 238000000059 patterning Methods 0.000 description 1
- RQJRLVCBMAKXFG-UHFFFAOYSA-N phenyl(silyl)silane Chemical class [SiH3][SiH2]C1=CC=CC=C1 RQJRLVCBMAKXFG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 108091008695 photoreceptors Proteins 0.000 description 1
- 229920000573 polyethylene Polymers 0.000 description 1
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 description 1
- 238000010926 purge Methods 0.000 description 1
- 239000011541 reaction mixture Substances 0.000 description 1
- 239000012048 reactive intermediate Substances 0.000 description 1
- 238000010992 reflux Methods 0.000 description 1
- 230000035945 sensitivity Effects 0.000 description 1
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010703 silicon Substances 0.000 description 1
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 1
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 1
- 238000003786 synthesis reaction Methods 0.000 description 1
- 230000002194 synthesizing effect Effects 0.000 description 1
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は、新規エチニレンポリシラン系化合物
およびその製造方法に関する。
およびその製造方法に関する。
二価の反応性中間体であるシリレンは、極めて
反応性に富むことから、高分子の架橋剤や新しい
有機合成反応への利用が期待され、広く研究され
ている。有機シリレン（：SiR2）の発生法とし
ては、各種の方法が公知であり、例えばポリシラ
ン類を光分解する方法がある。この方法は操作が
容易であることから応用範囲が広い。
反応性に富むことから、高分子の架橋剤や新しい
有機合成反応への利用が期待され、広く研究され
ている。有機シリレン（：SiR2）の発生法とし
ては、各種の方法が公知であり、例えばポリシラ
ン類を光分解する方法がある。この方法は操作が
容易であることから応用範囲が広い。
上記の方法の一つに鎮状フエニルジシラン類を
光分解する方法が知られているが、この方法によ
ると１，３−ケイ素転位したシラエテンを主に生
成し、有機シリレンの生成収率は低い。またその
感光波長が紫外線領域に限られる。
光分解する方法が知られているが、この方法によ
ると１，３−ケイ素転位したシラエテンを主に生
成し、有機シリレンの生成収率は低い。またその
感光波長が紫外線領域に限られる。
本発明の目的は、光分解で有機シリレンを高収
率で発生する新規なエチニレンポリシラン系化合
物およびその製造方法を提供するにある。
率で発生する新規なエチニレンポリシラン系化合
物およびその製造方法を提供するにある。
上記目的のために各種のポリエチニレンポリシ
ラン系化合物を合成し、有機シリレンの発生収率
を調べた結果、以下に示される新規なエチニレン
ポリシラン系化合物が有用であることを見出し
た。
ラン系化合物を合成し、有機シリレンの発生収率
を調べた結果、以下に示される新規なエチニレン
ポリシラン系化合物が有用であることを見出し
た。
本発明の新規エチニレンポリシラン系化合物
は、以下、一般式(1)で示される。
は、以下、一般式(1)で示される。
（但し、一般式(1)中のＲはアルキル基を表わす。）
本発明の新規エチニレンポリシラン系化合物と
しては、例えば、７，７，８，８，９，９−ヘキ
サメチル−７，８，９−トリシラシクロ−１，５
−ノナジインなどがあげられる。
しては、例えば、７，７，８，８，９，９−ヘキ
サメチル−７，８，９−トリシラシクロ−１，５
−ノナジインなどがあげられる。
本発明による新規ポリエチニレンポリシラン系
化合物は、例えば次のような反応により合成でき
る。
化合物は、例えば次のような反応により合成でき
る。
７，７，８，８，９，９−ヘキサメチル−７，
８，９−トリシラシクロ−１，５−ノナジイン
（一般式(1)においてＲ＝メチル基である化合物）
は、エーテル溶液中１，６−ヘキサジインとフエ
ニルマグネシウムブロマイドから導かれるジグリ
ニヤール試薬に、１，３−ジクロロヘキサメチル
トリシランを加え、室温にて反応させ、さらに還
流させることにより合成できる。
８，９−トリシラシクロ−１，５−ノナジイン
（一般式(1)においてＲ＝メチル基である化合物）
は、エーテル溶液中１，６−ヘキサジインとフエ
ニルマグネシウムブロマイドから導かれるジグリ
ニヤール試薬に、１，３−ジクロロヘキサメチル
トリシランを加え、室温にて反応させ、さらに還
流させることにより合成できる。
以下、本発明を実施例でさらに詳細に説明す
る。
る。
実施例 １
200ml３つ口フラスコを窒素置換した後、その
中に１，５−ヘキサジイン2g（0.0256モル）およ
びジエチルエーテル30mlを入れ、フラスコを氷冷
した。この溶液に、撹拌しながらフエニルマグネ
シウムブロマイドの２規定THF溶液25.6ml（フ
エニルマグネシウムブロマイドとして0.0512モ
ル）を約10分間で滴下し、さらに室温で30分間撹
拌した。この溶液に１，３−ジクロロヘキサメチ
ルトリシラン6.28g（0.0256モル）とジエチルエー
テル30mlの混合溶液を一度に添加し、室温にて１
時間撹拌した後、１時間還流させた。常法通りの
処理ののち、粗生成物の減圧蒸留により、本発明
の７，７，８，８，９，９−ヘキサメチル−７，
８，９−トリシラシクロ−１，５−ノナジインを
得た。収率45％bp.136〜138℃／20mmHg。この化
合物の構造は核磁気共鳴スペクトル（1H−
NMR）および高分解能マススペクトルにおける
以下の結果から確認された。
中に１，５−ヘキサジイン2g（0.0256モル）およ
びジエチルエーテル30mlを入れ、フラスコを氷冷
した。この溶液に、撹拌しながらフエニルマグネ
シウムブロマイドの２規定THF溶液25.6ml（フ
エニルマグネシウムブロマイドとして0.0512モ
ル）を約10分間で滴下し、さらに室温で30分間撹
拌した。この溶液に１，３−ジクロロヘキサメチ
ルトリシラン6.28g（0.0256モル）とジエチルエー
テル30mlの混合溶液を一度に添加し、室温にて１
時間撹拌した後、１時間還流させた。常法通りの
処理ののち、粗生成物の減圧蒸留により、本発明
の７，７，８，８，９，９−ヘキサメチル−７，
８，９−トリシラシクロ−１，５−ノナジインを
得た。収率45％bp.136〜138℃／20mmHg。この化
合物の構造は核磁気共鳴スペクトル（1H−
NMR）および高分解能マススペクトルにおける
以下の結果から確認された。
(1) 1H−NMR（δppm／CDCl3）
0.22（6H、シングレツト、メチル基）
0.27（12H、シングレツト、メチル基）
2.47（4H、シングレツト、メチレン基）
(2) 高分解能マススペクトル
C12H22Si3の計算値＝250.566
実測値＝250.564
実施例 ２
実施例１の方法により合成した７，７，８，
８，９，９−ヘキサメチル−７，８，９−トリシ
ラシクロ−１，５−ノナジイン2gをベンゼン50
mlに溶かし、さらにシリレン捕捉剤としてジエチ
ルメチルシラン2.9gを加え、300W低圧水銀燈で
10分間光照射した。反応混合物をガスクロマトグ
ラフイーで分離し、標準試料との比較ならびにマ
ススペクトルによつて分析した。その結果、シリ
レンの捕捉によつて生じた１，１−ジエチル−
１，２，２−トリメチルジシラン（シリレン捕捉
剤に対して、収率80％）を得た。
８，９，９−ヘキサメチル−７，８，９−トリシ
ラシクロ−１，５−ノナジイン2gをベンゼン50
mlに溶かし、さらにシリレン捕捉剤としてジエチ
ルメチルシラン2.9gを加え、300W低圧水銀燈で
10分間光照射した。反応混合物をガスクロマトグ
ラフイーで分離し、標準試料との比較ならびにマ
ススペクトルによつて分析した。その結果、シリ
レンの捕捉によつて生じた１，１−ジエチル−
１，２，２−トリメチルジシラン（シリレン捕捉
剤に対して、収率80％）を得た。
以上述べたように、本発明の新規エチニレンポ
リシラン系化合物は、σ（Si−Si）−π共役に基づ
く強い吸収を紫外線領域に有するため光分解によ
る有機シリレンの発生効率が高く、新しいシリレ
ン発生剤として有用である。
リシラン系化合物は、σ（Si−Si）−π共役に基づ
く強い吸収を紫外線領域に有するため光分解によ
る有機シリレンの発生効率が高く、新しいシリレ
ン発生剤として有用である。
また次のように光電変換膜の形成に使用でき
る。例えば、７，７，８，８，９，９−ヘキサメ
チル−７，８，９−トリシラシクロ−１，５−ノ
ナジインのトルエン溶液（５〜10重量％）を導電
性基板上に塗布し、乾燥成膜の後、全面を低圧水
銀燈で照射すれば、不溶性の光電変換薄膜を形成
できる。
る。例えば、７，７，８，８，９，９−ヘキサメ
チル−７，８，９−トリシラシクロ−１，５−ノ
ナジインのトルエン溶液（５〜10重量％）を導電
性基板上に塗布し、乾燥成膜の後、全面を低圧水
銀燈で照射すれば、不溶性の光電変換薄膜を形成
できる。
さらに、同様の方法により、レーザービームパ
ターニングシステムにおける感光体として用いう
る。即ち上記と同様の方法により作製した本新規
物質薄膜に対して、レーザービーム照射により光
電導性の不溶性薄膜パターンを形成できる。
ターニングシステムにおける感光体として用いう
る。即ち上記と同様の方法により作製した本新規
物質薄膜に対して、レーザービーム照射により光
電導性の不溶性薄膜パターンを形成できる。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １ 一般式(1) （但し、一般式(1)中のＲはアルキル基を示す）で
表される化合物よりなることを特徴とする新規エ
チニレンポリシラン系化合物。 ２ ７，７，８，８，９，９−ヘキサメチル−
７，８，９−トリシラシクロ−１，５−ノナジイ
ンであることを特徴とする特許請求範囲第１項記
載の新規エチニレンポリシラン系化合物。 ３ 一般式(2)で表される化合物と、一般式(3)で表
される化合物とを反応させて、一般式(1)で表され
る化合物を得ることを特徴とする新規エチニレン
ポリシラン系化合物の製造方法。 但し、一般式(1)〜(3)中のＲはアルキル基であ
り、一般式(2)〜(4)中のＸはClもしくはBrである。 ４ 一般式(1)で表される化合物が７，７，８，
８，９，９−ヘキサメチル−７，８，９−トリシ
ラシクロ−１，５−ノナジインであり、一般式(2)
で表される化合物が【式】もしく は【式】であり、一般式(3)で表さ れる化合物がClSi（CH3）2Si（CH3）2Si（CH3）2Clも
しくはBrSi（CH3）2Si（CH3）2Si（CH3）2Brである
ことを特徴とする特許請求の範囲第３項記載の新
規エチニレンポリシラン系化合物の製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3382482A JPS58152893A (ja) | 1982-03-05 | 1982-03-05 | 新規エチニレンポリシラン系化合物およびその製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3382482A JPS58152893A (ja) | 1982-03-05 | 1982-03-05 | 新規エチニレンポリシラン系化合物およびその製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS58152893A JPS58152893A (ja) | 1983-09-10 |
| JPS6340436B2 true JPS6340436B2 (ja) | 1988-08-11 |
Family
ID=12397230
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP3382482A Granted JPS58152893A (ja) | 1982-03-05 | 1982-03-05 | 新規エチニレンポリシラン系化合物およびその製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS58152893A (ja) |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US4996341A (en) * | 1990-07-05 | 1991-02-26 | Kanegafuchi Chemical Industry Co., Ltd. | Condensed bicyclic disilanylene-acetylene compound and method for preparing the same |
-
1982
- 1982-03-05 JP JP3382482A patent/JPS58152893A/ja active Granted
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS58152893A (ja) | 1983-09-10 |
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