JPS58146243U - ホトマスク - Google Patents

ホトマスク

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Publication number
JPS58146243U
JPS58146243U JP1982041803U JP4180382U JPS58146243U JP S58146243 U JPS58146243 U JP S58146243U JP 1982041803 U JP1982041803 U JP 1982041803U JP 4180382 U JP4180382 U JP 4180382U JP S58146243 U JPS58146243 U JP S58146243U
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
pattern
reticle
alignment
wafer
reticle alignment
Prior art date
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Pending
Application number
JP1982041803U
Other languages
English (en)
Inventor
恭雄 和田
昇雄 長谷川
喜久雄 楠川
哲哉 林田
Original Assignee
株式会社日立製作所
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
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Pending legal-status Critical Current

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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【図面の簡単な説明】
第１図は縮小投影露光用のレンズ・フィールドとチップ
の従来技術による関係を表わす図、第２図は本考案によ
るウェーハ上のパターンａおよびレチクル上のパターン
ｂの一例を表わす平面図、第３図は多層の合わせを行な
う場合のパターンの配置の一例を表わす平面図、第４図
はパターン寸法を説明するための図、第５図は縮小投影
露光用のレンズ・フィールドとチップの本考案による関
係を表わす図である。 １・・・ウェーハ上に実現できるチップの大きさ、２・
・・レンズ・フィールド、３・・・レチクル合わせ用窓
、４・・・大型化したチップの大きさ、５．１４・・・
合わせターゲット、６．１３・・・合わせターゲット周
辺パターン、７・・・ウェーハ、８・・・合わせターゲ
ットから離れたパターン、９・・・合わせ用窓の周辺　
′パターン、１０・・・合わせ用窓、１１・・・レチク
ル、１２・・・合わせ用窓から離れたパターン、１５・
・・レチクル合わせ用照明によってウェーハ上に形成さ
れるパターン、１６・・・実際の露光によってウェーハ
上に形成されるパターン、１７・・・本考案によって得
られるチップの大きさ。

Claims (1)

    【実用新案登録請求の範囲】
  1. 縮小投影露光装置用レチクルにおいて、レチクル合わせ
    用窓の周辺のレチクルの位置合わせのために照明される
    領域にもパターンを有し、上記パターンの上記レチクル
    合わせ用窓に対する相対位−がウェーハ上の合わせター
    ゲットに対する上記領域に対応する領域内の実現しなけ
    ればならない・　　　　　　　パターンの相対位置が実
    質上同一であることを特徴とするホトマスク。
JP1982041803U 1982-03-26 1982-03-26 ホトマスク Pending JPS58146243U (ja)

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JP1982041803U JPS58146243U (ja) 1982-03-26 1982-03-26 ホトマスク

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JP1982041803U JPS58146243U (ja) 1982-03-26 1982-03-26 ホトマスク

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JPS58146243U true JPS58146243U (ja) 1983-10-01

Family

ID=30052979

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP1982041803U Pending JPS58146243U (ja) 1982-03-26 1982-03-26 ホトマスク

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