JPS6041952U - 縮小投影露光装置 - Google Patents

縮小投影露光装置

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JPS6041952U
JPS6041952U JP13356883U JP13356883U JPS6041952U JP S6041952 U JPS6041952 U JP S6041952U JP 13356883 U JP13356883 U JP 13356883U JP 13356883 U JP13356883 U JP 13356883U JP S6041952 U JPS6041952 U JP S6041952U
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JP
Japan
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projection exposure
reduction projection
original image
wafer
exposure equipment
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Pending
Application number
JP13356883U
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English (en)
Inventor
隆 佐藤
Original Assignee
株式会社日立製作所
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Publication date
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【図面の簡単な説明】
第１図は本考案の一実施例としての縮小露光装置の構成
図、第２図はパターン検出構成図、第３図は１層目露光
用原画を示す図、第４図は２層目以降露光用原画を示す
図、第５図はウェハ上のチップ配列を示す図である。 ５・・・原画、６・・・縮小レンズ、７・・・ウェハ、
９・・・計算機、１４・・・相対位置検出光、１７ｔ１
７ａｔ１７ｂ・・・相対位置検出用抜きパターン、１８
，１８ａ、１８ｂ・・・ウェハターゲットパターン、２
２・・・画像処理装置。

Claims (1)

    【実用新案登録請求の範囲】
  1. 縮小レンズを介して原画とウェハの相対パターン位置合
    わせを可能とする縮小投影露光装置において、原画像を
    ウェハに転写可能な相対位置関係にあらしめたとき相互
    の位置検出パターンも検出可能な位置関係にあるべく原
    画ターゲットパターン位置と配列ピッチ寸法に制約を設
    け、当該チップの露光と同時に以降に露光さるべき隣接
    チップの先行相対位置検出を行なわしむるように構成し
    たことを特徴とする縮小投影露光装置。
JP13356883U 1983-08-31 1983-08-31 縮小投影露光装置 Pending JPS6041952U (ja)

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JP13356883U JPS6041952U (ja) 1983-08-31 1983-08-31 縮小投影露光装置

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JPS6041952U true JPS6041952U (ja) 1985-03-25

Family

ID=30301249

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JP13356883U Pending JPS6041952U (ja) 1983-08-31 1983-08-31 縮小投影露光装置

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JP (1) JPS6041952U (ja)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2016153031A1 (ja) * 2015-03-25 2016-09-29 株式会社ニコン レイアウト方法、マーク検出方法、露光方法、計測装置、露光装置、並びにデバイス製造方法

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