JPS59119411U - 投影露光装置 - Google Patents

投影露光装置

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JPS59119411U
JPS59119411U JP1168683U JP1168683U JPS59119411U JP S59119411 U JPS59119411 U JP S59119411U JP 1168683 U JP1168683 U JP 1168683U JP 1168683 U JP1168683 U JP 1168683U JP S59119411 U JPS59119411 U JP S59119411U
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JP
Japan
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projection exposure
semiconductor wafer
exposure equipment
detection system
projector
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Pending
Application number
JP1168683U
Other languages
English (en)
Inventor
敏樹 森
Original Assignee
日本電気ホームエレクトロニクス株式会社
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Publication date
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【図面の簡単な説明】
第１図は従来の投影露光装置の概略側面図、第２図は本
考案の一実施例を示す要部斜視図、第３図及び第４図は
第２図の光学検出系の二側を説明するための要部等価構
成図である。 １・・・・・・マスク、６・・・・・・半導体ウェーハ
、１６・・・・・・光学検出系、１７・・・・・・投光
器、１８・・・・・・光学検出器。

Claims (1)

    【実用新案登録請求の範囲】
  1. 露光用マスクと半導体ウェーハのアライメント及びオー
    トフォーカス両機能を、半導体ウェーハ上を選択斜光照
    明する投光器と、半導体ウェーハからの前記投光器の光
    の反射光の焦点位置に反射光に対し斜め配置した光学検
    出器とで構成された光学検出系に持たせたことを特徴と
    する投影露光装置。
JP1168683U 1983-01-28 1983-01-28 投影露光装置 Pending JPS59119411U (ja)

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JPS59119411U true JPS59119411U (ja) 1984-08-11

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ID=30143112

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Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS5493974A (en) * 1978-01-06 1979-07-25 Hitachi Ltd Projection-system mask alignment unit
JPS57138134A (en) * 1981-02-20 1982-08-26 Nippon Kogaku Kk <Nikon> Positioning device

Patent Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS5493974A (en) * 1978-01-06 1979-07-25 Hitachi Ltd Projection-system mask alignment unit
JPS57138134A (en) * 1981-02-20 1982-08-26 Nippon Kogaku Kk <Nikon> Positioning device

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