JPS5814605Y2 - 電極構造 - Google Patents

電極構造

Info

Publication number
JPS5814605Y2
JPS5814605Y2 JP1976144191U JP14419176U JPS5814605Y2 JP S5814605 Y2 JPS5814605 Y2 JP S5814605Y2 JP 1976144191 U JP1976144191 U JP 1976144191U JP 14419176 U JP14419176 U JP 14419176U JP S5814605 Y2 JPS5814605 Y2 JP S5814605Y2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
layer
bonding
electrode
punching
electrodes
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Expired
Application number
JP1976144191U
Other languages
English (en)
Other versions
JPS5360765U (ja
Inventor
明 小島
則夫 鈴木
Original Assignee
ソニー株式会社
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by ソニー株式会社 filed Critical ソニー株式会社
Priority to JP1976144191U priority Critical patent/JPS5814605Y2/ja
Publication of JPS5360765U publication Critical patent/JPS5360765U/ja
Application granted granted Critical
Publication of JPS5814605Y2 publication Critical patent/JPS5814605Y2/ja
Expired legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L24/00Arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies; Methods or apparatus related thereto
    • H01L24/01Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
    • H01L24/02Bonding areas ; Manufacturing methods related thereto
    • H01L24/04Structure, shape, material or disposition of the bonding areas prior to the connecting process
    • H01L24/05Structure, shape, material or disposition of the bonding areas prior to the connecting process of an individual bonding area
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L24/00Arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies; Methods or apparatus related thereto
    • H01L24/01Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
    • H01L24/02Bonding areas ; Manufacturing methods related thereto
    • H01L24/04Structure, shape, material or disposition of the bonding areas prior to the connecting process
    • H01L24/06Structure, shape, material or disposition of the bonding areas prior to the connecting process of a plurality of bonding areas
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2224/00Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
    • H01L2224/01Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/02Bonding areas; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/04Structure, shape, material or disposition of the bonding areas prior to the connecting process
    • H01L2224/04042Bonding areas specifically adapted for wire connectors, e.g. wirebond pads
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2224/00Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
    • H01L2224/01Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/02Bonding areas; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/04Structure, shape, material or disposition of the bonding areas prior to the connecting process
    • H01L2224/05Structure, shape, material or disposition of the bonding areas prior to the connecting process of an individual bonding area
    • H01L2224/0554External layer
    • H01L2224/0555Shape
    • H01L2224/05552Shape in top view
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2224/00Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
    • H01L2224/01Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/02Bonding areas; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/04Structure, shape, material or disposition of the bonding areas prior to the connecting process
    • H01L2224/05Structure, shape, material or disposition of the bonding areas prior to the connecting process of an individual bonding area
    • H01L2224/0554External layer
    • H01L2224/0555Shape
    • H01L2224/05556Shape in side view
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2224/00Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
    • H01L2224/01Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/42Wire connectors; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/47Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process
    • H01L2224/48Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process of an individual wire connector
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2224/00Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
    • H01L2224/01Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/42Wire connectors; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/47Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process
    • H01L2224/48Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process of an individual wire connector
    • H01L2224/4805Shape
    • H01L2224/4807Shape of bonding interfaces, e.g. interlocking features
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2224/00Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
    • H01L2224/01Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/42Wire connectors; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/47Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process
    • H01L2224/48Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process of an individual wire connector
    • H01L2224/484Connecting portions
    • H01L2224/4845Details of ball bonds
    • H01L2224/48451Shape
    • H01L2224/48453Shape of the interface with the bonding area
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2224/00Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
    • H01L2224/01Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/42Wire connectors; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/47Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process
    • H01L2224/48Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process of an individual wire connector
    • H01L2224/484Connecting portions
    • H01L2224/48463Connecting portions the connecting portion on the bonding area of the semiconductor or solid-state body being a ball bond

Landscapes

  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Computer Hardware Design (AREA)
  • Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
  • Power Engineering (AREA)
  • Measuring Magnetic Variables (AREA)
  • Wire Bonding (AREA)

Description

【考案の詳細な説明】 本考案は、絶縁基板上に設けられた電極層と、この電極
層に接続されたポンチ゛イング材料層とによって構成さ
れた電極構造に関するものである。
従来、絶縁基板上に回路パターンを蒸着金属によって形
成し、この金属層の一部を引出して電極パッドとなし、
この電極パッドに対しリード線を半田付けするようにし
ている。
ところが素子自体が小型化されると、これに伴なって電
極パッドも小さくなり、半田付けすることは事実上不可
能となることが考えられる。
この場合、半田付けの代りに、半導体素子の組立てに一
般的に用いられているワイヤポンチ゛イングを使用しな
ければならない。
ところが、ワイヤポンチ゛イングを適用しようとすれば
、電極金属の膜厚が1000−150OAと極めて薄い
と、電極金属の強度が不足することになるので、ワイヤ
ボンディング自体も不可能となる。
従ってこのようなときには、電極パッドの下層として、
ポンチ゛イング材料との接着が大きくかつ強度の大きい
例えばA1層を形成しておく必要がある。
Alはポンチ゛イング材料と簡単に接着するが、今度は
電極金属層とA1層との間を電気的に完全に(即ち電気
抵抗がゼロに近くなるように)接続し、この間のオーミ
ックコンタクトを十分にとらなねばならない。
しかしながら、現実問題として電気抵抗がゼロに近くな
るように電極金属層とAIとを完全に接続することは非
常に難しく、両者の接触抵抗のバラツキによって製品の
歩留り、信頼性が悪化する恐れがある。
本考案は上述の如き実情に鑑みて考案されたものであっ
て、冒頭に述べた電極構造において、(a)前記絶縁基
板上に設けられ、(例えばストライプ状又はメツシュ状
等の長い縁辺を有する)第1のボンディング予定部を有
する第1の層(例えば回路内の一電位を有するNi−C
0合金薄膜)。
(b)、前記絶縁基板上に設けられ、前記第1のポンチ
゛イング予定部に隣接した(例えば第1のボンディング
予定部間に露出しかつストライプ状又は網目状の縁辺を
有する)第2のボンディング予定部を有する第2の層(
例えば第1の層下に形成されたA1層)。
を夫々具備し、前記第2のポンチ゛イング予定部が、(
C)前記第1のボンディング予定部よりも強度が大きい
こと。
(d)前記ボンディング材料と良好に接着する(或いは
なじむ)こと。
を夫々構成とし、前記第1のポンチ゛イング予定部と前
記第2のボンディング予定部との双方に互って前記ボン
ディング材料層が接続されていることを特徴とする電極
構造に係るものである。
このように構成することによって、ボンディングを極め
て良好に行ない得ると共に、接触抵抗を全く無視するこ
とができて歩留り及び信頼性が向上する。
次に本考案を強磁性体金属磁気抵抗素子(以下DMEと
略す。
)に適用した実施例を図面に付き述べる。
第1図〜第3図は本考案の第1の実施例を示すものであ
る。
まず本実施例によるDMElの構成を説明すると、絶縁
基板2上にはジグザグ状の4つの磁気抵抗素子3,4,
5.6が直列に接続された状態で形成されている。
これらの磁気抵抗素子は長さ方向が互いにほぼ直交する
ように配され、Ni−Co合金を全面に蒸着してからフ
ォトリトグラフィー技術により所望のパターンに形成さ
れたものである。
そして磁気抵抗素子3,4間及び5,6間には入力端の
電極7及び9が櫛歯状に夫々取出され、また電磁変換素
子3,6間及び4,5間には出力側の電極10及び8が
櫛歯状に夫々取出されている。
電極7〜10に対しては既述したようなワイヤボンディ
ングが施されるが、磁気抵抗素子3〜6を構成している
Ni−Co合金の膜厚が1000〜1500 Aと非常
に薄く、従って電極7〜10も1000〜1500 A
と非常に薄いものであるから、強度が不足していて直接
ワイヤボンディングすることは不可能である。
このため、電極7〜10の下層として膜厚が7000〜
12000 Aの比較的柔かいA1層11,12,13
゜14が予めほぼ三角形状に絶縁基板2に被着されてい
る。
この場合、A1層11〜14の上面に各電極7〜10が
夫々延在し、オーバーラツプして被着されており、電極
7〜10の櫛歯部15,16,17.18間にA1層1
1〜14の一部分が存在した状態になっている。
櫛歯部15〜18は夫々ストライプ状の縁辺を有してお
り、第2図に一点鎖線で示すようにワイヤボンディング
部19が形成される。
このワイヤボンディング部は電極7〜10の各櫛歯部1
5〜18とこの間に存在しているA1層11〜14の一
部分とに亙ってほぼ円形状に形成される。
従ってワイヤボンディング部19は電極7〜10とA1
層11〜14との双方に対し接着しており、これによっ
て接着力は強度が大で接着性の良いA1層11〜14で
主としてかせいでいる。
この状態では櫛歯部15〜18が薄くて強度が小さいも
のであっても、ワイヤポンチ゛イング部19は櫛歯部1
5〜18を含んでA1層11〜14側と主に接着するか
ら、電極7〜10に対してワイヤボンディングを強固に
行なうことが可能である。
然も量要なことに、ワイヤボンディング部19は電極7
〜10及びA1層11〜14の双方に接着しているから
、これらの間の接触抵抗は殆んど問題にならず、ワイヤ
ポンチ゛イング部19によって両者が良好に接続される
ことになる。
また第2図に明示したように、電極7がAI層11と重
なり合う端部において、AI層11に予め凹凸状の平面
形状を有する段差20が設けられ、この段差の下側から
上側にかけて電極7が被着形成されている。
段差20の存在によってAI層11のエツジにおいて電
極7が段切れを起こすことが有効に防止される。
以上説明したことから明らかなように、DMElは素子
として非常に小型であるにも拘らず、電極7〜10が薄
くても接着力はA1層11〜14でかせぐようにしてい
るので、ポンチ゛イング材料が強力に固着し、またこの
ポンディ、ング材料の存在によって電極7〜10とA1
層11〜14との接触抵抗の問題を無視することができ
る。
従って製品の歩留り及び信頼性が向上する。
なお本実施例においては、電極のストライプ状の櫛歯部
15〜18の位置にボンディング部19が形成されるが
、このボンディング19はA1層上の電極全体を覆って
しまうと却ってボンディングに逆効果となるので望まし
くはなく、またボンディング部19の中心位置Pは櫛歯
部15〜18の中間部分にあるのが好ましい。
なお本実施例によるDMEl自体は本出願人が既に提案
した特願昭48−79655号に係る磁電変換素子の特
性を有しており、磁界をかけることによりこの磁界の方
向に応した出力電圧が得られ、また磁界の方向が各磁気
抵抗素子3〜6の長さ方向に対し45°の角度をなして
いる場合には出力電圧はゼロとなる。
このDMElは無刷子モータのロータ位置検出や他のス
イッチング素子、磁界方向検出等に応用可能である。
次に本考案の第2の実施例を第4図及び第5図に付き述
べる。
本実施例では、N1−co合金からなる電極27を櫛歯
状に設けた点は前記第1の実施例と類似してはいるが、
その櫛歯部25間においてAI層21がやはり櫛歯状に
交互に形成されている。
従って前記第1の実施例のようにA1層上に電極が存在
しているのではなく、櫛歯状のA1層と電極とが交互に
配置された状態となっている。
そして一点鎖線で示す位置にワイヤボンディング部29
が固着される。
これによっても、ボンディング材料との接着はAI層2
1の櫛歯部により十分なものとなり、回路との電気的接
続は電極27で行なえ、然もAI層21と電極27との
接触抵抗による影響が殆んど現われなくなる。
また電極27の櫛歯部25はA1層21間に存在してい
るがら、電極27に対するボンディング材料の密着状態
はより強固となる。
然も電極27とA1層21とは重なり合っているがら、
電極27の段切れの問題は生じない。
なお電極27とA1層21とは図示のように接し合う必
要はなく、これらの間に一定の間隙を具備せしめた状態
でボンディングを行なうようにしてもよい。
また電極27の櫛歯部25の端部はAI層21の上面に
まで及び、部分的にこれらが重なり合うようにしてもよ
い。
次に本考案の第3の実施例を第6図に付き述べる。
本実施例では、前記第2の実施例と同様に電極とA1層
とは重なり合っていないが、電極37はメツシュ状に形
成され、このメツシュ状電極の各網目部分と周辺にAI
層31が互いに分離した状態で存在している。
そしてワイヤボンディング部39は一点鎖線で示す位置
に固着し、網目状のA1層31と強力に接着すると共に
、メツシュ状の電極37とは電気的に接続されている。
なお製造に当っては、まずAI層31を網目状に形成し
てがら、A1層31の周りを囲むように電極金属を被着
すればよい。
以上本考案を実施例に基いて説明したが、本考案の技術
的思想に基いて更に変形が可能であることが理解されよ
う。
例えば電極のボンディング部及びA1層の形状は円形、
角形等様々に変化させてよいし、A1層の代りにAu等
のように比較的柔かくてボンディング材料となじみのよ
い他の金属を使用することもできる。
また前記実施例ではA1層はどの動作部とも接続されて
いないが、接続されている場合でも全く支障はなく、電
極金属とA1層との接触抵抗の問題なしに両金属層をワ
イヤーポンチ゛イングにより接続することが可能である
なお本考案はDMEに限らず、一般の半導体素子にも応
用できることは勿論である。
本考案は上述の如く、第1のポンチ゛イング予定部より
強度が大きく、ボンディング材料と接着性の良い第2の
ボンディング予定部と第1のボンディング予定部とを互
いに隣接させ、これら両ボンディング部に互ってボンデ
ィング材料層を固着させているので、第2のボンディン
グ予定部によってボンディング材料との接着をがせげる
ので、ボンディングを極めて良好に行なえる。
然もポンチ゛イング材料は第1及び第2のボンディング
予定部に互っているから、これら両ボンディング予定部
間の接触抵抗を全く無視しても電気的導通を良好に行な
え、歩留り及び信頼性が向上する。
【図面の簡単な説明】
図面は本考案をDMEに適用した実施例を示すものであ
って、第1図は第1の実施例によるDMEの平面図、第
2図はそのDMEの電極部分の拡大平面図、第3図は第
2図におけるIII−III線断面図、第4図は第2の
実施例によるDMEの電極部分の第2図と同様の拡大平
面図、第5図は第4図における■−V線断面図、第6図
は第3の実施例によるDMEの第2図と同様の拡大平面
図である。 なお図面に用いられている符号において、7,8゜9.
10は電極、11.12,13.14はA1層、19は
ワイヤボンディング部、21はA1層、27は電極、2
9はワイヤボンディング部、31はA1層、37は電極
、39はワイヤボンディング部である。

Claims (1)

  1. 【実用新案登録請求の範囲】 絶縁基板上に設けられた電極層と、この電極層に接続さ
    れたポンチ゛イング材料層とによって構成された電極構
    造において、 (a)前記絶縁基板上に設けられ、第1のポンチ゛イン
    グ予定部を有する第1の層。 (b)前記絶縁基板上に設けられ、前記第1のボンディ
    ング予定部に隣接した第2のボンディング予定部を有す
    る第2の層。 を夫々具備し、前記第2のボンディング予定部が、(C
    )前記第1のポンチ゛イング予定部よりも強度が大きい
    こと。 (d)前記ボンディング材料と良好に接着すること。 を夫々構成とし、前記第1のボンディング予定部と前記
    第2のボンディング予定部との双方に亙って前記ボンデ
    ィング材料層が接続されていることを特徴とする電極構
    造。
JP1976144191U 1976-10-27 1976-10-27 電極構造 Expired JPS5814605Y2 (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP1976144191U JPS5814605Y2 (ja) 1976-10-27 1976-10-27 電極構造

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP1976144191U JPS5814605Y2 (ja) 1976-10-27 1976-10-27 電極構造

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JPS5360765U JPS5360765U (ja) 1978-05-23
JPS5814605Y2 true JPS5814605Y2 (ja) 1983-03-23

Family

ID=28752834

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP1976144191U Expired JPS5814605Y2 (ja) 1976-10-27 1976-10-27 電極構造

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JPS5814605Y2 (ja)

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2004014567A (ja) * 2002-06-03 2004-01-15 Murata Mfg Co Ltd 磁電変換素子
JP2009271081A (ja) * 2009-08-03 2009-11-19 Murata Mfg Co Ltd 磁気センサ

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2004014567A (ja) * 2002-06-03 2004-01-15 Murata Mfg Co Ltd 磁電変換素子
JP2009271081A (ja) * 2009-08-03 2009-11-19 Murata Mfg Co Ltd 磁気センサ

Also Published As

Publication number Publication date
JPS5360765U (ja) 1978-05-23

Similar Documents

Publication Publication Date Title
NL8520325A (nl) Magneto-elektrische transducent.
JP2003502870A (ja) 圧電アクチュエータ
JP3351402B2 (ja) 電子素子、弾性表面波素子、それらの実装方法、電子部品または弾性表面波装置の製造方法、および、弾性表面波装置
JPS5814605Y2 (ja) 電極構造
WO2002087080A1 (en) Surface acoustic wave device and its manufacture method, and electronic part using it
JP3573894B2 (ja) 半導体装置及びその製造方法
JPH0491508A (ja) 弾性表面波デバイスとその製造方法
WO2020241820A1 (ja) 配線電極
JP3036324B2 (ja) 電子部品とその製造方法
KR100484078B1 (ko) 탄성 표면파 장치 및 그 제조 방법과 이것을 이용한 전자부품
JP2570968B2 (ja) 半導体装置用リードフレーム
JPH09214280A (ja) 弾性表面波素子
JP5078194B2 (ja) 液晶表示装置の構造
JPH02203612A (ja) 弾性表面波素子の製造法
JPS6119215A (ja) 圧電振動子の電極構造
JPS605630Y2 (ja) 弾性表面波装置
JPS63110583A (ja) リ−ド線の接続補強方法
JPS63169746A (ja) 半導体装置
JP4799916B2 (ja) チップ抵抗器
JP2812994B2 (ja) 積層型変位素子
JP3292014B2 (ja) 弾性表面波フィルタ
JP2674088B2 (ja) 磁気センサ
JPH09102637A (ja) 磁電変換素子
JPH0918067A (ja) 磁電変換素子およびその製造方法
JPH08115949A (ja) 半導体装置