JPS58144474A - スパツタリング装置 - Google Patents

スパツタリング装置

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JPS58144474A
JPS58144474A JP2442582A JP2442582A JPS58144474A JP S58144474 A JPS58144474 A JP S58144474A JP 2442582 A JP2442582 A JP 2442582A JP 2442582 A JP2442582 A JP 2442582A JP S58144474 A JPS58144474 A JP S58144474A
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JP
Japan
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sputtering
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JP2442582A
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Hideo Matsuzaki
松崎　英夫
Masanobu Nakamura
正信 中村
Yojiro Takabe
高部　洋二郎
Ryoji Oritsuki
折付　良二
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Hitachi Ltd
Original Assignee
Hitachi Ltd
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    • H—ELECTRICITY
    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
    • H01J37/00—Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
    • H01J37/32—Gas-filled discharge tubes
    • H01J37/34—Gas-filled discharge tubes operating with cathodic sputtering
    • H01J37/3402—Gas-filled discharge tubes operating with cathodic sputtering using supplementary magnetic fields
    • H01J37/3405—Magnetron sputtering
    • H01J37/3408—Planar magnetron sputtering

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