JPS58144371A - カルポスチリル誘導体 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は新規なカルボスチリル誘導体及びその塩に関す
る。

本発明のカルボスチリル誘導体は文献未載の新規化合物
であって、下記一般式（１）で表わされるっＯＲ １ 〔式中Ｒは水酸基、低級アルコ＋シ基又は基υ ＋ル基、低級アルケニル基、低級アル辛ニル基又はフェ
ニル低級ｒ′ル辛ル基を示ｔ０但し基−，−ＣＯＲがカ
ルボスチリル骨格の６位に置換し且つＲが水酸基又は低
級アルコ＋シ基を示す場合には、Ｒは水素原子であって
はならない、〕体及びその塩は、心筋の収縮を増強する
作用（陽性変力作用）、冠面流量増加作用及び降圧作用
を有し、例えばうっ血性心不全、僧帽弁膜症、心房性細
動、粗動、発作性心房性頻脈等の各種心臓疾患の治療の
ための強心剤として有用な後記一般式（２６）で表わさ
れる化合物を合成するための中間体として有用である。

本明細書において、低級アル＋ル基としては、メチし、
エチル、ＪＪＯヒル、イソづＤビル、ブチル、ｔｅｒｔ
−ブチル、ペンチル、へ＋シル等の炭素数１−６のアル
＋ル基を例示できる。

ペンチルオ＋シ、へ＋シルオ士シ等の炭素数１−・：、
。

６のアル］牛シ基を例示できる。

低級アルケニル基としては、ビニル、アリル、２−ブテ
ニル、３−づテニル、■−メチルアリル、２−ペンテニ
ル、２−へ＋セニを等の炭素数２−６のアルケニル基を
例示できる。

低級アルｊξ基として杜、エチニル、２−づ〇じニル、
２−ブチニル、３−ブチニル、１−メチル−２−づ０ビ
ニル、２−ペンテニル、２−へ十シニル等の炭素数２−
６の！ルーニル基を例示できろう フェニル低級アル牛ル基としては、ベンジル、２−フェ
ニルエチル、１−フェニルエチル、３−フェニルづＯヒ
ル、４−フェニルブチル、１．１−ジメチル−２−フェ
ニルエチル、５−フエニもペンチル、６−フェニルへ＋
シル、２−メチル−３−フェニルづ０ヒル等のアル中ル
部分の炭素数が１−６であるフェニルアル＋ル基を例示
できる。

一般式（１）で表わされるカルボスチリル誘導体のうち
Ｒが水酸基を、示す化合物（即ち一般式（１ａ）の化合
物）は、例えば下記反応行程式−１又け２に示す方法に
より製造されるっ 反応行程式−１ 曝 １ （１ａ） 〔式中Ｒ及びカルボスチリル骨格の３位と４位の炭素間
結合は前記に同じ。Ｒは芳香族Ｊ’、１ｍン残基、Ｘは
ハ０プン原子を示す。〕 上記において一般式（４）の化合物を得る反応は適当な
溶媒中又は無溶媒下に一般式（２）の化合物に芳香族ア
ミン類（３）を反応させることにより行うことが出来る
っ溶媒としては、反囚に影響を与えないのアルコール類
、塩化メチレン、りｏｏホルム、ジグ００メタン等のへ
〇ゲン化炭化水素類、ジエチルエーテル、テトラしドロ
フラン、ジメト＋シエタン等のエーテル類、酢酸メチル
、酢酸エチル等のエステル類、Ｎ、Ｎ−ジメチルホルム
アミド、ジメチルスルホ十シト、へ十サメチルリン酸ト
リアミド等の非づｏトン性極性溶媒、戸七トニトリルな
どが挙げられる。芳香族Ｐミン類としては、ごリジン、
＋ノリン等を例示できろっ該芳香族アミンの使用量は、
一般式（２）の化合物に対して、少なくとも等ｔル、好
ましく大過剰量使用するのがよい。反応温度は、５０−
２００℃好ましくけ７０−１５０°Ｃであ抄、反応は３
−１０時間で終了するっまた上記によ抄得られる一般式
（４）の化合物の加水分解反応は、水中、水酸化ナトリ
ウム又は水酸化カリウムのような無機塩基類を用いて室
温−１５０°Ｃドに１−１０時間程度を要して行なわれ
る。

反応行程式−２ （５）　　　　　　　　　　　　　（６）〔式中Ｒ”　
、Ｘ及びカルボスチリル骨格の３位と４位の炭素間結合
は前記に同じ。〕 一般式（５）の化合物とハ０プンとの反応は通常溶媒中
で行なわれる。用いられる溶媒としてはテトラヒドロフ
ラン、ジオ＋寸ｙ等のエーテル類、酢酸、づ０ピオン酸
等のカルボン酸類、ベンピン等の芳香原炭化水素類、ジ
メチしホルムＰミド、ジメチルスル本＋シト等を例示で
きる。該反応に於ては副生するへ〇ゲン化水素を除去す
るために脱酸剤として炭酸カルシウム等を添加してもよ
いっ一般式（５）の化合物とへ〇ゲンとの配合割合は特
に限定されず広い範囲内で適宜選択されるが、通常前者
に対して後者を２−５倍七ル、好ましくは２−３倍℃ル
量用いるのがよいっ該反応は通常０−５０°Ｃで行なう
のがよく、通常数時間−２４時間程度で反応は終了する
っ 一般式（６）の化合物から一般式（１ａ）の化合物を得
る反応は塩基性化合物の存在ド水溶媒中にて行なうのが
よい。塩基性化合物としては公知のものを広く使用でき
、例えば水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、水酸化カ
ルシウム等のアルカリ金属水酸化物もしくはアルカリ土
類金属水酸化物等を挙げることができる。塩基性化合物
の使用量としては特に限定されず広い範囲内で選択され
るが、一般には一般式（６）の化合物に対して２倍℃ル
ー大過剰量使用するのがよい。該反応は通常５〇−１５
０℃、好ましくは７０−１２０℃で行なうのがよく、通
常１−１２時間程蜜で反応は終了する。

上記反応行程式−１及び−２において、原料として用い
られる一般式（２）及び（５）の化合物は新規化合物を
包含しており、例えば下記反応行程式−３゜−４に示す
方法に従い製造される。

反応行程式−３ ００（１→ 〔式中　Ｒ，Ｘ及びカルボスチリル骨格の３位と４位の
炭素間結合は前記に同じ、Ｘ　は水素原子又はへ〇プン
原子を示す。〕 一般式（７）の化合物と一般式（８）もしくは一般式（
９）の化合物との反応は一般にフリーずルークラフッ反
応と呼ばれるものであり、この反応は溶媒中ルイス酸の
存在下に行なわれる。この際使用される溶媒としてはこ
の種の反応に通常使用されるものが有利に用いられ、例
えば二硫化炭素、ニドＯベンゼン、り０ルベンぜン、ジ
グ０ルメタン、ジグ０ルエタン、トリクロルエタン、テ
トラクロルエタン等が例示される。更にルイス酸も従来
使用されているものが好適に用いられ、例えば塩化アル
三ニウム、塩化亜鉛、塩化鉄、塩化錫、三臭化硼素、三
弗化硼素、濃硫酸等が使用され得る。ルイス酸の使用量
は適宜に決定すれば良いが、通常一般式（７）の化合物
に対して２−６倍モル程度、好ましくは３−４倍モル程
度が用いられるっ一般式（８）の化合物もしくは一般式
（９）の化合物の使用量は、一般式（７）の化合物に対
して通常少なくとも等七ル暇桿度、好ましくは等℃ル軟
−３倍ｔル量が用いられろう反応温度は適宜選択される
が通常２０−１２０°Ｃ程度、好ｔ　Ｌ、＜４４４０−
７０’０４１度とするのがよい。該反応の反応時間は原
料、触媒、反応温度等により異なり一概にはぎえないが
、通常０．５−２４時間程度にて反応は終了する。

〔式中Ｘ及びＸｌは前記に同じっＲ１／は低級アルナル
基、低級アルケニル基、低級アル千ニル基又はフェニル
低級アル＋ル基を示す。Ｒ３は水素原子又は低級アルナ
ル基を示す。〕一般式Ｇカの化合物と一般式（８）又は
（９）の化合物との反応は、前記一般式（７）の化合物
と一般式（８）又は（９）の化合物との反応と同様にし
て行なうことができる。但し、反応温度としては、通常
−５０−１２０″Ｃ程度、好ましくは０−７０°Ｃ程度
とするのがよい。また反応時間は原料、触媒、反応温度
等により異なり一概には言えないが、通常０．５−２４
時間程度にて反応は終Ｔする。

化合物０のニド０化反応は、通常の芳香族化合物のニト
ロ化反応条件Ｆで例えば無溶媒もしくは適当な不活性溶
媒中ニトロ化剤を用いて行なわれる。不活性溶媒として
は例えば酢酸、無水酢酸、濃硫酸等を、またニトロ化剤
としては例えば発煙硝酸、濃硝酸、混酸（硫酸、発煙硫
酸、リン酸又は無水酢酸と硝＃）、硝酸カリウム、硝酸
ナトリウム等のアルカリ金属硝酸塩と硫酸等を夫々例示
できる。上記ニド０化剤の使用量は、原料化合物に対し
等モル以上通常過剰量とすればよく、反応は通常−３０
°Ｃ−室温付近、好ましくは一３０°Ｃ前後にて５分−
４時間で実施される。

一般式Ｑ４のヘンｔ！シ誘導体を還元及び閉環して一般
式（至）のカルボスチリル誘導体とする。この反応は、
■適当な溶媒中接触還元触媒を用いて還元するか、又は
■適当な不活性溶媒中、金属もしくけ金属塩と酸又は金
属もしくは金属塩とアルカリ金属水酸化物、硫化物、ア
ンモニウム塩等との混合物等を還元剤として用いて還元
するととくより行なわれる。■の接触還元を用いる場合
、使用される溶媒としては、例えば水、酢酸、メタノー
ル、エタノール、イソづ０パノール等のアルコール類、
へ十サン、シフ０へ＋サン等の炭化水素類、ジエチＬｔ
：、Ｉクリコールジメチルエーテル、ジオ十すン、ＴＨ
Ｆ、ジエチルエーテル等のエーテル類、酢酸エチル、酢
酸メチル等のエステル類、ＤＭＦ等の非づ０トン性極性
溶媒等が挙げられる。使用される接触還元触媒としては
、例えばパラジウム、パラジウム−黒、パラジウム−炭
素、白金、酸化白金、唾り０ム酸銅、ラネーニッケル等
が用いられる。触媒の使用量としては、化合物α祷に対
して０．０２−１．００倍型重量いるのがよい。該反応
は、−２０−１００°Ｃ１好ましくは０−５０°Ｃ１水
素圧は１−１０気圧にで一般に０．５−１０時間程度で
終了するっ尚該反応においては、反応系内に水酸化ナト
リウム、水酸化カリウム等の塩基性化合物を存在させる
ことにより反応が有利に進行する。

また■の方法を用いる場合、鉄１．亜鉛、錫もしくは塩
化第一錫と塩酸、硫酸等の鉱酸、又は鉄、硫酸第一鉄、
亜鉛もしくは錫と水酸化ナトリウム等のアシカリ金属水
酸化物、硫化アンモニウム等の硫化物、アンモニア水、
塩化アンモニウム等のアンモニウム塩との混合物を還元
剤として使用される。使用される不活性溶媒としては、
水、酢酸、メタノール、エタノール、ジオ十すン等を例
示できる。上記還元反応の条件としては用いられる還元
剤によって適宜選択すればよく、通常−５０−１００℃
において反応は進行し、０．５−１０時間程度で反応は
終了する。例えば塩化第一錫と塩酸とを還元剤として用
いる場合有利には−２０−５０℃付近にて反応を行なう
のがよい。還元剤の使用量としては、原料化合物に対し
て少なくとも等ｔル量、通常は等℃ルー３倍℃ル量用い
るのがよい。上記反応においては、一般式Ｑ４の化合物
がまず還元剤によ抄ニド０基がアミノ基に変換されて一
般式 〔式中Ｒ３及びＸは前記に同じ。〕で表わされるベンぜ
ン誘導体が生成し、次いでこの化合物が閉環されて一般
式（至）のカルボスチリル誘導体が生成するものと考え
られる。捷た化合物０４を還元するに当り、上記■の場
合にはカルボニル基は変化を受けないが、■の場合には
ガルボニル基はメチレン基に変換される場合があるうし
かし反応条件を適当に選択することによりカルボニル基
をその′！ま維持することも勿鍮可能であろう一般式ａ
つの化合物と一般式〇Ｑの化合物の反応は、例えば塩基
性化合物の存在ド適当な溶媒中にて行なうのがよい。こ
こで塩基性化合物としては例えば水素化すトリウム、ガ
リウム、ナトリウム、ナトリウムアミド、カリウムアミ
ド等を挙げることができる。また溶媒としては例えばジ
オ＋すン、ジエチしンジリコールジメチルエーテル等の
エーテル類、トルニジ、↑シしン等の芳香族炭化水素類
、ジメチルホルムアミド、ジメチルスルホ＋シト、へ＋
寸メチルリン酸トリア三ド等を挙げることができる。一
般式＜ＬＤの化合物と一般式αＱの化合物の使用割合は
特に限定がなく広い範囲内で適宜選択でき、通常前者に
対して後者を少なくとも等℃ル程度以上、好ましくけ環
上も一２倍七ル桿度用いるのがよい。該反応は通常０−
７０°Ｃ程度、好ましくは０°Ｃ−室温付近で行なわれ
、一般に０．５−１２時間程度で反応は終ｒする２゜ま
た一般式（１）の化合物のうちある種のものは下記反応
行程式−５，−６に示す方法により製造されるっ 反応行程式−５ ／ｖＯ２ ０嗜 （１ｂ） 〔式中Ｒ及びＸは前記に同じ。〕 一般式（至）の化合物のニドｏ化は、前記反応行程式−
４における一般式（至）のニドｏ化と同様にして行なう
ことができる。但し、反応温度としては、好ましくは一
１０’Ｃ−室温付近とするのがよい。

一般式Ｑ１の化合物を還元及び閉環して一般式（１ｂ）
の化合物を得る反応は、前記一般式〇４の化合物から一
般式αυの化合物を得る反応と同様の条件Ｆに行なうこ
とができるっ該反応においては、一般式０９の化合物が
まず還元剤によりニド０基がＰ三ノ基に変換されて一般
式 セン誘導体が生成し、次いでこの化合物が閉環されて一
般式（１ｂ）のカルボスチリル誘導体が生成するものと
考えられる。

反応行程式−６ （１ｔ） 〔式中Ｒ３及びＸは前記に同じっＲ４は低級アル＋ル基
を示す。〕 中にて行なわれるうこの脱ハロゲン化水素剤としてけ通
常の塩基性化合物が用いられ、塩基性化合物としては公
知のものを広く使用でき、例えばトリエチルＰ三ン、ト
リメチルＰミン、ヒリジン、ジメチルアニリン、Ｎ−ヌ
チル七し率リン、４−ジメチルアミノじリジン、１，５
−ジアザじシフＤ（５，４，０）−ウンデセン−５（Ｄ
ＢＵ）、１，４−シアずじシクロ（２，２，２〕〕オク
タシＤＡＢＣＯ）、■、５−ジアザじシフｏ　Ｃ４，３
，０）ノネン−５（７）ＲＩＶ）等の有機塩基、炭酸ガ
リウム、炭酸ナトリウム、炭酸水素ＩＪツリウム炭酸水
素ナトリウム、水酸化すｌ−リウム、水酸化カリウム、
水素化ｔ　）リウム、水素化カリｒ’）ム、炭＃銀等の
無機塩基、ナトリウムメチラート、１１−リウムエチラ
ート等のＰルコラート等を挙げることができるっ尚、化
合物（財）を過＠汝使用して税１八〇プｙ化水素剤と１
７で兼用できる。っ溶媒としては、例えば塩化メチｌフ
シ、りｎｏホルム、ジグ［］０１９：）等のハＯグン１
１′、炭イし水素類、メタノール、エタノ−訃、−ｊ　
Ｄパノール、づタノール、３−ヌト＋シー１−づタノー
ル、エチルセＤソルプ、メチル上０ソルプ等のアルコー
ル類、ジエチルエーテル、テトラしドＯフうン、ジメト
＋シエタシ等のエーテル類、酢酸メチル、酢酸エチル等
のエステル類、Ｍ、■−ジメチルホルムア三ド、ジメチ
ルスル木＋シト、へ十ケメチルリン酸トリＰミド等の非
づＯトン性極性溶媒、ヒリジン、ア七トン、アセトニト
リル等又はＬ記溶媒の二つ以上の混合溶媒等を挙げるこ
とができる。一般式（ロ）の化合物と一般式（２）の化
合物との使用割合は特に限定がなく広い範囲内で適宜選
択されるが、通常前者に対１〜て後者を少なくとも等ｔ
ル量程度、好ましくは等′℃ルー５倍ｔル飯用いるのが
よい。該反応は通常−３０−１８０°Ｃ程度、好ましく
は約０−１５０°Ｃにて行なわれ、一般に５分−３０時
間で反応は完結する。

一般式臼の化合物の環化反応は、酸の存在Ｆ無溶媒下で
又は適当な溶媒中くて行なわれる。酸としては特に限定
されず通常の無機酸や有機酸を広く使用でき、具体的に
は塩酸、臭化水素酸、硫酸等の無機酸、塩化アルミニウ
ム、三弗化硼素、四塩化チタン等のルイス酸、ｆ酸、酢
酸、エタンスレホン酸、戸−トルエンスルホン酸等の有
機酸等を例示し得る。これらの酸のうちで塩酸、臭化水
素酸、硫酸等が好ましい。斯かる酸の使用量としては特
に限定されず広い範囲内で適宜選択すればよいが、通常
一般式員の化合物に対して少なくとも等ＩＬ好ましくは
１０−５０倍重量の酸を用いるのがよい。また溶媒とし
ては通常の不活性溶媒を広く使用でき、例えば水、メタ
ノ−Ｖ、エタノ−し、づ０ノ〜ノール等の低級アルコー
ル類、ジオ中サン、テトラしドロフラン等のエーテル類
、べ、ぜう、トルエン等の芳香族炭化水素類、塩化メチ
レン、りＯＯホルム、四塩化炭素等のへＤゲυ化炭化水
素類、アセトン、ジメチルスルホヤシト、ジメチルホル
ムＰミド、へ＋すメチルリン酸トリア三ド等を例示でき
る。これらのうちで前記低級アルコール類、エーテル類
、アセトン、ジメ予ル本ルムアミド、ジメ予ルスル本＋
シト、へ十寸メチルリン酸トリアミド等の水溶性溶媒が
好ましい。該反応は通常０−１００℃、好ましくは室温
−６０℃にて行なわれ、通常５分−６時間Ｓｔで反応は
終ｒする。

また一般式（１）の化合物のうちＲが低級アルコや（１
ｄ）の化合物）は、例えば下記反応行程式−７に示す方
法に１９製造されるっまた一般式（１ｄ）の化合物を加
水分解することにより一般式（１ａ）の化合物に変換す
ることができる。

反応行程式−７ （ｉａ）　　　　　　　　　　　　　　　　　　（ｘｄ
）・一般式（１ａ）の化合物と一般式一の化合物との反
応は、通常のエステル化反応の反応条件をいずれも採用
で季るが、例えば（１）溶媒中脱水剤の存在Ｆ脱水縮合
させるか又は＜’４酸もしくけ塩基性触媒グ）存在Ｆ適
当な溶媒中にて行なわれる１、■の方法においては、使
用される溶ｆ＆、ｌ：しては例えば塩化メチレジ、りＯ
Ｄホルム、ジクＯＤエタン等のハｒｌ′ｆン化炭化水素
類、ベンビン、トルエン、＋シし：Ｊ等の芳香族炭化水
素類、ジエチル１−チル、テトラしドロフラン、ジオ中
サン、ジメト士シＩタン等のエーテル類、Ｎ、Ｎ−ジメ
チしホルムＰミド、ジメチルスルホヤシト、へ＋寸メチ
ルリン酸トリアミド等の非プロトン性溶媒等を例示でき
る。

また脱水剤としては、例えばジシクＤ′＼＋ジルカルボ
ジイミド、カルボニルジイミダリール等を例示できる。

一般式（１ａ）の化合物に対する一般式（財）の化合物
の使用割合は、少なくとも等℃ル、好まし５くは等ｔル
ー１．５倍モル量使用するのがよい、脱水剤の使用量と
しては、一般式（１ａ）の化合物に対して少なくとも等
℃ル、好ましくは等ｔｌｔ、−１，５倍℃ル量使用する
のがよいっ反応温度は通常室温−１５０″Ｃ５好ましく
は５０−　ｔ　ＯＯ’Ｃ伺近で行なわれ、核反応は一般
に１−１０時間で終ｒする。■の方法において１、使用
される酸として珪例えば塩酸ガス、濃硫酸、リン酸、ポ
リリ、ン酸、三弗化硼素、過塩素酸等の無機酸、トリフ
ルオロ酢酸、トリク０ロメタンスルホン酸、ナフタＩノ
ンスルホン酸、戸−トシル酸、ベニｔｔ！ンスルホン酸
、アセトン、ジメチルアセタール等が挙げられる。

また酸性イオン交換樹脂も使用し得る。使用される塩基
性触媒としては、例えば炭酸カリウム、炭酸ナトリウム
、炭酸水素カリウム、炭酸水素ナトリウム、水酸化ナト
リウム、水酸化カリウム、炭酸銀等の無機塩基、ナトリ
ウムメチラート、ナトリウムメチラート等のアルコう一
ト等を挙げることができる。該反応は無溶媒または溶媒
の存在Ｆにて行なわれる。溶媒としては、エステル化反
応に慣用の溶媒が用いられ、例えばペンせり、トルニジ
、＋シレン等の芳香族炭化水素類、ジクＯＯメタン、ジ
クＯＯエタン、り００ホルム、四塩化炭素等のハロゲン
化炭化水素類、ジエチルエーテも、テトラしドロフラン
、ジオ午寸ン、工予しングリコールｔツメチルエーテル
等のエーテル類等が挙げられる。更に上記反応は無水塩
化カルシウム、無水硫酸鋼、無水硫酸カルシウム、五−
化リン等の乾燥剤の使用により有利に行なわれる。ト記
反応において、一般式（１ａ）の化合物と一般式一の化
合物との使用割合として社特に限定されず広い範囲から
適宜選択することができるが、無溶媒の場合は前者に対
して後者を大過剰用い、溶媒を使用する場合は前者に対
して後者を等℃ルー５倍℃ル、好ましくは等七ルー２倍
℃ル量用いるのがよい。反応温度は特に限定されないが
、通常−２０−２００″Ｃ程度、好ましくはＯ−１５０
℃程度を採用できる。また該反応は、１−１０時間程度
で終了する。

また一般式（ｈｄ）の化合物の加水分解反応は、酸又は
塩基性化合物の存在下水溶液中にて行なうのがよい。使
用される酸としては、塩虜、硫酸等の鉱酸、塩基性化合
物としては、炭酸カリウム、炭酸ナトリウム、炭酸水素
ナトリウム、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム等を例
示できる。酸又は塩基性化合物の使用量は、一般式（１
ｄ）の化合物に対して通常大過料量使用するのがよい。

該反応は、通常室温−２００°Ｃ１好ましくは室温−１
５０’Ｃ付近にて行なうのがよく、一般Ｋ１−１０時間
程度で反応は終了する。

また反応行程式−１における一般式（４）の化合物に塩
基性化合物の存在下無溶媒又は溶媒中にて一般式一の化
合物を反応させることによっても一般式（１ｄ）の化合
物を得るととができる。使用される塩基性化合物として
は前記一般式（２）と四の化合物の反応で使用されるも
のすべて使用することができる。また使用される溶媒と
しては前記一般式（１σ）と−の化合物の反応で使用し
たものすべて使用することができる。一般式（４）の化
合物に対する一般式（財）の化合物の使用割合としては
、無溶媒の場合は前者に対して後者を大過剰用い、溶媒
を使用する場合は前者に対して後者を等℃ルー５倍七ル
、好ましくは等七ルー２倍モル量程度用いるのがよい。

該反応は通常室ｌｌ−２００°Ｃ１好ましくは室温−１
５０℃程度で行なうことができ、反応は一般に３０分−
５時間程度で終了する。塩基性化合物の使用量としては
、一般式（４）の化合物に対して少なくとも触媒量、好
ましくは０．９−１．５倍ｔル量使用するのがよい。

反応行程式−８ こ式中Ｒ及びＲは前記に同じ。〕 一般式（１ｆ）の化合物の還元には通常の接触還元条件
が適用される。用いられる触媒としては１〜ラジウム、
１へラジウム−炭素、プラチナ、ラネーニッケル等の金
属を例示でき、斯かる金属を通常の触媒量で用いるのが
よい。また用いられる溶媒としては例えに水、メタノー
ル、エタノール、イソプロパノール、ジオ牛サン、ＴＨ
Ｆ、へ＋サン、シフ０へ士サン、酢崎エチル又はこれら
の混合溶媒等を挙げることができる。該反応は常圧及び
加圧下のいずれでも行ない得るが、通常常圧−２０＆９
／ｄ、好ましくは常圧−１０幻／ｄにて行なうのがよい
。また反応温度としては通常０−１５０℃程度、好まし
くは室温−ｉ　ｏ　ｏ　’ｃとするのがよい０ また一般式（１ｔ）の化合物の脱水素反応は、適当な溶
媒中酸化剤を使用して行なわれる。用いられる酸化剤と
しては例えば２，３−ジクｏＯ−５．６−ジシアツベン
リ牛ノン、りＯ７５ニル（２，３，５，６−チトラク０
０ベンリ↑ノン）等のベニ、Ｉり十ノン類、■−プ０℃
コハク酸イ三ド、■−りＯＯコ八へ酸イミド、臭素等の
へ０ゲン化剤、二酸化セレン、パラジウム炭素、パラジ
ウム黒、酸化１へラジウム、ラネーニッケル等の脱水素
化触媒を挙げることができる。酸化剤の使用量としては
特に＠定されず広い範囲から適宜選択すればよいが、へ
〇プン化剤の場合には通常一般式（１１）の化合物に対
して通常１−５倍℃ル量、好ましくは１−２倍ｔル量使
用するのがよく、また脱水素化触媒の場合には通常過剰
量用いるのがよい。また溶媒としてはジオ牛サン、テト
ラしドロフラン、メト辛ジェタノール、ジメト士シエタ
ン等のエーテル類、ペンぜン、トルエン、↑シレン、ク
メン等の芳香族炭化水素類、ジクｏｏメタン、ジグ００
エタン、りＯＯホルム、四塩化炭素等のハ０プン化炭化
水素類、フタノール、アミルアルコール、へ＋サンへ十
寸メチルリン酸トリ！三ド等の極性非づ〇トン溶媒類等
を例示できる。該反応は通常室温−３００°Ｃ１好まし
くは室温−２００℃にて行なゎれ、一般に１−４０時間
程変で反応は終了する。

更に一般式（１）で表わされる化合物のうちＲが水素原
子を示し且つガルボスチリル骨格の３位と４位の炭素間
結合が二重結合である化合物は、下記反応行程式−９に
示すようにラクタムーラクチム型の互変異性をとり得る
。

反応行程式−９ （１ｆ）　　　　　　　　　　　　Ｃ１ｋ　）〔式中Ｒ
Ｆｉ前記に同じ。〕 反応行程式−１０ １′ 〔式中Ｒ，Ｒ，Ｘ及びカルボスチリル骨格の３位と４位
の炭素間結合は前記に同じ。〕一般式（１１）の化合物
と一般式Ｑｅｉの化合物との反応は、前記一般式（至）
の化合物と一般式顛の化合物との反応と同様の条件下に
行なうことができる。

また本発明の一般式（１）で表わされるカルネスチリル
誘導体のうち酸性基を有する化合物は、医薬的に許容さ
れる塩基性化合物を作用させることにより容易に塩を形
成させることができろう＃塩基性化合物としては、例え
ば水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、水酸化カルシウ
ム、炭酸ナトリウム、炭酸水素カリウム等を挙げること
ができる。

斯くして得られる各々の行程での目的化合物は、通常の
分離手段により容易に単離精製することができる。該分
離手段としては、例えば溶媒抽出法、稀釈法、再結晶法
、カラムク０マドシラフイー、プレバラテイプ薄層りＯ
マドグラフィー等を例示できる。

尚本発明は光学異性体も当然に包含するものであるっ 本発明の一般式（１）で表わされるカルボスチリル誘導
体は、下記反応行程式−１１に示す方法に従い強心剤と
して有用な一般式（至）で表わされるカルボスチリル誘
導体に誘擁することができる。

反応行程式−１１ 〔式中Ｒは低級アル＋ル基、フェニル環上に１１） ｆｔ置換基してハロゲン原子、低級アルコ十シ基及び低
級アル＋ル基なる群から選ばれた基を１−３個もしくは
低級アル＋しンジオ十シ基を有することのあるフェノや
シ低級アル＋ル基又はフェニル環上に置換基として低級
アル十ル基、低級アルコ＋シ基、ハロゲン原子、ニドＤ
基、！三ノ基、低級アルカノイル！三ノ基及び低級アル
＋ルチオ基なる群から選ばれた基を１−３個もしくは低
級アル＋レンジオ＋シ基を有することのあるフェニル低
級アル＋ル基を示す。ＲｌＲ及びカルボスチリル骨格の
３位と４位の炭素間結合は前記に同じ。〕 一般式（１）の化合物と一般式（２）の化合物との反応
には、通常のアミド結合生成反応をいずれも適用できる
が例えば混合酸無水物法や活性エステル法を採用できる
。

混合酸無水物法において、用いられる混合酸無水物は通
常のシ３ツテンーバウマン反応により得られ、これを通
常電離することなく化合物（至）と反応させることによ
り一般式（至）の化合物が製造される。ショツテン−バ
ウマン反応は通常ショツテン−バウマン反応に慣用の塩
基性化合物例えばトリエチルアミン、トリメチルアミン
、じリジン、ジ５．４．０　）ウンデセン（ＤＢＵ　）
、■、４−ジアザじシフｏ〔２，２，２〕オｙりｙ　（
ＤＡ　Ｂ　Ｃ’　）等Ｏ有＊＊基及び炭酸カリウム、炭
酸ナトリウム、炭酸水素カリウム、炭酸水素ナトリウム
等の無機塩基の存在ド、約−２０−１００°Ｃ好ましく
は〇−５０゛Ｃにおいて、約５分−１０時間好ましくは
５分−２時間を要して行われる。得られた混合酸無水物
と化合物（ハ）との反応は、約−２０−１５０°Ｃ好ま
しくは１０−５０°Ｃにおいて約５分−１０時間好まし
くは約５分−５時間を要して行われる。

また上記混合酸無水物は一般にこの種混合酸無水物法に
慣用の溶媒、具体的には塩化メチレン、りＯＯホしム、
ジクＯＯエタン等のへＤＰｆｙ化炭化水素類、ベンセン
、トルエン、＋シレン等の芳香族炭化水素類、ジエチル
エーテル、テトラしドロフラン、ジメト士シエタン等の
エーテル類、酢酸メチル、酢酸工予ル等のエステル類、
■、■−ジメーチル本ルム戸ミド、ジメチルスルホ＋シ
ト、へ十すメチルリン酸トリア三ド等の非づｏトン性極
性溶媒などの適当な溶媒中又は非存右下で行なわれる。

尚上記混合酸無水物の製造において使用されるアル＋ル
ハ０カルボン酸としてはりｏｏ蟻酸メチル、づ〇七蟻酸
メチル、り００蟻酸エチル、プ〇七蟻酸工予ル、りＯＯ
蟻酸イソづチル等を例示でき、之等は通常カルボスチリ
ル誘導体（１）に対し少なくとも等ｔル量、好ましくは
ム１−２倍モル量用いられる。また化合物（至）の使用
割合は、通常カルボスチリル誘導体（１）　Ｖｃ対して
少なくとも等ｔル好ましくは約１−２倍モルとするのが
好ましい。

活性エステル法に訃いて、例えばに−ヒト０＋シコハク
酸イミドエステルを用いる場合を例にとれば、反応に影
響を与えない適当な溶媒中で行なわれる。該溶媒として
は、具体的には塩化メチしン、り００ホルム、ジクｏｏ
エタン等のへ〇ゲン化炭化水素類、ベンゼシ、トルエン
、士シしン等の芳香族炭化水素類、ジエチルエーテル、
テトラしドロフラン、ジメト＋シエタン等のエーテル類
、酢酸メチル、酢酸エチル等のエステル類、Ｗ、Ｗ−ジ
メチルホルムアミド、ジメチルスルホ士シト、へＶ−サ
メチルリン酸トリアミド等の非づｏトン性極性溶媒など
が挙げられる。っ反応は、Ｏ−１５０゛Ｃ１好ましくは
１０−１００　’Ｏで、５−３０時間で終ｒする。化合
物（２）とＮ−しド０＋シコハク酸イミドエステルとの
使用割合は、後者に対して前者を通常、少なくとも等℃
ル、好ましくは、等ｔルー２倍ｔルとするのが望ましい
。

以下に参考例及び実施例を挙ｉる。

参考例　１ ｍ−アミノ安息香酸１００ｆをエーテル１１に懸濁し、
室温、攪拌ド、β〜エト＋ジアクリル酸り０ライド４４
．６Ｆを滴下する。滴下後４０”Ｃで５時間反応後析出
物を戸数する。結晶を３回水洗し、乾燥してメタノール
よ抄再結晶してｍ−カルボ士シー〃−（β−エトやシア
クリ０イル）アニリン６０Ｆを得る。

−ｐ　　２００．５−２０２．０°Ｃ 無色綿状晶 参考例　２ ３−フェニルづ０じオン酸メチル５０ｆ１り００アｔチ
ルク０ライド５１．６　ｆ　及びジクｏｏメタン２５０
ｓ／の混合物を０℃に冷却する。０−１０°Ｃで攪拌下
、塩化アルミニウム１２２Ｆを徐々に加える。その後室
温で２時間攪拌する。室温で一夜放置後、反応混合物を
氷１１酸中に注ぎ、２００ホルムで抽出するっり００ホ
ルム層を水洗乾燥して、り００ホルムを留去する。残渣
にイソづ０じルエーテルを加えて結晶化し、結晶を戸数
してエタノールよ抄再結晶して３−（４−り００Ｐセチ
ルフエニル）づＯピオン酸メチル５３．４　ｆ　ｔ−得
る。

ｍ戸　９０．０−９２．０°Ｃ 無色針状晶 参考例　３ ３−（４−９００アセチルフエニル）づ０じオン酸メチ
ＲＪ３６．２６Ｆを濃硫酸３００ｄに溶解し、発煙硝酸
（ｄ　＝１．５２　）　２０．９　Ｆを氷水冷下攪拌し
ながら滴下する。室温で３時間攪拌した後、反応混合物
を氷水中に注ぎ、り００ホルムで抽出するっり００ホル
ム層を水洗、乾燥後、りＯＯホルムを留去する。残渣を
シリカゲルカラムク０マドグラフイーで精製し、エーテ
ルを加えて結晶化するっ結晶を戸数してメタノールより
再結晶して３−（４−カルボ士シー２−二ト０フェニル
）づロピオシ酸メチル２６．７　ｆを得る。

ｍ戸　１２０．０−１２２．０　’Ｃ 淡黄色プリズム晶 参考例　４ り０ｏＰｔチルクｏライド４６７Ｆのジグ００メタン４
００　ｍｌ溶液に３０’Ｃ以下で攪拌下、塩化アルミニ
ウム７３５ｆを１／３づつ加える１次に同温度・攪拌下
刃ルポスチリル２００ｆを加えるっその後６時間加熱還
流する。反応後、反応混合物を氷−濃塩酸中に注ぎ、析
出する結晶を戸数する。

これをメタノール、熱メタノールで洗浄して６−り０Ｏ
Ｆｔチルカルボスチリル１５３Ｆを得る。

母液を濃縮乾固して残渣をシリカゲルカラムクロマドシ
ラフィーで精製して、メタノールより再結晶して８−り
ｏｏアをチルカルボスチリル３５．４１ダを得る。

ｍ戸　１７７．５−１７９．０°Ｃ 淡黄色針状晶 参考例　５ ８−り００アセチルカルボスチリル３ＯＮとじリジｙ　
３００　ｄ　ｔ　ａ　和り、、８０−９０”Ｃで２．５
１１間加熱攪拌する。反応液を氷水冷して析出晶を戸数
する。エーテルで洗浄してメタノールよ抄再結晶して８
−（α−じリジニウムアｔチル）カルボスチリルクロラ
イド４０．８５Ｆを得る。

ｍ戸　２６１．５−２６４．０　’Ｃ（分解）無色針状
晶 参考例　６ ローカルｆｇ＋シー３．４−ジしドリルルポス予リル６
４ダ及びトリエチルアミン６０ｓＩ！ｌをＤＭＦ６００
Ｗｔに溶解し水冷攪拌下り００蟻酸イソづチＬ５１．４
ｇ／を滴下する。室温で１時間攪拌後、４−イソブチル
じペラジン４（ｌのＤＭＦ３０露ｌ溶液全ｌ溶液、その
後室温で５時間４０−５０°Ｃで２時間攪拌する。反応
混合物を氷水４ｅに注ぎ込み、析出晶を炉去し、ろ液を
・・５■−水酸化ナトリウム−クロ０ホルム混合溶媒で
抽出する。有機層を水洗後、硫酸マグネシウムで乾燥す
る。溶媒を留去し、残渣にメタノール／濃塩酸加えて、
塩酸塩とする。水−ア七トンより再結晶して、３０Ｆの
６−（４−イソプ予ルー１−じペラジニルヵルポニル）
−３，４−ジヒドロすルポス予リル・ｌＩ［酸塩を得る
。

ｆＰｌｐ　　２９２−２９３．５℃（分解）無色リシ片
状晶 参考例　７ コへり酸イミド　３，４−ジしドロカルボスチリル−６
−カルボ中シレート１２７４とヘンジルヒペラジン９３
１Ｆとをジメチルホルムアミド２Ｍ／に溶解し、−昼夜
攪拌する。反応混合物に水を加え、り００木ルムで抽出
し、水及び飽和食塩水で洗浄する。硫酸ナトリウムで乾
燥後、溶媒を減圧留去し、残渣にア七トンを加えて結晶
化する。エタノールより再結晶し、、、・て、６−（４
−ベンジル−１−ピペラジニルガルボニル）−３，４−
ジしドロカルボスチリル１３０ｑを得る。

ｍ戸　１９８−２００　”Ｃ 無色針状晶 参考例　８ ｍ−Ｐ三ノ安息香酸メチル２９．５　ｆのジエチル１−
テＬ　３００　ｍｌ溶液に攪拌Ｆ１７−２７℃でβ−エ
ト士ジアクリル酸り０ライド１１．５３　Ｆを滴下する
。滴下後、室温で１時間攪拌し、析出晶を戸数する。エ
ーテル洗浄後、粗結晶をり［］［］ホル乙に溶解し、０
．５／ｖ塩酸、飽和炭酸水素ナトリウム、飽和食塩水で
洗浄する。乾燥後、り００ホルムを留去して、残渣をシ
リｈプルカラムク０マドシラフィーで精製し、ついでメ
タノールより再結晶して、１３．６３　ｆのｍ−メト＋
ジカルボニル−７Ｖ−（β−エト＋シアクリＯイル）ア
ニリンを得る。

ｍ戸　１０８−１１０”ｃ 無色づリスム状晶 実施例　１ （’１６０Ｆの６−（”−７０［］アセチル）ｔ３ルポ
スチリルを０．５＃のじリジンに懸濁し、８〇−９０℃
で２時間攪拌し、続いて水冷下１時間攪拌する。析出晶
を戸数し、メタノールより再結晶し、７０１の６−（α
−じリジニウム？ｔチル）ｔ３ルポスチリルクＯライド
１／２水和物７０ｆを得る。

ｍ戸　３００″Ｃ以上 無色針状晶 （ｂ）６−（α−じリジニウムア七チル）カルボスチリ
ルクロライド６９．７Ｆ及び水酸化ナトリウム６５Ｆを
水０．６１に溶解し、６０−７０°Ｃで３時間攪拌する
。水冷下、反応混合物に濃塩酸を加えて、戸Ｈ峡２とす
るっ析出晶を戸数し、ＤＭＦよ抄再結晶して４１．４Ｆ
の６−カしボやシカルボスチリルを得る。

ｍ戸　３００°Ｃ以上 淡茶色粉末状晶 実施例　２ （ａ）　　酢＃１００１ｄに６−アセｆｎｔ−３，４−
！；’ＣＦＯカルボスチリル１５．１　Ｆを加えて溶解
させ内＠３５−４０℃に保ちつツ、Ｂｒ２Ｎ、２ｍｌを
含む酢・俊１０ゴ溶液を３．５時間を要して攪拌上滴下
する。反応液を一夜放置後析出晶を戸数し、少量の酢酸
で洗浄する。得られた結晶をエタノール溶媒にて活性炭
処理をし、エタノールから再結晶して淡黄色針状晶の６
−ジづ０ｔＦｔチル−３，４−ジヒドロカルボスチリル
１９．５１Ｆを得る。

ｍ戸　１６８−１６９．５°Ｃ （ｂ）水２５０　ｍｌにＮａ０１ｆ　２６ｆを溶解させ
９０−１００″Ｃにて撹拌丁６−ジづｏｔアｔチル−３
，４−ジしドロカルボスチリル３５Ｆを加えて３時間反
応させる。今後、不溶物を戸夫し、母液を濃塩酸にて酸
性とし析出晶を炉取し水洗すしドロカルボスチリル１０
．５　ｆを得ろうｍ戸　３２４．５−３２７℃（分解） 実施例　３ ６−（α−ヒリジニウムアｔチル）−３，４−ジしドロ
力ルポスチリルク０ライド５０ｆ及び水酸化ナトリウム
５０Ｆを水ｌｌに懸濁し、９０−１００°Ｃで３時間攪
拌する。反応終了後濃塩酸を加えてｐＨ約２とし析出晶
を戸数し、ジメチルホルムアミドよ抄再結晶して、６−
カルボ辛シー３．４−ジヒドロカルボスチリル１９．１
　Ｆを得る。

ｍｐ　　３００°Ｃ以上 淡黄色粉末状晶 実施例　４ ６−カルボ士シー３，４−ジしドロカルボスチリル１０
Ｆ及びＭ−ヒ下０＋シコハク酸イミド６、Ｏｆをジオ↑
サン２００ＷＩｔに懸濁させる。つぎに氷冷攪拌Ｆ、ジ
シク０へ中ジルカルボジイミド１２．４ｆの５０ｇ／ジ
オ＋サン溶液を滴ドする。その後さらに９０°Ｃで４時
間加熱攪拌する。反応終了後、室温まで放冷し、析出晶
を炉去し、母液を留去するワジメチル本ルムアミドーエ
タノールより再結晶して、コへり酸イミド　３，４−ジ
ヒドロカルポす予リルー６−カルボ＋シレート１０．８
　Ｆを得る。

ｍ戸　２３４．５−２３６℃ 無色リン片状晶 実施例　５ ｍ−カルボ士シー／Ｖ−（β−エト＋シアクリＯイル）
Ｐニリン８ｇを濃硫酸８０ｇ／に加え、室温で２時間、
続いて５０°Ｃで１時間攪拌する。反応液を水中に注ぎ
、１ＯＮ水酸化ナトリウム水溶液で／ｌＨ３−４に調整
する。析出晶を戸数、水洗してＤＭＦより再結晶して５
−カルボ士シカルボスチリル４．２６ｆを得る。

ｍ戸　３２０°Ｃ以上 淡黄色粉末状晶 ＮＭＲ（ＤＭＳＯ）δ　６．５８　（ｄ　、　／　＝　
９．５　Ｈｇ。

ＩＪ？）、７．４０−７．８０ （肩、３Ｈ）、８．６９　（ｄ。

Ｊ　＝　９．５　Ｈｚ　　、　ｌ　Ｈ）実施例　６ ３−（４−カルボ士シー２−二ト０フェニル）づＯじオ
ン酸メチル５　ｆ　、　２．２２６　／ｖ水酸化ナトリ
ウムメタノール［ｉ８．８７ｍ、メタノール１００−及
び５％Ｐｄ−Ｃ（５Ｑ％含水）１ｆを混和し、常温、常
圧で接触還元する。触媒を炉去し、母液に濃塩酸を加え
戸Ｈ＼１に調整Ｌ、析出する結晶を戸数して、メタノー
ルより再結晶して７一カＶポ士シー１４−ジヒド０カル
ボスチリル３．６２Ｆを得る。

ｍ戸　３２０　’Ｃ以上 無色針状晶 ＰＩＭＲ（ＤＭＳＯ）δ２．３３−２．６０　（ｆｎ、
　２Ｎ　）、２．７７−３．０５　（−、２＃　）、７
．２１　（ｄ　、／　＝８．５Ｍ１　、　ｌ／／）、７
．３８−７．５３　　（−，２Ｎ　）、１０．１５　　
（１、ｌ／／　） 実施例　７ ８−（α−じリジニウムア七チル）カルボスチリレ・り
０ライド３２ｇ、水３００ｍ１及び水峻化ナトリウム３
２１を混和し、８０−９０°Ｃで５時間加熱攪拌する。

反応混合物を活性炭処理し、母液Ｋｄｌ塩酸を加えてｐ
Ｈ３−４に調整する。析出する結晶を戸数して、メタノ
−ルーフ００ホルムよゆ再結晶して８−カルボヤシカル
ポスチリル２０．１７Ｆを得る。

ｍ戸　３２０°Ｃ以上 無色針状晶（メタノ−ルーフ００ホルム）ＮＭＲ（ＤＭ
ＳＯ）δ６．５７　（ｄ、　／　＝９．５Ｈ１，１４）
７．２５　（ｌ、１　＝８．０／／ｊ　、１／ｆ）７．
９４　（ｄ＋ｄ、Ｊ　＝８．０１１１１１．５　ＨＥ　
、　ｌ／／　） ７．９８　（ｄ、Ｊ＝９．５Ｂ１　、１＃）８．１４　
（ｄ＋ｄ＋Ｊ　＝　Ｂ、□　ｇｘ　　。

Ｌ、５Ｈｚ　　、　１／／　） 実施例　８ １−メチル−６−（ｇ−ヒリジニウムＦｔ！チル）−３
，４−ジしド０カルボスチリルク０ライド５２．３ｆ及
び水酸化ナトリウム５０１を水１ｌＫｓ濁し、９０−１
００℃で３時間攪拌する。反応路ｒ後濃塩酸を加えてｐ
Ｈ約２とし析出晶を戸数し、１−メチル−６−カルボ士
シー３．４−ジしドロ力Ｌｆｇスチリル１９Ｆを得るう 元素分析値（ｃ１□Ｈ工、ｗｏ、として）ＣＨ７Ｖ 計算値（９６）　　　６４．３８　５．４０　６．８３
実測値（％）　　　６４，２１　　５．５３　６．７３
実施例　９ ■−アリル−６−（α−じリジニウムアセチル）−３，
４−ジしド０カルボスチリルク○ライト５６．６ｆを出
発原料に用いて、実施例５と同様に操作して２０．５　
Ｆの１−Ｐジル−６−カルボ士シー３，４−ジしドロカ
ルボスチリルを得る。

元素分析値（Ｃ工ａＨよ、ＰＩ０３として）ＨＩ 計算値（％）　　　６８，５５　６，１６　　５．７１
実測値（％）　　　６８，４２　６，２７　５．８２１
！施例　１０ １−ベンジル−６−（α−ヒリジニウムＰｔチル）−３
，４−ジヒドＯカルポスチリルクＤライド６４．９ｆを
出発原料に用いて、実施例５と同様に操作して、２８，
７タの１−ベンジル−６−カルボ士シー３，４−ジしド
ロカルボスチリルを得る。

元素分析値（６□８〃１７”３と１７で）ＨＷ 計算値（％）　　　７３．２０　５．８０　４．７４実
測ＩＩＩ（％）　　　７３，１１　　５．６８　４．８
７実施例　１１ １−プロパシル−−６−（α−ヒリジニウムア七チル、
　）　−３，４−ジしドロ力ルポスチリルクＤライド５
６．３Ｆを出発原料に用いて、実施例５と同様に操作し
て２３．１Ｆの１−づ０式ル千ルー６−（α−じリジニ
ウムアセチル）　−３，４−ジしドロカシリル予リルを
得る。

元素分析値（Ｃ，、Ｈ工３”３としてンＩＩＮ 計算値（％）　　　６９，１２　５．３９　５．７６実
測値部）　　　６９，０３　５．４５　５．６８実施例
　１２ 屑−メト中ジカルボニル−に−（β−エト＋ジアクリロ
イル）Ｐニリン１０ｆを濃硫酸１００　ｍｌ中Ｋｔ”々
に加え、室温で２時間、４５°Ｃで４時間攪拌する。反
応液を水中に注ぎ、析出晶をｐ取、水洗する。得られた
粗結晶をメタノ−ルーフＤ。

ホルムで再結晶して、６．９７１の５−メト中ジカルボ
ニルカルボスチリルを得る、 ｍ戸　２７７．５−２７９．０°Ｃ ｊ！、色粉末状晶 実施例　１３ ５−メト辛ジカルボニルカルボスチリル９．７５ｆを、
製塩ｅ　１００　ｗｅ、水１００ｄＯａ液Ｋ１１ｌｌし
、９０℃で５時間攪拌する。反応液に水１００露ｌを加
え、氷冷して析出する結晶を戸数し、メタノール、ジエ
チルエーテルの順に洗浄後、ＤＭＦより再結晶して、９
．１４　ｆの５−カルボやシカルポス予すルを得る。

ｍ戸　３２０’Ｃ以上 淡黄色粉末状晶 ＮＭＲ（ＤＭＳＯ）δ　６．５８　（ｄ、Ｊ　＝　９．
５　Ｈｌ　、　ＬＨ）７．４０−７．８０　＜−１、３
Ｈ） ８．６９　（ｄ、Ｊ　＝　９．５　Ｈｌ　、１／／）実
施例　１４ ５−カルボ士シカルボスチリル２Ｆを水３０ｓ／にシ１
７、それに１０／ｖ水酸化ナトリウム水溶液を加えて結
晶を溶解する。溶液に１０％Ｐｄ−Ｃで接触還元する。

反応後触媒をｐ末して、ｐ液に儂塩酸を加えて戸Ｈ−１
とし、析出晶をｐ取するっメタノールより再結晶して８
２０１ｖの５−カルボ士シー３，４−ジしドロカルボス
チリルを得る。

ｍ戸　３０９−３１１℃ 無色針状晶 実施例　１５ ５−カルボ中シカルボスチリル２ｆをメタノール１００
ｓ／に懸濁し、塩酸ガスをバブルして飽和にした後、３
時間還流する。反応液を半量に濃縮して、析出した結晶
を戸数する。シリカゲルカラムク０マドクラフイーで精
製し、次いでメタノールークＯＯホルムより再結晶して
、２３０１ｑ／の５−メト辛ジカルボニルカルボスチリ
ルを得る。

ｍ戸　２７７．５−２７９　’Ｃ 無色粉末状晶 実施例　１６ ８−（α−じリジニウムアを予ル）カルポスチリルクロ
ライド２ｆをメタノール２０ｓ７！に溶解し、これに１
．０１ｆのＤＢＵを加え、１時間還流する。

反応液を濃縮乾固し、残渣に水、り００ホルム、ＩＡ’
塩酸を加える。クロロホルム層を水、飽和の炭酸水素ナ
トリウム水溶液、飽和食塩水の順に洗浄後、乾燥する。

りＯＯホルムを留去し、得られた残渣をシリカゲルカラ
ムクＯマトジ５フィーで精製し、ついでメタノールより
再結晶して１３０ηの８−メト辛ジカルボニルカルボス
チリルを得るＯ ｍ戸　１４０−１４２°Ｃ 無色針状晶 （以　上） 第１頁の続き ０発　明　者　中用量之 徳島市川内町犬松７７４番地の１

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 ■　一般式 〔式中Ｒは水酸基、低級アルコ士シ基又は基υ ル士ル基、低級アルケニル基、低級アル牛ニル基又はフ
   ェニル低級アル↑ル基を示す。但し基−ＣＯＲがカルボ
   スチリル骨格の６位に置換し且りＲが水酸基又は低級ア
   ルコ＋シ基を示す場合には、Ｒは水素原子であってはな
   らないっ〕