JPS58140750A - プラズマ表面処理法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は、プラズマを用いて表面処理を行なうプラズマ
表面処理に関する。

従来、感光体用の支持体上に光導電層を堆積しただけで
感光体として用いた為、堆積直後は、帯電せず、帯電す
るためには２日以上、空気中に放置する必要があった。

これは、製造上、非常に問題であり、得られる帯電特性
も、経日変化する為非常に不安定となり、感光体として
必要となる安定した帯電特性が得られなかった。これは
、表面で結合した酸素による酸化膜が、形成される速度
がゆるやかで遅い為と、できる膜が薄い為で簡単にはく
離することによる。

本発明は、かかる欠点を除去したもので、その目的は、
緻密な酸化膜を表面に形成し、経年変化を防ぎ、安定な
帯電特性を得ることにある。

酸化膜は、表面単位密度を１０１１／ｃｌ＃から１０Ｉ
ｔ／ｄに下げ、表面からの電荷の注入、再結合を防ぐ役
割を果し、暗減衰が緩やかになり帯電特性が向上する。

本発明に於いて、プラズマは、アーク放言、又はグロー
放電により得られ、放電形式としては、直流、高周波放
電が用いられる。高周波電力は、５０〜３ＫＹ、基板温
度は１５０〜３５０℃、ガス圧は００１〜５０　ｔｏｒ
ｒとする。使用ガスをま、窒素、不活性ガスのいずれか
と酸素の組合せ又は酸素のみとする。以下実施例に従っ
て本発明の顕著なる効果を説明する。

実施例１゜ 清浄されたアルミニウム板をグロー放電槽内に設定し、
槽内をｌＸ１０５ｔ・ｒｒの真空度、基板１３度２５０
℃、シランガスとメタンガンの流量比を０．２．内圧を
１　ｔｏｒｒ　、　１００　Ｗで光導電層を形成する。

その後、ガス流入を停止し５分間真空度の回復を待った
後、１０％市素を含むＡｒガスを１ｔｏｒｒ流し、基板
温度は、２５０℃にし、Ｒ０！パワーを５０Ｗとし１０
分間グロー放電した。

その結果を第１図、第２図に示す。第１図は、醗化層の
深さ方向依存性を示し、横軸は、表面からの距離、縦軸
は、酸化量を示す。１はプラズマ処理をせず１週間空気
中に放置した場合、２はプラズマ表面処理をした場合で
ある。これより、プラズマ表面処理をした方が、酸化層
が表面から深く形成されており有効である。第２図は、
帯電特性を示す。コロナ放電器によりマイナス６ＫＶの
コロナ放電により帯電させ、表面電位を測定した。

横軸は、時間、縦軸は表面電位である。１はプラズマ処
理をしない場合、２はプラズマ処理をした場合である。

これより、プラズマ処理をした方が有効であることがわ
かる。

実施例２゜ 実施例１と同様に、アルミ板上にアモルファスシリコン
を堆積した後、窒素と階素を流量比で２、内圧を１　ｔ
ｏｒｒ　、基板温度２００℃、ＲＦ％力１００Ｗとし４
０分間グロー放電をした。その後コロナ放電器でマイナ
スに帯電させ、表面電位を測定した所、プラズマ処理を
した場合、帯電能は２５ｖ／μ悄、１週間空気中に保持
した場合、帯電能は２０■／μ飛で、プラズマ処理を行
えば、帯電能の向上、製造日数の短縮、帯電特性の安定
化が得られる。

【図面の簡単な説明】

第１図は、表面からの距離と醗化量の関係を表す。１は
、プラズマ処理しない場合、２はプラズマ処理をした場
合である。横軸は表面からの距暉、縦軸は、酸化物量で
ある。 第２図は、表面電位と時間の関係を示す。横軸は時間、
縦軸は表面電位、１はプラズマ処理をしない場合、２は
プラズマ処理をした場合である。 −以上 出願人　　株式会社諏訪精工舎 表面力＼うの）瓦難 第１図

Claims (1)

【特許請求の範囲】
1. 感光体用支持体上に光導電層としてアモルファスシリコ
   ンを堆積した後酸素を含むガスを用いてプラズマ表面処
   理をすることを特徴とするプラズマ表面処理法