JPS58135851A - スルホンアミドの製法 - Google Patents

スルホンアミドの製法

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JPS58135851A
JPS58135851A JP58010677A JP1067783A JPS58135851A JP S58135851 A JPS58135851 A JP S58135851A JP 58010677 A JP58010677 A JP 58010677A JP 1067783 A JP1067783 A JP 1067783A JP S58135851 A JPS58135851 A JP S58135851A
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JP58010677A
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ロルフ−デイ−タ−・アツケル
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BASF SE
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    • C07ORGANIC CHEMISTRY
    • C07FACYCLIC, CARBOCYCLIC OR HETEROCYCLIC COMPOUNDS CONTAINING ELEMENTS OTHER THAN CARBON, HYDROGEN, HALOGEN, OXYGEN, NITROGEN, SULFUR, SELENIUM OR TELLURIUM
    • C07F7/00Compounds containing elements of Groups 4 or 14 of the Periodic Table
    • C07F7/02Silicon compounds
    • C07F7/08Compounds having one or more C—Si linkages
    • C07F7/10Compounds having one or more C—Si linkages containing nitrogen having a Si-N linkage

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  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は、アンモニア又はアミンをハロゲノシランと反
応させ、続いて生成したシリルアミンをスルフリルクロ
リドと、反応条件下で不活性な溶剤の存在下で反応させ
ることによる、スルホンアミド化合物の製法に関す゛る
アミンをスルファミドと共に長時間加熱し知スルホンア
ミド化合物を製造することは既知である(ア/ゲバンテ
・ヘミ−60巻1948年316〜320頁参照)。さ
らにアミドスルホニルクロリドをアミンと反応させるこ
とによりスルホンアミド化合物を製造することもできる
( Che−m、 Rev、 1980年(80)15
1〜186頁特に176頁参照)。
本発明者は、アンモニア又は次式 (式中R1及びR2は後記の意味を有する)のアミンを
、次式 (式中R3、R4及びRI′は同一でも異なってもよく
、それぞれ脂肪族もしくは芳香族の基又はハロゲン原子
を意味し、Xはハロゲン原子を意味する)のハロゲノシ
ランと反応させ、そして生成した次式 リルアミンを反応条件下で不活性な溶剤の存在下にスル
プリルクロリドと反応させるとき、次(式中個々のR1
及びR2は同一でも異なってもよ(、それぞれ脂肪族、
脂環族、芳香脂肪族又は芳香族の基又は水素原子を意味
する)で表わされるスルホンアミド化合物が有利に得ら
れることを見出した。
本発明の方法は、メチルアミン、トリメチルクロルシラ
ン及びスルフリルクロリドを使用する場合について次式
で示される。
4CH3NH2+  2 (CHs)ssicl−−→
’l (CH3)3Si−NHCH3+  2CH3N
H3’C1−2(C’T(、)3Si−NHCH8十 
 5o2C1゜−−一一一一◆ CH3NH−802−
NHCH3+  2(CH3)3SiCL既知方法に比
して本発明方法は、簡単かつ経済的な手段でスルホンア
ミド化合物を良好な収率及び純度において提供できる。
スルファミド又はアミドスルホニルクロリドのような高
価な出発物質は避けられる。本発明方法に用いられるハ
ロゲノシランは再使用できる。
出発物質璽及び■は、化学量論量であるいは一方の出発
物質を他方の出発物質に対し過剰で、好ましくは出発物
質璽の1モルに対し、出発物質画の1.0〜4.0モル
特に1.6〜2.4モルにおいて反応させることができ
る。補助塩基を使用する場合は、出発物質lの1モルに
対し、出発物質層を好ましくは0.5〜2モル特に0.
8〜1゜2モル使用する。その場合補助塩基は、出発物
質■の1モルに対し0.5〜6.0当量特に0.8〜1
.5当量の量で使用する。
好ましい出発物質1 、I 、物質■及び対応する目的
物質Iは、式中の個々の基R1及びR2が同一でも異な
ってもよく、それぞれ非置換の又は場合により1〜4個
の炭素原子を有するクロルアルキル基、チオアルキル基
もしくはアルコキシ基、又は2〜5個の炭素原子を有す
るシアンアルキル基、又は窒素原子における各アルキル
基が1〜4個の炭素原子を有するジアルキルアミノアル
キル基により置換された1〜7個の炭素原子を有するア
ルキル基もしくは2〜7個の炭素原子を有するアルケニ
ル基;5〜8個の炭素原子を有するシクロアルキル基、
7〜12個の炭素原子を有するアルアルキル基もしくは
アルキルアリール基、又は場合により1〜2個の塩素原
子、臭素原子、それぞれ1〜4個の炭素原子を有するア
ルキル基もしくはアルコキシ基、ニトロ基及び/又はシ
アノ基により置換されたフェニル基あるいは水素原子を
意味し、個々のR3、R4及びR5が同一でも異なって
もよく、それぞれ1〜7個の炭素原子を有するアルキル
基、又は場合により1〜2個の塩素原子、臭素原子、そ
れぞれ1〜4個の炭素原子を有するアルキル基もしくは
アルコキシ基、ニトロ基及び/又はシアノ基により置換
されたフェニル基、臭素原子又は特に塩素原子を意味し
、Xが臭素原子又は特に塩素原子を意味するものである
。前記の基は、反応条件下で不活性の基例えばそれぞれ
1〜4個の炭素原子を有するアルキル基もしくはアルコ
キシ基により置換されていてもよい。
例えば次の出発物質Iが用いられる。メチル−、エチル
−、フロピルー、インプロピル−、ブチル−、イソブチ
ル−1m級ブチルー1三級ブチルー、シクロヘキシル−
、シクロペンチ化−、ヘンシル−、フェニル−アミン;
7;/モニア、N−7’ロビルーN−エチル−アミン、
N−メチルアニリン;ジメチル−、ジエチル−、ジプロ
ピル−、ジイソプロピル−、ジプチル−、ジ三級ブチル
−、ジ三級ブチル−、ジインブチル−、ジシクロへキシ
ル−、ジシクロペ/チル−、ジベンジル−、ジンェニル
ーアミン、アリル−、メトキシメチル−、メトキシエチ
ル−。
メトキシプロピ、ルー、クロルメチル−、クロルエチル
−、クロルプロピル−、シアノエチル−、メチル−チオ
エチル−1N、N−ジメチルアミノv エチル−、N、N−ジメチルア′層ノグロビルアミン。
例えば次の出発物質lが用いられる。トリノチルー、ト
リエチル−、トリプロピル−、トリイソプロピル−、ト
リブチル−、トリ二級ブチル−、トリインブチル−、ト
リ三級ブチル−、メチル−ジエチル−、トリフェニル−
シランクロリド;3個の他の置換基が1個、2個又は6
個の塩素原子により置き換えられている前記のクロリド
;対応するプロミド。
反応は普通は一80〜+100℃で、好ましくは工程(
a)では−40〜+100℃特に−2D〜+70℃で、
工程(すでは−80〜+80℃特に−80〜+60℃で
、常圧又は加圧下に連続的又は非連続的に行われる。両
工程において反応条件下で不活性な溶剤を用いることが
好ましい。− 溶剤としては例えば次のものが用いられる。
ハロゲン化炭化水素特に塩素化炭化水素、例えば四塩化
エチレン、 1,1.2.2−又は1.1.1.2−テ
トラクロルエタン、ジクロルプロパン、塩化メチレン、
ジクロルブタン、クロロホルム、クジフルオルペンソー
ル、1.2−シス−ジクロルエチレン、クロルベンゾー
ル、フルオルペンゾール、ブロムペンゾール、ヨードペ
ンゾール、0−0−1p−1ジクロルペンゾール、0−
1m−1p−クロルドルオール、1,2.4−)リクロ
ルベンゾール;エーテル例工ばエチルプロピルエーテル
、メチル−三級ブチルエーテル%n−ブチルエチルエー
テル、ジ−n−ブチルエーテル、ジイソブチルエーテル
、ジイソアミルエーテル、ジイソプロピルエーテル、ア
ニソール、フエネトール、シクロヘキシルメチルエーテ
ル、ジエチルエーテル、エチレングリコールジメチルエ
ーテル、テトラヒドロフラン、ジオキサン、チオアニソ
ール、2.2’−ジクロルジエチルエーテル;ニトロ化
炭化水素例えばニトロメタン、ニトロエタン、ニトロベ
y ソー#、  o +、 rn −1p−10ルニト
ロベンゾール、0−ニトロドルオール;ニトリル例えば
アセトニトリル、ブチロニトリル、イソブチロニトリル
、ベンゾニトリル、m−クロルベンゾニ) IJル:脂
肪族又は脂環族の炭化水素例えばヘプタン、ピナン、ノ
ナン、0−1m−1p−シモール、沸騰範囲70〜19
0℃のベンジ/留分、シクロヘキサン、メチルシクロヘ
キサン、デカリン、石油エーテル、ヘキサン、リグロイ
/、 2,2t4−)リメチルペンタンs L2s5 
 ) リメチルベンタン、2゜3.5−)リメチルベン
タン、オクタン;エーテル例えば酢酸エチル、アセト酢
酸エステル、酢酸イノブチル;アミド例えばホルムアミ
ド、メチルホルムアミド、ジメチルホルムアミド;ケト
ン例えばアセトン、メチルエチルケトン;これらの混合
物。溶剤は好ましくは両出発物質冒及び璽の重量に対し
、100〜2000重量%好ましくは200〜7°00
重量%の量で用いられる。
両工程において同一の又は異なる溶剤を使用することが
できる。工程(a)の反応後に生成物■を単離し、そし
てこれを工程(blで反応させることができる。しかし
物質■を中間単離しないで、−浴で操作することが好ま
しい。−浴で反応な行い、そして全量の溶剤を工程(a
)に導入するこの損失を避けるため、補助塩基を使用す
ることが好ましい。補助塩基としては例えば次のものが
あげられる。トリメチルアミン、トリエチルアミン、ト
リーn−プロピルアミン、トリイソプロピルアミン、ト
リーn−ブチルアミン、トリイソブチルアミン、トリ二
級ブチルアミン、トリ三級ブチルアミン、トリベンジル
アミン、トリシクロヘキシルアミン、トリアミルアミン
、ジイソプロピルエチルアミン、トリヘキシルアミン、
N、N−ジメチルアニリン、 N、N−ジエチルアニリ
ン、NUN  vフロピルアニリン、 N、N−ジメチ
ルトルイジン、N、N−ジエチルトルイジン、’NlN
−”)フロビルトルイジン、NUN −’)メチル−p
−アミノピリジン、N、N−ジエチル−p−アミノピリ
ジンJN、N−ジプロピル−p−アミノピリジン、N−
メチルピロリドン、N−エチルピロリドン、N−メチル
ピロリドン、N−エチルピロリジン、N−メチルイミダ
ゾ−/l/ 、N−工fルイミタソール、N−メチルビ
ロール、N−エチルピロール、N〒メチルモルホ、リン
、N−エチルモルホリン、N−メチルへキサメチレンイ
ミン、N−エチルへキサメチレンイミン、ピリジン、キ
ノリン、α−ピコリン、β−ピコリン、γ−ピコリン、
イソキノリン、ピリミ゛ジン、アクリジン、  N、N
、N’、N’−テトラメチルエチレンジアミン、N、N
、N’、N’−テトラエチルエチレンジアミン、キノキ
サリン、キナシリア、N−7’ロビルージイソプロビル
アミン、N、N’−ジメチルシクロヘキシルアミン、2
,6−ルチジン、2.4−ルチジン、トリフリルアミン
、トリエチレンシアミン。出発物買置の1モ“ルに対 
−し、0.5〜6.0%に0.8〜1.5当量の補助塩
基を使用することが好ましい。
物質■はスルフリルクロリドと化学当量であるいは過剰
量で、好ましくは化合物■の1モルに対しスル7リルク
ロリド0.25〜1.5モ・ル特に0.4〜0.9モル
の量で反応させることができる。
反応は次のように実施することができる。出発物質璽、
l及び場合により補助塩基及び溶剤を、工程(a)にお
いて反応温度に0.2〜6時間保持する。保護ガス例え
ば窒素又はアルゴンの中での操作は、必要ではないが有
利である。好ましくは出発物質璽を適当な溶剤中に装入
し、そこへ出発物質■及び場合により補助塩基を少量ず
つ添加する。逆の添加(出発物質lを先に用意し、これ
に出発物質■及び場合により補助塩基を滴加する)も同
様に可能である。仕上げ処理なしでそのまま工程(b)
に続ける。ことができ、その場合は工程(a)の反応温
度を工程(b)の温度に上昇させ、そしてスルフリルク
ロリド及び場合により溶剤を添加して0.5〜8時間反
応させる。
工程(a)の後でまず塩を炉別したのち反応を進めるこ
ともできるが、生成したシリルアミン■を蒸留により精
製し、そして工程(b)に使用することもできる。
工程(b)は好ましくは次のように実施される。
精製されたシリルアミン■を溶剤に溶解し、これにスル
フリルクロリドを添加するか、あるいはシリル化反応の
反応混合物に工程(b)の反応温度でスルフリルクロリ
ドを少量ずつ添加する。
次いで好ましくは例えば−20℃に冷却したのち例えば
0℃に加温し、そして室温で2〜12時間攪拌する。工
程(blでアミンの不足量を結合させるため、さらに少
量の出発物質■を添加してもよい。場合によっては反応
を完結させるため、混合物をより高い温度例えば25〜
60℃で後反応させる。工程(b)の反応の終了後、好
ましくは出発物質■及び溶剤を留去すると、残留物は目
的物質Iを含有する。これを蒸留、再結晶又は抽出によ
り精製することができる。物質■を単離して両工程を別
にする場合の反応時間は、好ましくは工程r=+で0,
2〜6時間、工程(blで0.5〜8時間である。
本発明によって得られるスルホ/アミド化合物■は、医
薬及び植物保護剤を製造するための中間体であり、また
アルキルアミドスルホニルクロリド(DEAS1121
060及びDEPS 12t7582参照)の製造用中
間体として有用である。
実施例1 a) メチルアミン70gを一20℃で凝縮させ、□ 
  そして−20℃に冷却されたキジロール200Iを
添加する。次いでトリメチルクロルシラン1.08.5
Nを窒素雰囲気下で少量ずつ添加し、温度を一15℃と
一5℃の間に保つ。次いで混合物を22℃に加温し、1
時間攪拌する。不溶物をr別したのち、反応混合物から
メチルトリメチルシリルアミンを留出させると、沸点6
6〜b のN−メチル−N−)リメチルシリルアミンが6&9得
られる。
b)  N−メチル−N−)リメチルシリルアミン(a
による) 20.69及びアセトニトリル30gを、窒
素雰囲気下に一30℃で混合し、トリメチルクロルシラ
ン161gを添加したのち、−55〜−30℃でスルフ
リルクロリド16.59を少量ずつ添加する。−60°
Qで15分間攪拌したのち、0℃で1時間、さらに22
℃で5時間攪拌する。反応混合物を蒸発濃縮したのち蒸
留(92〜105℃10.13ff1バール)すると、
融点69〜72℃のN、N’−ジメチルスルホンアミド
が8.39 (理論値の73%)得られる。
実施例2 a)  イソプロピルアミン118gをペンタン600
gに添加しておき、これに0〜−10℃で窒素雰囲気下
にトリメチルクロルシラン114゜5gを少量ずつ添加
し、22℃で1時間攪拌する。沢過したのち蒸留すると
、沸点95〜bイソプロピル−N−トリメチルシリルア
ミンが95、−69得られる。
b)塩化メチ−レン60g中のN−イノプロピル−N−
)リメチルシリルアミン15.19K、塩化メチレン1
2g中のスルフリルクロリド6.7511の溶液を−7
0〜−75℃で少量ずつ添加し、−75℃で15分間、
0℃で1時間及び22℃で1時間攪拌する。易揮発性成
分を留去し、残留物を氷水と混和したのち吸引r遇する
と、融点99〜102℃のN、N’−ジイソプロピルス
ルホンアミドが12.8g(理論値の71%)得られる
実施例6 イソプロピルアミン295g及びトリエチルアミン55
.69をテトラヒドロフラン320gに添加しておき、
これKO〜−5℃で窒素雰囲気下にトリメチルクロルシ
ラン609を少量ずつ添加し、22℃で60分間及び6
0℃で1時間攪拌する。次いで一10℃に冷却、スルフ
リルクロリド55.8 gを少量ずつ、添加し、混合物
を22℃に加温したのち2時間攪拌する。トリメチルク
ロルシラン及び溶剤を留去し、残留物を氷水で洗浄する
と、融点98〜101℃のN、N’−ジイソプロピルス
ルホンアミドが30.5 g(理論値の68%)得られ
る。
実施例4 シクロヘキシルアミン495gをテトラヒドロフラン6
20gに添加しておき、これに−5〜0℃でジメチルジ
クロルシラン52.39を少量ずつ添加する。22℃で
1時間攪拌したのち一30℃に冷却し、スルフリルクロ
リド16.9gを少量ず一つ添加する。22℃で6時間
攪拌したのち、溶剤及びクロルシランを留去し、残留物
を晶出させると、水中で攪拌したのち、融点151〜1
53℃のN、l/−ジシクロへキシルスルホンアミドが
22g(理論値の67%)得られる。
実施例5 実施例4と同様に操作した結果を次表に示す。

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 アンモニア又は次式 (式中R1及びR2は後記の意味を有する)のアミンを
    、次式 (式中B& 、 R4及びR5は同一でも異なってもよ
    く、それぞれ脂肪族もしくは芳香族の基又はハロゲン原
    子を意味し、Xはハロゲン原子を意味する)のハロゲノ
    シランと反応させ、そして生成した(式中R1ないしR
    5は後記の意味を有する)のシリルアミ/を反応条件下
    で不活性な溶剤の存在下にスルフリルクロリドと反応さ
    せることを特徴とする、次式 (式中個々のHl及びR2は同一でも異なってもよく、
    それぞれ脂肪族、脂環族、芳香脂肪族又は芳香族の基又
    は水素原子を意味する)で表わされるスルホンアミド化
    合物の製法。
JP58010677A 1982-02-06 1983-01-27 スルホンアミドの製法 Pending JPS58135851A (ja)

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DE3204168A1 (de) 1983-08-11
DE3360008D1 (en) 1984-12-06
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