JPS58135851A - スルホンアミドの製法 - Google Patents
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Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07F—ACYCLIC, CARBOCYCLIC OR HETEROCYCLIC COMPOUNDS CONTAINING ELEMENTS OTHER THAN CARBON, HYDROGEN, HALOGEN, OXYGEN, NITROGEN, SULFUR, SELENIUM OR TELLURIUM
- C07F7/00—Compounds containing elements of Groups 4 or 14 of the Periodic Table
- C07F7/02—Silicon compounds
- C07F7/08—Compounds having one or more C—Si linkages
- C07F7/10—Compounds having one or more C—Si linkages containing nitrogen having a Si-N linkage
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は、アンモニア又はアミンをハロゲノシランと反
応させ、続いて生成したシリルアミンをスルフリルクロ
リドと、反応条件下で不活性な溶剤の存在下で反応させ
ることによる、スルホンアミド化合物の製法に関す゛る
。
応させ、続いて生成したシリルアミンをスルフリルクロ
リドと、反応条件下で不活性な溶剤の存在下で反応させ
ることによる、スルホンアミド化合物の製法に関す゛る
。
アミンをスルファミドと共に長時間加熱し知スルホンア
ミド化合物を製造することは既知である(ア/ゲバンテ
・ヘミ−60巻1948年316〜320頁参照)。さ
らにアミドスルホニルクロリドをアミンと反応させるこ
とによりスルホンアミド化合物を製造することもできる
( Che−m、 Rev、 1980年(80)15
1〜186頁特に176頁参照)。
ミド化合物を製造することは既知である(ア/ゲバンテ
・ヘミ−60巻1948年316〜320頁参照)。さ
らにアミドスルホニルクロリドをアミンと反応させるこ
とによりスルホンアミド化合物を製造することもできる
( Che−m、 Rev、 1980年(80)15
1〜186頁特に176頁参照)。
本発明者は、アンモニア又は次式
(式中R1及びR2は後記の意味を有する)のアミンを
、次式 (式中R3、R4及びRI′は同一でも異なってもよく
、それぞれ脂肪族もしくは芳香族の基又はハロゲン原子
を意味し、Xはハロゲン原子を意味する)のハロゲノシ
ランと反応させ、そして生成した次式 リルアミンを反応条件下で不活性な溶剤の存在下にスル
プリルクロリドと反応させるとき、次(式中個々のR1
及びR2は同一でも異なってもよ(、それぞれ脂肪族、
脂環族、芳香脂肪族又は芳香族の基又は水素原子を意味
する)で表わされるスルホンアミド化合物が有利に得ら
れることを見出した。
、次式 (式中R3、R4及びRI′は同一でも異なってもよく
、それぞれ脂肪族もしくは芳香族の基又はハロゲン原子
を意味し、Xはハロゲン原子を意味する)のハロゲノシ
ランと反応させ、そして生成した次式 リルアミンを反応条件下で不活性な溶剤の存在下にスル
プリルクロリドと反応させるとき、次(式中個々のR1
及びR2は同一でも異なってもよ(、それぞれ脂肪族、
脂環族、芳香脂肪族又は芳香族の基又は水素原子を意味
する)で表わされるスルホンアミド化合物が有利に得ら
れることを見出した。
本発明の方法は、メチルアミン、トリメチルクロルシラ
ン及びスルフリルクロリドを使用する場合について次式
で示される。
ン及びスルフリルクロリドを使用する場合について次式
で示される。
4CH3NH2+ 2 (CHs)ssicl−−→
’l (CH3)3Si−NHCH3+ 2CH3N
H3’C1−2(C’T(、)3Si−NHCH8十
5o2C1゜−−一一一一◆ CH3NH−802−
NHCH3+ 2(CH3)3SiCL既知方法に比
して本発明方法は、簡単かつ経済的な手段でスルホンア
ミド化合物を良好な収率及び純度において提供できる。
’l (CH3)3Si−NHCH3+ 2CH3N
H3’C1−2(C’T(、)3Si−NHCH8十
5o2C1゜−−一一一一◆ CH3NH−802−
NHCH3+ 2(CH3)3SiCL既知方法に比
して本発明方法は、簡単かつ経済的な手段でスルホンア
ミド化合物を良好な収率及び純度において提供できる。
スルファミド又はアミドスルホニルクロリドのような高
価な出発物質は避けられる。本発明方法に用いられるハ
ロゲノシランは再使用できる。
価な出発物質は避けられる。本発明方法に用いられるハ
ロゲノシランは再使用できる。
出発物質璽及び■は、化学量論量であるいは一方の出発
物質を他方の出発物質に対し過剰で、好ましくは出発物
質璽の1モルに対し、出発物質画の1.0〜4.0モル
特に1.6〜2.4モルにおいて反応させることができ
る。補助塩基を使用する場合は、出発物質lの1モルに
対し、出発物質層を好ましくは0.5〜2モル特に0.
8〜1゜2モル使用する。その場合補助塩基は、出発物
質■の1モルに対し0.5〜6.0当量特に0.8〜1
.5当量の量で使用する。
物質を他方の出発物質に対し過剰で、好ましくは出発物
質璽の1モルに対し、出発物質画の1.0〜4.0モル
特に1.6〜2.4モルにおいて反応させることができ
る。補助塩基を使用する場合は、出発物質lの1モルに
対し、出発物質層を好ましくは0.5〜2モル特に0.
8〜1゜2モル使用する。その場合補助塩基は、出発物
質■の1モルに対し0.5〜6.0当量特に0.8〜1
.5当量の量で使用する。
好ましい出発物質1 、I 、物質■及び対応する目的
物質Iは、式中の個々の基R1及びR2が同一でも異な
ってもよく、それぞれ非置換の又は場合により1〜4個
の炭素原子を有するクロルアルキル基、チオアルキル基
もしくはアルコキシ基、又は2〜5個の炭素原子を有す
るシアンアルキル基、又は窒素原子における各アルキル
基が1〜4個の炭素原子を有するジアルキルアミノアル
キル基により置換された1〜7個の炭素原子を有するア
ルキル基もしくは2〜7個の炭素原子を有するアルケニ
ル基;5〜8個の炭素原子を有するシクロアルキル基、
7〜12個の炭素原子を有するアルアルキル基もしくは
アルキルアリール基、又は場合により1〜2個の塩素原
子、臭素原子、それぞれ1〜4個の炭素原子を有するア
ルキル基もしくはアルコキシ基、ニトロ基及び/又はシ
アノ基により置換されたフェニル基あるいは水素原子を
意味し、個々のR3、R4及びR5が同一でも異なって
もよく、それぞれ1〜7個の炭素原子を有するアルキル
基、又は場合により1〜2個の塩素原子、臭素原子、そ
れぞれ1〜4個の炭素原子を有するアルキル基もしくは
アルコキシ基、ニトロ基及び/又はシアノ基により置換
されたフェニル基、臭素原子又は特に塩素原子を意味し
、Xが臭素原子又は特に塩素原子を意味するものである
。前記の基は、反応条件下で不活性の基例えばそれぞれ
1〜4個の炭素原子を有するアルキル基もしくはアルコ
キシ基により置換されていてもよい。
物質Iは、式中の個々の基R1及びR2が同一でも異な
ってもよく、それぞれ非置換の又は場合により1〜4個
の炭素原子を有するクロルアルキル基、チオアルキル基
もしくはアルコキシ基、又は2〜5個の炭素原子を有す
るシアンアルキル基、又は窒素原子における各アルキル
基が1〜4個の炭素原子を有するジアルキルアミノアル
キル基により置換された1〜7個の炭素原子を有するア
ルキル基もしくは2〜7個の炭素原子を有するアルケニ
ル基;5〜8個の炭素原子を有するシクロアルキル基、
7〜12個の炭素原子を有するアルアルキル基もしくは
アルキルアリール基、又は場合により1〜2個の塩素原
子、臭素原子、それぞれ1〜4個の炭素原子を有するア
ルキル基もしくはアルコキシ基、ニトロ基及び/又はシ
アノ基により置換されたフェニル基あるいは水素原子を
意味し、個々のR3、R4及びR5が同一でも異なって
もよく、それぞれ1〜7個の炭素原子を有するアルキル
基、又は場合により1〜2個の塩素原子、臭素原子、そ
れぞれ1〜4個の炭素原子を有するアルキル基もしくは
アルコキシ基、ニトロ基及び/又はシアノ基により置換
されたフェニル基、臭素原子又は特に塩素原子を意味し
、Xが臭素原子又は特に塩素原子を意味するものである
。前記の基は、反応条件下で不活性の基例えばそれぞれ
1〜4個の炭素原子を有するアルキル基もしくはアルコ
キシ基により置換されていてもよい。
例えば次の出発物質Iが用いられる。メチル−、エチル
−、フロピルー、インプロピル−、ブチル−、イソブチ
ル−1m級ブチルー1三級ブチルー、シクロヘキシル−
、シクロペンチ化−、ヘンシル−、フェニル−アミン;
7;/モニア、N−7’ロビルーN−エチル−アミン、
N−メチルアニリン;ジメチル−、ジエチル−、ジプロ
ピル−、ジイソプロピル−、ジプチル−、ジ三級ブチル
−、ジ三級ブチル−、ジインブチル−、ジシクロへキシ
ル−、ジシクロペ/チル−、ジベンジル−、ジンェニル
ーアミン、アリル−、メトキシメチル−、メトキシエチ
ル−。
−、フロピルー、インプロピル−、ブチル−、イソブチ
ル−1m級ブチルー1三級ブチルー、シクロヘキシル−
、シクロペンチ化−、ヘンシル−、フェニル−アミン;
7;/モニア、N−7’ロビルーN−エチル−アミン、
N−メチルアニリン;ジメチル−、ジエチル−、ジプロ
ピル−、ジイソプロピル−、ジプチル−、ジ三級ブチル
−、ジ三級ブチル−、ジインブチル−、ジシクロへキシ
ル−、ジシクロペ/チル−、ジベンジル−、ジンェニル
ーアミン、アリル−、メトキシメチル−、メトキシエチ
ル−。
メトキシプロピ、ルー、クロルメチル−、クロルエチル
−、クロルプロピル−、シアノエチル−、メチル−チオ
エチル−1N、N−ジメチルアミノv エチル−、N、N−ジメチルア′層ノグロビルアミン。
−、クロルプロピル−、シアノエチル−、メチル−チオ
エチル−1N、N−ジメチルアミノv エチル−、N、N−ジメチルア′層ノグロビルアミン。
例えば次の出発物質lが用いられる。トリノチルー、ト
リエチル−、トリプロピル−、トリイソプロピル−、ト
リブチル−、トリ二級ブチル−、トリインブチル−、ト
リ三級ブチル−、メチル−ジエチル−、トリフェニル−
シランクロリド;3個の他の置換基が1個、2個又は6
個の塩素原子により置き換えられている前記のクロリド
;対応するプロミド。
リエチル−、トリプロピル−、トリイソプロピル−、ト
リブチル−、トリ二級ブチル−、トリインブチル−、ト
リ三級ブチル−、メチル−ジエチル−、トリフェニル−
シランクロリド;3個の他の置換基が1個、2個又は6
個の塩素原子により置き換えられている前記のクロリド
;対応するプロミド。
反応は普通は一80〜+100℃で、好ましくは工程(
a)では−40〜+100℃特に−2D〜+70℃で、
工程(すでは−80〜+80℃特に−80〜+60℃で
、常圧又は加圧下に連続的又は非連続的に行われる。両
工程において反応条件下で不活性な溶剤を用いることが
好ましい。− 溶剤としては例えば次のものが用いられる。
a)では−40〜+100℃特に−2D〜+70℃で、
工程(すでは−80〜+80℃特に−80〜+60℃で
、常圧又は加圧下に連続的又は非連続的に行われる。両
工程において反応条件下で不活性な溶剤を用いることが
好ましい。− 溶剤としては例えば次のものが用いられる。
ハロゲン化炭化水素特に塩素化炭化水素、例えば四塩化
エチレン、 1,1.2.2−又は1.1.1.2−テ
トラクロルエタン、ジクロルプロパン、塩化メチレン、
ジクロルブタン、クロロホルム、クジフルオルペンソー
ル、1.2−シス−ジクロルエチレン、クロルベンゾー
ル、フルオルペンゾール、ブロムペンゾール、ヨードペ
ンゾール、0−0−1p−1ジクロルペンゾール、0−
1m−1p−クロルドルオール、1,2.4−)リクロ
ルベンゾール;エーテル例工ばエチルプロピルエーテル
、メチル−三級ブチルエーテル%n−ブチルエチルエー
テル、ジ−n−ブチルエーテル、ジイソブチルエーテル
、ジイソアミルエーテル、ジイソプロピルエーテル、ア
ニソール、フエネトール、シクロヘキシルメチルエーテ
ル、ジエチルエーテル、エチレングリコールジメチルエ
ーテル、テトラヒドロフラン、ジオキサン、チオアニソ
ール、2.2’−ジクロルジエチルエーテル;ニトロ化
炭化水素例えばニトロメタン、ニトロエタン、ニトロベ
y ソー#、 o +、 rn −1p−10ルニト
ロベンゾール、0−ニトロドルオール;ニトリル例えば
アセトニトリル、ブチロニトリル、イソブチロニトリル
、ベンゾニトリル、m−クロルベンゾニ) IJル:脂
肪族又は脂環族の炭化水素例えばヘプタン、ピナン、ノ
ナン、0−1m−1p−シモール、沸騰範囲70〜19
0℃のベンジ/留分、シクロヘキサン、メチルシクロヘ
キサン、デカリン、石油エーテル、ヘキサン、リグロイ
/、 2,2t4−)リメチルペンタンs L2s5
) リメチルベンタン、2゜3.5−)リメチルベン
タン、オクタン;エーテル例えば酢酸エチル、アセト酢
酸エステル、酢酸イノブチル;アミド例えばホルムアミ
ド、メチルホルムアミド、ジメチルホルムアミド;ケト
ン例えばアセトン、メチルエチルケトン;これらの混合
物。溶剤は好ましくは両出発物質冒及び璽の重量に対し
、100〜2000重量%好ましくは200〜7°00
重量%の量で用いられる。
エチレン、 1,1.2.2−又は1.1.1.2−テ
トラクロルエタン、ジクロルプロパン、塩化メチレン、
ジクロルブタン、クロロホルム、クジフルオルペンソー
ル、1.2−シス−ジクロルエチレン、クロルベンゾー
ル、フルオルペンゾール、ブロムペンゾール、ヨードペ
ンゾール、0−0−1p−1ジクロルペンゾール、0−
1m−1p−クロルドルオール、1,2.4−)リクロ
ルベンゾール;エーテル例工ばエチルプロピルエーテル
、メチル−三級ブチルエーテル%n−ブチルエチルエー
テル、ジ−n−ブチルエーテル、ジイソブチルエーテル
、ジイソアミルエーテル、ジイソプロピルエーテル、ア
ニソール、フエネトール、シクロヘキシルメチルエーテ
ル、ジエチルエーテル、エチレングリコールジメチルエ
ーテル、テトラヒドロフラン、ジオキサン、チオアニソ
ール、2.2’−ジクロルジエチルエーテル;ニトロ化
炭化水素例えばニトロメタン、ニトロエタン、ニトロベ
y ソー#、 o +、 rn −1p−10ルニト
ロベンゾール、0−ニトロドルオール;ニトリル例えば
アセトニトリル、ブチロニトリル、イソブチロニトリル
、ベンゾニトリル、m−クロルベンゾニ) IJル:脂
肪族又は脂環族の炭化水素例えばヘプタン、ピナン、ノ
ナン、0−1m−1p−シモール、沸騰範囲70〜19
0℃のベンジ/留分、シクロヘキサン、メチルシクロヘ
キサン、デカリン、石油エーテル、ヘキサン、リグロイ
/、 2,2t4−)リメチルペンタンs L2s5
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タン、オクタン;エーテル例えば酢酸エチル、アセト酢
酸エステル、酢酸イノブチル;アミド例えばホルムアミ
ド、メチルホルムアミド、ジメチルホルムアミド;ケト
ン例えばアセトン、メチルエチルケトン;これらの混合
物。溶剤は好ましくは両出発物質冒及び璽の重量に対し
、100〜2000重量%好ましくは200〜7°00
重量%の量で用いられる。
両工程において同一の又は異なる溶剤を使用することが
できる。工程(a)の反応後に生成物■を単離し、そし
てこれを工程(blで反応させることができる。しかし
物質■を中間単離しないで、−浴で操作することが好ま
しい。−浴で反応な行い、そして全量の溶剤を工程(a
)に導入するこの損失を避けるため、補助塩基を使用す
ることが好ましい。補助塩基としては例えば次のものが
あげられる。トリメチルアミン、トリエチルアミン、ト
リーn−プロピルアミン、トリイソプロピルアミン、ト
リーn−ブチルアミン、トリイソブチルアミン、トリ二
級ブチルアミン、トリ三級ブチルアミン、トリベンジル
アミン、トリシクロヘキシルアミン、トリアミルアミン
、ジイソプロピルエチルアミン、トリヘキシルアミン、
N、N−ジメチルアニリン、 N、N−ジエチルアニリ
ン、NUN vフロピルアニリン、 N、N−ジメチ
ルトルイジン、N、N−ジエチルトルイジン、’NlN
−”)フロビルトルイジン、NUN −’)メチル−p
−アミノピリジン、N、N−ジエチル−p−アミノピリ
ジンJN、N−ジプロピル−p−アミノピリジン、N−
メチルピロリドン、N−エチルピロリドン、N−メチル
ピロリドン、N−エチルピロリジン、N−メチルイミダ
ゾ−/l/ 、N−工fルイミタソール、N−メチルビ
ロール、N−エチルピロール、N〒メチルモルホ、リン
、N−エチルモルホリン、N−メチルへキサメチレンイ
ミン、N−エチルへキサメチレンイミン、ピリジン、キ
ノリン、α−ピコリン、β−ピコリン、γ−ピコリン、
イソキノリン、ピリミ゛ジン、アクリジン、 N、N
、N’、N’−テトラメチルエチレンジアミン、N、N
、N’、N’−テトラエチルエチレンジアミン、キノキ
サリン、キナシリア、N−7’ロビルージイソプロビル
アミン、N、N’−ジメチルシクロヘキシルアミン、2
,6−ルチジン、2.4−ルチジン、トリフリルアミン
、トリエチレンシアミン。出発物買置の1モ“ルに対
−し、0.5〜6.0%に0.8〜1.5当量の補助塩
基を使用することが好ましい。
できる。工程(a)の反応後に生成物■を単離し、そし
てこれを工程(blで反応させることができる。しかし
物質■を中間単離しないで、−浴で操作することが好ま
しい。−浴で反応な行い、そして全量の溶剤を工程(a
)に導入するこの損失を避けるため、補助塩基を使用す
ることが好ましい。補助塩基としては例えば次のものが
あげられる。トリメチルアミン、トリエチルアミン、ト
リーn−プロピルアミン、トリイソプロピルアミン、ト
リーn−ブチルアミン、トリイソブチルアミン、トリ二
級ブチルアミン、トリ三級ブチルアミン、トリベンジル
アミン、トリシクロヘキシルアミン、トリアミルアミン
、ジイソプロピルエチルアミン、トリヘキシルアミン、
N、N−ジメチルアニリン、 N、N−ジエチルアニリ
ン、NUN vフロピルアニリン、 N、N−ジメチ
ルトルイジン、N、N−ジエチルトルイジン、’NlN
−”)フロビルトルイジン、NUN −’)メチル−p
−アミノピリジン、N、N−ジエチル−p−アミノピリ
ジンJN、N−ジプロピル−p−アミノピリジン、N−
メチルピロリドン、N−エチルピロリドン、N−メチル
ピロリドン、N−エチルピロリジン、N−メチルイミダ
ゾ−/l/ 、N−工fルイミタソール、N−メチルビ
ロール、N−エチルピロール、N〒メチルモルホ、リン
、N−エチルモルホリン、N−メチルへキサメチレンイ
ミン、N−エチルへキサメチレンイミン、ピリジン、キ
ノリン、α−ピコリン、β−ピコリン、γ−ピコリン、
イソキノリン、ピリミ゛ジン、アクリジン、 N、N
、N’、N’−テトラメチルエチレンジアミン、N、N
、N’、N’−テトラエチルエチレンジアミン、キノキ
サリン、キナシリア、N−7’ロビルージイソプロビル
アミン、N、N’−ジメチルシクロヘキシルアミン、2
,6−ルチジン、2.4−ルチジン、トリフリルアミン
、トリエチレンシアミン。出発物買置の1モ“ルに対
−し、0.5〜6.0%に0.8〜1.5当量の補助塩
基を使用することが好ましい。
物質■はスルフリルクロリドと化学当量であるいは過剰
量で、好ましくは化合物■の1モルに対しスル7リルク
ロリド0.25〜1.5モ・ル特に0.4〜0.9モル
の量で反応させることができる。
量で、好ましくは化合物■の1モルに対しスル7リルク
ロリド0.25〜1.5モ・ル特に0.4〜0.9モル
の量で反応させることができる。
反応は次のように実施することができる。出発物質璽、
l及び場合により補助塩基及び溶剤を、工程(a)にお
いて反応温度に0.2〜6時間保持する。保護ガス例え
ば窒素又はアルゴンの中での操作は、必要ではないが有
利である。好ましくは出発物質璽を適当な溶剤中に装入
し、そこへ出発物質■及び場合により補助塩基を少量ず
つ添加する。逆の添加(出発物質lを先に用意し、これ
に出発物質■及び場合により補助塩基を滴加する)も同
様に可能である。仕上げ処理なしでそのまま工程(b)
に続ける。ことができ、その場合は工程(a)の反応温
度を工程(b)の温度に上昇させ、そしてスルフリルク
ロリド及び場合により溶剤を添加して0.5〜8時間反
応させる。
l及び場合により補助塩基及び溶剤を、工程(a)にお
いて反応温度に0.2〜6時間保持する。保護ガス例え
ば窒素又はアルゴンの中での操作は、必要ではないが有
利である。好ましくは出発物質璽を適当な溶剤中に装入
し、そこへ出発物質■及び場合により補助塩基を少量ず
つ添加する。逆の添加(出発物質lを先に用意し、これ
に出発物質■及び場合により補助塩基を滴加する)も同
様に可能である。仕上げ処理なしでそのまま工程(b)
に続ける。ことができ、その場合は工程(a)の反応温
度を工程(b)の温度に上昇させ、そしてスルフリルク
ロリド及び場合により溶剤を添加して0.5〜8時間反
応させる。
工程(a)の後でまず塩を炉別したのち反応を進めるこ
ともできるが、生成したシリルアミン■を蒸留により精
製し、そして工程(b)に使用することもできる。
ともできるが、生成したシリルアミン■を蒸留により精
製し、そして工程(b)に使用することもできる。
工程(b)は好ましくは次のように実施される。
精製されたシリルアミン■を溶剤に溶解し、これにスル
フリルクロリドを添加するか、あるいはシリル化反応の
反応混合物に工程(b)の反応温度でスルフリルクロリ
ドを少量ずつ添加する。
フリルクロリドを添加するか、あるいはシリル化反応の
反応混合物に工程(b)の反応温度でスルフリルクロリ
ドを少量ずつ添加する。
次いで好ましくは例えば−20℃に冷却したのち例えば
0℃に加温し、そして室温で2〜12時間攪拌する。工
程(blでアミンの不足量を結合させるため、さらに少
量の出発物質■を添加してもよい。場合によっては反応
を完結させるため、混合物をより高い温度例えば25〜
60℃で後反応させる。工程(b)の反応の終了後、好
ましくは出発物質■及び溶剤を留去すると、残留物は目
的物質Iを含有する。これを蒸留、再結晶又は抽出によ
り精製することができる。物質■を単離して両工程を別
にする場合の反応時間は、好ましくは工程r=+で0,
2〜6時間、工程(blで0.5〜8時間である。
0℃に加温し、そして室温で2〜12時間攪拌する。工
程(blでアミンの不足量を結合させるため、さらに少
量の出発物質■を添加してもよい。場合によっては反応
を完結させるため、混合物をより高い温度例えば25〜
60℃で後反応させる。工程(b)の反応の終了後、好
ましくは出発物質■及び溶剤を留去すると、残留物は目
的物質Iを含有する。これを蒸留、再結晶又は抽出によ
り精製することができる。物質■を単離して両工程を別
にする場合の反応時間は、好ましくは工程r=+で0,
2〜6時間、工程(blで0.5〜8時間である。
本発明によって得られるスルホ/アミド化合物■は、医
薬及び植物保護剤を製造するための中間体であり、また
アルキルアミドスルホニルクロリド(DEAS1121
060及びDEPS 12t7582参照)の製造用中
間体として有用である。
薬及び植物保護剤を製造するための中間体であり、また
アルキルアミドスルホニルクロリド(DEAS1121
060及びDEPS 12t7582参照)の製造用中
間体として有用である。
実施例1
a) メチルアミン70gを一20℃で凝縮させ、□
そして−20℃に冷却されたキジロール200Iを
添加する。次いでトリメチルクロルシラン1.08.5
Nを窒素雰囲気下で少量ずつ添加し、温度を一15℃と
一5℃の間に保つ。次いで混合物を22℃に加温し、1
時間攪拌する。不溶物をr別したのち、反応混合物から
メチルトリメチルシリルアミンを留出させると、沸点6
6〜b のN−メチル−N−)リメチルシリルアミンが6&9得
られる。
そして−20℃に冷却されたキジロール200Iを
添加する。次いでトリメチルクロルシラン1.08.5
Nを窒素雰囲気下で少量ずつ添加し、温度を一15℃と
一5℃の間に保つ。次いで混合物を22℃に加温し、1
時間攪拌する。不溶物をr別したのち、反応混合物から
メチルトリメチルシリルアミンを留出させると、沸点6
6〜b のN−メチル−N−)リメチルシリルアミンが6&9得
られる。
b) N−メチル−N−)リメチルシリルアミン(a
による) 20.69及びアセトニトリル30gを、窒
素雰囲気下に一30℃で混合し、トリメチルクロルシラ
ン161gを添加したのち、−55〜−30℃でスルフ
リルクロリド16.59を少量ずつ添加する。−60°
Qで15分間攪拌したのち、0℃で1時間、さらに22
℃で5時間攪拌する。反応混合物を蒸発濃縮したのち蒸
留(92〜105℃10.13ff1バール)すると、
融点69〜72℃のN、N’−ジメチルスルホンアミド
が8.39 (理論値の73%)得られる。
による) 20.69及びアセトニトリル30gを、窒
素雰囲気下に一30℃で混合し、トリメチルクロルシラ
ン161gを添加したのち、−55〜−30℃でスルフ
リルクロリド16.59を少量ずつ添加する。−60°
Qで15分間攪拌したのち、0℃で1時間、さらに22
℃で5時間攪拌する。反応混合物を蒸発濃縮したのち蒸
留(92〜105℃10.13ff1バール)すると、
融点69〜72℃のN、N’−ジメチルスルホンアミド
が8.39 (理論値の73%)得られる。
実施例2
a) イソプロピルアミン118gをペンタン600
gに添加しておき、これに0〜−10℃で窒素雰囲気下
にトリメチルクロルシラン114゜5gを少量ずつ添加
し、22℃で1時間攪拌する。沢過したのち蒸留すると
、沸点95〜bイソプロピル−N−トリメチルシリルア
ミンが95、−69得られる。
gに添加しておき、これに0〜−10℃で窒素雰囲気下
にトリメチルクロルシラン114゜5gを少量ずつ添加
し、22℃で1時間攪拌する。沢過したのち蒸留すると
、沸点95〜bイソプロピル−N−トリメチルシリルア
ミンが95、−69得られる。
b)塩化メチ−レン60g中のN−イノプロピル−N−
)リメチルシリルアミン15.19K、塩化メチレン1
2g中のスルフリルクロリド6.7511の溶液を−7
0〜−75℃で少量ずつ添加し、−75℃で15分間、
0℃で1時間及び22℃で1時間攪拌する。易揮発性成
分を留去し、残留物を氷水と混和したのち吸引r遇する
と、融点99〜102℃のN、N’−ジイソプロピルス
ルホンアミドが12.8g(理論値の71%)得られる
。
)リメチルシリルアミン15.19K、塩化メチレン1
2g中のスルフリルクロリド6.7511の溶液を−7
0〜−75℃で少量ずつ添加し、−75℃で15分間、
0℃で1時間及び22℃で1時間攪拌する。易揮発性成
分を留去し、残留物を氷水と混和したのち吸引r遇する
と、融点99〜102℃のN、N’−ジイソプロピルス
ルホンアミドが12.8g(理論値の71%)得られる
。
実施例6
イソプロピルアミン295g及びトリエチルアミン55
.69をテトラヒドロフラン320gに添加しておき、
これKO〜−5℃で窒素雰囲気下にトリメチルクロルシ
ラン609を少量ずつ添加し、22℃で60分間及び6
0℃で1時間攪拌する。次いで一10℃に冷却、スルフ
リルクロリド55.8 gを少量ずつ、添加し、混合物
を22℃に加温したのち2時間攪拌する。トリメチルク
ロルシラン及び溶剤を留去し、残留物を氷水で洗浄する
と、融点98〜101℃のN、N’−ジイソプロピルス
ルホンアミドが30.5 g(理論値の68%)得られ
る。
.69をテトラヒドロフラン320gに添加しておき、
これKO〜−5℃で窒素雰囲気下にトリメチルクロルシ
ラン609を少量ずつ添加し、22℃で60分間及び6
0℃で1時間攪拌する。次いで一10℃に冷却、スルフ
リルクロリド55.8 gを少量ずつ、添加し、混合物
を22℃に加温したのち2時間攪拌する。トリメチルク
ロルシラン及び溶剤を留去し、残留物を氷水で洗浄する
と、融点98〜101℃のN、N’−ジイソプロピルス
ルホンアミドが30.5 g(理論値の68%)得られ
る。
実施例4
シクロヘキシルアミン495gをテトラヒドロフラン6
20gに添加しておき、これに−5〜0℃でジメチルジ
クロルシラン52.39を少量ずつ添加する。22℃で
1時間攪拌したのち一30℃に冷却し、スルフリルクロ
リド16.9gを少量ず一つ添加する。22℃で6時間
攪拌したのち、溶剤及びクロルシランを留去し、残留物
を晶出させると、水中で攪拌したのち、融点151〜1
53℃のN、l/−ジシクロへキシルスルホンアミドが
22g(理論値の67%)得られる。
20gに添加しておき、これに−5〜0℃でジメチルジ
クロルシラン52.39を少量ずつ添加する。22℃で
1時間攪拌したのち一30℃に冷却し、スルフリルクロ
リド16.9gを少量ず一つ添加する。22℃で6時間
攪拌したのち、溶剤及びクロルシランを留去し、残留物
を晶出させると、水中で攪拌したのち、融点151〜1
53℃のN、l/−ジシクロへキシルスルホンアミドが
22g(理論値の67%)得られる。
実施例5
実施例4と同様に操作した結果を次表に示す。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 アンモニア又は次式 (式中R1及びR2は後記の意味を有する)のアミンを
、次式 (式中B& 、 R4及びR5は同一でも異なってもよ
く、それぞれ脂肪族もしくは芳香族の基又はハロゲン原
子を意味し、Xはハロゲン原子を意味する)のハロゲノ
シランと反応させ、そして生成した(式中R1ないしR
5は後記の意味を有する)のシリルアミ/を反応条件下
で不活性な溶剤の存在下にスルフリルクロリドと反応さ
せることを特徴とする、次式 (式中個々のHl及びR2は同一でも異なってもよく、
それぞれ脂肪族、脂環族、芳香脂肪族又は芳香族の基又
は水素原子を意味する)で表わされるスルホンアミド化
合物の製法。
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
DE19823204168 DE3204168A1 (de) | 1982-02-06 | 1982-02-06 | Verfahren zur herstellung von sulfonamiden |
DE32041683 | 1982-02-06 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS58135851A true JPS58135851A (ja) | 1983-08-12 |
Family
ID=6155021
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP58010677A Pending JPS58135851A (ja) | 1982-02-06 | 1983-01-27 | スルホンアミドの製法 |
Country Status (4)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US4490306A (ja) |
EP (1) | EP0087577B1 (ja) |
JP (1) | JPS58135851A (ja) |
DE (2) | DE3204168A1 (ja) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2008303216A (ja) * | 1996-07-22 | 2008-12-18 | F Hoffmann La Roche Ag | 抗腫瘍活性を有するポリメチレン誘導体をリガンドとする新規ビス−プラチナ複合体 |
JP2009007357A (ja) * | 1996-07-22 | 2009-01-15 | F Hoffmann La Roche Ag | 抗腫瘍剤としてのポリアミン配位子を有する新規ビス−プラチナ錯体 |
Families Citing this family (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
GB8419460D0 (en) * | 1984-07-31 | 1984-09-05 | Hoechst Uk Ltd | 4-substituted-1 2 4 6-thiatriazine derivatives |
US4910306A (en) * | 1987-11-09 | 1990-03-20 | The Dow Chemical Company | Preparation of substituted 1,2,4-triazolo[1,5-a]pyrimidine-2-sulfonanilides |
US5003096A (en) * | 1989-05-30 | 1991-03-26 | The Dow Chemical Company | Preparation of substituted 1,2,4-triazolo[1,4-a]pyrimidine-2-sulfonanilides |
US6093825A (en) * | 1998-05-27 | 2000-07-25 | American Home Products | Methods for preparation of 1,2-dihydroquinolines |
Family Cites Families (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US3147305A (en) * | 1962-09-14 | 1964-09-01 | Smith Kline French Lab | 2-phenylcyclopropylsulfamides |
US3336382A (en) * | 1964-02-11 | 1967-08-15 | Allied Chem | Diarylsulfamyl fluorides and tetraarylsulfamides |
-
1982
- 1982-02-06 DE DE19823204168 patent/DE3204168A1/de not_active Withdrawn
-
1983
- 1983-01-17 US US06/458,636 patent/US4490306A/en not_active Expired - Fee Related
- 1983-01-22 DE DE8383100573T patent/DE3360008D1/de not_active Expired
- 1983-01-22 EP EP83100573A patent/EP0087577B1/de not_active Expired
- 1983-01-27 JP JP58010677A patent/JPS58135851A/ja active Pending
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2008303216A (ja) * | 1996-07-22 | 2008-12-18 | F Hoffmann La Roche Ag | 抗腫瘍活性を有するポリメチレン誘導体をリガンドとする新規ビス−プラチナ複合体 |
JP2009007357A (ja) * | 1996-07-22 | 2009-01-15 | F Hoffmann La Roche Ag | 抗腫瘍剤としてのポリアミン配位子を有する新規ビス−プラチナ錯体 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
EP0087577A1 (de) | 1983-09-07 |
DE3204168A1 (de) | 1983-08-11 |
DE3360008D1 (en) | 1984-12-06 |
US4490306A (en) | 1984-12-25 |
EP0087577B1 (de) | 1984-10-31 |
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