JP4178378B2 - クロロシラン化合物の製造方法 - Google Patents
クロロシラン化合物の製造方法 Download PDFInfo
- Publication number
- JP4178378B2 JP4178378B2 JP2002269747A JP2002269747A JP4178378B2 JP 4178378 B2 JP4178378 B2 JP 4178378B2 JP 2002269747 A JP2002269747 A JP 2002269747A JP 2002269747 A JP2002269747 A JP 2002269747A JP 4178378 B2 JP4178378 B2 JP 4178378B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- group
- silanol
- tert
- reaction
- sec
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Fee Related
Links
- -1 chlorosilane compound Chemical class 0.000 title claims description 33
- 239000005046 Chlorosilane Substances 0.000 title claims description 28
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims description 13
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N Hydrochloric acid Chemical compound Cl VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 50
- 125000004432 carbon atom Chemical group C* 0.000 claims description 11
- 229910020175 SiOH Inorganic materials 0.000 claims description 5
- 125000001449 isopropyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])(*)C([H])([H])[H] 0.000 claims description 3
- 125000000999 tert-butyl group Chemical group [H]C([H])([H])C(*)(C([H])([H])[H])C([H])([H])[H] 0.000 claims description 3
- 125000002496 methyl group Chemical group [H]C([H])([H])* 0.000 claims description 2
- 125000001183 hydrocarbyl group Chemical group 0.000 claims 2
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 23
- 150000004819 silanols Chemical class 0.000 description 22
- 238000000034 method Methods 0.000 description 20
- KOPOQZFJUQMUML-UHFFFAOYSA-N chlorosilane Chemical class Cl[SiH3] KOPOQZFJUQMUML-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 18
- SCPYDCQAZCOKTP-UHFFFAOYSA-N silanol Chemical compound [SiH3]O SCPYDCQAZCOKTP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 14
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 12
- 150000002430 hydrocarbons Chemical group 0.000 description 10
- 239000012044 organic layer Substances 0.000 description 9
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- 239000003814 drug Substances 0.000 description 6
- IXCSERBJSXMMFS-UHFFFAOYSA-N hydrogen chloride Substances Cl.Cl IXCSERBJSXMMFS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 229910000041 hydrogen chloride Inorganic materials 0.000 description 6
- 239000010410 layer Substances 0.000 description 6
- 239000003905 agrochemical Substances 0.000 description 5
- VLKZOEOYAKHREP-UHFFFAOYSA-N n-Hexane Chemical compound CCCCCC VLKZOEOYAKHREP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 238000009835 boiling Methods 0.000 description 4
- 239000012295 chemical reaction liquid Substances 0.000 description 4
- DCFKHNIGBAHNSS-UHFFFAOYSA-N chloro(triethyl)silane Chemical compound CC[Si](Cl)(CC)CC DCFKHNIGBAHNSS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- KPUWHANPEXNPJT-UHFFFAOYSA-N disiloxane Chemical compound [SiH3]O[SiH3] KPUWHANPEXNPJT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 238000004821 distillation Methods 0.000 description 4
- 238000004817 gas chromatography Methods 0.000 description 4
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 4
- 230000007062 hydrolysis Effects 0.000 description 4
- 238000006460 hydrolysis reaction Methods 0.000 description 4
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 4
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 description 4
- 238000010992 reflux Methods 0.000 description 4
- 238000000926 separation method Methods 0.000 description 4
- 238000003786 synthesis reaction Methods 0.000 description 4
- FGWRMMTYIZKYMA-UHFFFAOYSA-N tert-butyl-hydroxy-dimethylsilane Chemical compound CC(C)(C)[Si](C)(C)O FGWRMMTYIZKYMA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- FYSNRJHAOHDILO-UHFFFAOYSA-N thionyl chloride Chemical compound ClS(Cl)=O FYSNRJHAOHDILO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N Benzene Chemical compound C1=CC=CC=C1 UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N Methanol Chemical compound OC OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N Toluene Chemical compound CC1=CC=CC=C1 YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 3
- 239000006227 byproduct Substances 0.000 description 3
- 238000001816 cooling Methods 0.000 description 3
- 239000012024 dehydrating agents Substances 0.000 description 3
- 239000002274 desiccant Substances 0.000 description 3
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 3
- 229910052736 halogen Inorganic materials 0.000 description 3
- 150000002367 halogens Chemical class 0.000 description 3
- MQNNNLJCDJBERF-UHFFFAOYSA-N hydroxy-tri(propan-2-yl)silane Chemical compound CC(C)[Si](O)(C(C)C)C(C)C MQNNNLJCDJBERF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000000543 intermediate Substances 0.000 description 3
- 239000000047 product Substances 0.000 description 3
- 125000003808 silyl group Chemical group [H][Si]([H])([H])[*] 0.000 description 3
- WVMSIBFANXCZKT-UHFFFAOYSA-N triethyl(hydroxy)silane Chemical compound CC[Si](O)(CC)CC WVMSIBFANXCZKT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- HEDRZPFGACZZDS-UHFFFAOYSA-N Chloroform Chemical compound ClC(Cl)Cl HEDRZPFGACZZDS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N Isopropanol Chemical compound CC(C)O KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- IMNFDUFMRHMDMM-UHFFFAOYSA-N N-Heptane Chemical compound CCCCCCC IMNFDUFMRHMDMM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- YGYAWVDWMABLBF-UHFFFAOYSA-N Phosgene Chemical compound ClC(Cl)=O YGYAWVDWMABLBF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N Tetrahydrofuran Chemical compound C1CCOC1 WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000007664 blowing Methods 0.000 description 2
- KQIADDMXRMTWHZ-UHFFFAOYSA-N chloro-tri(propan-2-yl)silane Chemical compound CC(C)[Si](Cl)(C(C)C)C(C)C KQIADDMXRMTWHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 2
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 description 2
- 125000000113 cyclohexyl group Chemical group [H]C1([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])(*)C([H])([H])C1([H])[H] 0.000 description 2
- 125000001511 cyclopentyl group Chemical group [H]C1([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])(*)C1([H])[H] 0.000 description 2
- SNRUBQQJIBEYMU-UHFFFAOYSA-N dodecane Chemical compound CCCCCCCCCCCC SNRUBQQJIBEYMU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000001914 filtration Methods 0.000 description 2
- 125000002887 hydroxy group Chemical group [H]O* 0.000 description 2
- 238000009776 industrial production Methods 0.000 description 2
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 2
- 230000035484 reaction time Effects 0.000 description 2
- 125000002914 sec-butyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])(*)C([H])([H])[H] 0.000 description 2
- 231100000331 toxic Toxicity 0.000 description 2
- 230000002588 toxic effect Effects 0.000 description 2
- WILBTFWIBAOWLN-UHFFFAOYSA-N triethyl(triethylsilyloxy)silane Chemical compound CC[Si](CC)(CC)O[Si](CC)(CC)CC WILBTFWIBAOWLN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- RYHBNJHYFVUHQT-UHFFFAOYSA-N 1,4-Dioxane Chemical compound C1COCCO1 RYHBNJHYFVUHQT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SYJMOIUYROLJTG-UHFFFAOYSA-N C(C)(C)(C)[Si](O)(CC(C)C)CC(C)C Chemical compound C(C)(C)(C)[Si](O)(CC(C)C)CC(C)C SYJMOIUYROLJTG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JRMZHDPKPXQJLH-UHFFFAOYSA-N C(C)(C)(C)[Si](O)(CCC)CCC Chemical compound C(C)(C)(C)[Si](O)(CCC)CCC JRMZHDPKPXQJLH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ADZWYYGHHWRYJC-UHFFFAOYSA-N C(C)(C)(C)[Si](O)(CCCC)CCCC Chemical compound C(C)(C)(C)[Si](O)(CCCC)CCCC ADZWYYGHHWRYJC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PMRGQZSHTYHNDK-UHFFFAOYSA-N C(C)(C)(CC)[Si](O)(CC)CC Chemical compound C(C)(C)(CC)[Si](O)(CC)CC PMRGQZSHTYHNDK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KZNVPCJMHGNQRM-UHFFFAOYSA-N C(C)(C)[SiH](O)CC1CCCC1 Chemical compound C(C)(C)[SiH](O)CC1CCCC1 KZNVPCJMHGNQRM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FEGAZXFEKXMELA-UHFFFAOYSA-N C(C)(C)[SiH](O)CC1CCCCC1 Chemical compound C(C)(C)[SiH](O)CC1CCCCC1 FEGAZXFEKXMELA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YGRFKGFRRFRBJR-UHFFFAOYSA-N C(C)(C)[Si](O)(C(C)CC)C(C)C Chemical compound C(C)(C)[Si](O)(C(C)CC)C(C)C YGRFKGFRRFRBJR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HDQDIMSOKIMXHF-UHFFFAOYSA-N C(C)(C)[Si](O)(C)C(C)(C)CC Chemical compound C(C)(C)[Si](O)(C)C(C)(C)CC HDQDIMSOKIMXHF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MBIDGWWOQSRGSU-UHFFFAOYSA-N C(C)(C)[Si](O)(C)C(C)CC Chemical compound C(C)(C)[Si](O)(C)C(C)CC MBIDGWWOQSRGSU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JNDNMSPZEWDDLB-UHFFFAOYSA-N C(C)(C)[Si](O)(C1=CC=CC=C1)C(C)CC Chemical compound C(C)(C)[Si](O)(C1=CC=CC=C1)C(C)CC JNDNMSPZEWDDLB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UJCVCNVFHVVJJO-UHFFFAOYSA-N C(C)(C)[Si](O)(CC)C(C)CC Chemical compound C(C)(C)[Si](O)(CC)C(C)CC UJCVCNVFHVVJJO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OJIJAJQQZFWGMK-UHFFFAOYSA-N C(C)(C)[Si](O)(CCC)C(C)CC Chemical compound C(C)(C)[Si](O)(CCC)C(C)CC OJIJAJQQZFWGMK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YNXHSVQEEJNESD-UHFFFAOYSA-N C(C)(C)[Si](O)(CCC)CCC Chemical compound C(C)(C)[Si](O)(CCC)CCC YNXHSVQEEJNESD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WNGIXDHLJSVANR-UHFFFAOYSA-N C(C)(C)[Si](O)(CCCC)CCCC Chemical compound C(C)(C)[Si](O)(CCCC)CCCC WNGIXDHLJSVANR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FIFXQNDMLZKRAW-UHFFFAOYSA-N C(C)(C)[Si](O)(CCCCCC)CCCCCC Chemical compound C(C)(C)[Si](O)(CCCCCC)CCCCCC FIFXQNDMLZKRAW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CLFFSCYCJFXULC-UHFFFAOYSA-N C(C)(CC)[SiH](O)CC1CCCC1 Chemical compound C(C)(CC)[SiH](O)CC1CCCC1 CLFFSCYCJFXULC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OBRAYJFYNNENCZ-UHFFFAOYSA-N C(C)(CC)[SiH](O)CC1CCCCC1 Chemical compound C(C)(CC)[SiH](O)CC1CCCCC1 OBRAYJFYNNENCZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BCHXOLBIZZHYFF-UHFFFAOYSA-N C(C)(CC)[Si](O)(C)C(C)(C)C Chemical compound C(C)(CC)[Si](O)(C)C(C)(C)C BCHXOLBIZZHYFF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GBZHPHDQTXCHND-UHFFFAOYSA-N C(C)(CC)[Si](O)(C)C(C)(C)CC Chemical compound C(C)(CC)[Si](O)(C)C(C)(C)CC GBZHPHDQTXCHND-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SEVJCQOVQKCIPC-UHFFFAOYSA-N C(C)(CC)[Si](O)(C1=CC=CC=C1)C Chemical compound C(C)(CC)[Si](O)(C1=CC=CC=C1)C SEVJCQOVQKCIPC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WYMGAOBSIVCOAU-UHFFFAOYSA-N C(C)(CC)[Si](O)(C1=CC=CC=C1)C(C)CC Chemical compound C(C)(CC)[Si](O)(C1=CC=CC=C1)C(C)CC WYMGAOBSIVCOAU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GDDMQUPPOZRDCB-UHFFFAOYSA-N C(C)(CC)[Si](O)(C1=CC=CC=C1)CC Chemical compound C(C)(CC)[Si](O)(C1=CC=CC=C1)CC GDDMQUPPOZRDCB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LCGWPRBJTHSYAJ-UHFFFAOYSA-N C(C)(CC)[Si](O)(CC)CC Chemical compound C(C)(CC)[Si](O)(CC)CC LCGWPRBJTHSYAJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QEKDKZJYOFYJIA-UHFFFAOYSA-N C(C)(CC)[Si](O)(CCC)CCC Chemical compound C(C)(CC)[Si](O)(CCC)CCC QEKDKZJYOFYJIA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QILSRMMNQJXPMJ-UHFFFAOYSA-N C1(CCCC1)CC[SiH](O)C1=CC=CC=C1 Chemical compound C1(CCCC1)CC[SiH](O)C1=CC=CC=C1 QILSRMMNQJXPMJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CAGIASRTJDCMRI-UHFFFAOYSA-N C1(CCCC1)C[SiH](O)C1=CC=CC=C1 Chemical compound C1(CCCC1)C[SiH](O)C1=CC=CC=C1 CAGIASRTJDCMRI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PPUNZBPXZAFNFK-UHFFFAOYSA-N C1(CCCC1)[Si](O)(C)C(C)(C)C Chemical compound C1(CCCC1)[Si](O)(C)C(C)(C)C PPUNZBPXZAFNFK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IFDRATPRHPGGGL-UHFFFAOYSA-N C1(CCCC1)[Si](O)(C1=CC=CC=C1)C1=CC=CC=C1 Chemical compound C1(CCCC1)[Si](O)(C1=CC=CC=C1)C1=CC=CC=C1 IFDRATPRHPGGGL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004215 Carbon black (E152) Substances 0.000 description 1
- XDTMQSROBMDMFD-UHFFFAOYSA-N Cyclohexane Chemical compound C1CCCCC1 XDTMQSROBMDMFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N Hydrogen Chemical compound [H][H] UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NHTMVDHEPJAVLT-UHFFFAOYSA-N Isooctane Chemical compound CC(C)CC(C)(C)C NHTMVDHEPJAVLT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N O-Xylene Chemical compound CC1=CC=CC=C1C CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000006087 Silane Coupling Agent Substances 0.000 description 1
- LSNNMFCWUKXFEE-UHFFFAOYSA-N Sulfurous acid Chemical compound OS(O)=O LSNNMFCWUKXFEE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000005456 alcohol based solvent Substances 0.000 description 1
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000003277 amino group Chemical group 0.000 description 1
- 125000003710 aryl alkyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000003118 aryl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000001797 benzyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(C([H])=C1[H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 239000003782 beta lactam antibiotic agent Substances 0.000 description 1
- NTTGPFIFBYIGOU-UHFFFAOYSA-N butan-2-yl-ethyl-hydroxy-methylsilane Chemical compound CCC(C)[Si](C)(O)CC NTTGPFIFBYIGOU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZWACQVOMXWANDX-UHFFFAOYSA-N butan-2-yl-hydroxy-dimethylsilane Chemical compound CCC(C)[Si](C)(C)O ZWACQVOMXWANDX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PBLHTYIQZGEWKO-UHFFFAOYSA-N butyl-hydroxy-di(propan-2-yl)silane Chemical compound CCCC[Si](O)(C(C)C)C(C)C PBLHTYIQZGEWKO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052801 chlorine Inorganic materials 0.000 description 1
- 125000001309 chloro group Chemical group Cl* 0.000 description 1
- 238000007796 conventional method Methods 0.000 description 1
- 239000013078 crystal Substances 0.000 description 1
- BJVXBRMSWLVFBH-UHFFFAOYSA-N cyclohexyl-diethyl-hydroxysilane Chemical compound CC[Si](O)(CC)C1CCCCC1 BJVXBRMSWLVFBH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JTWQAVAMWKUNAX-UHFFFAOYSA-N cyclohexyl-hydroxy-di(propan-2-yl)silane Chemical compound CC(C)[Si](O)(C(C)C)C1CCCCC1 JTWQAVAMWKUNAX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- URCSFMMTKDBCDX-UHFFFAOYSA-N cyclohexyl-hydroxy-dimethylsilane Chemical compound C[Si](C)(O)C1CCCCC1 URCSFMMTKDBCDX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UNTZCWTWVDTFPQ-UHFFFAOYSA-N cyclohexyl-hydroxy-dipropylsilane Chemical compound CCC[Si](O)(CCC)C1CCCCC1 UNTZCWTWVDTFPQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ILROXYQJDDMQQC-UHFFFAOYSA-N cyclopentyl-diethyl-hydroxysilane Chemical compound CC[Si](O)(CC)C1CCCC1 ILROXYQJDDMQQC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OBNNZFWATGFKET-UHFFFAOYSA-N cyclopentyl-hydroxy-di(propan-2-yl)silane Chemical compound CC(C)[Si](O)(C(C)C)C1CCCC1 OBNNZFWATGFKET-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GNBFJFJEYJZIEW-UHFFFAOYSA-N cyclopentyl-hydroxy-dimethylsilane Chemical compound C[Si](C)(O)C1CCCC1 GNBFJFJEYJZIEW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RZLVBVIESVWCGC-UHFFFAOYSA-N cyclopentyl-hydroxy-dipropylsilane Chemical compound CCC[Si](O)(CCC)C1CCCC1 RZLVBVIESVWCGC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000018044 dehydration Effects 0.000 description 1
- 238000006297 dehydration reaction Methods 0.000 description 1
- UZWNMFPFGOFVLL-UHFFFAOYSA-N di(butan-2-yl)-butyl-hydroxysilane Chemical compound CCCC[Si](O)(C(C)CC)C(C)CC UZWNMFPFGOFVLL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MGGGRPWMGVJRNR-UHFFFAOYSA-N di(butan-2-yl)-ethyl-hydroxysilane Chemical compound CCC(C)[Si](O)(CC)C(C)CC MGGGRPWMGVJRNR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GVZJSCXIKDFVKN-UHFFFAOYSA-N di(butan-2-yl)-hydroxy-methylsilane Chemical compound CCC(C)[Si](C)(O)C(C)CC GVZJSCXIKDFVKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NHTYURCQJWYGFZ-UHFFFAOYSA-N di(butan-2-yl)-hydroxy-propylsilane Chemical compound CCC[Si](O)(C(C)CC)C(C)CC NHTYURCQJWYGFZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MCIZETFFSOLIHL-UHFFFAOYSA-N diethyl-hydroxy-propan-2-ylsilane Chemical compound CC[Si](O)(CC)C(C)C MCIZETFFSOLIHL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JVSWJIKNEAIKJW-UHFFFAOYSA-N dimethyl-hexane Natural products CCCCCC(C)C JVSWJIKNEAIKJW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YAOMQFUAGYZCIR-UHFFFAOYSA-N ditert-butyl-hydroxy-phenylsilane Chemical compound CC(C)(C)[Si](O)(C(C)(C)C)C1=CC=CC=C1 YAOMQFUAGYZCIR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229940079593 drug Drugs 0.000 description 1
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 239000004210 ether based solvent Substances 0.000 description 1
- 125000001495 ethyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- QPBWLEGNBSNMLG-UHFFFAOYSA-N ethyl-hydroxy-di(propan-2-yl)silane Chemical compound CC[Si](O)(C(C)C)C(C)C QPBWLEGNBSNMLG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UULPRTYOSLWMHO-UHFFFAOYSA-N ethyl-hydroxy-methyl-propan-2-ylsilane Chemical compound CC[Si](C)(O)C(C)C UULPRTYOSLWMHO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MGLPUHWTRVIBKO-UHFFFAOYSA-N ethyl-hydroxy-phenyl-propan-2-ylsilane Chemical compound CC[Si](O)(C(C)C)C1=CC=CC=C1 MGLPUHWTRVIBKO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000000524 functional group Chemical group 0.000 description 1
- 229930195733 hydrocarbon Natural products 0.000 description 1
- 239000001257 hydrogen Substances 0.000 description 1
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 description 1
- 125000004435 hydrogen atom Chemical group [H]* 0.000 description 1
- BUBNENXORUFEDM-UHFFFAOYSA-N hydroxy-(2-methylbutan-2-yl)-diphenylsilane Chemical compound C=1C=CC=CC=1[Si](O)(C(C)(C)CC)C1=CC=CC=C1 BUBNENXORUFEDM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KEXKNWXWRKHSGH-UHFFFAOYSA-N hydroxy-bis(2-methylpropyl)-propan-2-ylsilane Chemical compound CC(C)C[Si](O)(C(C)C)CC(C)C KEXKNWXWRKHSGH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GGAPGRXVJXIYRQ-UHFFFAOYSA-N hydroxy-di(propan-2-yl)-propylsilane Chemical compound CCC[Si](O)(C(C)C)C(C)C GGAPGRXVJXIYRQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CCUJSJKVWVZTKX-UHFFFAOYSA-N hydroxy-dimethyl-propan-2-ylsilane Chemical compound CC(C)[Si](C)(C)O CCUJSJKVWVZTKX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XPNHTKZQLZVYHZ-UHFFFAOYSA-N hydroxy-diphenyl-propan-2-ylsilane Chemical compound C=1C=CC=CC=1[Si](O)(C(C)C)C1=CC=CC=C1 XPNHTKZQLZVYHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RTQZFPBKRLELIX-UHFFFAOYSA-N hydroxy-methyl-di(propan-2-yl)silane Chemical compound CC(C)[Si](C)(O)C(C)C RTQZFPBKRLELIX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LLENFDWLUJBNFC-UHFFFAOYSA-N hydroxy-methyl-phenyl-propan-2-ylsilane Chemical compound CC(C)[Si](C)(O)C1=CC=CC=C1 LLENFDWLUJBNFC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZQCYYJCFXGFARW-UHFFFAOYSA-N hydroxy-phenyl-di(propan-2-yl)silane Chemical compound CC(C)[Si](O)(C(C)C)C1=CC=CC=C1 ZQCYYJCFXGFARW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000005457 ice water Substances 0.000 description 1
- 125000000959 isobutyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])(C([H])([H])[H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 125000004108 n-butyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 125000001280 n-hexyl group Chemical group C(CCCCC)* 0.000 description 1
- 125000004123 n-propyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 125000003261 o-tolyl group Chemical group [H]C1=C([H])C(*)=C(C([H])=C1[H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- TVMXDCGIABBOFY-UHFFFAOYSA-N octane Chemical compound CCCCCCCC TVMXDCGIABBOFY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000007524 organic acids Chemical class 0.000 description 1
- 229940094443 oxytocics prostaglandins Drugs 0.000 description 1
- 125000001147 pentyl group Chemical group C(CCCC)* 0.000 description 1
- 239000000575 pesticide Substances 0.000 description 1
- 125000001997 phenyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(*)C([H])=C1[H] 0.000 description 1
- 125000000286 phenylethyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(C([H])=C1[H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- XHXFXVLFKHQFAL-UHFFFAOYSA-N phosphoryl trichloride Chemical compound ClP(Cl)(Cl)=O XHXFXVLFKHQFAL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920001296 polysiloxane Polymers 0.000 description 1
- 150000003180 prostaglandins Chemical class 0.000 description 1
- 238000000746 purification Methods 0.000 description 1
- 239000002994 raw material Substances 0.000 description 1
- 239000011541 reaction mixture Substances 0.000 description 1
- 238000011084 recovery Methods 0.000 description 1
- 229920006395 saturated elastomer Polymers 0.000 description 1
- 238000003756 stirring Methods 0.000 description 1
- 125000001424 substituent group Chemical group 0.000 description 1
- 238000001308 synthesis method Methods 0.000 description 1
- 230000002194 synthesizing effect Effects 0.000 description 1
- QOCUOBKPFSQOAT-UHFFFAOYSA-N tert-butyl-cyclohexyl-hydroxy-methylsilane Chemical compound CC(C)(C)[Si](C)(O)C1CCCCC1 QOCUOBKPFSQOAT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- AMWFWKGVCMPZJC-UHFFFAOYSA-N tert-butyl-diethyl-hydroxysilane Chemical compound CC[Si](O)(CC)C(C)(C)C AMWFWKGVCMPZJC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZLDUKZLZXXDDQX-UHFFFAOYSA-N tert-butyl-hydroxy-di(propan-2-yl)silane Chemical compound CC(C)[Si](O)(C(C)C)C(C)(C)C ZLDUKZLZXXDDQX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UNAYGNMKNYRIHL-UHFFFAOYSA-N tert-butyl-hydroxy-diphenylsilane Chemical compound C=1C=CC=CC=1[Si](O)(C(C)(C)C)C1=CC=CC=C1 UNAYGNMKNYRIHL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VLKDZHUARIPFFA-UHFFFAOYSA-N tert-butyl-hydroxy-methyl-phenylsilane Chemical compound CC(C)(C)[Si](C)(O)C1=CC=CC=C1 VLKDZHUARIPFFA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZQLMYRFUTKINHN-UHFFFAOYSA-N tert-butyl-hydroxy-methyl-propan-2-ylsilane Chemical compound CC(C)[Si](C)(O)C(C)(C)C ZQLMYRFUTKINHN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NKPKJTMIQFJZOJ-UHFFFAOYSA-N tert-butyl-hydroxy-methylsilane Chemical compound C[SiH](O)C(C)(C)C NKPKJTMIQFJZOJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BCNZYOJHNLTNEZ-UHFFFAOYSA-N tert-butyldimethylsilyl chloride Chemical compound CC(C)(C)[Si](C)(C)Cl BCNZYOJHNLTNEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000003511 tertiary amides Chemical class 0.000 description 1
- YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N tetrahydrofuran Natural products C=1C=COC=1 YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KCLIAAHZNWPMNT-UHFFFAOYSA-N tri(butan-2-yl)-hydroxysilane Chemical compound CCC(C)[Si](O)(C(C)CC)C(C)CC KCLIAAHZNWPMNT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000002699 waste material Substances 0.000 description 1
- 239000008096 xylene Substances 0.000 description 1
- 239000002132 β-lactam antibiotic Substances 0.000 description 1
- 229940124586 β-lactam antibiotics Drugs 0.000 description 1
Description
【発明の属する技術分野】
本発明は、シラノール化合物からクロロシラン化合物を製造する方法に関する。
【0002】
【従来の技術】
クロロシラン類は、各種シリコーン化合物やシランカップリング剤等の合成原料、医薬、農薬類の合成時での反応性基の保護などに用いられている。
【0003】
特に、2級、3級の炭化水素基を有する嵩高いクロロシラン類は、プロスタグランジンや、β−ラクタム系抗生物質等の各種医薬、農薬類の合成時に反応性の活性水素を有するヒドロキシル基やアミノ基等を保護する目的で用いられており、有機合成上重要な役割を担っている。
【0004】
従来、反応性基の保護に使用されたクロロシラン類は、反応性基保護の役目を終えた後に、加水分解等によりシラノール化合物となり、医薬、農薬やそれらの中間体等の目的物から除去され、その後廃棄されていた。この廃棄されていたシラノール類を、容易にかつ安価にクロロシランに変換することができれば、廃棄物を減らし、シラノール類をリサイクルできるばかりでなく、嵩高い置換基を有するクロロシラン類を安価に製造することができる。
【0005】
ここで、シラノール類からクロロシラン類を製造する方法としては、次の製造方法が知られている。
(1)シラノール類とホスゲンを3級アミド存在下に反応させる方法(例えば、特許文献1参照)。
(2)シラノール類と塩化水素ガスを脱水剤の存在下に反応させるか、又は、生成した水を層分離により除くためにクロロホルム溶媒を用いてシラノール類と塩化水素ガスを反応させる方法(例えば、特許文献2参照)。
(3)シラノール類をリン塩化物と反応させる方法(例えば、特許文献3参照)。
(4)シラノール類を有機酸塩化物と反応させる方法(例えば、特許文献4参照)。
(5)シラノール類を塩化チオニルと反応させる方法(例えば、特許文献5参照)。
【0006】
しかしながら、上記(1)の方法では、有毒なホスゲンを使用する必要があり、工業的に有利な方法ではない。また、上記(2)の方法では、生成する水を除去するためにハロゲン系溶媒を使用する必要がある。また、脱水剤を用いた場合にもハロゲン系溶媒が必要であり、且つ濾過により脱水剤を除去する必要があり、工業的製造には適していない。上記(3)、(4)の方法では、反応後に生成する副生物を蒸留精製により分離する必要があり、また収率が低いという欠点がある。上記(5)の方法では、副生物として有毒な亜硫酸ガスが発生するために工業的な製法として好ましくない。以上のように、これらの方法はいずれも、工業的規模で安価にシラノール類からクロロシラン類を製造する方法としては適していなかった。
【0007】
一方、安価な塩酸を用いてシラノール類からクロロシラン類を製造する方法として、トリエチルシラノールを氷冷下に濃塩酸と反応させる方法が報告されている(例えば、非特許文献1参照)。しかしながらこの方法では、氷冷下という条件での反応にもかかわらず、クロロシランが加水分解し易いため、ヘキサエチルジシロキサンが副生し、トリエチルクロロシランの収率は低下してしまうという問題点があった。
【0008】
また、反応性基を有する化合物の保護に使用されたシリル基を、目的物から脱離させたtert−ブチルジメチルシラノールを反応混合物から容易に回収する方法として、シラノールのヘミハイドレート([t−BuMe2SiOH]2・H2O)として反応液から回収する方法が報告されている(例えば、非特許文献2参照)。この方法では、ヘミハイドレートを分離した後に、ハロゲン系溶媒を加えて水を分離させ、乾燥剤により乾燥を行った後、塩化チオニルによりクロロシランの合成を行っているが、シラノールのクロロシランへの変換に関しては、上記と同様の欠点を有している。
【0009】
一方で、上記からもわかるように、シラノール類は、その性質として水分を吸収しやすい。また、反応性基の保護に使用されたシリル化合物を、反応性基保護の役目を終えた後に、加水分解等により医薬、農薬やそれらの中間体から除去する場合には、多くの場合、水を使用した反応条件が使用され、特にシラノール類として回収するためには水が使用される。従って、反応性基から脱保護されたシラノール類は、一般に含水状態である。含水状態のシラノール類を脱水することなく、クロロシラン類に変換することができれば、その製造方法は工業的に有用であることからも、含水状態のシラノール類からクロロシラン類を工業的に安価に製造する方法の開発が望まれていた。
【0010】
このように、従来のシラノール類、特に反応性基の保護に使用されたシリル化合物を反応性基保護の役目を終えた後に、加水分解等により生成させ、医薬、農薬やそれらの中間体から除去したシラノール類、特に含水状態のシラノール類からクロロシラン類を工業的に安価に製造する方法は知られていなかった。
【0011】
【特許文献1】
特公平7−14947号公報
【特許文献2】
特開昭62−187476号公報
【特許文献3】
特公昭63−27356号公報
【特許文献4】
特開昭62−123190号公報
【特許文献5】
特開昭62−10095号公報
【非特許文献1】
J.Am.Chem.Soc.,68,2282(1946)
【非特許文献2】
J.Organomet.Chem.421,171−174(1991)
【非特許文献3】
J.Am.Chem.Soc.,76,1030(1954)
【0012】
【発明が解決しようとする課題】
本発明は、上記事情に鑑みなされたもので、シラノール化合物からクロロシラン化合物を、工業的有利に、安価に、収率よく製造する方法を提供することを目的とする。
【0013】
【課題を解決するための手段及び発明の実施の形態】
本発明者は、上記目的を達成するために鋭意検討を行った結果、トリエチルシラノールを氷冷下に塩酸と反応させた場合と異なり、少なくとも1つの2級又は3級の一価炭化水素基を有するトリオルガノシラノールを塩酸と反応させた場合、驚くべきことに室温での反応であるにもかかわらず、加水分解によるジシロキサンの副生が殆ど見られず、高収率でトリオルガノクロロシランが得られることを見出し、本発明をなすに至ったものである。
【0014】
従って、本発明は、下記一般式(1)
R1R2R3SiOH (1)
(式中、R1、R2は、炭素数1〜20の置換又は非置換の一価炭化水素基、R3は、炭素数3〜20の2級又は3級一価炭化水素基を示す。)
で表されるシラノール化合物を、濃度25〜35重量%の塩酸と反応させることを特徴とする下記一般式(2)
R1R2R3SiCl (2)
(式中、R1、R2、R3は、前記と同じである。)
で表されるクロロシラン化合物の製造方法を提供する。
【0015】
以下、本発明につき更に詳しく説明する。
本発明のクロロシラン化合物の製造方法は、下記一般式(1)で表されるシラノール化合物を、塩酸と反応させることにより行うものである。
【0016】
R1R2R3SiOH (1)
(式中、R1、R2は、炭素数1〜20の置換又は非置換の一価炭化水素基、R3は、炭素数3〜20の2級又は3級一価炭化水素基を示す。)
【0017】
本発明に用いられるシラノール化合物としては、上記一般式(1)で表されるものであり、少なくとも1つの2級又は3級一価炭化水素基を有するものである。
【0018】
式(1)中のR1、R2は、炭素数1〜20、特に1〜6の置換又は非置換の一価炭化水素基であり、具体的には、メチル基、エチル基、n−プロピル基、イソプロピル基、n−ブチル基、イソブチル基、sec−ブチル基、tert−ブチル基、n−ヘキシル基、n−オクチル基、n−デシル基、n−オタタデシル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基等の炭素数1〜20のアルキル基、フェニル基、o−トリル基等のアリール基、ベンジル基、フェニルエチル基等のアラルキル基などを挙げることができる。また、R3は、炭素数3〜20、特に3〜8の2級又は3級一価炭化水素基であり、具体的には、イソプロピル基、sec−ブチル基、tert−ブチル基、tert−ペンチル基、1,1,2−トリメチルプロピル基(テキシル基)、シクロペンチル基、シクロヘキシル基等の炭素数3〜20の2級又は3級アルキル基などを挙げることができる。R1、R2、R3は、互いに同一でも、また異なっていてもよい。
【0019】
上記式(1)で表されるシラノール化合物として、具体的には、イソプロピルジメチルシラノール、イソプロピルエチルメチルシラノール、イソプロピルジエチルシラノール、イソプロピルジ−n−プロピルシラノール、イソプロピルジ−n−ブチルシラノール、イソプロピルジイソブチルシラノール、イソプロピルジ−n−ヘキシルシラノール、イソプロピルメチルフェニルシラノール、イソプロピルエチルフェニルシラノール、イソプロピルジフェニルシラノール、sec−ブチルジメチルシラノール、sec−ブチルエチルメチルシラノール、sec−ブチルジエチルシラノール、sec−ブチルジ−n−プロピルシラノール、sec−ブチルメチルフェニルシラノール、sec−ブチルエチルフェニルシラノール、sec−ブチルジフェニルシラノール、シクロペンチルジメチルシラノール、シクロペンチルジエチルシラノール、シクロペンチルジ−n−プロピルシラノール、シクロペンチルメチルフェニルシラノール、シクロペンチルエチルフェニルシラノール、シクロペンチルジフェニルシラノール、シクロヘキシルジメチルシラノール、シクロヘキシルジエチルシラノール、シクロヘキシルジ−n−プロピルシラノール、tert−ブチルジメチルシラノール、tert−ブチルジエチルシラノール、tert−ブチルジ−n−プロピルシラノール、tert−ブチルジ−n−ブチルシラノール、tert−ブチルジイソブチルシラノール、tert−ブチルメチルフェニルシラノール、tert−ブチルジフェニルシラノール、tert−ペンチルジメチルシラノール、tert−ペンチルジエチルシラノール、tert−ペンチルジフェニルシラノール、テキシルジメチルシラノール、テキシルジエチルシラノール、テキシルジ−n−プロピルシラノール、テキシルジフェニルシラノール、ジイソプロピルメチルシラノール、ジイソプロピルエチルシラノール、ジイソプロピル−n−プロピルシラノール、ジイソプロピル−n−ブチルシラノール、ジイソプロピルフェニルシラノール、イソプロピル−sec−ブチルメチルシラノール、イソプロピル−sec−ブチルエチルシラノール、イソプロピル−sec−ブチル−n−プロピルシラノール、イソプロピル−sec−ブチルフェニルシラノール、イソプロピルシクロペンチルメチルシラノール、イソプロピルシクロヘキシルメチルシラノール、イソプロピル−tert−ブチルメチルシラノール、イソプロピル−tert−ペンチルメチルシラノール、ジ−sec−ブチルメチルシラノール、ジ−sec−ブチルエチルシラノール、ジ−sec−ブチル−n−プロピルシラノール、ジ−sec−ブチル−n−ブチルシラノール、ジ−sec−ブチルフェニルシラノール、sec−ブチルシクロペンチルメチルシラノール、sec−ブチルシクロヘキシルメチルシラノール、sec−ブチル−tert−ブチルメチルシラノール、sec−ブチル−tert−ペンチルメチルシラノール、ジシクロペンチルメチルシラノール、シクロヘキシルシクロペンチルメチルシラノール、シクロペンチル−tert−ブチルメチルシラノール、シクロヘキシル−tert−ブチルメチルシラノール、ジ−tert−ブチルメチルシラノール、ジ−tert−ブチルフェニルシラノール、トリイソプロピルシラノール、ジイソプロピル−sec−ブチルシラノール、ジイソプロピルシクロペンチルシラノール、ジイソプロピルシクロヘキシルシラノール、ジイソプロピル−tert−ブチルシラノール、ジイソプロピルテキシルシラノール、トリ−sec−ブチルシラノール等が挙げられる。シラノールは、[t−BuMe2SiOH]2・H2Oのようなヘミハイドレートで用いてもよく、ハイドレートの形で用いてもよい。また、シラノールは水を含んでいてもよい。本発明においては、これらの中でも、tert−ブチルジメチルシラノール、テキシルジメチルシラノール、トリイソプロピルシラノールを好適に使用することができる。
【0020】
これらのシラノール化合物は、従来知られている合成方法(例えば、非特許文献3参照)により容易に合成可能であり、また、医薬、農薬等の合成時に活性水素基を有する官能基の保護に用いられたシリル基を脱保護したときに得られるシラノール化合物を用いることもできる。
【0021】
本発明で用いる塩酸の量は、上記式(1)で表されるシラノール化合物1モルに対して、HClとして1〜30モル、特に2〜10モル用いることが好ましい。これより少ないと反応が十分進行せず、シラノール化合物が未反応で残り、収率が低下するおそれがあり、これより多く用いても、反応時間の短縮や収率の向上は期待できず、ポットイールドが低下する場合がある。なお、本発明で用いる塩酸の濃度は、10重量%から飽和濃度(37重量%)、好ましくは25〜35重量%の濃度の塩酸、特に好ましくは工業的に入手容易な35重量%塩酸を用いることが望ましい。塩酸濃度の低下を抑えるために、塩化水素を吹き込みながら反応させることもできる。
【0022】
本反応は、無溶媒で実施することができるが、溶媒を用いて行ってもよい。特に、原料のシラノール又は生成物のクロロシランが結晶である場合には、反応の操作性を向上させるために溶媒を用いることが好ましい。適当な溶媒としては、ヘキサン、シクロヘキサン、ヘプタン、オクタン、イソオクタン、ドデカン、ベンゼン、トルエン、キシレン等の炭化水素系溶媒、テトラヒドロフラン、ジオキサン等のエーテル系溶媒、メタノール、エタノール、イソプロパノール等のアルコール系溶媒等が挙げられる。
【0023】
本反応は、塩酸中にシラノール又はシラノール溶液を加えて反応させてもよく、また、シラノール又はシラノール溶液に塩酸を加えて反応させることもできる。シラノール又はシラノール溶液と塩酸を仕込んだ後に攪拌することにより反応させることもできる。いずれの方法の場合にも、塩化水素を吹き込みながら反応させることができる。
【0024】
本発明のシラノール化合物と塩酸との反応は、温度5〜110℃、好ましくは10〜50℃で行うことが望ましい。反応は、常圧下に行ってもよく、加圧下に行ってもよい。また、反応時間は、1〜30時間、好ましくは1〜10時間とすることが望ましい。
【0025】
上記反応後、分液により水層を分離した残りの有機層は、高純度のクロロシランであり、そのままでも使用することができるが、乾燥剤を添加した後、濾過により乾燥剤を除去して使用することもでき、蒸留により単離を行うこともできる。また、溶媒を用いて反応を行った場合にも、クロロシラン溶液としてそのまま又は乾燥して使用することができる。溶媒を用いた場合も、用いなかった場合のいずれの場合にも、蒸留により単離することができ、この場合、蒸留は常圧下あるいは減圧下、常法に準じて行うことにより目的のクロロシランを得ることができる。
【0026】
このようにして得られたクロロシラン化合物は、下記一般式(2)で表されるもので、上記一般式(1)で表されるシラノール化合物のOH基が、塩素原子に置換されたものである。
R1R2R3SiCl (2)
(式中、R1、R2、R3は、前記と同じである。)
【0027】
なお、反応後に分液により除かれた塩酸は、反応に必要な濃度以上であれば、そのままシラノール化合物を加えて再び反応に用いることができる。また、塩化水素を加えて濃度を高めた後、再びシラノール化合物との反応に用いることもできる。
【0028】
【実施例】
以下、実施例及び比較例を示し、本発明を具体的に説明するが、本発明は下記の実施例に制限されるものではない。
【0029】
[実施例1]
500mlの4つ口ガラスフラスコに、還流冷却器、温度計及び攪拌機を取り付け、内部を窒素置換し、35重量%塩酸375.4gを仕込んだ。次いで、ここにトリイソプロピルシラノール104.7g(0.6mol)を、内温26〜27℃で30分かけて滴下した。滴下終了後、更に3時間攪拌した。有機層をガスクロマトグラフィーにより分析したところ、シラノールの反応率は99.8%であり、ジシロキサンは生成していなかった。得られた反応液を分液して水層を分離した後、有機層を蒸留して沸点64.5〜65.5℃/0.9kPaの留分として、トリイソプロピルクロロシランが112.2g(0.682mol)得られた。収率は、97.0%であった。
【0030】
[実施例2]
500mlの4つ口ガラスフラスコに、還流冷却器、温度計及び攪拌機を取り付け、内部を窒素置換し、35重量%塩酸438.0gを仕込んだ。次いで、ここにtert−ブチルジメチルシラノール92.6g(0.7mol)のn−ヘキサン(105.5g)溶液を、内温22〜24℃で30分かけて滴下した。滴下終了後、更に1時間攪拌した。有機層をガスクロマトグラフィーにより分析したところ、シラノールの反応率は99.5%であり、ジシロキサンは生成していなかった。得られた反応液を分液して水層を分離した後、有機層を蒸留して沸点124〜126℃の留分として、tert−ブチルジメチルクロロシランが96.3g(0.639mol)得られた。収率は、91.3%であった。
【0031】
[実施例3]
500mlの4つ口ガラスフラスコに、還流冷却器、温度計及び攪拌機を取り付け、内部を窒素置換し、35重量%塩酸375.4gを仕込んだ。次いで、ここにテキシルジメチルシラノール96.2g(0.6mol)を、内温23〜26℃で30分かけて滴下した。滴下終了後、更に3時間攪拌した。有機層をガスクロマトグラフィーにより分析したところ、シラノールの反応率は100%であり、ジシロキサンは生成していなかった。得られた反応液を分液して水層を分離した後、有機層を蒸留して沸点70.0〜71.0℃/2.7kPaの留分として、テキシルジメチルクロロシランが103.5g(0.578mol)得られた。収率は、96.5%であった。
【0032】
[比較例1]
1Lの4つ口ガラスフラスコに、還流冷却器、温度計及び攪拌機を取り付け、内部を窒素置換し、35重量%塩酸450.0gを仕込み、氷水浴により冷却した。次いで、ここにトリエチルシラノール66.2g(0.5mol)を、内温3〜8℃で1時間かけて滴下した。滴下終了後、更に1時間攪拌した。有機層をガスクロマトグラフィーにより分析したところ、シラノールの反応率は100%であり、ヘキサエチルジシロキサンが19.5面積%生成していた。得られた反応液を分液して水層を分離した後、有機層を蒸留して沸点124.0〜125.0℃の留分として、トリエチルクロロシランが58.8g(0.39mol)得られた。収率は、78.0%であった。
【0033】
【発明の効果】
本発明によれば、安価で入手可能な塩酸を用いて工業的に実施容易な方法により、シラノール化合物からクロロシラン化合物を収率よく、安価に製造することができる。
Claims (3)
- 下記一般式(1)
R1R2R3SiOH (1)
(式中、R1、R2は、炭素数1〜20の置換又は非置換の一価炭化水素基、R3は、炭素数3〜20の2級又は3級一価炭化水素基を示す。)
で表されるシラノール化合物を、濃度25〜35重量%の塩酸と反応させることを特徴とする下記一般式(2)
R1R2R3SiCl (2)
(式中、R1、R2、R3は、前記と同じである。)
で表されるクロロシラン化合物の製造方法。 - 一般式(1)、(2)において、R1、R2がメチル基、R3がtert−ブチル基又は1,1,2−トリメチルプロピル基である請求項1記載のクロロシラン化合物の製造方法。
- 一般式(1)、(2)において、R1、R2、R3がイソプロピル基である請求項1記載のクロロシラン化合物の製造方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2002269747A JP4178378B2 (ja) | 2002-09-17 | 2002-09-17 | クロロシラン化合物の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2002269747A JP4178378B2 (ja) | 2002-09-17 | 2002-09-17 | クロロシラン化合物の製造方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2004107229A JP2004107229A (ja) | 2004-04-08 |
JP4178378B2 true JP4178378B2 (ja) | 2008-11-12 |
Family
ID=32267587
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2002269747A Expired - Fee Related JP4178378B2 (ja) | 2002-09-17 | 2002-09-17 | クロロシラン化合物の製造方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP4178378B2 (ja) |
Families Citing this family (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN103232485B (zh) * | 2013-04-19 | 2016-01-06 | 扬州三友合成化工有限公司 | 一种三异丙基氯硅烷的合成方法 |
-
2002
- 2002-09-17 JP JP2002269747A patent/JP4178378B2/ja not_active Expired - Fee Related
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP2004107229A (ja) | 2004-04-08 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP3543352B2 (ja) | 含硫黄有機珪素化合物の製造方法 | |
AU2006295362A1 (en) | Method for production of isocyanatosilanes | |
WO2014141092A2 (en) | Improved process for the preparation of tenofovir | |
EP0488595A1 (en) | Thexyl trialkoxy silanes; method for their preparation; and uses thereof | |
KR101163978B1 (ko) | 실릴알콕시메틸 할라이드의 제조방법 | |
JP4178378B2 (ja) | クロロシラン化合物の製造方法 | |
JP2000219693A (ja) | シリルアルキルチオ―ルの製造法 | |
JPH08134081A (ja) | 1,3−ビス(3−アミノプロピル)−1,1,3,3−テトラオルガノジシロキサンの製造方法 | |
JP2012528823A (ja) | アミノオルガノシランの製造方法 | |
KR100923870B1 (ko) | 티오시아네이토 그룹 함유 오가노알콕시실란의 제조방법 | |
US6114558A (en) | Preparation of alkyl(amino)dialkoxysilanes | |
EP1062220B1 (en) | Preparation of substituted (amino)dialkoxysilanes | |
JPH10218883A (ja) | N,n−ビス(トリメチルシリル)アリルアミンの製造方法 | |
CA1140144A (en) | Preparation of trialkoxysilanols | |
JP2002020392A (ja) | N−アルケニルアザシラシクロペンタン、およびその製造方法 | |
US4855473A (en) | Process for the preparation of organooxychlorosilanes | |
CA2185956C (en) | Method of purifying 1,3-bis(3-aminopropyl)-1,1,3,3-tetraorganodisiloxane | |
JP4801135B2 (ja) | アミノアルキルシランの製造方法 | |
JP4288463B2 (ja) | クロロ原子含有有機ケイ素化合物の製造方法 | |
JP2558164B2 (ja) | 新規な環状オルガノポリシロキサン及びその製造法 | |
US20060247457A1 (en) | Method for the synthesis of methyl-tri-oxo-rhenium | |
JP3972162B2 (ja) | イソシアナト基含有有機ケイ素化合物類の製造方法 | |
JPS63250391A (ja) | 含ケイ素イソシアン酸エステルの製造方法 | |
US10597410B2 (en) | Intermediates and process for the preparation of a crystalline form of a topical anti-inflammatory agent | |
KR100521614B1 (ko) | 3-[n-(2-아미노에틸)]아미노프로필알콕시실란의 제조방법 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20040826 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20071213 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20080109 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20080307 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20080730 |
|
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20080812 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 Ref document number: 4178378 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20110905 Year of fee payment: 3 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20140905 Year of fee payment: 6 |
|
LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |