JPS5813531A - 液晶性化合物 - Google Patents
液晶性化合物Info
- Publication number
- JPS5813531A JPS5813531A JP11137781A JP11137781A JPS5813531A JP S5813531 A JPS5813531 A JP S5813531A JP 11137781 A JP11137781 A JP 11137781A JP 11137781 A JP11137781 A JP 11137781A JP S5813531 A JPS5813531 A JP S5813531A
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- JP
- Japan
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- compound
- liquid crystal
- trans
- chain alkyl
- straight chain
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- Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
- Liquid Crystal Substances (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は、液晶混合系の挙動、特′に低活性、S屏!I
C優れる液晶性化合物に関する。
C優れる液晶性化合物に関する。
ネマチック液゛晶は電場の影響で、光散乱、複屈折など
の光学的性質が著しく変化する性質をもち、様々な゛表
示IEllを応用した電気光学的表示装置に広く利用さ
れている。代表的な電気光学的表示素子として、ねじれ
配向をもつネマチック液晶を利用したねじれネマチック
減表示素子、これにゴ色性染料あるいは多色性染料を添
加してゲスト・ホスト効果をもたせた表示軍子。更にコ
レステリック液晶あるいは光学活性物質を添加したネマ
チツ・り液晶の配向を電界により制御する相転移型ゲス
ト・ホスト表示素子が注目されている。
の光学的性質が著しく変化する性質をもち、様々な゛表
示IEllを応用した電気光学的表示装置に広く利用さ
れている。代表的な電気光学的表示素子として、ねじれ
配向をもつネマチック液晶を利用したねじれネマチック
減表示素子、これにゴ色性染料あるいは多色性染料を添
加してゲスト・ホスト効果をもたせた表示軍子。更にコ
レステリック液晶あるいは光学活性物質を添加したネマ
チツ・り液晶の配向を電界により制御する相転移型ゲス
ト・ホスト表示素子が注目されている。
これらに用いられる液晶材料に共通して要求される条件
として、 (1) 1温を被い、かつ広い液晶温度範囲をもつこ
と。
として、 (1) 1温を被い、かつ広い液晶温度範囲をもつこ
と。
(2) 応答性を確保する穴めに低粘性であること。
(3) 表示コントラストを高めるためには、屈折率
異方性(j n)が小さい゛こと。
異方性(j n)が小さい゛こと。
(4) 湿気、光、熱などに対して安定であること。
(6)液晶組成物を形成するための溶解性が高いこと。
などがある、 −
しかしこのような性質を、すべて満足するような単一化
合物は、今のとζろ知ら、れでおらず、幾種類かの化合
物を組み合わせた液晶組成物によって、一応の目的を達
しているのが現状である。・ま究こりした液晶組成物の
調合技術により、前述し大要求条件のなかでも% 41
に11)の液晶温度範囲に□′)%/%て轄、容易に改
曳できる。従って、ここで特に要求される化合物は、低
活性、溶解性に優れ、Δnが小さく、安定な化合物であ
る。
合物は、今のとζろ知ら、れでおらず、幾種類かの化合
物を組み合わせた液晶組成物によって、一応の目的を達
しているのが現状である。・ま究こりした液晶組成物の
調合技術により、前述し大要求条件のなかでも% 41
に11)の液晶温度範囲に□′)%/%て轄、容易に改
曳できる。従って、ここで特に要求される化合物は、低
活性、溶解性に優れ、Δnが小さく、安定な化合物であ
る。
本発明の目的は、上記したような種々の電気光学的表示
素子に用いられる液晶組成物の一材料として有益に使用
される液晶性化合物を提慎することである。
素子に用いられる液晶組成物の一材料として有益に使用
される液晶性化合物を提慎することである。
即ち、本発明は、一般式
%式%
(式中、R1がas H,−ではRsは0slh を
示し、R1が041=−でtjRsは’I HV−@
04 He−to=att−、c@1its e
cyliti t ’IIIツー門示す)
で表わされる4τn−アル〒、キシ−(トランス−4′
−n−アルキルシクロヘキシル)−ベンゼンである。
示し、R1が041=−でtjRsは’I HV−@
04 He−to=att−、c@1its e
cyliti t ’IIIツー門示す)
で表わされる4τn−アル〒、キシ−(トランス−4′
−n−アルキルシクロヘキシル)−ベンゼンである。
賦化合物は次のようにして合成される。
市販の4−()ランス−4′−n−アルキルシクロヘキ
シル)−ベンゾニトリル〔メル/社1lot文献(Mo
L 0ryst、 T、+iq、 0ryst、 19
7940154 Lett@rs P51〜56)の
方法に従い、4−()9ンスー4′−n−アルキルシク
ロヘキシル)−アニリンとし、常法により4−(トラン
ス−4′−n−アルキルシクロヘキシル)−フェノール
と ・しり後、へ田、ゲン化アルキルで縮合すれば、4
−n−アルコキシ−(トランス−4−n−アルキルシク
ロヘキシル)−ベンゼンが得ctする。
シル)−ベンゾニトリル〔メル/社1lot文献(Mo
L 0ryst、 T、+iq、 0ryst、 19
7940154 Lett@rs P51〜56)の
方法に従い、4−()9ンスー4′−n−アルキルシク
ロヘキシル)−アニリンとし、常法により4−(トラン
ス−4′−n−アルキルシクロヘキシル)−フェノール
と ・しり後、へ田、ゲン化アルキルで縮合すれば、4
−n−アルコキシ−(トランス−4−n−アルキルシク
ロヘキシル)−ベンゼンが得ctする。
以下に反応工程を示し、その概−を説明す°る。
8t@p5
xi−■−fD−OHRt−■−〇−OR*R1Br
OH
!lt@pl:市販の4−(トラ、ンスー4/ +++
n −アルキ、ルシク冒ヘキシル)−ヘンゾニ、)Q
ルを水#エタノール混合溶媒中で胃性ソーダ、と4沸9
分解し5a−(トランス−4′二n−アルキルシクロへ
キシル)−ベンズア2ドを得、る、。
n −アルキ、ルシク冒ヘキシル)−ヘンゾニ、)Q
ルを水#エタノール混合溶媒中で胃性ソーダ、と4沸9
分解し5a−(トランス−4′二n−アルキルシクロへ
キシル)−ベンズア2ドを得、る、。
8t@q2:このペンズアtドをナトリウム金属を溶か
し穴乾燥メタノールに溶屏し、臭素を加、メチル−4−
(トランス−4′− シク酵ヘキシル)−フェニルカニバ メイ)を得る。
し穴乾燥メタノールに溶屏し、臭素を加、メチル−4−
(トランス−4′− シク酵ヘキシル)−フェニルカニバ メイ)を得る。
゛ ルカーパメイトを80
嘔エタノール中で苛性ソーダと煮沸1分解し、4−”(
)ランス−4′−n−アルキルシクロヘキシル)−アニ
リンを得る。
)ランス−4′−n−アルキルシクロヘキシル)−アニ
リンを得る。
st@q 4 :このアニリンを70嘔硫酸と混合、
ジアゾ硫酸塩s1[を加水分解し%4−(トランス−4
′−n−アルキルシクロヘキシル)−フェノールを得る
ン et@q 5 :このフェノールと臭化アルΦルヲエ
タノ・−ル中、苛性ソーダを用いて縮合し、−わる−4
−n−フルコキシ−(トランス−4′−n−アルキルシ
クロヘキシル)−ベンゼンを横取する。
ジアゾ硫酸塩s1[を加水分解し%4−(トランス−4
′−n−アルキルシクロヘキシル)−フェノールを得る
ン et@q 5 :このフェノールと臭化アルΦルヲエ
タノ・−ル中、苛性ソーダを用いて縮合し、−わる−4
−n−フルコキシ−(トランス−4′−n−アルキルシ
クロヘキシル)−ベンゼンを横取する。
本発明の化合物は、20〜40℃附近にネマチック液晶
温度範囲をもち、安定性に優れて−る。
温度範囲をもち、安定性に優れて−る。
そのうえ、これらの粘度マ(20℃)は、1゛O〜15
611でiす、一般に知られている液晶化合物のそれが
、25〜600pであることと比較すれ。
611でiす、一般に知られている液晶化合物のそれが
、25〜600pであることと比較すれ。
ば、非常に低い、i度が門いことが有利であることは、
ねじれネマチック型表示素千に於いて、低温i+の応答
速度が速くなることで明らかである。
ねじれネマチック型表示素千に於いて、低温i+の応答
速度が速くなることで明らかである。
tた、これらの複屈折異方性Δnは、約α1と比較的小
さい、相転移型ゲスト・ホスト表示素子などの表示コン
トラストを高めるために、ノn′が小さい方が有利であ
ることは周知のとおりである。
さい、相転移型ゲスト・ホスト表示素子などの表示コン
トラストを高めるために、ノn′が小さい方が有利であ
ることは周知のとおりである。
また、これらの融点は5&゛5〜45℃と抵く、融解熱
エンタルピーlI!はス? K+!61/Mol ゛
と小さ4/−&りめ、他の液晶化合物と混合時に於ける
溶瑯性4高い。
エンタルピーlI!はス? K+!61/Mol ゛
と小さ4/−&りめ、他の液晶化合物と混合時に於ける
溶瑯性4高い。
このように、本発明の化合物は、前述し斥種々の電気光
学的表示素子に要求される条件を充分満尺すことのでき
るものである。
学的表示素子に要求される条件を充分満尺すことのでき
るものである。
以下、実権例により、本発明の化合物の製造方法及び有
用性を更に詳しく説明する。
用性を更に詳しく説明する。
実施例t
〔4−n−ブトキシ−(トランス−4′−n−ブチルシ
クロヘキシル)−ベンゼンの11造)11t@p1:市
販の4−()う/スー4’−!l−プチルシク四ヘキシ
ル)−ベンゾニトリル24.1tと苛性ソーダ5stt
、ya@エタノール750ど1 sdK@解し、16時間還流下に加熱した。還流後、析
出し次結晶を濾過し、水洗、乾燥した。これは4−()
ランス−4′−nニプチルックロヘキシル)−ペンズア
Zドである。
クロヘキシル)−ベンゼンの11造)11t@p1:市
販の4−()う/スー4’−!l−プチルシク四ヘキシ
ル)−ベンゾニトリル24.1tと苛性ソーダ5stt
、ya@エタノール750ど1 sdK@解し、16時間還流下に加熱した。還流後、析
出し次結晶を濾過し、水洗、乾燥した。これは4−()
ランス−4′−nニプチルックロヘキシル)−ペンズア
Zドである。
8tep2:乾燥メタノール4300−に、ナトリウム
金属96ft@解←、室温に冷却し次。
金属96ft@解←、室温に冷却し次。
この1ItK、上紀酸ア2ド1’ a 5 fをfII
解し、激しく攪拌しつつ、臭素4a61′−を加え、引
き続き4時間穏やかに加熱した0反応後エタノールを留
去し、残留物ics、ooo−の水を加え、かき混ぜ、
析出した沈澱物を濾過し、水洗、乾燥し几、これは、メ
チル−4−(トランス−4′−n−ブチルシクロヘキシ
ル)−フェニルカーバメイトである。
解し、激しく攪拌しつつ、臭素4a61′−を加え、引
き続き4時間穏やかに加熱した0反応後エタノールを留
去し、残留物ics、ooo−の水を加え、かき混ぜ、
析出した沈澱物を濾過し、水洗、乾燥し几、これは、メ
チル−4−(トランス−4′−n−ブチルシクロヘキシ
ル)−フェニルカーバメイトである。
8tep S :上記カーバメイト&1ft苛性ソ
ーダ22821に@解した、80−エタノール840−
溶液に加え、冷却器の上5に窒素を充填したゴム風船を
備え、24時間還流下に加熱した。還流後ニーノールを
留去し、残留物を5on−の水に注ぎ込み、この水溶液
をエーテル抽出した。エーテル層を数回水洗し、無水硫
酸ソーダで乾燥後、エーテルを留去した。更に残留物を
減圧蒸留し、bp14G 〜160℃72111 Hg
(F)留分を採ツタ。
ーダ22821に@解した、80−エタノール840−
溶液に加え、冷却器の上5に窒素を充填したゴム風船を
備え、24時間還流下に加熱した。還流後ニーノールを
留去し、残留物を5on−の水に注ぎ込み、この水溶液
をエーテル抽出した。エーテル層を数回水洗し、無水硫
酸ソーダで乾燥後、エーテルを留去した。更に残留物を
減圧蒸留し、bp14G 〜160℃72111 Hg
(F)留分を採ツタ。
これは、4−()ランス−4′−n−ベンチルシフ繋ヘ
キシル)−アニリンでアル。
キシル)−アニリンでアル。
8tep4:上記7二りy&4fを淡硫酸12−と混合
し、均一な混合物となる様にした。更に40%@酸11
slIlt2Foえ、十分力lff1−1’、氷冷シた
。一方、亜硝酸ソーダ2.7f、水6atQfilをつ
くり、冷却下、前記アニ1】ンー硫酸混合物に徐々に加
え、ジアゾ硫酸塩溶液をつくった。ジアゾ化が進行中、
sob硫酸溶液を湯浴上で約90℃に加熱し、反応が完
了したジアゾ硫酸塩溶液を少量ずつ注ぎ込み、加水分解
し炎。その後、冷却固化した結晶を濾過し、水洗、乾燥
後、減圧下(2ssHg)で昇華11]112した。こ
れは、4−(トランス−4’−真−ブチルシクロヘキシ
ル)−フェノールである。
し、均一な混合物となる様にした。更に40%@酸11
slIlt2Foえ、十分力lff1−1’、氷冷シた
。一方、亜硝酸ソーダ2.7f、水6atQfilをつ
くり、冷却下、前記アニ1】ンー硫酸混合物に徐々に加
え、ジアゾ硫酸塩溶液をつくった。ジアゾ化が進行中、
sob硫酸溶液を湯浴上で約90℃に加熱し、反応が完
了したジアゾ硫酸塩溶液を少量ずつ注ぎ込み、加水分解
し炎。その後、冷却固化した結晶を濾過し、水洗、乾燥
後、減圧下(2ssHg)で昇華11]112した。こ
れは、4−(トランス−4’−真−ブチルシクロヘキシ
ル)−フェノールである。
8t・p5 :上記フェノール1tと水酸化カリ、りA
l17ftzl/−ルl rJdK@解し、A化ブチル
(L7Fを加え、6時間還流下に加熱した。
l17ftzl/−ルl rJdK@解し、A化ブチル
(L7Fを加え、6時間還流下に加熱した。
反応後エタノールを留去し、水20−を加えて、析出し
た臭化カリウムを溶解し、生成物をエーテル抽出°した
。エーテル層t−10% N a OH%および水で各
々sIIずつ洗浄し穴径、エーテルを留去し、残留物を
エタノールにより再結晶した。これは、係わる4−n−
ブトキシ−(トランス−4′−n−フチ°ルシク四ヘキ
シル)−ベンゼンである。
た臭化カリウムを溶解し、生成物をエーテル抽出°した
。エーテル層t−10% N a OH%および水で各
々sIIずつ洗浄し穴径、エーテルを留去し、残留物を
エタノールにより再結晶した。これは、係わる4−n−
ブトキシ−(トランス−4′−n−フチ°ルシク四ヘキ
シル)−ベンゼンである。
該隼合物の遷移点を4!−I K示す。
実権例2〜6
実施例1(8t・p4)で得た。4−()ランス−4’
−n−7’チルシクロヘキシル)−フェノ−2ル゛と対
応する臭化プロピル、臭化ペンチル、臭化ヘキシル、臭
化ヘプチル、臭化オクチルと各々反応せしめ、下記の化
合物を製織4.l、−た。
−n−7’チルシクロヘキシル)−フェノ−2ル゛と対
応する臭化プロピル、臭化ペンチル、臭化ヘキシル、臭
化ヘプチル、臭化オクチルと各々反応せしめ、下記の化
合物を製織4.l、−た。
実2:4−n−ブトキシ−(トランス−4′−n−フロ
ビルシクキヘキシル)−ベンゼン実s:4−n−プトキ
・シー(トランス−4′−n−ペンチルシクロヘキシル
)−ベンゼン、実4 : 4− n−ブトキシ−(トラ
ンス−4′−n−へキシルシクロヘキシル)−ペンイン
実5:4−n−ブトキシ−(トランス−4′−n−へブ
チルシクロヘキシル)−ベンゼン実6:4−ts−ブト
キシ−(トランス−4′−n−オクチルシクロヘキシル
)−ベンゼン閘、これらの遷移点を表IK示す。
ビルシクキヘキシル)−ベンゼン実s:4−n−プトキ
・シー(トランス−4′−n−ペンチルシクロヘキシル
)−ベンゼン、実4 : 4− n−ブトキシ−(トラ
ンス−4′−n−へキシルシクロヘキシル)−ペンイン
実5:4−n−ブトキシ−(トランス−4′−n−へブ
チルシクロヘキシル)−ベンゼン実6:4−ts−ブト
キシ−(トランス−4′−n−オクチルシクロヘキシル
)−ベンゼン閘、これらの遷移点を表IK示す。
実施例2 。
実施例1と同様にして、市販の4−(トランス−4’
−H−)a ヒルシクロ゛へΦシル)−ベンゾニトリル
を、4−(トランス−4′−n−ブチルシクロヘキシル
)−フェノールとじ% 臭化フOヒルと反応せしめ、4
−n−プロ示キシ−(トランス−4’ −n−プロピル
シクロヘキシル)−ベンゼンt11取した。核化合物の
遷移点をl!IK示す。
−H−)a ヒルシクロ゛へΦシル)−ベンゾニトリル
を、4−(トランス−4′−n−ブチルシクロヘキシル
)−フェノールとじ% 臭化フOヒルと反応せしめ、4
−n−プロ示キシ−(トランス−4’ −n−プロピル
シクロヘキシル)−ベンゼンt11取した。核化合物の
遷移点をl!IK示す。
表 t
wi、表IK掲げた化合物の赤外線吸収スペクトルを、
第、1−図〜第7図に示す。
第、1−図〜第7図に示す。
実施例a 応用例 ′ 1
n−OsHy −り)−000−o−00雪H’s
1 五 5vtgbn−0@1ly−
@−000−()−00411@−n !ll0v
t91n−04H@÷ooo−Q−00s IIs
26−5 wt 16n−Osiltl−8−000
−0−00Hs 2&0wt9Gよりなる液晶組
成物〔組成物ムと示す〕に、本発明の化合物(11−0
4B@ −@−0−OCs 1!s )を2awt91
.40 wt%、 60 vt%混合t、*を晶組広物
〔各々、組成物B9組成物09組成物りと示す〕を作り
、各々の屈折率異方性Δn、誘電率異方性ΔCを調べた
。また、これらをりUム錯体等の処理剤で一直配向処理
を施した厚さ8II鵠の液晶表示セルに充填し1.動作
電圧vtm 、 7sal および応答速度ずox、
voνν を一定した。これらの結果を表2に示す。
1 五 5vtgbn−0@1ly−
@−000−()−00411@−n !ll0v
t91n−04H@÷ooo−Q−00s IIs
26−5 wt 16n−Osiltl−8−000
−0−00Hs 2&0wt9Gよりなる液晶組
成物〔組成物ムと示す〕に、本発明の化合物(11−0
4B@ −@−0−OCs 1!s )を2awt91
.40 wt%、 60 vt%混合t、*を晶組広物
〔各々、組成物B9組成物09組成物りと示す〕を作り
、各々の屈折率異方性Δn、誘電率異方性ΔCを調べた
。また、これらをりUム錯体等の処理剤で一直配向処理
を施した厚さ8II鵠の液晶表示セルに充填し1.動作
電圧vtm 、 7sal および応答速度ずox、
voνν を一定した。これらの結果を表2に示す。
一定条件(An :589鰺 20℃jg
:lK11m20℃ vtm、Vsa* : 32 Hii 、 20℃lr
og、royy : S 2 Hm、 vmat駆動、
20℃
:lK11m20℃ vtm、Vsa* : 32 Hii 、 20℃lr
og、royy : S 2 Hm、 vmat駆動、
20℃
第1図〜第7図は、下記に示す化合物の各々赤外線吸収
スペクトルである。 第1図:4−n−ブトキシ−(トラ′ンスー4′−n−
ブチルシクロヘキシル)−ベンゼ ン 第251:4−n−プロポキレ−(トランス−4′−n
−ブチルシクロヘキシル)−ベン ゼン 第355:4−n−ペンチルオキシ−(トランス−4’
−!l−ブチルシクロへ午シル)−ベンゼン 第49g1:4−n−へキシルオキシ−(トランス−4
’ −n−ブチルシクロヘキシル)−ベンゼン 第5 図: 4− n−へブチルオキタ−(トランス−
4′−n−ブチルシクロヘキシル)−ベンゼン 第6図:4−n−オクチルオキシ−(トランスを 一4′−n−ブチルシクロヘキシル)−ベンゼン 第゛7図:4−n−プロポキシ−(トランス−4′−n
−プロピルシクロヘキシル)−ベ ンゼン 以上 出願人 株式会社−霧訪精工金 代理人 最上 務
スペクトルである。 第1図:4−n−ブトキシ−(トラ′ンスー4′−n−
ブチルシクロヘキシル)−ベンゼ ン 第251:4−n−プロポキレ−(トランス−4′−n
−ブチルシクロヘキシル)−ベン ゼン 第355:4−n−ペンチルオキシ−(トランス−4’
−!l−ブチルシクロへ午シル)−ベンゼン 第49g1:4−n−へキシルオキシ−(トランス−4
’ −n−ブチルシクロヘキシル)−ベンゼン 第5 図: 4− n−へブチルオキタ−(トランス−
4′−n−ブチルシクロヘキシル)−ベンゼン 第6図:4−n−オクチルオキシ−(トランスを 一4′−n−ブチルシクロヘキシル)−ベンゼン 第゛7図:4−n−プロポキシ−(トランス−4′−n
−プロピルシクロヘキシル)−ベ ンゼン 以上 出願人 株式会社−霧訪精工金 代理人 最上 務
Claims (1)
- 一般式がR1→・<) ORs で示される化合物に
於いてbRs#i炭素数5個または4個の直鎖アルキル
基であり%R1が炭素数5個のアル侍ル基の場合、Rs
は庚素数墨個の直鎖アルキル基であ軽、R1が炭素数4
個の直鎖アルキル基の場合%R1は炭素数S〜8個の直
鎖アルキル基である液晶性、化合物。
Priority Applications (6)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP11137781A JPS5813531A (ja) | 1981-07-16 | 1981-07-16 | 液晶性化合物 |
CH10083A CH651818A5 (de) | 1981-05-06 | 1982-05-04 | 4-n-alkoxy-(trans-4'-n-alkyl-cyclohexyl)benzole. |
GB08235731A GB2108963B (en) | 1981-05-06 | 1982-05-04 | Phenylcyclohexane derivatives |
DE19823243267 DE3243267A1 (de) | 1981-05-06 | 1982-05-04 | Dielelektrisch phenylcyclohexan-materialien |
PCT/JP1982/000151 WO1982003855A1 (en) | 1981-05-06 | 1982-05-04 | Phenylcyclohexane derivatives |
HK88787A HK88787A (en) | 1981-05-06 | 1987-11-26 | Nematic liquid crystal compositions |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP11137781A JPS5813531A (ja) | 1981-07-16 | 1981-07-16 | 液晶性化合物 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS5813531A true JPS5813531A (ja) | 1983-01-26 |
JPH0133091B2 JPH0133091B2 (ja) | 1989-07-11 |
Family
ID=14559638
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP11137781A Granted JPS5813531A (ja) | 1981-05-06 | 1981-07-16 | 液晶性化合物 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS5813531A (ja) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS6213484A (ja) * | 1985-07-11 | 1987-01-22 | Seiko Epson Corp | ダイナミック駆動液晶表示装置用液晶組成物 |
JPH01299163A (ja) * | 1988-05-27 | 1989-12-01 | Ricoh Co Ltd | 用紙反転装置における用紙位置決め制御方法 |
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1981
- 1981-07-16 JP JP11137781A patent/JPS5813531A/ja active Granted
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS6213484A (ja) * | 1985-07-11 | 1987-01-22 | Seiko Epson Corp | ダイナミック駆動液晶表示装置用液晶組成物 |
JPH01299163A (ja) * | 1988-05-27 | 1989-12-01 | Ricoh Co Ltd | 用紙反転装置における用紙位置決め制御方法 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPH0133091B2 (ja) | 1989-07-11 |
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