JPS58133256A - 紫外線処理装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は、ガラス、金属２合成樹脂等により成形された
被処理体の表面の汚れの除去および殺菌を行なう紫外線
処理装置に関するもので、さらに評言すれば、極めて良
好な条件下で多数の被処理体を連続して処理することケ
目的とするものである。

また、さらには、被処理体をより（６理効果の出ろ粂件
下で表面処理することを目的と−［るものでるる。

ガラス、金！・４２合成樹脂等により製作された被処理
体の表１′＠【紫外線を照射して２発生したオゾンによ
り被匹埋体の表面の汚れを除去してより清浄な状態にし
たり９表面の完全な殺菌を達成したり、さらには表面の
硬化を達成したりする紫外線を利用した表面処理が知ら
れている。

この紫外線を利用した表面処理は、その清浄効果が高い
ことからより広い分野での利用が望まれており、特に高
精度中導体製造の分野での有効なオリ用が期待されてい
る。

しかしながら、この紫外線を利用した表面処理は、紫外
線の照射により°壱生ずるオゾンをオＩＪ用するもので
めるために、被処理体を閉塞された一定の空間内に位置
させなげ糺ばならず、またオゾンと反１□らして不純ガ
ス化した汚れが上記した閉塞された一定の空間内に位置
することになり、さらに良好な表面処理？：達成するに
は上記した閉塞された一定の空間内にどける発生したオ
ゾンの＃１勘が一定値以上でなければならないという条
件があるために、多数の被処理体を連続して処理するこ
とは不可能であった。

また、紫外線により処理された被処理体の表゛面は、処
理直後に−１６いてかなり活性化している場合が多く、
これがためせっかく表面処理ケ暉成しても２表面処理後
、大気中に搬出すると、大気中活性ガス、ホコリ等によ
り極めて簡単に汚染されてしまうという問題がめった。

本発明は、上記した従来からの柚々の問題を全て解消す
べ（創案されたもので、被処理体に紫外線を照射する牙
ｌの室と、この矛ｌの室内に清浄空気を供給する矛２の
室とを隣接して設け、この牙２の室から牙ｌの室に供給
される清浄空気の流れにより矛１の室内への汚れた空気
の流入を阻止すると共に矛１の室ＫＮいて表面処理され
て活性化した被処理体の表面の活性化程度を牙２の室に
おいて低下させるべく構成したものである。

以下２本発明の実施例を図面に従って説明する。

本発明は、被処理体２４を伯ツ送オる搬送ベルト２３の
走行方向に沿って、閉塞された空間を形成するｊ−１の
室ｌと矛２の室７とをＩｌＪ接して設げる。

矛１の室１には、搬送ベル）　２３　Ｍよびこの搬送ベ
ルト２３に乗載された被処理体２４がこの矛１の室将内
に侵入できる搬入口６が形成されており、同様に牙２の
室７に（ｄ２才！１の室ｌとの区割部に同様の通過口１
９がそして最もド流側に搬出口２０がそれぞれ開口され
ている。

牙１の室１内には、この牙１の室１内に搬送ベルト２３
により搬入された被処理体２４の表面にオゾン生成用お
よびオゾン反応用の紫外線を照射する紫外線う／ブ２が
設けられており、また前記搬入口６の近傍に流入口を開
口した排気ダクト３−／ｌ”　：、４けられている。

矛２の室７は、上部８と下部９とに区割されていて、矛
２の室７の上部８には、外気吸入用の吸入タリトＩＯと
９　この吸入タリト１０を通して外気を強制的に吸引す
るファン１３と、このファン１３ににり吸引された外気
からホコリ、不純ガス等を除去して下部９に通過させる
フィルター１４とが設げ、られており、下部９にはクー
ラ１５．１６が設けられてどり、さらＫ］・１の室ＩＫ
通じる通禍口１９の近傍に下端を開口し、上端を前記上
部８のファン１３の上流側に開口した連通路１７を設け
て構成されている。

なお、排気ダクト３には２通過する空気筒を調整するた
めのダンパー４が設けられていると共に必要ＩＣＥ、　
ｌ〕て強制排気を達成すべくファン５が俄付けられる。

捷た。吸入ダク）　１０には吸入空気熾な調整するため
のダンパー１１が、そして連通路１７にも通過空気横を
調整するためのダンパー１８がそれぞれ設けられ℃いる
。

オ！２の室７の下部９に設けられたクーラ１５．１６は
、流入した空気を冷却すると共に１・１０室１で表ｉ′
酊処理の施された被処理体２４ヲ冷却するためのもので
１両クーラ１５．１６は図示実施例の如く、＃送ベルト
２３をはさんで対向配置され、かつ通過口１９およ？″
ド搬出ロ２０間近に配置するのが望ましい。

捷だ、之・１図に示す如く、吸入ダクトｌＯを通して上
部８に吸入されたばかりの空気を冷却するクーラ［２を
上部Ｂ内に設けると、−上部８内に吸入された空気は冷
却された後にフィルター１４に送り込まれるので、フィ
ルター１４による吸入された空気中からのホコリおよび
不純ガスの除去作用を高めることができる。

３□　１図図示実施例の場合、被処理体２４の搬送方向
に沿って、牙１の室ｌの手前に、この矛１の室ｌとＩＩ
Ｊ接して１・３の室２０が設けられ℃おり、この牙３の
室２０内には、牙ｌの室１内に１般入される被処理体２
４０表面を所望温度に加熱する加熱対２１が配置されて
いて、被処理体２４０衣面を予熱して。

牙ｌの室１における紫外線による表面処理が行なわれ易
（ようにしている。

この被処理体２４表面の加熱対２１による予熱処理は、
オｌの室ｌの手前の矛３の室２ｏで行なわれなげればな
らないというものではなく２才１図に点線で示す如く、
被処理体２４への紫外線の照射と同時にへ〇熱すべく加
熱対２１を牙１の室１内に配置しても良く、要は被処理
体２４への紫外線の１１１射に遅れることなく被Ｉ几叩
体２４の表面を加熱すれＣ・ず良いのであるが２発生し
たオゾンにより被処理体２４の汚れを酸化さ忙てガス化
させて清浄する場合には。

被処理体２４の表面温度が予めるる程度の温１ザに加熱
されていることが望ましく、それゆえ才１図に実線図示
の如＜、Ｊ−３の室２０を設けて被処理体２４をＪｙ　
１の室ｌ内に搬入させる手前で、この被処理体２４の表
面を所望温度まで加熱できるようにするのが望ましい。

不発明装・１−°は、上記した如き構成となっているの
で、搬送ベルト２３上に乗載された被処理体２４は。

搬送ベルト２３の走行に従って搬送され、まず牙３の室
２０で表面を予熱されたｒＬ、Ｎ１１の室１内に侵入し
て紫外線の照射により表面処理が行なわれる。

矛１の室ｌで表面処理された被処理体２４は、その−ま
ま通過口１９を通って牙２の室７内に入り、この牙２の
室７内でクーラ１５，１６により冷却されてその表面の
活性化程度を大幅に低下させられた状態で搬送口ｌすか
ら装置外に搬出される。

他方、ファン１３により吸入ダクトｌＯを通して強制的
に２・２の室７の上部８に吸入された外気は。

フィルター１４．１４によりホコリおよび不純ガスを除
去された清浄空気となって下部９に空気流Ａとなって供
給される。

下部９に供給された空気流Ａは、その一部が空気流Ａ２
となって搬出口１９′から装置外に流出するが、この空
気流Ａ２は、搬出口１！Ｊからフィルター１４を通さな
い汚れた外気が下部９・内に侵入するのを阻止する。

空気流Ａの空気流Ａ２以外の空気流Ｎはクーラ１５．１
６により冷却さ第１．ながら通過口１９に向かって流れ
るが、この空気流ＡＩは、さらに通過ロ１９ケ通って牙
ｌの室ｌ内に流入する空気流Ａ３とＩＩＩＩ曲路１７を
通ってオｔ２の室７の上部８にもどる空気流Ａ４とに分
かれる。

才ｌの゛室ｌ内に流入した空気ｉＨ，Ａ３は、冷却され
た空気流であるので、紫外線の照射により容易にオゾン
を生成し２才１の室１内に所望する濃度のオゾンを生成
する。

この、ｔｌの室１内に流入する空気流Ａ３とは別に１才
１の室１内の、被処理体２４表面のオゾンによる清浄作
用により発生した不純ガスを含む空気は、排気ダクト３
の排気作用により空気流Ａ６となって排気ダクト３から
装置外に排出される。

この際、この排気ダクト３による排気能力Ｃ１゜空気流
Ａ５の量よりも大きく設定されており、排気ダクト３を
通る空気流Ａ７の空気量は搬入口６から咳置内に流入し
た外気である空気流Ａ６と前記した空気流Ａ５との合計
されたものとなるように設定されている。

これは被処理体２４を装置内に搬入するためには。

どうしても搬入口６を通っての汚れた外気の装置内への
侵入を阻止することはできない。

それゆえ＋　４ｉ１記した如く、排気ダクト３を通る空
気流Ａ１の空気量ケ前記牙１の室１からの空気流Ａ５の
一蛸よりも大きく設定し、不足した空気量を（般入口６
を通って装置内に侵入した空気流Ａ６で補うようにする
ことによって、装置内に搬入口６から侵入した汚れた外
気である空気流Ａ６の全ては、装置内に侵入したとたん
に排気ダクト３を通して装置外に排出されることになる
。

このため２例え１１人口６が開放されたままでβっても
、この搬入口６父通って装置内に流入した汚れた外気が
彼処１７１体２４の表面処理作用に悪影響を与えること
は全くないのである。

所で、排気ダクト３にはダンパー４が、吸入ダク）　１
０にはダンパー１１が、そして連通路１７にはダンパー
１８がそれぞれ設けられているが、これらのダンパーは
、前記した各空気流の流量な彼処ｊ１１ｊ体冴の表面処
理ｔｉｌ＋作に好都合となるように設定するものである
。

すなわち、ダンパー１１は、装置内に吸入される外気の
単位時間における量を規制し、もって牙ｌの室１内に流
入する空気流Ａ３の量を適正なものとするのである。

また、ダンパー１８は、矛ｌの室ｌ内に流入しｒうとす
る空気流ＡＩ中から余分な空気流Ａ４を／、）流させて
空気流Ａ３の敏を直接正確に設定するためのものである
。

そして、ダンパー４は、排気ダクト３の排気能力？規制
することによって、空気流Ａ５の量が過大となって牙１
の室ｌ内のオゾン密度化低下させたり２反対に空気流Ａ
６の量が過少となって″”Ｉ、−１の室ｌ内で不純ガス
の濃度を増−にさせたりするのを防止すべく作用する。

なお、前記した如く、紫外線の照射により表面処理さ七
、た被処理体２４の表向は極めて活性化した状態となっ
ているため、その’！＋ま外気中に搬出したのでは、極
めて短時間のうちに大気中のホコリとか不純ガス等によ
り汚染されてしまうため１本発明装置では、紫外線の照
射により表面処理の完了した被処理体２４を冷却した後
に装置外に搬出して前記被処理体２４の再汚染を防止す
るようにしているが、この処理の完了した被処理体２４
の再汚染をより確実にかつ長時間ＶＣわたって防止する
には。

刀・２図に示す如く、矛２の室７に続いて牙４の室２２
ケ設けておき、この矛４の室２２内にイナートガス、す
なわちアルゴンガス等の不活性ガスを満たしておき２表
面処理が完了して本発明装置から搬出されてくる被処理
体２４を不活性ガス雰囲気内に所望時間位置させるのが
良い。

この際、被処理体２４を、この不活性ガスを満たした第
４の室２２内で適当な通気性の極めて悪い容器内に収納
するようにすれば、被処理体２４０表面のｌ−！浄は半
永久的に保持されることになる。

ｖｌ−ヒの説明から明ら一カ・な如く９本発明は、多数
の被処理体２４を連続して力）つ自動的に処理すること
がでへ、′また表面処理の完了した被処理体２４の表面
は大気中のホコリとか不純ガスによる再汚染を受は難い
状態で搬出されることになり、さらに被処理体２４の衣
：１ｎ処′ＩＩ！を行なう才ｌの室ｌ内の雰囲気を常に
良好に保持できるので、常に良好な表面゛フ（埋′ｆｆ
：達成することができ、゛またさらに有毒なオゾンを宮
む排気を専用の排気ダクト３を通して排出処理すること
ができ、他の部分から漏出する恐れが全くないので、極
めて安全に運転することができる等多くの優れた作用効
果を有するものである。

【図面の簡単な説明】

］７１図は２本発明の一実施例を示す簡略構成図である
。 第２図は他の実施例を示すものである。 符号の説明 １・・・矛ｌの′濱、２・・・紫外線ランプ、３・・・
排気ダクト、６・・・１般人口、７・・・牙２の室、８
・・・上部。 ９・・・下？Ｊ、　　１０・・・吸入ダクト、１３・・
・ファン。 １４・・・フィルター、　１５．１６・・・クーラ、１
７・・・連通路。 １９・・・通過口、１す・・・搬送口、２０・・・】・
３０室。 ２１・・・加熱灯、２２・・・才４の室、２３・・・搬
送ベルト。 ２４・・・被処理体。 発明者　　　　　矢　崎　好　夫 発明者　　　　　宮　本　　　浩 出願人　　株式会社オーク製作所 代表者　　矢　崎　好　夫 代理人　　弁理士　渡　辺　軍　治 ；ソン７の グ戸？贋 で ２９

Claims (3)

【特許請求の範囲】
1. （１）搬送ベルトに乗載された被処理体の一″送方向に
   沿って矛１の室と矛２の室とを隣接して配置し、前記牙
   １の室内に、オゾン生成用およびオゾン反応用の紫外線
   を前記被処理体に照射する紫外線ランプを設けると共に
   、該才１の室内への前記被処理体の搬入口近傍に排気ダ
   クトを設け、前記牙２の室内を上部と下部とに区割して
   。 該才２の室の上部に、外気を吸入する吸入ダクトと２外
   気を吸引するファンと、吸入された外気中のホコリを除
   去して外気ケ＠記牙２の室の下部に通過させるフィルタ
   ーとを設げ２前記矛２の室の下部にクーラを設け、さら
   に前記牙２の室内に、前記牙１の室からの被処理体の通
   過口近傍に、下端を開口させ上端を前記ファンの上流側
   に開口させた前記上部と下部との運辿路を形成して成る
   紫外線処理装置。
2. （２）搬送ベルトに乗載された被処理体のｌ＋：ＪＵ送
   方向に沿つ１才１の室と１・２の室とを隣接して配置し
   、前記牙１の室内に、オゾン生成用およびオゾン反応用
   の紫外線を前記被処理体に１１（ｉ則する紫外線ランプ
   を設けると共に、該牙１の室内への前記被処理体の搬入
   口近傍に排気・タークトを設け９前記牙２の室内ケ上部
   と下部とに区割して。 該牙２の室の上部に、外気を吸入ｉる吸入ダクトと、外
   気を吸引するファンと、吸入された外気中のホコリを除
   去して外気を前記才２の室の下部に通過させるフィルタ
   ーとを設゛１・１′、前ｄ己１１２の室の下部にクーラ
   を設け、ｉ１１記矛２の室内に、前肥牙ｌの室からの被
   処理体の通過］］近傍に下端を開口させ一ヒ端を前記フ
   ァンの、ｌ−流側に開口させた前：弓−上部と下部との
   連通路を杉成し。 さらに前記被処理体の搬送方向に沿って＋　ＡｉＩ紀紫
   外線ランプよりも下流側とならない（ｒ’７鑵ｗ、　ｉ
   ＋１記被処理体を加熱する加熱ランプを設けて成る紫外
   線処理装置。
3. （３）被処理体の１般送方向に沿って、第１の？３（ハ
   ）上ｒ混１１１に該牙１０室に隣接して牙３の室を形成
   し。 咳】・３の室内に被処理体を加熱する加熱ランプを配置
   して成る特許請求の範囲（２）に示した紫外線処理装置
   。