JPS58115830A - ウエハ入れ換え装置 - Google Patents

ウエハ入れ換え装置

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JPS58115830A
JPS58115830A JP21503681A JP21503681A JPS58115830A JP S58115830 A JPS58115830 A JP S58115830A JP 21503681 A JP21503681 A JP 21503681A JP 21503681 A JP21503681 A JP 21503681A JP S58115830 A JPS58115830 A JP S58115830A
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JP
Japan
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wafer
heat
cassette
resistant
boat
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Application number
JP21503681A
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English (en)
Inventor
Yoshiyuki Sato
佐藤 芳之
Michiyuki Harada
宙幸 原田
Takao Nakazawa
中沢 孝夫
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Nippon Telegraph and Telephone Corp
Original Assignee
Nippon Telegraph and Telephone Corp
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Publication date
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    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L21/00Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
    • H01L21/67Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere

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  • Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は、集積回路等O#P導体装置製造工楊において
、熱処理作業の自動化に用いられるウェハ入れ換え装置
に関するものである。
集積回路等の半導体装置の製造においては、歩留り向上
、生産性の向上が重要であるため、製造工程の自動化が
進められ、洗浄、イオン注入、レジスト塗布、現像、ド
ライ加工等O工揚用としては、既に自動化装置が市販さ
れ広く用いられているが、これらの自動化装置はカセッ
ト式自動化装置であり、ウェハ・カセットに処理すぺ龜
りエハを入れて所定の位置に装填すれば自動的に処理さ
れ、処理が終ったウェハは、ウェハ・カセットへ自動的
にj1%されるものとなっている。また、ウェハ・カセ
ットは各種自動化装置において共通に使用できると共に
1クエハの運搬にも使用できる丸め、処理の終ったウェ
ハが入っているウェハ・カセットを次に処理すべき装置
まで運んだうえ、装填すれば、順次に工程を進めること
かで龜る。
このように、カセット式自動化製造装置では、作業者が
直接ウェハに触れることなく作業が行なえるため、生産
性の向上中歩留りの向上が図れる。
しかし、熱処理工程ではウェハを耐熱性ボードへ装着し
て処堀するため、ウェハ・カセットから耐熱性ボードヘ
ウエハの入れ換えを行う必要があや、従来、このウェハ
の入れ換え作業には有効な自動化手段がなく、人手によ
り行われるのが常で6つ九〇 これは、耐熱性ボートとウェハの接触部分を極力少くシ
、熱処理工程中においてウェハへ熱ひずみ等の悪い影響
を与えないようにするため、ウェハ・カセットのように
クエへを正確に保持する機能が耐熱性ボートには欠けて
おり、ウェハ・カセ1      ットと耐熱性ポート
との間のウェハの入れ換え操作の自動化が困難であり九
ととに起因している。
しかし、人手による方法では作業者から発生するダスト
等の汚染が問題であり、特に熱処理工程では、ウェハに
付着し九これらの汚染が熱処理によりウェハ内部へ拡散
すると共に、熱処理装置そのものの汚染を引1に起すた
め、以後の熱処理ウェハに汚染の影響を与え、製品歩留
9低下等の原因となる。
このため、ウェハ・カセットと耐熱性ボートとの間のク
エハ移し換えについて種々の方法が考案されており、こ
れらの方法は大別して2種に分けられる。
嬉1の方法は米国マイクログラス社より市販されている
ようなウェハ・カセットから一括してウェハを移し換え
る方法であり、jiI2の方法は、丙えば文献(原因;
電子)i[学会誌980頁1981年9月号)に示され
ているような1枚づクウエハを移し換える方法である。
しかし、嬉lの方法では、ウェハのオリエンテーション
フラットを一定方向に揃えることが困難であり、また破
損ウェハ等があって−その検出かで亀ないため、それが
多くのウェハに障害を与える原因ともなることにより、
無人運転が不可能であった。第2の方法では、通常、ウ
ェハ・カセットからウェハをと9だす公知の手法として
、ベルト又はエアトラックによる方法を用いるが、ベル
トを用いる方法ではウェハに対するベルトからの汚染が
問題であり、エアトラックによる方法では、エアトラッ
クの通路上ヘウエハ回転機能をもたせる等の手段により
、オリエンテーションフラットの方向を揃えることは、
原理的には可能であっても、M御が複雑であり、しかも
、ウェットカセットから取り出したウェハは横向きであ
るが、石英製の耐熱性ポートには直立状に載置する九め
、ウェハを立てる機構が必要となり、これらの機能をす
べてエアトラックにより連結する機構では、装置が複雑
かつ、高価とならざるを得す実用的ではない0 また、ウェハ・カセットから真空ビンセットによりウェ
ハを塩9出す方法も公知であや、汚染のな一方法である
が、この方法を、オリエンテーションフラット、検出機
構と組合せ丸うえ、カセットエリ横向tK取り出し九ウ
ェハを直立状とする手段がなかったため、真空ビンセッ
トによる方法を用いることができなかった。
したがって、従来は熱処理作業を自動化することがで龜
ず、半導体装置の製造工程をすべて自動化するうえから
、熱処理作業を自動化することのできる装置の出現が強
く要望されている状況であった。
本発明は、従来のか−る要望を完全に充足する目的を有
し、真空ビンセット等のウェハ搬送機構と、ウェハ・カ
セットから轍り出したウェハを吸着のり・え載置し、か
つ、回転に↓り方向を規正する回転ステージと、回転ス
テージ上の水平なウェハを受は取ってから直立状とする
ウェハ受台等を巧みに組み合せることにより、ウェハ・
カセットと耐熱性ポートとの間におけるクエへの入れ換
えを完全に自動化することのできる極めて効果的な、ウ
ェハ入れ換え装置を提供するものでおる。
以下、実施例を示す図によって本発明の詳細な説明する
第1図は全構成の平面図であり、1はカセット台、2は
回転ステージ、3はウェハ受妙台、4は耐熱性ボート、
41は耐熱性ボートに形成されたウェハを挿入する丸め
の溝、4bは耐熱性ボートの縛が形成され九枠体、5は
ボート台、6A〜60は真空ビンセット、Tは光センナ
、8はオリフッ検知器である。
ここにおいて、弗化樹脂または金属等によ如製されたウ
ェハ・カセットは、カセット台1上へ載置されるが、こ
の中へ表面を上方として水平に収容され九りエハは、つ
ぎに述べる動作により、表面を図上下方側として溝4a
内へ挿入され、これによって直立状に係持されたうえ、
ボート台5の移動によp熱処理装置内へ挿入される。
すなわち、最初に光センナ1によって、ウェハをセット
すべ龜耐熱性ポート4の溝4!10位置を検知し、電算
機等を主体とする制御装置のメモリ1     へ記憶
させておき、′)「にクエパの入り九ウェハ・カセット
をカセット台1上へセットし、これについで、真空ビン
セット@AKよる公知のクエハ取抄出し機構により、ウ
ェハの表面に触れることなくウェハをウェハ・カセット
から取や出し、回転ステージ2にウニ八表面を上方とし
て載置する0なお、この操作にはゴムベルトによるベル
トコンベア式を用いてもよいが、先に述べたようにウェ
ハへの汚染付着の点で好ましくない。を九、載置O際1
1CIi1転ステージ2とウニへの中心とを合せる機構
については後述する。ついで、回転ステージ2では、真
空チャック機構によりつ′エバを真空吸引して固定し、
真空チャック機構と共にウェハを回転させ、その外周を
オリフラ検知器80′、対向して置かれた投光器と受光
器間へ挿入し、その光量変化からウェハのオリエンテー
ションフラットを検知し、ウェハのオリエンテーション
フラットの方向を規正する。
なお、オリフラ検知器8によれば、破損ウェハの検知も
同時に行うことができる。
以上のとおり、回転ステージ2上へ載置されたウェハに
おけるオリエンテーションフラットの方向を規正してか
ら、真空ビンセット1iBJf−より、ウェハの表面を
上方としてウェハを嶺初ははソ水半状態のウニノ・受台
3へ運び、ウェハ受台3と共に同一させ、ウェハをその
表面が斜め上方となるように傾けて起立させたうえ、真
空ビンセット6Cによりウニノ・を吸着し、耐熱性ボー
ト4の溝4麿ヘクエハの下端を挿入して係持させる。
82図は、このと亀の動作を説明する丸めの側面図であ
り、10はウニノ1.11は水平面を示す線である。
ここにおいて、真空ビンセット8Cはウニノ1受台3上
のウェハ10へ向って移動し、ウニノ)1Gに1!当し
てウェハ1Gと真空ビンセラ)@0の吸引面とが一致す
ると、ウェハ10が真空ビンセラ)60により、吸着さ
れるiこのと1、クエ/1の吸着完了は真空ビンセット
60におけるウニノ・10の吸引用真空系の圧力センナ
により検知する。
つぎに、ウェハ1◎を吸着し九真空ビンセット60を耐
熱性ボート4の挿入すべき溝41の上方まで移動させえ
うえ、その位置くおいて移動を停止すせてから、真空ビ
ンセット6Cを降下させてウェハIQの下端な1114
mへ挿入し、吸引を停止することにより、耐熱性ボート
40111141ヘウエハ10を載置する。
以上の動作をくり返し行うことにより、カセット台1に
載置されたウェットカセット中のウェハ10を耐熱性ボ
ート4へ移し換えることができる。
なお、本発明では、後述のクエハ皐り出し時との共通性
を考慮のうえ、第2図に示すとおり、傾斜し九耐熱性ボ
ート4ヘウエノ510tセットす゛ると共に、耐熱性ボ
ート4上にセットしたウニノS10の表面が斜め上方を
向くようにして―る0以上では、ウェットカセットから
耐熱性ボート4へのウェハ10(Z)移し換えについて
説明したが、つぎに耐熱性ボート4からウニ/S・カセ
ットへのウーエハ10の移・し換えについて説明する。
すなわち、ウニノー10を耐熱性ポー)4からウェハ・
カセツFへ移し換える場合には、前述の各動作を逆にし
て行えばよい0 まず、真空ビンセット60を用い、ウニノ・10を耐熱
性ボート4の溝41から、ウニノ1受台3へ移し、りぎ
にウニノ1受台3を水平にし丸後、クエハ10をウェハ
受台3から回転ステージ2へ運び、回転ステージ2にお
いて、ウェハl0C)オリエンテーションフラット合せ
を行−1これの方向を規正してからウェハ・カセット内
にウェハ10を運べばよい。
ただし、以上の#作において最も問題なのは、真空ビン
セット6Cが耐熱性ボート4上のウェハ10を真空吸引
する動作である。すなわち、耐熱性ボート4に係持され
九りエハ10は耐熱性ボートの溝4aに一端を挿入し良
状態であるため、傾斜状に直立しているが、耐熱性ボー
ト4が水平であれば、その傾斜方向は一定せず、真空ビ
/セツ)60により吸着するのが困難となる。このため
こ\では耐熱性ボート4をポート台5と共に、嬉2図の
とおりのある一定の角11に傾斜させ、耐熱性ボート4
上のすべてのウェハ10が真空ピンセ1      ッ
ト60の儒に傾斜するもやとし、真空ビンセット60が
ウェハ10へ押当すれば、ウェハ10が真空ピンセット
藝の吸着面と一致し、吸着されるものとしている。なお
、ウェハの吸着完了の検出は先に説明したとおり真空ビ
ンセット6Cにおけるウェハ10の吸引による吸着用真
空度の変化を圧力セ/すにより検出して行うが、この例
では、り「のとおり、ストレインセンナを併用し、この
動作が確実に行なえるようにしている・第3図は、スト
レインセ/すを用い友真空ビ/セット60等の構成を示
す伺断面図であり、12はクエハ徴引部、13はストレ
インゲージ、14はこれらの支持^、15は真空吸引用
のパイプである。
こ−において、真空ビンセット6Cによるウェハ104
D吸着は、真空ビンセット60が真空引きされた状態に
jIP%Aてウェハ10へ接近し、ウェハ1OK8面よ
り抑圧して、ウェハ10と真空ビンセット@Cの吸引面
とを一致させることによ)行なわれる。
を九、通常はウェハ10t−吸着すると、真空ビ/セツ
)80における真空系の圧力が急激に変化するため、圧
力センtKよりこれを検知し、真空ビンセット60をウ
ェハ1G側へ移動させる動作を停止するが、何らかの原
因により検知されなかったり、または、吸着できなかっ
た場合は、ウェハ10を史に押圧し、これを破損させる
ことになるO このような場合でも、クエISl&引部12と支持14
0間にストレインゲージ13が介在すれば、ウニノ・1
0との押当による圧力をこのセンサが検出するため、ウ
ニノー10が破損する前に、真空ビンセット60C1押
圧動作を停止し、再度フェノS取り出し動作を反復する
ことにより、ウニノS10t)破損が肪止できると共に
、確実にウニノS10の移し換え動作を自動的に行なう
むとがで龜る。
第4図は、耐熱性ボード40溝4畠を検出のための光セ
ンサを含む溝検知機構の構成を示す側面図であり、7m
は光センサ1の発光部sobは同受光部、17はエアシ
リンダ、21人、21Bは光セ/す1を上下、左右方向
へ移rIkさせる九めのガイドねじ、22A、22Bは
ガイドねじ21A、21Bを回転させるための篭−タ、
23はスフイデイングレール、24はストッパ、25は
光センナ支持台である。
と−において、耐熱性ボート4の溝41を検出する動作
はつぎのとおりに行なわれる。
まず、エアシリンダITにより光センナ支持台25を図
と左方へ移動させることにより、光センサTを耐熱性ボ
ート4のw#4畠が形成された枠体4bの上方へ移動さ
せ、耐熱性ボード401114 mを光層ンt1により
順次走査で龜るよう、耐熱性ボート4をメート台5と共
に紙面の表裏方向へ移動させることによや溝4aの位置
を検出し、その位置データを制御装置のメ量りへ記憶さ
せる。
ついで、耐熱性ボー)4に対するウェハローディングの
際に邪魔とならぬよう、光センナ支持台25をエアシリ
ンダ17によって元の位置までスライドさせゐことKよ
り、光セytrを元の位置まで引込めた後、ウェハ10
をウェハ・カセツFから耐熱性ボート4へ入れ換え48
作を開始する・なお、ζ〜では、溝検出動作を確実にし
、検出ンスを鋳止する丸め一光センt7を枠体4bo溝
4mがない部分と対向して移#jjさせゐと亀、受光部
1bの受光光量が最大となる点に光センナTを設定する
ものとしており、モータ22A、22Bによってガイド
ねじ21人、21Bを回転させることにより、光センサ
ーを上下、左右方向へ移−させ、検出感度の最適化を行
なうものとなっている。
また、溝検出感度の最適化は、受光部の光量変化を検出
する増幅lIO利得を調整することによりでも行なわれ
る。
alB図は、ウェハ・カセット内においてウェハ10の
位置ずれが生じた場合に発生するオリ7ツ検知a8によ
る検知のwA6を防止する丸め、回転ステージ20部分
において用いられるウニ八位置合せ機構と回転ステージ
2とのam断面図でIC131A、31Bはクエへ位置
修正具、32は回転ステージ2への真空導入部、33は
回転ステージ駆動用Oモータ、で参る。
こ−において、クエへ〇カセットと耐1111に性ホー
ド4との相互間におけるウェハ10の移し換えに当って
は、真空ビンセラ)@A[九はIBKよりウェハ10の
中心が回転ステージ20中心と一致しこのと龜、たとえ
ばウェハ・カセットから耐熱性ボー)4へのウェハ搬送
の際、ウェハ・カセッ1KThい?ウェハ1oの位置が
偏移を生じていた9すると、回転ステージ2とウェハI
Qとの中心が一致せず、これによってウェハ1oのオリ
エン?−シM77ツツトに対する検出ミス、あるいは、
耐熱性ボート4への装着ミスを生ずる原因となゐが、第
S図に示すウェハ位置合せ機構を用いることKよりこれ
らの問題発生が防止される。
すなわち、まず、ウェハ1oが真空ビンセット6人また
は6BKよp回転ステージ2上へ載置されると、ウェハ
位置修正具31ム、31BをエアシリylIT人、17
BKよって押し上げることにより、115図において実
線によp示し九とおp、ウェハ100中心が回転ステー
ジ2の中心と正確に一致するものとな9、中心を一致さ
せたところで、回転ステージ2を真空吸引しながらエア
シリンダ170により押し上げ、破線によp示すとおp
1ウェハ10を持ち上げ丸うえ、オリ7ツ検知m8を突
出させ、破線によp示し良状態となったところで、回転
ステージ2をモータ33に工9回転させ、先に述ぺ九オ
リエンテーシ■ンフラットの方向規正を行なう。なお、
このと亀、ウェハ位置修正具31人、31Bは砿411
Kより示す位置まで降下させておく。
t&、オリエンテーシ曹ンフラットの方向規正が終了し
九ならば、オリ7ツ検知器8七元の位置まで引込め、か
つ、回転ステージ2を降下させ九後、ウェハ10を真空
ビンセット6Bt九は6ムによりウェハ受台3壜たはウ
ェハ・カセットの位置まで搬送する。
以上の説明により明らかなとおり、本発明によれば、耐
熱性ボートとウェハ・カセットとの間におけるウェハの
入れ換えが自動的に行なえると共に、オリエンテーシW
/フラットの方向規正が正確に行なえ、かつ、破損ウェ
ハの検出が行なえるため、完全な無人運転が可能となる
・ し九がって、省力化と、生産性の向上とが実現し、ウェ
ハの入れ換えを行う作業者からの汚染が防げると共に、
ウェハの移送をすべて真空ビンセットにより行なつ工い
るため、極めて清浄であり、歩留9の向上が実現する・ なお、本発明により、熱処理炉のウェハ・カセット式完
全自動化が自在とな9、各種半導体の製造上顕著な効果
が得られる。
【図面の簡単な説明】
図は本発明の実施例を示し、1m1図は全構成の平面図
、籐2図はウェハ受台、真空ビンセット、ステージおよ
びウニへ位置会せ機構の要部断面図である。 1・・・・カセット台、2・・・・回転ステージ、3・
・・・ウェハ受台、4・・・・耐熱性ボ)% 4m・・
・・溝、5・・φ・ボート台、61〜6C・・・・真空
ビンセット、T・・・・光センナ、it・・Φ・オリフ
ッ検知器。

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 半導体製造工程におけるウェハ・カセットと耐熱性ボー
    トとの関においてウェハの移し換えを行なうウェハ入れ
    換え装置において、前記ウェハ・カセットの載置される
    ★セット台と、前記ウェハ・カセット内からの前記ウェ
    ハが載置されかつ咳ウェハを吸着する機構を有すると共
    に前記ウェハの方向を回@により規正する回転ステージ
    と、該回転ステ゛−ジ上の前記ウェハの形状を検知する
    形状検知機構と、前記回転ステージ上からの前記ウェハ
    が斜め直立状態として載置されるウェハ受台と、該ウェ
    ハ受台上からの前記ウェハが挿入される溝を有する前記
    耐熱性ボートと、諌ボーFが載置されるボート台と、前
    記耐熱性ボートの挿入溝を検知する溝検知機構と、前記
    ウェハ・カセットと回転ステージとの間および咳回転ス
    テージと前記ウェハ受台との間ならびに咳ウェハ受台と
    前記耐熱性ボートの婢との関において前記りエハf:憂
    動させる搬送機構とを設けたことを特徴とするウェハ入
    れ換え装置。
JP21503681A 1981-12-28 1981-12-28 ウエハ入れ換え装置 Pending JPS58115830A (ja)

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Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS60252542A (ja) * 1984-05-28 1985-12-13 Nippon Telegr & Teleph Corp <Ntt> カセツト変換装置
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