JPH0364412B2 - - Google Patents
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- Publication number
- JPH0364412B2 JPH0364412B2 JP59108177A JP10817784A JPH0364412B2 JP H0364412 B2 JPH0364412 B2 JP H0364412B2 JP 59108177 A JP59108177 A JP 59108177A JP 10817784 A JP10817784 A JP 10817784A JP H0364412 B2 JPH0364412 B2 JP H0364412B2
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- JP
- Japan
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- boat
- cassette
- wafer
- wafers
- vacuum tweezers
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- Expired - Lifetime
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- 235000012431 wafers Nutrition 0.000 claims description 97
- 238000012546 transfer Methods 0.000 claims description 10
- 238000001514 detection method Methods 0.000 claims description 9
- 238000012545 processing Methods 0.000 claims description 8
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 claims description 3
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 claims description 3
- 238000000034 method Methods 0.000 description 4
- 238000007796 conventional method Methods 0.000 description 2
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 2
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 2
- NJPPVKZQTLUDBO-UHFFFAOYSA-N novaluron Chemical compound C1=C(Cl)C(OC(F)(F)C(OC(F)(F)F)F)=CC=C1NC(=O)NC(=O)C1=C(F)C=CC=C1F NJPPVKZQTLUDBO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000001105 regulatory effect Effects 0.000 description 2
- 238000011109 contamination Methods 0.000 description 1
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 1
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 1
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 1
- 230000000717 retained effect Effects 0.000 description 1
- 238000001179 sorption measurement Methods 0.000 description 1
Landscapes
- Warehouses Or Storage Devices (AREA)
- Sheets, Magazines, And Separation Thereof (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
〔発明の技術分野〕
本発明は、IC、LSI等の半導体の製造工程にお
いて、熱処理作業等のためにカセツト内に収容さ
れているウエハをボートに移し換えるカセツト変
換装置に関するものである。
いて、熱処理作業等のためにカセツト内に収容さ
れているウエハをボートに移し換えるカセツト変
換装置に関するものである。
従来より、前記カセツト変換装置そして、第3
図に示すものが知られている。第3図において、
1は円板状のウエハを上下(第3図では紙面に直
行する方向)に重ねて収容しているカセツト、2
は上面がウエハと平行にされて矢印の方向に回転
する回転ステージ、3はウエハ受け台、4は熱処
理に用いられる耐熱性ボード、5はボード台、6
a〜6cは前記ウエハを吸着して矢印方向に駆動
する真空ピンセツト、7は前記ボート4に形成さ
れた溝4aの位置を検知する溝検知装置、8は前
記ウエハのオリフラの位置を検知するオリフラ検
知器である。
図に示すものが知られている。第3図において、
1は円板状のウエハを上下(第3図では紙面に直
行する方向)に重ねて収容しているカセツト、2
は上面がウエハと平行にされて矢印の方向に回転
する回転ステージ、3はウエハ受け台、4は熱処
理に用いられる耐熱性ボード、5はボード台、6
a〜6cは前記ウエハを吸着して矢印方向に駆動
する真空ピンセツト、7は前記ボート4に形成さ
れた溝4aの位置を検知する溝検知装置、8は前
記ウエハのオリフラの位置を検知するオリフラ検
知器である。
この第3図に示した従来の変換装置には、まず
カセツト1に収容されたウエハを真空ピンセツト
6aによつて抜き出して回転ステージ2に載置
し、次に該ステージ2を回転させながらオリフラ
検知器8によつてウエハのオリフラ位置を検出
し、それに応じてオリフラが所定の方向を向くよ
うにステージ2の回転を制御し、次にピンセツト
6bによつてウエハ受け台3に一旦載置し、最終
的にはウエハの面が軸線Aに直交するようウエハ
の面の向きを変換し、このウエハを真空ピンセツ
ト6cによつて耐熱性ボート4の溝4aに直立し
た状態にして並べる。
カセツト1に収容されたウエハを真空ピンセツト
6aによつて抜き出して回転ステージ2に載置
し、次に該ステージ2を回転させながらオリフラ
検知器8によつてウエハのオリフラ位置を検出
し、それに応じてオリフラが所定の方向を向くよ
うにステージ2の回転を制御し、次にピンセツト
6bによつてウエハ受け台3に一旦載置し、最終
的にはウエハの面が軸線Aに直交するようウエハ
の面の向きを変換し、このウエハを真空ピンセツ
ト6cによつて耐熱性ボート4の溝4aに直立し
た状態にして並べる。
このように、従来装置は、ウエハをカセツト1
から回転ステージ2へ、この回転ステージ2から
ウエハ受け台3へ、そしてウエハ受け台3から耐
熱性ボート4へと順次移し換えてゆくため、処理
時間が長くなるという問題があつた。また、カセ
ツト1に収容されているウエハの面の向きと、耐
熱性ボート4に並べられるウエハの面の向きが異
なり、途中でウエハの面の向きを変換しなければ
ならず、そのための機構が必要なこと、また前述
のように3個の真空ピンセツト6a,6b,6c
を使用して順次ウエハを移し換えている構成であ
ることから装置が複雑化し、高価になるという問
題もあつた。
から回転ステージ2へ、この回転ステージ2から
ウエハ受け台3へ、そしてウエハ受け台3から耐
熱性ボート4へと順次移し換えてゆくため、処理
時間が長くなるという問題があつた。また、カセ
ツト1に収容されているウエハの面の向きと、耐
熱性ボート4に並べられるウエハの面の向きが異
なり、途中でウエハの面の向きを変換しなければ
ならず、そのための機構が必要なこと、また前述
のように3個の真空ピンセツト6a,6b,6c
を使用して順次ウエハを移し換えている構成であ
ることから装置が複雑化し、高価になるという問
題もあつた。
本発明は前記事情に鑑みてなされたもので、カ
セツトから耐熱性ボートへのウエハの移動に必要
な真空ピンセツトがただ一つで済み、装置の小
形、軽量化、低価格化、移し換えの処理の迅速化
など多くの利点を得ることができるカセツト変換
装置を提供することを目的とする。
セツトから耐熱性ボートへのウエハの移動に必要
な真空ピンセツトがただ一つで済み、装置の小
形、軽量化、低価格化、移し換えの処理の迅速化
など多くの利点を得ることができるカセツト変換
装置を提供することを目的とする。
本発明に係るカセツト変換装置は、
半導体熱処理装置において、
ウエハロード時にはカセツトに収容されている
ウエハを耐熱性ボートに移し換え、ウエハアンロ
ード時にはボートに収容されているウエハをカセ
ツト内に戻すカセツト変換装置であつて、 カセツト内のウエハ面の向きとボートに直立し
て並べられるウエハ面の向きとが一致するように
カセツトに対して配置されるボートが置かれるボ
ート台を、ボート台駆動装置によりカセツトとボ
ートがウエハ垂直方向にお互いにすれ違うように
動作させる直進1軸駆動構成と、 ボートの溝位置を検出するための光反射形の溝
検出センサを、ボートおよびボート上に並べられ
るウエハと非接触状態でボート溝側方にボート台
とは隔離固定して取り付ける構成と、 ウエハをカセツトからボート、ボートからカセ
ツトに運搬する真空ピンセツトは3軸直進機構で
動かし、ウエハを真空ピンセツトが保持してオリ
フラ位置を検出し、ウエハの向きを一定方向にそ
ろえるためのウエハ面垂直軸まわりに回転する1
軸回転機構を前記3軸直進機構に具備する真空ピ
ンセツト駆動機構構成と、 前記真空ピンセツトには、カセツト内あるいは
ボート内の溝にウエハがあるか否かを検知する真
空検知センサを具備する構成と、 カセツトから取り出されたウエハのオリフラ位
置の検出するための前記3軸直進機構を、 ウエハ取り出し方向移動した位置でしかも真空
ピンセツトで保持したウエハの周辺部を非接触で
挟み込む位置に、発光ダイオードアレイと受光ラ
インセンサからなるエツジセンサを真空ピンセツ
ト駆動機構に具備した構成 からなることを特徴とする。
ウエハを耐熱性ボートに移し換え、ウエハアンロ
ード時にはボートに収容されているウエハをカセ
ツト内に戻すカセツト変換装置であつて、 カセツト内のウエハ面の向きとボートに直立し
て並べられるウエハ面の向きとが一致するように
カセツトに対して配置されるボートが置かれるボ
ート台を、ボート台駆動装置によりカセツトとボ
ートがウエハ垂直方向にお互いにすれ違うように
動作させる直進1軸駆動構成と、 ボートの溝位置を検出するための光反射形の溝
検出センサを、ボートおよびボート上に並べられ
るウエハと非接触状態でボート溝側方にボート台
とは隔離固定して取り付ける構成と、 ウエハをカセツトからボート、ボートからカセ
ツトに運搬する真空ピンセツトは3軸直進機構で
動かし、ウエハを真空ピンセツトが保持してオリ
フラ位置を検出し、ウエハの向きを一定方向にそ
ろえるためのウエハ面垂直軸まわりに回転する1
軸回転機構を前記3軸直進機構に具備する真空ピ
ンセツト駆動機構構成と、 前記真空ピンセツトには、カセツト内あるいは
ボート内の溝にウエハがあるか否かを検知する真
空検知センサを具備する構成と、 カセツトから取り出されたウエハのオリフラ位
置の検出するための前記3軸直進機構を、 ウエハ取り出し方向移動した位置でしかも真空
ピンセツトで保持したウエハの周辺部を非接触で
挟み込む位置に、発光ダイオードアレイと受光ラ
インセンサからなるエツジセンサを真空ピンセツ
ト駆動機構に具備した構成 からなることを特徴とする。
第1図は本発明の一実施例であつて、11はカ
セツト、12はウエハ、13は真空ピンセツト、
14は真空ピンセツト駆動装置、15はエツヂセ
ンサ、16は形状識別・処理回路、17a,17
bは信号線、18はボート台、19は耐熱性ボー
ト、20は耐熱性ボート19に刻まれたボート
溝、21はボート台駆動装置、22は溝検出セン
サである。
セツト、12はウエハ、13は真空ピンセツト、
14は真空ピンセツト駆動装置、15はエツヂセ
ンサ、16は形状識別・処理回路、17a,17
bは信号線、18はボート台、19は耐熱性ボー
ト、20は耐熱性ボート19に刻まれたボート
溝、21はボート台駆動装置、22は溝検出セン
サである。
ここにおいて、カセツト11にはウエハ収納用
の多数のカセツト溝(図示せず)が形成されてお
り、該カセツト溝にはウエハ12が直立した状態
(第1図でウエハ12の面が軸線Aに直交する状
態)で多数枚収納されている。該カセツト11か
らウエハ12が耐熱性ボート19まで移動する動
作は以下のようである。
の多数のカセツト溝(図示せず)が形成されてお
り、該カセツト溝にはウエハ12が直立した状態
(第1図でウエハ12の面が軸線Aに直交する状
態)で多数枚収納されている。該カセツト11か
らウエハ12が耐熱性ボート19まで移動する動
作は以下のようである。
カセツト11の内部に収納された多数枚のウエ
ハ12の内1枚を真空ピンセツト13側に取り付
けられたウエハ有無センサ(図示せず)で確認
し、そのウエハが設置されたカセツト溝位置で該
ウエハを真空ピンセツト13により吸引し、カセ
ツト11の外へ取り出す。真空ピンセツト13は
真空ピンセツト駆動装置14により軸線Aの回り
に回転可能に、かつ軸線Aに沿つて移動下位可能
にされている。また、真空ピンセツト13は、図
示略の移動装置によつて真空ピンセツト駆動装置
14とともに垂直方向、水平方向に移動可能にさ
れている。真空ピンセツト13により取り出され
たウエハ12は、エツヂセンサ15の中に挿入さ
れ、真空ピンセツト13、真空ピンセツト駆動装
置14により回転動作が与えられ、ウエハ12の
オリフラ位置が計測される。計測の詳細について
は、特願昭56−163090号および特願昭56−169164
号に述べてあるが、エツヂセンサ15は発光部と
受光部を有し、ウエハ12の端部がこの発光・受
光部間を通過するときの受光量を形状識別・処理
回路16で計算・処理することによりウエハ12
のオリフラ位置が検出される。検出した値を基に
して、真空ピンセツト駆動装置14を駆動し、真
空ピンセツト13を再び回転させることによりウ
エハ12のオリフラ位置をある一定の方向に規制
する。
ハ12の内1枚を真空ピンセツト13側に取り付
けられたウエハ有無センサ(図示せず)で確認
し、そのウエハが設置されたカセツト溝位置で該
ウエハを真空ピンセツト13により吸引し、カセ
ツト11の外へ取り出す。真空ピンセツト13は
真空ピンセツト駆動装置14により軸線Aの回り
に回転可能に、かつ軸線Aに沿つて移動下位可能
にされている。また、真空ピンセツト13は、図
示略の移動装置によつて真空ピンセツト駆動装置
14とともに垂直方向、水平方向に移動可能にさ
れている。真空ピンセツト13により取り出され
たウエハ12は、エツヂセンサ15の中に挿入さ
れ、真空ピンセツト13、真空ピンセツト駆動装
置14により回転動作が与えられ、ウエハ12の
オリフラ位置が計測される。計測の詳細について
は、特願昭56−163090号および特願昭56−169164
号に述べてあるが、エツヂセンサ15は発光部と
受光部を有し、ウエハ12の端部がこの発光・受
光部間を通過するときの受光量を形状識別・処理
回路16で計算・処理することによりウエハ12
のオリフラ位置が検出される。検出した値を基に
して、真空ピンセツト駆動装置14を駆動し、真
空ピンセツト13を再び回転させることによりウ
エハ12のオリフラ位置をある一定の方向に規制
する。
一方、ボート台18はボート駆動装置21によ
り駆動され、耐熱性ボート19の所定のボート溝
20はカセツト11からウエハ12を取り出す位
置、すなわちウエハ12が収まる位置まで移動す
る。耐熱性ボート19にはボート溝20が多数刻
まれており、どのボート溝にウエハを立てるかに
ついては、ボート溝検出センサ22によりボート
溝の位置を検出し、該検出結果に基づいてボート
駆動装置21を動作させることによつて行う。ボ
ート溝検出センサ22は光センサで発光部および
受光部から成るもので既知のものである。
り駆動され、耐熱性ボート19の所定のボート溝
20はカセツト11からウエハ12を取り出す位
置、すなわちウエハ12が収まる位置まで移動す
る。耐熱性ボート19にはボート溝20が多数刻
まれており、どのボート溝にウエハを立てるかに
ついては、ボート溝検出センサ22によりボート
溝の位置を検出し、該検出結果に基づいてボート
駆動装置21を動作させることによつて行う。ボ
ート溝検出センサ22は光センサで発光部および
受光部から成るもので既知のものである。
オリフラ位置を規制されたウエハ12は図示略
の移動装置によつて真空ピンセツト駆動装置14
および真空ピンセツト13とともに耐熱性ボート
19側に移動させられる。そして、ウエハ12は
耐熱性ボート19のボート溝20に挿入された状
態で真空ピンセツトによる保持が解除されて、耐
熱性ボート19上に直立した状態となる。
の移動装置によつて真空ピンセツト駆動装置14
および真空ピンセツト13とともに耐熱性ボート
19側に移動させられる。そして、ウエハ12は
耐熱性ボート19のボート溝20に挿入された状
態で真空ピンセツトによる保持が解除されて、耐
熱性ボート19上に直立した状態となる。
以上でカセツト11から耐熱性ボート19への
ウエハ12の移動が完了する。
ウエハ12の移動が完了する。
逆に、耐熱性ボート19からカセツト11への
ウエハ12の収納については、上記に述べた動作
を逆を行なえばよいが、特に、オリフラ位置を規
制しなくてもよい場合には、エツヂセンサ15で
の処理を省略すればよい。
ウエハ12の収納については、上記に述べた動作
を逆を行なえばよいが、特に、オリフラ位置を規
制しなくてもよい場合には、エツヂセンサ15で
の処理を省略すればよい。
第2図は第1図に示した本発明の実施例におけ
る真空ピンセツト駆動装置14を説明するもので
ある。
る真空ピンセツト駆動装置14を説明するもので
ある。
31はモータ、32は回転軸、33は真空ピン
セツトヘツド、34は回転軸32の中心部を通る
孔、35は真空ポンプとの接続部、36は接続部
の孔、37a,37bはOリング、38a,38
bは軸受けである。
セツトヘツド、34は回転軸32の中心部を通る
孔、35は真空ポンプとの接続部、36は接続部
の孔、37a,37bはOリング、38a,38
bは軸受けである。
真空ピンセツトヘツド33でウエハ12が吸引
され、保持されるが、保持するための真空は、真
空装置(図示せず)から接続部35の孔36を介
して真空ピンセツトヘツド33に伝えられ、ウエ
ハ12が吸引、保持される。第2図に示すように
ウエハ12の回転モータ31により、回転軸32
を矢印のように回転させることにより与えられ
る。ウエハ12がエツヂセンサ15内で回転する
と、ウエハの中心と回転の中心とが一致していな
いのが通例であるため、オリフラのないウエハ1
2のエツヂ部分では正弦波の信号を生じ、オリフ
ラの位置にあたる部分では正弦波から外れた信号
となり、オリフラの位置が検出される。なお、ウ
エハ吸引時、ボート19への移動時など真空ピン
セツト13を移動させるには前述した既存の移動
装置により、第2図に示す装置全体を上下、左
右、前後に動かせばよい。例えば、モータとボー
ルねじの組み合わせを3組用いるとか、モータと
ベルト・プーリの組み合わせを3組用いることに
より、このような動作を行う機構を容易に作るこ
とができる。
され、保持されるが、保持するための真空は、真
空装置(図示せず)から接続部35の孔36を介
して真空ピンセツトヘツド33に伝えられ、ウエ
ハ12が吸引、保持される。第2図に示すように
ウエハ12の回転モータ31により、回転軸32
を矢印のように回転させることにより与えられ
る。ウエハ12がエツヂセンサ15内で回転する
と、ウエハの中心と回転の中心とが一致していな
いのが通例であるため、オリフラのないウエハ1
2のエツヂ部分では正弦波の信号を生じ、オリフ
ラの位置にあたる部分では正弦波から外れた信号
となり、オリフラの位置が検出される。なお、ウ
エハ吸引時、ボート19への移動時など真空ピン
セツト13を移動させるには前述した既存の移動
装置により、第2図に示す装置全体を上下、左
右、前後に動かせばよい。例えば、モータとボー
ルねじの組み合わせを3組用いるとか、モータと
ベルト・プーリの組み合わせを3組用いることに
より、このような動作を行う機構を容易に作るこ
とができる。
このように、カセツト11に収容されたウエハ
12の面の向きと、耐熱性ボート19に直立して
並べられたときのウエハ12の面の向きとを一致
させた構成であると、カセツト11からウエハ1
2を抜き出すただ1個の真空ピンセツト13を、
回転可能にしかつ平行移動可能にするだけで、ウ
エハ12の移し換え動作が可能になり、これによ
つて、移し換え処理の迅速化がなされ、かつ装置
の小形・軽量化・低価格化もなされることになつ
た。
12の面の向きと、耐熱性ボート19に直立して
並べられたときのウエハ12の面の向きとを一致
させた構成であると、カセツト11からウエハ1
2を抜き出すただ1個の真空ピンセツト13を、
回転可能にしかつ平行移動可能にするだけで、ウ
エハ12の移し換え動作が可能になり、これによ
つて、移し換え処理の迅速化がなされ、かつ装置
の小形・軽量化・低価格化もなされることになつ
た。
以上説明したように、本発明のカセツト変換装
置では、1個の真空ピンセツトを用い、カセツト
に収納されているウエハをカセツトから耐熱性ボ
ートへの移し換え、あるいは耐熱性ボートからカ
セツトへの移し換えが出来、非常に装置が簡単と
なり、小形・軽量化を図ることができるという効
果が生じる。またエツヂセンサを用いウエハのオ
リフラ位置が非接触で検出されるため、ウエハの
他の部材との接触がただ1個の真空ピンセツトに
よるものだけて済み、従来の場合と比較して接触
回数が減少し、ウエハへの分子の吸着等による汚
染の恐れが少なくなるという利点も得られる。ま
た、さらに、移し換えの動作が短縮されたため、
移し換え処理の迅速化も図れることとなつた。
置では、1個の真空ピンセツトを用い、カセツト
に収納されているウエハをカセツトから耐熱性ボ
ートへの移し換え、あるいは耐熱性ボートからカ
セツトへの移し換えが出来、非常に装置が簡単と
なり、小形・軽量化を図ることができるという効
果が生じる。またエツヂセンサを用いウエハのオ
リフラ位置が非接触で検出されるため、ウエハの
他の部材との接触がただ1個の真空ピンセツトに
よるものだけて済み、従来の場合と比較して接触
回数が減少し、ウエハへの分子の吸着等による汚
染の恐れが少なくなるという利点も得られる。ま
た、さらに、移し換えの動作が短縮されたため、
移し換え処理の迅速化も図れることとなつた。
第1図は本発明の一実施例を示す構成平面図、
第2図は真空ピンセツトの構成を示す断面図、第
3図は本発明の従来のカセツト変換装置構成の平
面図である。 11……カセツト、12……ウエハ、13……
真空ピンセツト、14……真空ピンセツト駆動装
置、15……エツヂセンサ、16……形状識別処
理回路、19……耐熱性ボート、20……ボート
溝、21……ボート台駆動装置、22……ボート
溝検出センサ。
第2図は真空ピンセツトの構成を示す断面図、第
3図は本発明の従来のカセツト変換装置構成の平
面図である。 11……カセツト、12……ウエハ、13……
真空ピンセツト、14……真空ピンセツト駆動装
置、15……エツヂセンサ、16……形状識別処
理回路、19……耐熱性ボート、20……ボート
溝、21……ボート台駆動装置、22……ボート
溝検出センサ。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1 半導体熱処理装置において、 ウエハロード時にはカセツトに収容されている
ウエハを耐熱性ボートに移し換え、ウエハアンロ
ード時にはボートに収容されているウエハをカセ
ツト内に戻すカセツト変換装置であつて、 カセツト内のウエハ面の向きとボートに直立し
て並べられるウエハ面の向きとが一致するように
カセツトに対して配置されるボートが置かれるボ
ート台を、ボート台駆動装置によりカセツトとボ
ートがウエハ垂直方向にお互いにすれ違うように
動作させる直進1軸駆動構成と、 ボートの溝位置を検出するための光反射形の溝
検出センサを、ボートおよびボート上に並べられ
るウエハと非接触状態でボート溝側方にボート台
とは隔離固定して取り付ける構成と、 ウエハをカセツトからボート、ボートからカセ
ツトに運搬する真空ピンセツトは3軸直進機構で
動かし、ウエハを真空ピンセツトが保持してオリ
フラ位置を検出し、ウエハの向きを一定方向にそ
ろえるためのウエハ面垂直軸まわりに回転する1
軸回転機構を前記3軸直進機構に具備する真空ピ
ンセツト駆動機構構成と、 前記真空ピンセツトには、カセツト内あるいは
ボート内の溝にウエハがあるか否かを検知する真
空検知センサを具備する構成と、 カセツトから取り出されたウエハのオリフラ位
置を検出するための前記3軸直進機構を、ウエハ
取り出し方向移動した位置でしかも真空ピンセツ
トで保持したウエハの周辺部を非接触で挟み込む
位置に、発光ダイオードアレイと受光ラインセン
サからなるエツジセンサを真空ピンセツト駆動機
構に具備した構成 からなることを特徴とするカセツト変換装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP10817784A JPS60252542A (ja) | 1984-05-28 | 1984-05-28 | カセツト変換装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP10817784A JPS60252542A (ja) | 1984-05-28 | 1984-05-28 | カセツト変換装置 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS60252542A JPS60252542A (ja) | 1985-12-13 |
JPH0364412B2 true JPH0364412B2 (ja) | 1991-10-07 |
Family
ID=14477941
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP10817784A Granted JPS60252542A (ja) | 1984-05-28 | 1984-05-28 | カセツト変換装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS60252542A (ja) |
Families Citing this family (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH052501Y2 (ja) * | 1986-05-09 | 1993-01-21 | ||
CN109051735A (zh) * | 2018-08-24 | 2018-12-21 | 旌德县安德力磨具有限公司 | 一种挡料装置 |
Citations (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS5643718A (en) * | 1979-09-17 | 1981-04-22 | Mitsubishi Electric Corp | Semiconductor wafer shifting device |
JPS58115830A (ja) * | 1981-12-28 | 1983-07-09 | Nippon Telegr & Teleph Corp <Ntt> | ウエハ入れ換え装置 |
-
1984
- 1984-05-28 JP JP10817784A patent/JPS60252542A/ja active Granted
Patent Citations (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS5643718A (en) * | 1979-09-17 | 1981-04-22 | Mitsubishi Electric Corp | Semiconductor wafer shifting device |
JPS58115830A (ja) * | 1981-12-28 | 1983-07-09 | Nippon Telegr & Teleph Corp <Ntt> | ウエハ入れ換え装置 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPS60252542A (ja) | 1985-12-13 |
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