JPH1197608A - Lead frame for semiconductor device - Google Patents

Lead frame for semiconductor device

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JPH1197608A
JPH1197608A JP25155497A JP25155497A JPH1197608A JP H1197608 A JPH1197608 A JP H1197608A JP 25155497 A JP25155497 A JP 25155497A JP 25155497 A JP25155497 A JP 25155497A JP H1197608 A JPH1197608 A JP H1197608A
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JP
Japan
Prior art keywords
lead frame
semiconductor device
die pad
depressed portion
lead
Prior art date
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JP25155497A
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Inventor
Kenzo Tanaka
憲三 田中
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Sony Corp
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Sony Corp
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  • Lead Frames For Integrated Circuits (AREA)

Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a lead frame which is capable of forming the depresses of a die pad easily and accurately, without being affected by restricting conditions within a semiconductor device. SOLUTION: In a lead frame 1 for a semiconductor device comprising a die pad 11 on which a semiconductor chip has been mounted, inner leads 13 that are electrically connected to electrodes of the semiconductor chip, and depressed portions 2 for allowing the pad 11 and the leads 13 to stand on different levels, the portions 2 are provided outside a region 17 for forming encapsulating resin that encapsulates the semiconductor chip.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、半導体装置に用い
られる半導体装置用リードフレームに関するものであ
る。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a semiconductor device lead frame used for a semiconductor device.

【0002】[0002]

【従来の技術】一般に、半導体装置用リードフレームと
しては、その材料や形状等において多種多様のものが存
在するが、その一つとして、例えば図3に示すようなも
のが知られている。
2. Description of the Related Art In general, there are various types of lead frames for semiconductor devices in terms of materials, shapes, and the like. One of them is known, for example, as shown in FIG.

【0003】図例のリードフレーム10は、例えば銅系
合金材料からなる金属板をスタンピングまたはエッチン
グ等の加工により形成したものであり、略方形の平板状
に形成されたダイパッド11と、このダイパッド11を
支持するダイパッド吊りリード(以下吊りリードと称
す)12と、ダイパッド11の周囲に配置されたインナ
ーリード13と、これらインナーリード13を支持する
タイバー14と、各インナーリード13に対応してこれ
に連結するように設けられたアウターリード15とを備
えてなるものである。
The lead frame 10 shown in FIG. 1 is formed by stamping or etching a metal plate made of, for example, a copper-based alloy material. The die pad 11 is formed in a substantially rectangular flat plate shape. , A tie bar 14 for supporting the inner leads 13, and a tie bar 14 for supporting the inner leads 13. And an outer lead 15 provided so as to be connected.

【0004】また、このリードフレーム10には、吊り
リード12にディプレス部16(2か所)が設けられて
いる。ディプレス部16は、金型等による曲げ加工によ
って成形されたものであり、ダイパッド11とインナー
リード13とを段違いにして、ダイパッド11をインナ
ーリード13よりも下方に位置させるためのものであ
る。
In the lead frame 10, depressed portions 16 (two places) are provided on the suspension leads 12. The depressed portion 16 is formed by bending using a die or the like, and is for positioning the die pad 11 below the inner lead 13 with the die pad 11 and the inner lead 13 being stepped.

【0005】このように形成されたリードフレーム10
は、図4に示すような樹脂封止型の半導体装置20に用
いられる。すなわち、リードフレーム10のダイパッド
11上には、シリコン系材料等からなる半導体チップ2
1が接着剤を介して搭載され、この半導体チップ21の
有する電極がボンディングワイヤ22によりインナーリ
ード13と電気的に接続(ワイヤボンド)される。そし
て、これらの各部がエポキシ樹脂等の封止樹脂23によ
って封止され、その封止樹脂23からはアウターリード
15が外装メッキおよび成形加工等を加えられた状態で
突出することとなる。
[0005] The lead frame 10 thus formed
Is used for a resin-sealed semiconductor device 20 as shown in FIG. That is, the semiconductor chip 2 made of a silicon-based material or the like is placed on the die pad 11 of the lead frame 10.
1 is mounted via an adhesive, and the electrodes of the semiconductor chip 21 are electrically connected (wire-bonded) to the inner leads 13 by bonding wires 22. These components are sealed by a sealing resin 23 such as an epoxy resin, and the outer leads 15 protrude from the sealing resin 23 in a state where exterior plating, molding, and the like are applied.

【0006】以上のようにして、上述のリードフレーム
10を用いた半導体装置20が構成される。ただし、こ
の半導体装置20においては、リードフレーム10にデ
ィプレス部16が設けられているので、ダイパッド11
上に半導体チップ21を搭載した際に、その半導体チッ
プ21の上面とインナーリード13とが略同一平面上に
位置するようになっている。したがって、ディプレス部
16を備えたリードフレーム10を用いれば、半導体装
置20の小型化や多ピン化に対応する場合であっても、
ワイヤボンドを容易かつ確実に行うことができるように
なる。
As described above, the semiconductor device 20 using the above-described lead frame 10 is configured. However, in this semiconductor device 20, since the depressed portion 16 is provided on the lead frame 10, the die pad 11
When the semiconductor chip 21 is mounted thereon, the upper surface of the semiconductor chip 21 and the inner leads 13 are located on substantially the same plane. Therefore, if the lead frame 10 having the depressed portion 16 is used, even if the semiconductor device 20 is adapted to miniaturization and multi-pins,
Wire bonding can be performed easily and reliably.

【0007】なお、上述のリードフレーム10におい
て、ディプレス部16は、封止樹脂23の形成領域17
の内側に設けられている。これは、封止樹脂23を形成
する際に用いるモールド金型の形状を簡略化するためで
ある。
In the lead frame 10 described above, the depressed portion 16 is formed in a region 17 where the sealing resin 23 is formed.
It is provided inside. This is for simplifying the shape of a mold used when forming the sealing resin 23.

【0008】[0008]

【発明が解決しようとする課題】ところで、上述した従
来のリードフレーム10では、ワイヤボンドを容易かつ
確実にするために、吊りリード12にディプレス部16
が設けられているが、このディプレス部16が封止樹脂
23の形成領域17の内側に設けられているので、半導
体装置20内の制約条件によっては、ディプレス部16
の形成が困難なものとなってしまう可能性がある。
In the conventional lead frame 10 described above, the depressed portion 16 is attached to the suspension lead 12 in order to make wire bonding easy and reliable.
However, since the depressed portion 16 is provided inside the formation region 17 of the sealing resin 23, the depressed portion 16
May be difficult to form.

【0009】これを詳しく説明すると、例えば半導体
装置20全体のサイズが小さい、ディプレス部16に
よるディプレス量が大きい、ダイパッド11のサイズ
が大きい、リードフレーム10の板厚が薄い、といっ
た各条件のうちの幾つかが互いに重なり合った場合に
は、非常に狭い領域内にディプレス部16を形成しなけ
ればならない。したがって、この場合には、例えばディ
プレス部16の曲げ角度が非常に急になるといったよう
に、その加工が困難なものとなってしまう。さらには、
加工が困難なものとなるために、リードフレーム10と
して必要な寸法精度が得られなくなってしまう可能性が
生じてしまう。
More specifically, for example, the following conditions are satisfied: the size of the entire semiconductor device 20 is small, the amount of depressing by the depressing section 16 is large, the size of the die pad 11 is large, and the thickness of the lead frame 10 is small. If some of them overlap each other, the depressed portion 16 must be formed in a very small area. Therefore, in this case, the processing becomes difficult, for example, the bending angle of the depressed portion 16 becomes very steep. Furthermore,
Since processing is difficult, there is a possibility that the dimensional accuracy required for the lead frame 10 cannot be obtained.

【0010】そこで、本発明は、半導体装置内の制約条
件、例えば上述した〜の条件等に影響されることな
く、ダイパッドのディプレス部を容易かつ精度良く形成
することのできる半導体装置用リードフレームを提供す
ることを目的とする。
Accordingly, the present invention provides a lead frame for a semiconductor device in which a depressed portion of a die pad can be easily and accurately formed without being affected by constraints in the semiconductor device, for example, the above-mentioned conditions. The purpose is to provide.

【0011】[0011]

【課題を解決するための手段】本発明は、上記目的を達
成するために案出されたもので、半導体チップが搭載さ
れるダイパッドと、このダイパッドの周囲に配置され前
記半導体チップが有する電極と電気的に接続されるイン
ナーリードと、前記ダイパッドと前記インナーリードと
を段違いに配置するためのディプレス部とを備える半導
体装置用リードフレームにおいて、前記ディプレス部
は、前記半導体チップを封止する封止樹脂の形成領域よ
りも外側に設けられていることを特徴とするものであ
る。
SUMMARY OF THE INVENTION The present invention has been devised to achieve the above object, and comprises a die pad on which a semiconductor chip is mounted, and an electrode which is arranged around the die pad and has the semiconductor chip. In a semiconductor device lead frame including an inner lead that is electrically connected, and a depressed portion for disposing the die pad and the inner lead at different levels, the depressed portion seals the semiconductor chip. It is provided outside the region where the sealing resin is formed.

【0012】上記構成の半導体装置用リードフレームに
よれば、ダイパッドとインナーリードとを段違いにする
ためのディプレス部が、ダイパッド上の半導体チップを
封止する封止樹脂の形成領域よりも外側に設けられてい
るので、例えば半導体装置を構成する際の制約(半導体
装置の小型化による影響等)があっても、狭い領域内で
ディプレス部の加工を行う必要がなくなる。したがっ
て、ディプレス部の加工が従来に比べて容易なものとな
り、これに伴い必要な寸法精度が得られるようになる。
According to the lead frame for a semiconductor device having the above-described structure, the depressed portion for changing the level of the die pad and the inner lead is located outside the region where the sealing resin for sealing the semiconductor chip on the die pad is formed. Since it is provided, it is not necessary to process the depressed portion in a narrow area even if there is a restriction (for example, an effect due to the downsizing of the semiconductor device) when configuring the semiconductor device. Accordingly, the processing of the depressed portion becomes easier than before, and the required dimensional accuracy can be obtained accordingly.

【0013】[0013]

【発明の実施の形態】以下、図面に基づき本発明に係わ
る半導体装置用リードフレームについて説明する。図1
は、本発明に係わる半導体装置用リードフレーム1の一
例を示す概略図である。ただし、既に説明した従来のも
の(図3参照)と同一の構成要素については、同一の符
号を与えてその説明を省略する。
DETAILED DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS A lead frame for a semiconductor device according to the present invention will be described below with reference to the drawings. FIG.
1 is a schematic view showing an example of a semiconductor device lead frame 1 according to the present invention. However, the same components as those of the conventional device (see FIG. 3) described above are denoted by the same reference numerals, and description thereof will be omitted.

【0014】本実施の形態のリードフレーム1は、従来
のものと同様に、ダイパッド11と、吊りリード12
と、インナーリード13と、タイバー14と、アウター
リード15とを備えてなるものであり、既に説明した半
導体装置20を構成するために用いられるものである。
The lead frame 1 of the present embodiment has a die pad 11 and
, An inner lead 13, a tie bar 14, and an outer lead 15, which are used to configure the semiconductor device 20 described above.

【0015】ただし、このリードフレーム1では、従来
のものとは異なり、ダイパッド11とインナーリード1
3とを段違いにするためのディプレス部2が、吊りリー
ド12ではなく、タイバー14およびアウターリード1
5に設けられている。詳しくは、ディプレス部2は、イ
ンナーリード13を支持するタイバー14の両端部近傍
(図中A部)と、各アウターリード15の外側端部近傍
(図中B部)のそれぞれとに設けられている。
However, in this lead frame 1, unlike the conventional one, the die pad 11 and the inner lead 1
3, the tie bar 14 and the outer lead 1 are provided instead of the suspension lead 12.
5. More specifically, the depressed portions 2 are provided near both ends of the tie bar 14 that supports the inner leads 13 (portion A in the drawing) and near the outer ends of the outer leads 15 (portion B in the drawing). ing.

【0016】つまり、このリードフレーム1では、ディ
プレス部2が封止樹脂23の形成領域よりも外側に設け
られている。そして、封止樹脂23の形成領域の外側に
おいて、インナーリード13を上方に持ち上げるように
ディプレス部2の曲げ加工を行うことによって、ダイパ
ッド11とインナーリード13とを段違いにして、ダイ
パッド11をインナーリード13よりも下方に位置させ
ている。
That is, in the lead frame 1, the depressed portion 2 is provided outside the region where the sealing resin 23 is formed. Then, outside the region where the sealing resin 23 is formed, by bending the depressed portion 2 so as to lift the inner lead 13 upward, the die pad 11 and the inner lead 13 are stepped, and the die pad 11 is It is located below the lead 13.

【0017】そのために、このリードフレーム1では、
このリードフレーム1を用いて構成する半導体装置20
での制約条件によって、その半導体装置20の封止樹脂
23の形成領域が極小化したような場合であっても、従
来に比べて広い領域を用いてディプレス部2を形成する
ことができる。これは、例えば「このリードフレーム1
を用いて構成する半導体装置20のサイズが小さい」、
「ディプレス部2によるディプレス量が大きい」、「ダ
イパッド11のサイズが大きい」、「リードフレーム1
の板厚が薄い」などの条件が重なり合ったような場合で
あっても同様である。
Therefore, in this lead frame 1,
Semiconductor device 20 configured using this lead frame 1
In the case where the formation region of the sealing resin 23 of the semiconductor device 20 is minimized due to the restrictions described in the above, the depressed portion 2 can be formed using a wider region than before. This is, for example, "this lead frame 1
The size of the semiconductor device 20 configured using the semiconductor device is small. "
“Depress amount by depress section 2 is large”, “size of die pad 11 is large”, “Lead frame 1
The same applies to the case where conditions such as “the thickness of the sheet is thin” overlap.

【0018】したがって、このリードフレーム1では、
半導体装置20における制約条件があっても、ディプレ
ス部2を従来のように非常に狭い領域内で形成する必要
がなくなるので、ディプレス部2の曲げ角度が急になる
といったことを回避することができ、結果として従来よ
りも容易にディプレス部2を形成することができるよう
になる。しかも、ディプレス部2の加工が容易になるこ
とに伴い、その加工を高精度に行うことが可能となるの
で、リードフレーム1として必要な寸法精度を確実に得
ることができるようになる。
Therefore, in this lead frame 1,
Even if there are restrictions on the semiconductor device 20, it is not necessary to form the depressed portion 2 in a very narrow area as in the conventional case, so that the bending angle of the depressed portion 2 is prevented from becoming steep. As a result, the depressed portion 2 can be formed more easily than before. In addition, as the processing of the depressed portion 2 is facilitated, the processing can be performed with high precision, so that the dimensional accuracy required for the lead frame 1 can be reliably obtained.

【0019】なお、本実施の形態のリードフレーム1を
用いて半導体装置20を構成する場合には、封止樹脂2
3を形成するモールド金型の形状を、従来に比べて若干
複雑化する必要があるが、これはディプレス部2を容易
かつ精度良く形成できることを鑑みれば、大きな問題と
はならない。
When the semiconductor device 20 is constructed using the lead frame 1 of the present embodiment, the sealing resin 2
Although it is necessary to make the shape of the mold for forming the mold 3 slightly more complicated than in the past, this is not a serious problem in view of the fact that the depressed portion 2 can be formed easily and accurately.

【0020】次に、本発明に係わる半導体装置用リード
フレームの他の実施の形態について説明する。図2は、
他の実施の形態における半導体装置用リードフレーム1
aを示す概略図である。
Next, another embodiment of the lead frame for a semiconductor device according to the present invention will be described. FIG.
Semiconductor device lead frame 1 according to another embodiment
It is the schematic which shows a.

【0021】図例のように、本実施の形態のリードフレ
ーム1aでは、ディプレス部2が、インナーリード13
を支持するタイバー14の両端部近傍(図中A部)と、
アウターリード15を支持するタイバー15aの両端部
近傍(図中C部)とに設けられている。そして、インナ
ーリード13を上方に持ち上げるようにディプレス部2
の曲げ加工を行うことによって、ダイパッド11とイン
ナーリード13とを段違いにして、ダイパッド11をイ
ンナーリード13よりも下方に位置させている。つま
り、このリードフレーム1aにおいても、ディプレス部
2が、封止樹脂23の形成領域よりも外側に設けられて
いる。
As shown in the figure, in the lead frame 1a of the present embodiment, the depressed portion 2
Near both ends of the tie bar 14 for supporting the
The tie bar 15a that supports the outer lead 15 is provided near both ends (portion C in the figure). Then, the depressed part 2 is lifted so that
By performing the bending process, the die pad 11 and the inner lead 13 are stepped, and the die pad 11 is positioned below the inner lead 13. That is, also in the lead frame 1a, the depressed portion 2 is provided outside the region where the sealing resin 23 is formed.

【0022】したがって、このリードフレーム1aにお
いても、上述した場合と同様に、半導体装置20におけ
る制約条件に拘わらず、従来よりも容易にディプレス部
2を形成することができるとともに、リードフレーム1
aとして必要な寸法精度を確実に得ることができるよう
になる。
Therefore, in this lead frame 1a, as in the case described above, the depressed portion 2 can be formed more easily than in the prior art regardless of the restrictions on the semiconductor device 20, and the lead frame 1a can be formed.
The required dimensional accuracy as a can be reliably obtained.

【0023】なお、上述したそれぞれの実施の形態で
は、ディプレス部2がタイバー14とアウターリード1
5若しくはタイバー15aとに設けられている場合を例
に挙げて説明したが、本発明はこれに限定されるもので
はなく、ディプレス部2が封止樹脂23の形成領域より
も外側に設けられているものであれば、例えば吊りリー
ド12の両端部近傍に設けられているものであっても実
施可能である。
In each of the above-described embodiments, the depressed portion 2 includes the tie bar 14 and the outer lead 1.
5 or the tie bar 15a has been described as an example, but the present invention is not limited to this, and the depressed portion 2 is provided outside the formation region of the sealing resin 23. As long as they are provided, for example, those provided near both ends of the suspension lead 12 can also be implemented.

【0024】また、上述したそれぞれの実施の形態で
は、ディプレス部2によってダイパッド11がインナー
リード13よりも下方に位置している場合を例に挙げて
説明したが、本発明はこれに限定されるものではなく、
ディプレス部2によってダイパッド11とインナーリー
ド13とが段違いになっているものであれば、例えばダ
イパッド11がインナーリード13よりも上方に位置し
ている場合であっても適用可能である。
Further, in each of the above-described embodiments, the case where the die pad 11 is located below the inner lead 13 by the depress portion 2 has been described as an example, but the present invention is not limited to this. Not something
As long as the die pad 11 and the inner lead 13 are stepped by the depressed portion 2, the present invention is applicable even when the die pad 11 is located above the inner lead 13.

【0025】[0025]

【発明の効果】以上に説明したように、本発明の半導体
装置用リードフレームは、ダイパッドとインナーリード
とを段違いにするディプレス部が、封止樹脂の形成領域
よりも外側に設けられている。そのために、このリード
フレームでは、例えばこのリードフレームを用いて構成
する半導体装置での制約条件によりその半導体装置の封
止樹脂の形成領域が極小化したような場合であっても、
従来に比べて広い領域を用いてディプレス部を形成する
ことができる。したがって、このリードフレームでは、
半導体装置における制約条件があっても、ディプレス部
を従来のように非常に狭い領域内で形成する必要がなく
なるので、従来よりも容易にディプレス部を形成するこ
とができるようになるとともに、リードフレーム1とし
て必要な寸法精度を確実に得ることができるようにな
る。
As described above, in the lead frame for a semiconductor device according to the present invention, the depressed portion for making the die pad and the inner lead different from each other is provided outside the formation region of the sealing resin. . For this reason, in this lead frame, for example, even when the formation region of the sealing resin of the semiconductor device is minimized due to a constraint condition in the semiconductor device formed using the lead frame,
The depressed portion can be formed using a wider area than before. Therefore, in this leadframe,
Even if there are constraints in the semiconductor device, it is not necessary to form the depressed portion in a very narrow area as in the conventional case, so that the depressed portion can be formed more easily than in the past, The dimensional accuracy required for the lead frame 1 can be reliably obtained.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】本発明に係わる半導体装置用リードフレームの
実施の形態の一例を示す概略図である。
FIG. 1 is a schematic view showing an example of an embodiment of a semiconductor device lead frame according to the present invention.

【図2】本発明に係わる半導体装置用リードフレームの
他の実施の形態を示す概略図である。
FIG. 2 is a schematic view showing another embodiment of a lead frame for a semiconductor device according to the present invention.

【図3】従来の半導体装置用リードフレームの一例を示
す概略図である。
FIG. 3 is a schematic view showing an example of a conventional semiconductor device lead frame.

【図4】半導体装置用リードフレームを用いて構成した
半導体装置の構成を示す概略図である。
FIG. 4 is a schematic diagram illustrating a configuration of a semiconductor device configured using a semiconductor device lead frame.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1,1a…半導体装置用リードフレーム、2…ディプレ
ス部、11…ダイパッド、13…インナーリード、14
…タイバー、15…アウターリード、15a…タイバ
ー、17…形成領域、21…半導体チップ、23…封止
樹脂
1, 1a: Lead frame for semiconductor device, 2: Depressed part, 11: Die pad, 13: Inner lead, 14
... Tie bar, 15 ... Outer lead, 15a ... Tie bar, 17 ... Formation area, 21 ... Semiconductor chip, 23 ... Seal resin

Claims (1)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 半導体チップが搭載されるダイパッド
と、該ダイパッドの周囲に配置され前記半導体チップが
有する電極と電気的に接続されるインナーリードと、前
記ダイパッドと前記インナーリードとを段違いに配置す
るためのディプレス部とを備える半導体装置用リードフ
レームにおいて、 前記ディプレス部は、前記半導体チップを封止する封止
樹脂の形成領域よりも外側に設けられていることを特徴
とする半導体装置用リードフレーム。
1. A die pad on which a semiconductor chip is mounted, an inner lead disposed around the die pad and electrically connected to an electrode of the semiconductor chip, and the die pad and the inner lead are arranged stepwise. A lead frame for a semiconductor device, comprising: a depressed portion for the semiconductor device, wherein the depressed portion is provided outside a region where a sealing resin for sealing the semiconductor chip is formed. Lead frame.
JP25155497A 1997-09-17 1997-09-17 Lead frame for semiconductor device Pending JPH1197608A (en)

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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN103021992A (en) * 2011-09-21 2013-04-03 株式会社东芝 Lead frame, semiconductor manufacturing apparatus, and semiconductor device

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