JPH1192811A - 溶融金属の精錬方法 - Google Patents
溶融金属の精錬方法Info
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- JPH1192811A JPH1192811A JP24873497A JP24873497A JPH1192811A JP H1192811 A JPH1192811 A JP H1192811A JP 24873497 A JP24873497 A JP 24873497A JP 24873497 A JP24873497 A JP 24873497A JP H1192811 A JPH1192811 A JP H1192811A
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- impeller
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- Refinement Of Pig-Iron, Manufacture Of Cast Iron, And Steel Manufacture Other Than In Revolving Furnaces (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】本発明の目的は、低硫黄目標濃度（５ppm ）を
通常処理時間内（１５min 以内）で実現できる溶銑脱硫
方法を提案する。 【解決手段】インペラーを高速攪拌すると垂直方向の流
れが発生することに着目して、円周方向流れを電磁攪拌
に、フラックスの分散をインペラー攪拌に特化すること
により従来困難であった浴全体の均一攪拌を実現でき、
溶銑の低硫黄化（５ppm 以下）が短時間に可能となる。
インペラー攪拌の立ち上げ時、停止時に電磁攪拌をそれ
ぞれ正転・反転させることにより更に時間短縮も可能と
なる。インペラー径Ｄと取鍋径Ｄｏとの比、Ｄ／Ｄｏを
０．１〜０．５に、回転磁界の回転数を１００〜１００
０rpm にすることによりフラックス分散、浴全体の均一
攪拌を一層実現できる。
通常処理時間内（１５min 以内）で実現できる溶銑脱硫
方法を提案する。 【解決手段】インペラーを高速攪拌すると垂直方向の流
れが発生することに着目して、円周方向流れを電磁攪拌
に、フラックスの分散をインペラー攪拌に特化すること
により従来困難であった浴全体の均一攪拌を実現でき、
溶銑の低硫黄化（５ppm 以下）が短時間に可能となる。
インペラー攪拌の立ち上げ時、停止時に電磁攪拌をそれ
ぞれ正転・反転させることにより更に時間短縮も可能と
なる。インペラー径Ｄと取鍋径Ｄｏとの比、Ｄ／Ｄｏを
０．１〜０．５に、回転磁界の回転数を１００〜１００
０rpm にすることによりフラックス分散、浴全体の均一
攪拌を一層実現できる。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、溶融金属を効果的
に攪拌することが必要な精錬方法に関する。以下、本発
明に関わる精錬方法を溶銑脱硫にもとづいて説明する。
に攪拌することが必要な精錬方法に関する。以下、本発
明に関わる精錬方法を溶銑脱硫にもとづいて説明する。
【０００２】
【従来の技術】近年、転炉・連続鋳造の能率があがって
きており、溶銑脱硫工程が律速段階となり溶銑の脱硫処
理時間を短縮するニーズが高まってきている。更に、製
品の多様化・高品質化の要請に応えるために低硫化（目
標５ppm 以下）が望まれており、溶銑脱硫処理の一層の
高速化が求められている。
きており、溶銑脱硫工程が律速段階となり溶銑の脱硫処
理時間を短縮するニーズが高まってきている。更に、製
品の多様化・高品質化の要請に応えるために低硫化（目
標５ppm 以下）が望まれており、溶銑脱硫処理の一層の
高速化が求められている。
【０００３】通常目標硫黄濃度が２０ppm 程度の処理で
あっても、一般的に使用されているインペラー攪拌で
は、定常回転数に達するのに時間がかかり、処理後に必
要な測温および分析用サンプル採取をこの回転運動が停
止するまで待つ必要があり処理時間が長いのが現状であ
る。脱硫処理は、溶融金属全体の攪拌を優先するため回
転羽根の直径を大きくしており攪拌動力の制約（設備
費、電力原単位等）から回転数が大きくとれず、回転渦
中心の窪み部にたまった脱硫フラックスを溶銑中へ分散
させる効果が低くなり低硫化（目標５ppm ）は限られた
時間内では困難であった。単純に回転羽根を小さくして
回転数を大きく取ると、溶銑全体の混合攪拌が弱くな
り、浴内に硫黄の濃度分布が生じ脱硫効率が低下する。
あっても、一般的に使用されているインペラー攪拌で
は、定常回転数に達するのに時間がかかり、処理後に必
要な測温および分析用サンプル採取をこの回転運動が停
止するまで待つ必要があり処理時間が長いのが現状であ
る。脱硫処理は、溶融金属全体の攪拌を優先するため回
転羽根の直径を大きくしており攪拌動力の制約（設備
費、電力原単位等）から回転数が大きくとれず、回転渦
中心の窪み部にたまった脱硫フラックスを溶銑中へ分散
させる効果が低くなり低硫化（目標５ppm ）は限られた
時間内では困難であった。単純に回転羽根を小さくして
回転数を大きく取ると、溶銑全体の混合攪拌が弱くな
り、浴内に硫黄の濃度分布が生じ脱硫効率が低下する。
【０００４】特公昭５９−２９０８３号公報では、溶融
鉄を収納した容器を回転磁界中に入れて溶融鉄（溶銑）
を回転させ、回転力により生成した溶融鉄表面の回転渦
中心の窪みにスラグを置き、溶融鉄中の不純物と反応さ
せてスラグ中に分離除去する方法が提案されている。
鉄を収納した容器を回転磁界中に入れて溶融鉄（溶銑）
を回転させ、回転力により生成した溶融鉄表面の回転渦
中心の窪みにスラグを置き、溶融鉄中の不純物と反応さ
せてスラグ中に分離除去する方法が提案されている。
【０００５】この回転磁界を利用して攪拌するいわゆる
電磁攪拌方式の狙いは、溶融鉄表面の窪みにスラグを集
めることにより、反応性の高いスラグと取鍋などの耐火
物との反応を回避することである。従って、電磁攪拌方
式は、溶融鉄を円周方向に回転できるが、窪み部に溜ま
ったスラグを四方に分散できないという欠点があり、効
率的な方法とは言い難い。
電磁攪拌方式の狙いは、溶融鉄表面の窪みにスラグを集
めることにより、反応性の高いスラグと取鍋などの耐火
物との反応を回避することである。従って、電磁攪拌方
式は、溶融鉄を円周方向に回転できるが、窪み部に溜ま
ったスラグを四方に分散できないという欠点があり、効
率的な方法とは言い難い。
【０００６】
【発明が解決しようとする課題】本発明の目的は、例え
ば低硫黄目標濃度（５ppm 以下) を通常処理時間内（１
５min 以内）で実現できる溶銑脱硫を行う精錬方法を提
案することにある。
ば低硫黄目標濃度（５ppm 以下) を通常処理時間内（１
５min 以内）で実現できる溶銑脱硫を行う精錬方法を提
案することにある。
【０００７】
【課題を解決するための手段】インペラーを高速攪拌す
ると垂直方向の流れが発生してフラックス（スラグ）の
分散がよくなることに着目して、円周方向流れを電磁攪
拌に、フラックスの分散をインペラー攪拌に特化するこ
とにより従来困難であった浴全体の均一攪拌を実現でき
溶銑の低硫黄化（５ppm 以下）が短時間に可能となる。
インペラー攪拌の立ち上げ時に事前に電磁攪拌を同方向
に正転させ、停止時に反転させることにより更なる時間
短縮も可能となる。
ると垂直方向の流れが発生してフラックス（スラグ）の
分散がよくなることに着目して、円周方向流れを電磁攪
拌に、フラックスの分散をインペラー攪拌に特化するこ
とにより従来困難であった浴全体の均一攪拌を実現でき
溶銑の低硫黄化（５ppm 以下）が短時間に可能となる。
インペラー攪拌の立ち上げ時に事前に電磁攪拌を同方向
に正転させ、停止時に反転させることにより更なる時間
短縮も可能となる。
【０００８】取鍋内でインペラー攪拌と電磁攪拌を行う
場合、インペラー径Ｄと取鍋径Ｄｏとの比、Ｄ／Ｄｏを
０．１〜０．５に、回転磁界の回転数を１００〜１００
０rpm にすることによりフラックス分散、浴全体の均一
攪拌を一層速やかに実現できる。インペラー攪拌と電磁
攪拌の相乗効果により、溶銑中硫黄濃度を５ppm 以下に
効率的に低減することができる。
場合、インペラー径Ｄと取鍋径Ｄｏとの比、Ｄ／Ｄｏを
０．１〜０．５に、回転磁界の回転数を１００〜１００
０rpm にすることによりフラックス分散、浴全体の均一
攪拌を一層速やかに実現できる。インペラー攪拌と電磁
攪拌の相乗効果により、溶銑中硫黄濃度を５ppm 以下に
効率的に低減することができる。
【０００９】
【発明の実施の形態】図１に基づいて本発明を取鍋脱硫
に適用した場合について説明する。図１は、取鍋１の外
側に配備した回転磁界発生装置（以降電磁攪拌装置とい
う）２と回転羽根３を動かすインペラー駆動装置４で構
成される。
に適用した場合について説明する。図１は、取鍋１の外
側に配備した回転磁界発生装置（以降電磁攪拌装置とい
う）２と回転羽根３を動かすインペラー駆動装置４で構
成される。
【００１０】電磁攪拌装置は取鍋内溶銑を水平方向に回
転可能で、回転方向を正転および反転させることができ
る。インペラー攪拌装置および電磁攪拌装置の各特性調
査結果とその組み合わせの効果について詳述する。
転可能で、回転方向を正転および反転させることができ
る。インペラー攪拌装置および電磁攪拌装置の各特性調
査結果とその組み合わせの効果について詳述する。
【００１１】実験に用いた２５０ｔ溶銑を収容する取鍋
は直径約４ｍで、インペラーの羽根は羽根数４枚、羽根
直径が１〜１．４ｍとした。現有インペラー駆動装置を
用いてインペラー回転数（Ｎ）とインペラーの羽根の
［直径／取鍋直径］（Ｄ／Ｄｏ）の関係を調査した。
は直径約４ｍで、インペラーの羽根は羽根数４枚、羽根
直径が１〜１．４ｍとした。現有インペラー駆動装置を
用いてインペラー回転数（Ｎ）とインペラーの羽根の
［直径／取鍋直径］（Ｄ／Ｄｏ）の関係を調査した。
【００１２】現状の羽根ＡはＤ／Ｄｏ＝０．３５でＮ＝
１００rpm であり、試作した羽根ＢはＤ／Ｄｏ＝０．３
でＮ＝１５０rpm 、羽根ＣはＤ／Ｄｏ＝０．２５でＮ＝
２００rpm となった。
１００rpm であり、試作した羽根ＢはＤ／Ｄｏ＝０．３
でＮ＝１５０rpm 、羽根ＣはＤ／Ｄｏ＝０．２５でＮ＝
２００rpm となった。
【００１３】これらＡ，Ｂ，Ｃタイプの羽根の脱硫能力
を評価する方法として下記に定義する脱硫速度定数
（Ｋ）を使用した。 （Ｋ）＝｛ｌｎ（［Ｓ］ｏ／［Ｓ］ｆ）｝／Ｔ (min -1） ［Ｓ］ｏ：処理前硫黄濃度（ppm ）、［Ｓ］ｆ：処理後
硫黄濃度（ppm ）、Ｔ：処理時間（min ） 例えば処理前［Ｓ］＝２００ppm を、通常処理時間１２
min で、通常目標［Ｓ］＝２０ppm に低下させるために
はＫ≧０．１９min -1必要であり、通常処理時間で極低
硫目標［Ｓ］＝５ppm に低下させるためにはＫ≧０．３
１min -1が必要となる。
を評価する方法として下記に定義する脱硫速度定数
（Ｋ）を使用した。 （Ｋ）＝｛ｌｎ（［Ｓ］ｏ／［Ｓ］ｆ）｝／Ｔ (min -1） ［Ｓ］ｏ：処理前硫黄濃度（ppm ）、［Ｓ］ｆ：処理後
硫黄濃度（ppm ）、Ｔ：処理時間（min ） 例えば処理前［Ｓ］＝２００ppm を、通常処理時間１２
min で、通常目標［Ｓ］＝２０ppm に低下させるために
はＫ≧０．１９min -1必要であり、通常処理時間で極低
硫目標［Ｓ］＝５ppm に低下させるためにはＫ≧０．３
１min -1が必要となる。
【００１４】現状設備では、羽根Ａで脱硫速度定数
（Ｋ）が０．１９min -1、羽根Ｂは０．１６min -1、羽
根Ｃは０．１３min -1であった。羽根が小さくなるほど
Ｋが小さくなるのは、取鍋内溶銑全体の攪拌混合が弱く
なり、溶銑の取鍋内壁に近い部分が硫黄濃度が高く、取
鍋中心部で硫黄濃度が低くなり取鍋内で濃度分布が生
じ、効率的な脱硫処理ができなくなるからである。
（Ｋ）が０．１９min -1、羽根Ｂは０．１６min -1、羽
根Ｃは０．１３min -1であった。羽根が小さくなるほど
Ｋが小さくなるのは、取鍋内溶銑全体の攪拌混合が弱く
なり、溶銑の取鍋内壁に近い部分が硫黄濃度が高く、取
鍋中心部で硫黄濃度が低くなり取鍋内で濃度分布が生
じ、効率的な脱硫処理ができなくなるからである。
【００１５】回転羽根Ａ，Ｂ，Ｃが回転開始後に定常回
転数まで達する時間を測定した結果、それぞれＡは８０
秒，Ｂは６０秒，Ｃは４０秒であった。脱硫処理が終わ
って回転羽根を引き抜いた後に測温・試料採取可能とな
るまでの時間を測定した結果、羽根Ａ，Ｂ，Ｃに対して
それぞれＡは６０秒，Ｂは４０秒，Ｃは３０秒であっ
た。
転数まで達する時間を測定した結果、それぞれＡは８０
秒，Ｂは６０秒，Ｃは４０秒であった。脱硫処理が終わ
って回転羽根を引き抜いた後に測温・試料採取可能とな
るまでの時間を測定した結果、羽根Ａ，Ｂ，Ｃに対して
それぞれＡは６０秒，Ｂは４０秒，Ｃは３０秒であっ
た。
【００１６】上記インペラー攪拌と同様に電磁攪拌装置
にて脱硫速度定数を測定した。回転磁界の回転速度は２
００〜４００rpm としたが、回転速度に関係なく脱硫速
度定数は０．１２min -1であり、インペラー攪拌におけ
る羽根Ｃよりも悪い結果であった。
にて脱硫速度定数を測定した。回転磁界の回転速度は２
００〜４００rpm としたが、回転速度に関係なく脱硫速
度定数は０．１２min -1であり、インペラー攪拌におけ
る羽根Ｃよりも悪い結果であった。
【００１７】この理由は、前述の通り取鍋中心渦の窪み
部に溜まった脱硫用スラグの溶銑中への分散が不十分で
あるからである。さらに電磁攪拌装置に底吹きガスを組
み合わせたり、各種邪魔板を設置してスラグの分散化を
図ってみたが、脱硫速度定数は最大でも０．１５min -1
までしか向上しなかった。
部に溜まった脱硫用スラグの溶銑中への分散が不十分で
あるからである。さらに電磁攪拌装置に底吹きガスを組
み合わせたり、各種邪魔板を設置してスラグの分散化を
図ってみたが、脱硫速度定数は最大でも０．１５min -1
までしか向上しなかった。
【００１８】現有インペラー攪拌装置に電磁攪拌装置を
組み合わせて脱硫処理を行った。その際に、電磁攪拌の
印加電力は電磁攪拌単独で使用した場合の半分とした。
電磁攪拌の印加により、各羽根Ａ，Ｂ，Ｃの回転数の限
界値はそれぞれＡ：１００→１３０rpm 、Ｂ：１５０→
２００rpm 、Ｃ：２００→２５５rpm に上昇した。
組み合わせて脱硫処理を行った。その際に、電磁攪拌の
印加電力は電磁攪拌単独で使用した場合の半分とした。
電磁攪拌の印加により、各羽根Ａ，Ｂ，Ｃの回転数の限
界値はそれぞれＡ：１００→１３０rpm 、Ｂ：１５０→
２００rpm 、Ｃ：２００→２５５rpm に上昇した。
【００１９】脱硫速度定数（Ｋ）もそれぞれＡ：０．１
９→０．２４min -1、Ｂ：１６→０．２８min -1、Ｃ：
０．１３→０．３５min -1に上昇した。径の小さい羽根
ＣでＫの上昇差が大きい理由は、スラグの深さ方向の分
散が回転数に大きく依存し、羽根径が小さく羽根回転数
が大きい羽根Ｃではスラグの分散が活発となり、羽根径
が小さいために溶銑全体の攪拌が不十分であった欠点を
電磁攪拌の長所を生かして補うという併用の相乗効果が
発揮されたからである。
９→０．２４min -1、Ｂ：１６→０．２８min -1、Ｃ：
０．１３→０．３５min -1に上昇した。径の小さい羽根
ＣでＫの上昇差が大きい理由は、スラグの深さ方向の分
散が回転数に大きく依存し、羽根径が小さく羽根回転数
が大きい羽根Ｃではスラグの分散が活発となり、羽根径
が小さいために溶銑全体の攪拌が不十分であった欠点を
電磁攪拌の長所を生かして補うという併用の相乗効果が
発揮されたからである。
【００２０】インペラー回転数が定常値に達するまでの
時間は羽根Ａ，Ｂ，Ｃに対してそれぞれＡ：８０→１２
秒，Ｂ：６０→９秒，Ｃ：４０→６秒と短縮できた。脱
硫処理後に電磁攪拌を処理中の回転方向に対して反転さ
せた結果、測温・試料採取可能となるまでの時間はＡ，
Ｂ，Ｃとも一律１０秒であった。
時間は羽根Ａ，Ｂ，Ｃに対してそれぞれＡ：８０→１２
秒，Ｂ：６０→９秒，Ｃ：４０→６秒と短縮できた。脱
硫処理後に電磁攪拌を処理中の回転方向に対して反転さ
せた結果、測温・試料採取可能となるまでの時間はＡ，
Ｂ，Ｃとも一律１０秒であった。
【００２１】インペラー攪拌と電磁攪拌を併用すること
により、それぞれ単独で使用する場合よりも大幅に脱硫
速度定数を向上することが可能となり、羽根Ｃと電磁攪
拌を組合せたものは、目標濃度の２０ppm 場合に処理時
間は約７min であり、通常法の１２min と比較して５mi
n 短縮できた。
により、それぞれ単独で使用する場合よりも大幅に脱硫
速度定数を向上することが可能となり、羽根Ｃと電磁攪
拌を組合せたものは、目標濃度の２０ppm 場合に処理時
間は約７min であり、通常法の１２min と比較して５mi
n 短縮できた。
【００２２】処理後の待ち時間も反転による減速効果で
約１min 短縮された。さらに、到達硫黄濃度は５ppm ま
で低下可能となり、低硫鋼ニーズにも十分対応できるよ
うになった。
約１min 短縮された。さらに、到達硫黄濃度は５ppm ま
で低下可能となり、低硫鋼ニーズにも十分対応できるよ
うになった。
【００２３】インペラー攪拌と電磁攪拌併用時の［イン
ペラー径／取鍋径］（Ｄ／Ｄｏ）は０．１〜０．５が望
ましい。Ｄ／Ｄｏが０．１未満であるとインペラー回転
羽根の回転数を上げても、スラグの分散場所が局部的に
なり分散効果が低くなるからである。
ペラー径／取鍋径］（Ｄ／Ｄｏ）は０．１〜０．５が望
ましい。Ｄ／Ｄｏが０．１未満であるとインペラー回転
羽根の回転数を上げても、スラグの分散場所が局部的に
なり分散効果が低くなるからである。
【００２４】Ｄ／Ｄｏが０．５を超えるとと電磁攪拌を
併用しても回転羽根の回転数が上がらないため、スラグ
の分散効果が同様に低くなるからである。電磁攪拌の回
転磁界の回転数は１００〜１０００rpm が望ましい。回
転数が１００rpm 未満であると、溶銑全体の攪拌が十分
に行えないためであり、回転数が１０００rpm を超える
と、取鍋容器の鉄皮への渦電流が過多となり鉄皮の過熱
を起こし鉄皮変形、鉄皮変形による耐火物の損耗等の支
障が発生するおそれがあるからである。
併用しても回転羽根の回転数が上がらないため、スラグ
の分散効果が同様に低くなるからである。電磁攪拌の回
転磁界の回転数は１００〜１０００rpm が望ましい。回
転数が１００rpm 未満であると、溶銑全体の攪拌が十分
に行えないためであり、回転数が１０００rpm を超える
と、取鍋容器の鉄皮への渦電流が過多となり鉄皮の過熱
を起こし鉄皮変形、鉄皮変形による耐火物の損耗等の支
障が発生するおそれがあるからである。
【００２５】溶融金属を収容する容器は磁場を極力減衰
させない材質が好ましく、強度を確保するために非磁性
のオーステナイトステンレス鋼、高Ｍｎ鋼を用いてもよ
い。なお、溶銑脱硫処理例示したが、その他銅、アルミ
ニウムなどの溶融金属の精錬を行うに際して均一な攪拌
を必要とする場合に本発明に従ってインペラー攪拌と電
磁攪拌を併用することが有効であることは言うまでもな
い。
させない材質が好ましく、強度を確保するために非磁性
のオーステナイトステンレス鋼、高Ｍｎ鋼を用いてもよ
い。なお、溶銑脱硫処理例示したが、その他銅、アルミ
ニウムなどの溶融金属の精錬を行うに際して均一な攪拌
を必要とする場合に本発明に従ってインペラー攪拌と電
磁攪拌を併用することが有効であることは言うまでもな
い。
【００２６】
（実施例１）予め脱硫フラックス（ＣａＯ：９５％，Ｃ
ａＦ2 ：５％）２０００ｋｇを取鍋（鉄皮はオーステナ
イト系ステンレス鋼）に入れ置いて、溶銑２５０トン
（温度１３５０℃、成分は表１に示す）をトーピードカ
ー（高炉から製鋼工場への溶銑運搬車）から装入し、脱
硫ステーションに据え置いた。
ａＦ2 ：５％）２０００ｋｇを取鍋（鉄皮はオーステナ
イト系ステンレス鋼）に入れ置いて、溶銑２５０トン
（温度１３５０℃、成分は表１に示す）をトーピードカ
ー（高炉から製鋼工場への溶銑運搬車）から装入し、脱
硫ステーションに据え置いた。
【００２７】据え置き後、速やかに取鍋内溶銑を電磁攪
拌し、インペラー攪拌装置の回転羽根を回転しながら溶
銑中に降下させ、［Ｓ］＝２０ppm まで脱硫処理を実施
した。脱硫処理後に回転羽根を溶銑中から引き上げなが
ら、電磁攪拌の回転方向を反転して取鍋内溶銑の回転運
動を速やかに停止し、測温プローブおよび試料サンプラ
ーを入れて温度測定および分析用試料採取を実施した。
拌し、インペラー攪拌装置の回転羽根を回転しながら溶
銑中に降下させ、［Ｓ］＝２０ppm まで脱硫処理を実施
した。脱硫処理後に回転羽根を溶銑中から引き上げなが
ら、電磁攪拌の回転方向を反転して取鍋内溶銑の回転運
動を速やかに停止し、測温プローブおよび試料サンプラ
ーを入れて温度測定および分析用試料採取を実施した。
【００２８】
【表１】
【００２９】表２に示すように、電磁攪拌を併用しない
場合、Ｄ＝１．０ｍの羽根径が小さい場合は脱硫剤の分
散は比較的良好であるが、取鍋内溶鉄の混合が不十分と
なり脱硫処理には１７．７min と長時間を要した。
場合、Ｄ＝１．０ｍの羽根径が小さい場合は脱硫剤の分
散は比較的良好であるが、取鍋内溶鉄の混合が不十分と
なり脱硫処理には１７．７min と長時間を要した。
【００３０】Ｄ＝１．４ｍと羽根径を大きくした場合に
は溶鉄の混合がＤ＝１．０ｍの場合と比較して改善され
るが、脱硫剤の分散は改善されず、脱硫時間は全体で１
２．１min と短縮された。電磁攪拌のみの場合、溶銑の
混合は良好であったが、脱硫剤の分散が不十分であり処
理時間は１９．２min と最も長時間であった。
は溶鉄の混合がＤ＝１．０ｍの場合と比較して改善され
るが、脱硫剤の分散は改善されず、脱硫時間は全体で１
２．１min と短縮された。電磁攪拌のみの場合、溶銑の
混合は良好であったが、脱硫剤の分散が不十分であり処
理時間は１９．２min と最も長時間であった。
【００３１】
【表２】
【００３２】インペラー攪拌と電磁攪拌を併用した場
合、いずれも脱硫時間は１０．５分以下と短縮された。
羽根径比Ｄ／Ｄｏが０．５５では若干処理時間が長いの
は、Ｄ／Ｄｏが大きすぎると電磁攪拌を併用しても回転
羽根の回転数が上がらず、スラグの分散効果が小さくな
るからである。Ｄ／Ｄｏが０．５を超えても本発明の効
果を有するが、Ｄ／Ｄｏは０．５以下が望ましい。
合、いずれも脱硫時間は１０．５分以下と短縮された。
羽根径比Ｄ／Ｄｏが０．５５では若干処理時間が長いの
は、Ｄ／Ｄｏが大きすぎると電磁攪拌を併用しても回転
羽根の回転数が上がらず、スラグの分散効果が小さくな
るからである。Ｄ／Ｄｏが０．５を超えても本発明の効
果を有するが、Ｄ／Ｄｏは０．５以下が望ましい。
【００３３】インペラー攪拌と併用した電磁攪拌の回転
磁界の回転数が１２００rpm では、脱硫速度定数は良好
であり、脱硫時間も約７分と短かったが、この条件で連
続適用したところ、取鍋鉄皮の変形が著しく、約２０ch
（チャージ）で取鍋補修となった。なお、回転磁界の回
転数が３００rpm では、取鍋補修に至るまでのch数は５
０〜１００chであった。
磁界の回転数が１２００rpm では、脱硫速度定数は良好
であり、脱硫時間も約７分と短かったが、この条件で連
続適用したところ、取鍋鉄皮の変形が著しく、約２０ch
（チャージ）で取鍋補修となった。なお、回転磁界の回
転数が３００rpm では、取鍋補修に至るまでのch数は５
０〜１００chであった。
【００３４】（実施例２)低硫鋼を対象に、処理時間１
５分で一定とした時の到達硫黄濃度［Ｓ］を調査した。
５分で一定とした時の到達硫黄濃度［Ｓ］を調査した。
【００３５】表３に示すように、インペラー攪拌のみの
場合、インペラー径を１．４ｍとした場合に到達硫黄濃
度［Ｓ］は１０ppm まで低下した。インペラー攪拌と電
磁攪拌を併用した場合、到達硫黄濃度［Ｓ］は５ppm 以
下であった。
場合、インペラー径を１．４ｍとした場合に到達硫黄濃
度［Ｓ］は１０ppm まで低下した。インペラー攪拌と電
磁攪拌を併用した場合、到達硫黄濃度［Ｓ］は５ppm 以
下であった。
【００３６】
【表３】
【００３７】
【発明の効果】インペラー攪拌と電磁攪拌を併用するこ
とにより、高速インペラー攪拌ができるため窪み部に溜
まったフラックス（スラグ）を深さ方向に分散でき、同
時に浴全体の攪拌も電磁攪拌によりでき、通常の処理時
間内（１５min 以内）で低硫黄濃度（５ppm 以下）の溶
銑も製造可能となった。
とにより、高速インペラー攪拌ができるため窪み部に溜
まったフラックス（スラグ）を深さ方向に分散でき、同
時に浴全体の攪拌も電磁攪拌によりでき、通常の処理時
間内（１５min 以内）で低硫黄濃度（５ppm 以下）の溶
銑も製造可能となった。
【図１】インペラー攪拌と電磁攪拌を併用した装置を示
す概念図である。
す概念図である。
１：取鍋 ２：回転磁界発生装置 ３：回転羽根、 ４：インペラー駆動装置 ５：フラックス（スラグ） ６：溶銑 Ｄ：インペラー径、Ｄo ：取鍋内径
Claims (2)
- 【請求項１】 溶融金属中へインペラーを浸漬回転し、
該溶融金属を機械攪拌するに当たり、インペラーの浸漬
前、浸漬中、引き抜き後の少なくとも１つの期間に該溶
融金属を収容する容器の外側から回転磁界を印加するこ
とにより該溶融金属を攪拌することを特徴とする溶融金
属の精錬方法。 - 【請求項２】 前記容器が取鍋であって、インペラー径
Ｄと取鍋径Ｄｏとの比、Ｄ／Ｄｏが０．１〜０．５であ
り、回転磁界の回転数が１００〜１０００rpm であるこ
とを特徴とする請求項１記載の溶融金属の精錬方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP24873497A JPH1192811A (ja) | 1997-09-12 | 1997-09-12 | 溶融金属の精錬方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP24873497A JPH1192811A (ja) | 1997-09-12 | 1997-09-12 | 溶融金属の精錬方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH1192811A true JPH1192811A (ja) | 1999-04-06 |
Family
ID=17182573
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP24873497A Withdrawn JPH1192811A (ja) | 1997-09-12 | 1997-09-12 | 溶融金属の精錬方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH1192811A (ja) |
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| FR2812661A1 (fr) * | 2000-06-05 | 2002-02-08 | Sanyo Special Steel Co Ltd | Acier haute proprete et son procede de production |
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| GB2410253A (en) * | 2000-06-05 | 2005-07-27 | Sanyo Special Steel Co Ltd | High-cleanliness steel and process for producing the same |
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-
1997
- 1997-09-12 JP JP24873497A patent/JPH1192811A/ja not_active Withdrawn
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|---|---|---|---|---|
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