JPH1183325A - 被乾燥物の乾燥方法およびその装置 - Google Patents
被乾燥物の乾燥方法およびその装置Info
- Publication number
- JPH1183325A JPH1183325A JP24755097A JP24755097A JPH1183325A JP H1183325 A JPH1183325 A JP H1183325A JP 24755097 A JP24755097 A JP 24755097A JP 24755097 A JP24755097 A JP 24755097A JP H1183325 A JPH1183325 A JP H1183325A
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- Japan
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- dried
- microwave
- drying
- controlled
- heating
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 本発明の目的は、減圧槽内の被乾燥物に対し
て、コントロールされたマイクロ波加熱とコントロール
された遠赤外線加熱を全工程の一部または全部で同時に
行う乾燥方法において、連続的な一定時間毎のマイクロ
波の入射波量と反射波量との差の平均値を求め、目標平
均値に到達した時点でマイクロ波加熱を終了または一時
停止することによって乾燥工程制御を行うようにした被
乾燥物の乾燥方法およびその装置を提供することにあ
る。 【解決手段】 本発明に係る被乾燥物の乾燥方法は、被
乾燥物を減圧槽にセットし、該減圧槽を単数または複数
の目標減圧度に向けて圧力制御し、かつ被乾燥物に、コ
ントロールされたマイクロ波加熱とコントロールされた
遠赤外線加熱を全工程の一部または全部で同時に行う被
乾燥物の乾燥方法において、連続的な一定時間毎のマイ
クロ波の入射波量と反射波量との差の平均値を求め、目
標平均値に到達した時点でマイクロ波加熱を終了または
一時停止することによって乾燥工程制御を行うものであ
る。
て、コントロールされたマイクロ波加熱とコントロール
された遠赤外線加熱を全工程の一部または全部で同時に
行う乾燥方法において、連続的な一定時間毎のマイクロ
波の入射波量と反射波量との差の平均値を求め、目標平
均値に到達した時点でマイクロ波加熱を終了または一時
停止することによって乾燥工程制御を行うようにした被
乾燥物の乾燥方法およびその装置を提供することにあ
る。 【解決手段】 本発明に係る被乾燥物の乾燥方法は、被
乾燥物を減圧槽にセットし、該減圧槽を単数または複数
の目標減圧度に向けて圧力制御し、かつ被乾燥物に、コ
ントロールされたマイクロ波加熱とコントロールされた
遠赤外線加熱を全工程の一部または全部で同時に行う被
乾燥物の乾燥方法において、連続的な一定時間毎のマイ
クロ波の入射波量と反射波量との差の平均値を求め、目
標平均値に到達した時点でマイクロ波加熱を終了または
一時停止することによって乾燥工程制御を行うものであ
る。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は切り花等の生花や観
葉植物といった切り花類、葉類野菜、根類野菜、茎類野
菜、実類野菜等の各種食料品の乾燥や、たばこの葉等の
各種植物の乾燥、魚介類の乾燥、肉類の乾燥、漢方薬用
材料の乾燥あるいは医療用洗濯物、工業用洗濯物、家庭
用洗濯物等の各種洗濯物の乾燥、木材の乾燥、セラミッ
ク粉末の乾燥等の工業用部品、原材料、製品等の乾燥、
その他各種幅広い技術分野に適用される被乾燥物の乾燥
方法とその装置に関するものである。
葉植物といった切り花類、葉類野菜、根類野菜、茎類野
菜、実類野菜等の各種食料品の乾燥や、たばこの葉等の
各種植物の乾燥、魚介類の乾燥、肉類の乾燥、漢方薬用
材料の乾燥あるいは医療用洗濯物、工業用洗濯物、家庭
用洗濯物等の各種洗濯物の乾燥、木材の乾燥、セラミッ
ク粉末の乾燥等の工業用部品、原材料、製品等の乾燥、
その他各種幅広い技術分野に適用される被乾燥物の乾燥
方法とその装置に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】従来の被乾燥物の乾燥方法は、被乾燥物
を減圧槽内にセットし、該減圧槽内に所定の減圧度を与
え、かつ被乾燥物に、コントロールされたマイクロ波加
熱とコントロールされた遠赤外線加熱を行うことで被乾
燥物を乾燥させるようにしていた（例えば特許第２５４
８０９０号公報参照）。上記従来の被乾燥物の乾燥方法
においては、乾燥時間の終了は乾燥モニターで行われる
が、その具体的手段として被乾燥物の実験値によりタイ
マー制御するか、排気湿度をもって制御する等の方法が
あった。
を減圧槽内にセットし、該減圧槽内に所定の減圧度を与
え、かつ被乾燥物に、コントロールされたマイクロ波加
熱とコントロールされた遠赤外線加熱を行うことで被乾
燥物を乾燥させるようにしていた（例えば特許第２５４
８０９０号公報参照）。上記従来の被乾燥物の乾燥方法
においては、乾燥時間の終了は乾燥モニターで行われる
が、その具体的手段として被乾燥物の実験値によりタイ
マー制御するか、排気湿度をもって制御する等の方法が
あった。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、例えば
植物の内部成分に含まれる水分を除去して乾燥する方法
においては、持ち込み水分が一定しないこと、内在した
水分の除去が困難であり乾燥が予定時間で完了できない
ことがある等のために、精度の高い制御の実現は困難を
極めていた。
植物の内部成分に含まれる水分を除去して乾燥する方法
においては、持ち込み水分が一定しないこと、内在した
水分の除去が困難であり乾燥が予定時間で完了できない
ことがある等のために、精度の高い制御の実現は困難を
極めていた。
【０００４】本発明は上記の点に鑑みてなされたもの
で、その目的とするところは減圧槽内の被乾燥物に対し
て、コントロールされたマイクロ波加熱とコントロール
された遠赤外線加熱を全工程の一部または全部で同時に
行う乾燥方法において、連続的な一定時間毎のマイクロ
波の入射波量と反射波量との差の平均値を求め、目標平
均値に到達した時点でマイクロ波加熱を終了または一時
停止することによって乾燥工程制御を行うようにした被
乾燥物の乾燥方法およびその装置を提供することにあ
る。
で、その目的とするところは減圧槽内の被乾燥物に対し
て、コントロールされたマイクロ波加熱とコントロール
された遠赤外線加熱を全工程の一部または全部で同時に
行う乾燥方法において、連続的な一定時間毎のマイクロ
波の入射波量と反射波量との差の平均値を求め、目標平
均値に到達した時点でマイクロ波加熱を終了または一時
停止することによって乾燥工程制御を行うようにした被
乾燥物の乾燥方法およびその装置を提供することにあ
る。
【０００５】
【課題を解決するための手段】本発明に係る被乾燥物の
乾燥方法は、被乾燥物を減圧槽にセットし、該減圧槽を
単数または複数の目標減圧度に向けて圧力制御し、かつ
被乾燥物に、コントロールされたマイクロ波加熱とコン
トロールされた遠赤外線加熱を全工程の一部または全部
で同時に行う被乾燥物の乾燥方法において、連続的な一
定時間毎のマイクロ波の入射波量と反射波量との差の平
均値を求め、目標平均値に到達した時点でマイクロ波加
熱を終了または一時停止することによって乾燥工程制御
を行うようにしたものである。
乾燥方法は、被乾燥物を減圧槽にセットし、該減圧槽を
単数または複数の目標減圧度に向けて圧力制御し、かつ
被乾燥物に、コントロールされたマイクロ波加熱とコン
トロールされた遠赤外線加熱を全工程の一部または全部
で同時に行う被乾燥物の乾燥方法において、連続的な一
定時間毎のマイクロ波の入射波量と反射波量との差の平
均値を求め、目標平均値に到達した時点でマイクロ波加
熱を終了または一時停止することによって乾燥工程制御
を行うようにしたものである。
【０００６】また本発明に係る被乾燥物の乾燥装置は、
被乾燥物をセットする減圧槽に、投入電力が一定または
可変可能で、かつ間欠的または連続的な加熱が可能なマ
イクロ波加熱装置と、照射加温温度調節が可能な制御盤
を外部に備えた遠赤外線加熱装置とを設け、マイクロ波
加熱と遠赤外線加熱が同時作動し得る制御部を備えた装
置において、マイクロ波発振器とアプリケータを接続す
るに当り、反射波が発振器側に帰るのを防止するアイソ
レータを挿入するとともに、アプリケータに入射する電
力とアプリケータから反射されて帰ってくる電力をそれ
ぞれ検出してその電力を表示するパワーモニタを設け、
さらにパワーモニタを見ながら反射波が最小となるよう
に調整するインピーダンス調整器を設け、かつ前記パワ
ーモニタに、連続的な一定時間毎のマイクロ波の入射波
量と反射波量との差の平均値を求め、目標平均値に到達
した時点でマイクロ波加熱を終了または一時停止するデ
ジタルコントローラを設けたものである。
被乾燥物をセットする減圧槽に、投入電力が一定または
可変可能で、かつ間欠的または連続的な加熱が可能なマ
イクロ波加熱装置と、照射加温温度調節が可能な制御盤
を外部に備えた遠赤外線加熱装置とを設け、マイクロ波
加熱と遠赤外線加熱が同時作動し得る制御部を備えた装
置において、マイクロ波発振器とアプリケータを接続す
るに当り、反射波が発振器側に帰るのを防止するアイソ
レータを挿入するとともに、アプリケータに入射する電
力とアプリケータから反射されて帰ってくる電力をそれ
ぞれ検出してその電力を表示するパワーモニタを設け、
さらにパワーモニタを見ながら反射波が最小となるよう
に調整するインピーダンス調整器を設け、かつ前記パワ
ーモニタに、連続的な一定時間毎のマイクロ波の入射波
量と反射波量との差の平均値を求め、目標平均値に到達
した時点でマイクロ波加熱を終了または一時停止するデ
ジタルコントローラを設けたものである。
【０００７】
【作用】マイクロ波の反射波の量は、減圧槽内部にセッ
トされた被乾燥物の誘電体量、すなわち水分量が少なく
なればなるほど多くなる。すなわち、インピーダンス調
整器により適切にコントロールされたマイクロ波加熱で
あれば、入射波の量に対する反射波の量が多くなればな
るほど、被乾燥物の水分量は減少しているといえる。そ
こで実験により入射波に対する反射波の量を測定してい
き、例えば一定時間ごとの平均値を求め、どの時点をも
ってマイクロ波加熱を終了または一時停止するかを設定
すれば、残存水分が多すぎる状態でのマイクロ波加熱の
停止、また同時にマイクロ波加熱による過加熱からも解
放され、乾燥精度の高い制御を得ることができる。
トされた被乾燥物の誘電体量、すなわち水分量が少なく
なればなるほど多くなる。すなわち、インピーダンス調
整器により適切にコントロールされたマイクロ波加熱で
あれば、入射波の量に対する反射波の量が多くなればな
るほど、被乾燥物の水分量は減少しているといえる。そ
こで実験により入射波に対する反射波の量を測定してい
き、例えば一定時間ごとの平均値を求め、どの時点をも
ってマイクロ波加熱を終了または一時停止するかを設定
すれば、残存水分が多すぎる状態でのマイクロ波加熱の
停止、また同時にマイクロ波加熱による過加熱からも解
放され、乾燥精度の高い制御を得ることができる。
【０００８】
【発明の実施の形態】以下、本発明に一実施例を図面に
より説明する。１は減圧槽である。２は減圧槽１内にセ
ットした遠赤外線ヒーターで、通常、減圧槽１の天井
面、床面、両側面の４箇所にセットされる。減圧度の設
定は減圧槽１の外に設置した真空ポンプ３に配管した途
中の減圧弁４および減圧調整弁５を用い、減圧槽１内に
通じる減圧口６を通して行われる。マイクロ波の減圧槽
１への投入は減圧槽１の外に設置したマイクロ波パワー
ユニット７、アイソレータ８および二股に分岐した導波
管９を介して減圧槽１内のマイクロ波投入口１０の２箇
所より行う。１１は均一加熱を行うためのスターラであ
る。
より説明する。１は減圧槽である。２は減圧槽１内にセ
ットした遠赤外線ヒーターで、通常、減圧槽１の天井
面、床面、両側面の４箇所にセットされる。減圧度の設
定は減圧槽１の外に設置した真空ポンプ３に配管した途
中の減圧弁４および減圧調整弁５を用い、減圧槽１内に
通じる減圧口６を通して行われる。マイクロ波の減圧槽
１への投入は減圧槽１の外に設置したマイクロ波パワー
ユニット７、アイソレータ８および二股に分岐した導波
管９を介して減圧槽１内のマイクロ波投入口１０の２箇
所より行う。１１は均一加熱を行うためのスターラであ
る。
【０００９】マイクロ波加熱装置は電源部であるマイク
ロ波発振器１２とアプリケータ（負荷）１３との間にア
イソレータ８を挿入して反射波が発振器側に帰るのを防
いでいる。アプリケータ（負荷）１３に不整合があるか
否かを調べるためにアイソレータ８に接続したパワーモ
ニタ１４により見る。パワーモニタ１４を見ながら反射
波が最小となるようにパワーモニタ１４に接続したイン
ピーダンス調整器１５で調整する。１６はパワーモニタ
１４に接続したデジタルコントローラーである。このデ
ジタルコントローラー１６により、入射波量と反射波量
の差が随時積算されるようにし、実験データにより一定
時間における平均値がモニターできる。
ロ波発振器１２とアプリケータ（負荷）１３との間にア
イソレータ８を挿入して反射波が発振器側に帰るのを防
いでいる。アプリケータ（負荷）１３に不整合があるか
否かを調べるためにアイソレータ８に接続したパワーモ
ニタ１４により見る。パワーモニタ１４を見ながら反射
波が最小となるようにパワーモニタ１４に接続したイン
ピーダンス調整器１５で調整する。１６はパワーモニタ
１４に接続したデジタルコントローラーである。このデ
ジタルコントローラー１６により、入射波量と反射波量
の差が随時積算されるようにし、実験データにより一定
時間における平均値がモニターできる。
【００１０】
【実施例】減圧槽１とマイクロ波発信器１２の中間にパ
ワーモニタ１４とインピーダンス調整器１５をセット
し、減圧槽１内に十分な誘電体がある場合は、反射波が
ほとんど発生しない状態にセットする。次にパワーモニ
タ１４で表される数値をデジタルコントローラー１６に
接続して、入射波量と反射波量の差が随時積算されるよ
うにし、実験データにより一定時間における平均値をモ
ニターできるものとした。本実施例では５ｋｗのマイク
ロ波加熱にて、各連続的な２０秒間における平均値が
４．３ｋｗになった状態、すなわち、各連続的な２０秒
間における平均で５ｋｗの入射に対して０．７ｋｗの反
射波が発生するようになった状態でマイクロ波加熱を終
了または一時停止することとした。マイクロ波加熱を停
止した直後に減圧槽１を復圧し様々な被乾燥物の含水率
を測定したところ、４〜７％の範囲に収まっていた。た
だし、被乾燥物により水分が出て来る状況は異なるの
で、各被乾燥物の水分量をほぼ同一にしても各被乾燥物
のマイクロ波加熱停止までの所要時間は様々であった。
そしてマイクロ波加熱終了後には、減圧をさらに進める
ことと遠赤外線加熱により、ごく短時間で含水率を２％
前後まで落とし、精度の高い乾燥品を得ることができ
た。
ワーモニタ１４とインピーダンス調整器１５をセット
し、減圧槽１内に十分な誘電体がある場合は、反射波が
ほとんど発生しない状態にセットする。次にパワーモニ
タ１４で表される数値をデジタルコントローラー１６に
接続して、入射波量と反射波量の差が随時積算されるよ
うにし、実験データにより一定時間における平均値をモ
ニターできるものとした。本実施例では５ｋｗのマイク
ロ波加熱にて、各連続的な２０秒間における平均値が
４．３ｋｗになった状態、すなわち、各連続的な２０秒
間における平均で５ｋｗの入射に対して０．７ｋｗの反
射波が発生するようになった状態でマイクロ波加熱を終
了または一時停止することとした。マイクロ波加熱を停
止した直後に減圧槽１を復圧し様々な被乾燥物の含水率
を測定したところ、４〜７％の範囲に収まっていた。た
だし、被乾燥物により水分が出て来る状況は異なるの
で、各被乾燥物の水分量をほぼ同一にしても各被乾燥物
のマイクロ波加熱停止までの所要時間は様々であった。
そしてマイクロ波加熱終了後には、減圧をさらに進める
ことと遠赤外線加熱により、ごく短時間で含水率を２％
前後まで落とし、精度の高い乾燥品を得ることができ
た。
【００１１】
【発明の効果】本発明は上記の説明から判るように、連
続的な一定時間毎のマイクロ波の入射波量と反射波量と
の差の平均値を求め、目標平均値に到達した時点でマイ
クロ波加熱を終了または一時停止することによって精度
の高い乾燥工程制御を行うようにした被乾燥物の乾燥方
法およびその装置が得られ、精度の高い乾燥品を得るこ
とができる。
続的な一定時間毎のマイクロ波の入射波量と反射波量と
の差の平均値を求め、目標平均値に到達した時点でマイ
クロ波加熱を終了または一時停止することによって精度
の高い乾燥工程制御を行うようにした被乾燥物の乾燥方
法およびその装置が得られ、精度の高い乾燥品を得るこ
とができる。
【図１】本発明の一実施例を示す被乾燥物の乾燥装置を
示す概略説明図である。
示す概略説明図である。
【図２】本発明で使用する減圧槽の概略説明図である。
１ 減圧槽 ２ 遠赤外線ヒーター ３ 真空ポンプ ４ 減圧弁 ５ 減圧調整弁 ６ 減圧口 ７ マイクロ波パワーユニット ８ アイソレータ ９ 導波管 １０ マイクロ波投入
口 １１ スターラ １２ マイクロ波発振
器 １３ アプリケータ １４ パワーモニタ １５ インピーダンス調整器 １６ デジタルコント
ローラー
口 １１ スターラ １２ マイクロ波発振
器 １３ アプリケータ １４ パワーモニタ １５ インピーダンス調整器 １６ デジタルコント
ローラー
Claims (2)
- 【請求項１】 被乾燥物を減圧槽にセットし、該減圧槽
を単数または複数の目標減圧度に向けて圧力制御し、か
つ被乾燥物に、コントロールされたマイクロ波加熱とコ
ントロールされた遠赤外線加熱を全工程の一部または全
部で同時に行う被乾燥物の乾燥方法において、連続的な
一定時間毎のマイクロ波の入射波量と反射波量との差の
平均値を求め、目標平均値に到達した時点でマイクロ波
加熱を終了または一時停止することによって乾燥工程制
御を行うことを特徴とする被乾燥物の乾燥方法。 - 【請求項２】 被乾燥物をセットする減圧槽に、投入電
力が一定または可変可能で、かつ間欠的または連続的な
加熱が可能なマイクロ波加熱装置と、照射加温温度調節
が可能な制御盤を外部に備えた遠赤外線加熱装置とを設
け、マイクロ波加熱と遠赤外線加熱が同時作動し得る制
御部を備えた装置において、マイクロ波発振器とアプリ
ケータを接続するに当り、反射波が発振器側に帰るのを
防止するアイソレータを挿入するとともに、アプリケー
タに入射する電力とアプリケータから反射されて帰って
くる電力をそれぞれ検出してその電力を表示するパワー
モニタを設け、さらにパワーモニタを見ながら反射波が
最小となるように調整するインピーダンス調整器を設
け、かつ前記パワーモニタに、連続的な一定時間毎のマ
イクロ波の入射波量と反射波量との差の平均値を求め、
目標平均値に到達した時点でマイクロ波加熱を終了また
は一時停止するデジタルコントローラを設けたことを特
徴とする被乾燥物の乾燥装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP24755097A JPH1183325A (ja) | 1997-08-29 | 1997-08-29 | 被乾燥物の乾燥方法およびその装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP24755097A JPH1183325A (ja) | 1997-08-29 | 1997-08-29 | 被乾燥物の乾燥方法およびその装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH1183325A true JPH1183325A (ja) | 1999-03-26 |
Family
ID=17165172
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP24755097A Withdrawn JPH1183325A (ja) | 1997-08-29 | 1997-08-29 | 被乾燥物の乾燥方法およびその装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH1183325A (ja) |
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2003504203A (ja) * | 1999-04-21 | 2003-02-04 | バイオワン・ホールディング・ベスローテン・フェンノートシャップ | スラリー、洗浄水および工業廃液および／または残渣を乾燥させる方法 |
| WO2020166409A1 (ja) | 2019-02-15 | 2020-08-20 | パナソニックＩｐマネジメント株式会社 | マイクロ波処理装置 |
| WO2021020375A1 (ja) | 2019-07-31 | 2021-02-04 | パナソニックＩｐマネジメント株式会社 | マイクロ波処理装置 |
| WO2021020373A1 (ja) | 2019-07-31 | 2021-02-04 | パナソニックＩｐマネジメント株式会社 | マイクロ波処理装置 |
| WO2022163332A1 (ja) | 2021-02-01 | 2022-08-04 | パナソニックＩｐマネジメント株式会社 | マイクロ波処理装置 |
-
1997
- 1997-08-29 JP JP24755097A patent/JPH1183325A/ja not_active Withdrawn
Cited By (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2003504203A (ja) * | 1999-04-21 | 2003-02-04 | バイオワン・ホールディング・ベスローテン・フェンノートシャップ | スラリー、洗浄水および工業廃液および／または残渣を乾燥させる方法 |
| WO2020166409A1 (ja) | 2019-02-15 | 2020-08-20 | パナソニックＩｐマネジメント株式会社 | マイクロ波処理装置 |
| EP4355030A2 (en) | 2019-02-15 | 2024-04-17 | Panasonic Intellectual Property Management Co., Ltd. | Microwave treatment device |
| WO2021020375A1 (ja) | 2019-07-31 | 2021-02-04 | パナソニックＩｐマネジメント株式会社 | マイクロ波処理装置 |
| WO2021020373A1 (ja) | 2019-07-31 | 2021-02-04 | パナソニックＩｐマネジメント株式会社 | マイクロ波処理装置 |
| WO2022163332A1 (ja) | 2021-02-01 | 2022-08-04 | パナソニックＩｐマネジメント株式会社 | マイクロ波処理装置 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A300 | Withdrawal of application because of no request for examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A300 Effective date: 20041102 |