JPH1178279A - 平版印刷版用アルミニウム支持体の製造方法および支持体 - Google Patents

平版印刷版用アルミニウム支持体の製造方法および支持体

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JPH1178279A
JPH1178279A JP25081297A JP25081297A JPH1178279A JP H1178279 A JPH1178279 A JP H1178279A JP 25081297 A JP25081297 A JP 25081297A JP 25081297 A JP25081297 A JP 25081297A JP H1178279 A JPH1178279 A JP H1178279A
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Abstract

(57)【要約】 【課題】 電解粗面化性や画質などの性能を維持しつ
つ、工程の簡略化みよるコストダウンをはかった平版印
刷版用アルミニウム支持体の製造方法およびその方法に
よって製造された平版印刷版用アルミニウム支持体を提
供する。 【解決手段】 DC鋳造法から中間焼鈍処理及び/又は
灼熱処理を省いて製造されたアルミニウム板、または連
続鋳造法から中間焼鈍を省いて製造されたアルミニウム
板を、塩酸または硝酸水溶液中で電気化学的に粗面化処
理する工程を含む方法により平版印刷版用アルミニウム
支持体を製造する。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、平版印刷版用アル
ミニウム支持体の製造方法及びその方法によって製造さ
れた平版印刷版用アルミニウム支持体に関するものであ
る。特に、本発明は平版印刷版用支持体として使用され
るアルミニウム板の粗面化に特徴を有する平版印刷版用
アルミニウム支持体の製造方法及びその方法によって製
造された平版印刷版用アルミニウム支持体に関するもの
であって、従来の化学的なエッチング方法で発生しやす
い、結晶粒の方位差に起因するストリークスと呼ばれる
畳目状の筋や、面質ムラと呼ばれるザラツキ状の処理ム
ラなどが発生することなくアルミニウム板の粗面化を行
うことができる。また、本発明は、このような粗面化を
含む製造方法によって製造され平版印刷版用支持体とし
て好ましい表面形状を有する平版印刷版用アルミニウム
支持体に関する。
【0002】
【従来の技術】印刷版用アルミニウム支持体、特にオフ
ッセト印刷版用支持体としてはアルミニウム板(アルミ
ニウム合金板を含む)が用いられている。一般にアルミ
ニウム板をオフッセト印刷版用支持体として使用するた
めには、感光材料との適度な接着性と保水性を有してい
ることが必要である。このためにはアルミニウム板の表
面を均一かつ緻密な砂目を有するように粗面化しなけれ
ばならない。この粗面化処理は製版後実際にオフセット
印刷を行ったときに版材の印刷性能や耐刷力に著しい影
響をおよぼすので、その良否は版材製造上重要な要素と
なっている。
【0003】印刷版用アルミニウム支持体の粗面化法と
しては、交流電解エッチング法が一般的に採用されてお
り、電流としては、普通の正弦波交流電流、矩形波など
の特殊交番波形電流が用いられている。そして、黒鉛等
の適当な電極を対局として交流電流により、アルミニウ
ム板の粗面化処理を行うもので、通常一回の処理で行わ
れているが、そこで得られるピット深さは全体的に浅
く、耐刷性能に劣るものであった。このため、その直径
に比べて深さの深いピットが均一かつ緻密に存在する砂
目を有する印刷版用支持体として好適なアルミニウム板
が得られるように、数々の方法が提案されている。その
方法としては、特殊電解電源波形を使った粗面化方法
(特開昭53−67507号公報)、交流を使った電解
粗面化時の陽極時と陰極時の電気量の比率(特開昭54
−65607号公報)、電源波形(特開昭55−253
81号公報)、単位面積あたりの通電量の組み合わせ
(特開昭56−29699号公報)などが知られてい
る。また、機械的な粗面化と組み合わせた方法(特開昭
55−142695号公報)なども知られている。
【0004】一方、アルミニウム支持体の製造方法とし
ては、アルミニウムのインゴットを溶解保持してスラブ
(厚さ400〜600mm、幅1000〜2000mm、長
さ2000〜6000mm)を鋳造し、スラブ表面の不純
物組織部分を面削機にかけて3〜10mmづつ切削する面
削工程を経た後、スラブ内部の応力の除去と組織の均一
化の為、均熱炉において480〜540℃、6〜12時
間保持する均熱化処理工程を行い、しかる後に熱間圧延
を480〜540℃で行う。熱間圧延で5〜40mmの厚
みに圧延した後、室温で所定の厚みに冷間圧延を行う。
またその後組織の均一化のため焼鈍を行い圧延組織等を
均質化した後、規定の厚みに冷間圧延を行い、平坦度の
良い板にするため矯正する。この様にして作られたアル
ミニウム支持体を平版印刷版用支持体としていた。
【0005】しかしながら、電解粗面化処理の場合は特
に対象となるアルミニウム支持体の影響を受けやすく、
アルミニウム支持体を溶解保持→鋳造→面削→均熱とい
う工程を通して製造する場合、加熱、冷却を繰り返し、
面削という表面層を削り取る工程があったとしても、表
面層に金属合金成分などのばらつきを生じて平版印刷版
としては得率低下の原因となっていた。
【0006】これに対して、本出願人は先にアルミニウ
ム支持体の材質のバラツキを少くし、電解粗面化処理の
得率を向上させることによって品質の優れた得率のよい
平版印刷版を作れる方法として、アルミニウム溶湯から
鋳造、熱間圧延を連続して行い、薄板の熱間圧延コイル
を形成させた後、冷間圧延、熱処理、矯正を行ったアル
ミニウム支持体を粗面化処理することを特徴とする平版
印刷版用支持体の製造方法を提案した。(特開平3−7
9798号公報)さらに鋳造方法に関しては、一般的な
方法として、DC鋳造法に代表される固体鋳型を用いる
方法と、連続鋳造法に代表される駆動鋳型を用いる方法
がある。DC鋳造法からアルミニウム板を製造するに
は、、一般に中間焼鈍処理及び/又は均熱処理を行い、
また連続鋳造法からアルミニウム板を製造するには、一
般に中間焼鈍処理を行っている。このような、一般的な
アルミニウム板の製造工程から中間焼鈍処理や均熱処理
を省略したアルミニウム板を用いることは省エネルギ
ー、資源の有効利用の観点から望まれている。
【0007】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら先に提案
した本出願人の製造方法についても、連続鋳造後の板厚
が厚い場合には、冷間圧延の通過回数が多くなる。また
熱処理に時間がかかるなど、生産性、ランニングコスト
の面でコストダウン効果が半減するという不具合があ
る。また、上記した、DC鋳造法や連続鋳造法から中間
焼鈍処理や均熱処理を省略して製造したアルミニウム板
を用いて平版印刷版用アルミニウム支持体を製造したと
きは、ストリークスや面質ムラと呼ばれる処理ムラが発
生し易かった。これは、アルミニウムの化学的な溶解反
応が進む際に、結晶方位によって溶解速度が違うため、
または、アルミニウムの電気化学的なピッティング反応
が進む際に結晶方位によって反応が違うためといわれて
いる。
【0008】本発明の目的は電解粗面化性や面質などの
性能を維持しつつ、しかも工程の簡略化によるコストダ
ウンをはかった平版印刷版用アルミニウム支持体の製造
方法及びその方法によって製造した平版印刷版用アルミ
ニウム支持体を提供することにある。本発明の他の目的
は、DC鋳造法や連続鋳造法から中間焼鈍処理や均熱処
理を省略した製造したアルミニウム板を用いて、ストリ
ークや面質ムラと呼ぶ故障の発生しない平版印刷版用ア
ルミニウム支持体の製造方法及びその方法によって製造
した平版印刷版用アルミニウム支持体を提供することに
ある。
【0009】
【課題を解決するための手段】本発明者らは鋭意研究の
結果以下に示すストリークや面質ムラと呼ぶ故障が発生
しない製造方法および表面形状を見出した。 DC鋳造法から中間焼鈍処理と均熱処理または中間
焼鈍処理と均熱処理を省いて製造されたアルミニウム
板、または、連続鋳造法から中間焼鈍処理を省いて製造
されたアルミニウム板を粗面化処理する平版印刷版用ア
ルミニウム支持体の製造方法において、塩酸または硝酸
を主体とする水溶液中で電気化学的に粗面化処理する工
程を含むことを特徴とする平版印刷版用アルミニウム支
持体の製造方法、および、該方法によって製造された平
版印刷版用アルミニウム支持体。 アルミニウム板の表面をバフ研磨により鏡面仕上げ
し、アルカリエッチングし、酸性水溶液中でデスマット
処理したアルミニウム板の表面をAFMで観察したと
き、エッチング速度差により発生した段差が0.01μ
m以上0.5μm以下であることを特徴とするアルミニ
ウム板を用いて、塩酸または硝酸を主体とする水溶液中
で電気化学的に粗面化処理する工程を含ことを特徴とす
る平版印刷版用アルミニウム支持体の製造方法、およ
び、該方法によって製造された平版印刷版用アルミニウ
ム支持体。 走査型電子顕微鏡で観察したとき平均ピッチ0.0
1〜0.5μmのピットが占める面積の割合が80−1
00%であり、平均表面粗さ0.3〜1.5μmのま
たはに記載の平版印刷版用アルミニウム支持体。 走査型電子顕微鏡で観察したとき平均直径0.1〜
3μmのハニカムピットが占める面積の割合が80−1
00%であり、平均表面粗さ0.3〜1.5μmのま
たはに記載の平版印刷版用アルミニウム支持体。
【0010】
【発明の実施の形態】以下、本発明の平版印刷版用アル
ミニウム支持体の製造方法に用いられる、アルミニウム
板の粗面化方法の実施態様について詳細に説明する。 実施形態1 アルミニウム板を順に (1)酸またはアルカリ水溶液中でアルミニウム板を化
学的なエッチング処理 表面の自然酸化皮膜や汚れ、圧延油等を取り除き、表面
の状態を均一にする目的でアルミニウム板を0.1〜2
0g/m2溶解する。前段の処理に機械的な粗面化をおこ
なったときは機械的な粗面化で生成した急峻な凹凸を滑
らかにする作用も兼ねる。 (2)酸性水溶液中で、直流または交流を用いた電気化
学的な粗面化処理 アルミニウム板表面に、平均直径0.1〜3μm のハニ
カムピットまたは、平均ピッチ0.01〜0.5μm の
ピットを生成する目的で行われる。ハニカムピットの平
均直径は1μm 以下であることが特に好ましい。アルミ
ニウム板表面にピットが生成している面積の割合は80
〜100%であることが特に好ましい。 (3)酸またはアルカリ水溶液中で、アルミニウム板を
化学的にエッチング処理または電解研磨処理 電気化学的な粗面化処理で生成した水酸化アルミニウム
を主体とするスマット成分の除 去と、ピットのエッジ
の部分を滑らかにする目的で行われる。アルミニウム板
の溶解量は0.1〜5g/m2が好ましい。 (4)陽極酸化処理 アルミニウム板の表面の耐磨耗性を高めるために陽極酸
化処理が施される。
【0011】実施形態2 アルミニウム板を順に (1)酸またはアルカリ水溶液中でアルミニウム板を化
学的にエッチング処理 実施形態1と同様である。 (2)硝酸水溶液中で、直流または交流を用いた電気化
学的な粗面化処理 実施形態1と同様である。 (3)酸またはアルカリ水溶液中でアルミニウム板を化
学的にエッチング処理または電解研磨処理 実施形態1と同様である。 (4)塩酸を主体とする水溶液中で電気化学的な粗面化
処理 平均ピッチ0.01〜0.5μm のピットを表面に均一
に生成する目的で行われる。 (5)酸またはアルカリ水溶液中でアルミニウム板を化
学的にエッチング処理または電解研磨処理 実施形態1と同様である。 (6)陽極酸化処理 実施形態1と同様である。
【0012】実施形態3 酸またはアルカリ水溶液中での電解研磨処理の前、後ま
たは前後に酸またはアルカリ水溶液中での化学的なエッ
チング処理を、アルミニウム板の溶解量が0.01〜3
g/m2となるように行うと、より優れた平版印刷版用ア
ルミニウム支持体とすることができる。酸またはアルカ
リ水溶液中での電解研磨処理の後におこなう、酸または
アルカリ水溶液中での化学的なエッチング処理は、電解
研磨処理で生成した酸化皮膜や、スマットなどの副生成
物を除去する目的で行われる。このエッチング処理を行
うことで、電解研磨処理で生成した、酸化皮膜やスマッ
トなどの副生成物を除去し、後の工程で行われる電気化
学的な粗面化を均一に行うことができ、また、陽極酸化
処理後のアルミニウム板をより優れた平版印刷版用アル
ミニウム支持体とすることができる。
【0013】実施形態4 実施形態1〜3のいずれかの方法で、化学的なエッチン
グをアルカリの水溶液を用いて行った場合、一般にアル
ミニウムの表面にはスマットが生成するので燐酸、硝
酸、硫酸、クロム酸、塩酸、またはこれらの2以上の酸
を含む混酸でデスマット処理することが好ましいスマッ
トを除去することが好ましい。
【0014】実施形態5 機械的な粗面化処理に続いて実施形態1〜4のいづれか
に記載の処理を行うことにより、電気化学的な粗面化で
消費する電力を軽減できる。アルミニウム板の表面をバ
フ研磨により鏡面仕上げし、アルカリエッチングし、酸
性水溶液中でデスマット処理したアルミニウム板の表面
をAFMで観察したとき、エッチング速度差により発生
した段差が0.01μm 以上0.5μm 以下、更に好ま
しくは0.02μm 以上0.2μm 以下、特に好ましく
は0.05μm 以上0.15μm 以下であるアルミニウ
ム合金板である。具体的なバフ研磨の方法は、 平均粒径0.3μm のアルミナ粉と水を用いて30秒
間バフ研磨し、 平均粒径0.1μm のアルミナ粉と水を用いて60秒
間バフ研磨し、 水を用いて120秒間バフ研磨し、 表面の圧延スジ、圧延油、酸化皮膜を除去して鏡面仕上
げした。アルカリエッチングの方法は水酸化アルミニウ
ム27wt%、アルミニウム7wt%の水溶液70℃でアル
ミニウムの溶解量が15g/m2である。酸性水溶液中で
のデスマット処理は硫酸25wt%の水溶液60℃に10
秒間浸漬した。アルミニウム板をバフ研磨処理し、フッ
酸でエッチングした表面を観察したときの圧延方向に長
い結晶粒の幅は約0.01mm以上10mm以下、長さは
0.5mm以上300mm以下である。圧延方向に長い結晶
粒の幅は5mm以下が好ましく、3mm以下が更に好まし
い。本発明に使用されるアルミニウム板は、純アルミニ
ウム板、アルミニウムを主成分として微量の異元素を含
む合金板、またはアルミニウムがラミネートまたは蒸着
されたプラスチックフィルムの中から選ばれる。該アル
ミニウム合金に含まれる異元素には、珪素、鉄、ニッケ
ル、マンガン、銅、マグネシウム、クロム、亜鉛、ビス
マス、チタン、バナジウムなどがある。通常はアルミニ
ウムハンドブック第4版(1990、軽金属協会)に記載
の、従来より公知の素材のもの、例えJIS A 1050材、JI
S A 3103材、JIS A 3005材、JIS A 1100材、JIS A 3004
材または引っ張り強度を増す目的でこれらに5wt%以下
のマグネシウムを添加した合金を用いることが出来る。
特に、結晶粒の方向起因の故障が発生するアルミニウム
板の粗面化に好適である。上記アルミニウム板は通常の
DC鋳造法によるアルミニウム板の他、連続鋳造圧延法
により製造されたものでも良い。連続鋳造圧延の方法と
しては双ロール法、ベルトキャスター法、ブロックキャ
スター法などを用いることができる。本発明に用いられ
るアルミニウム板の厚みはおよそ0.1〜0.6mm程度
である。アルミニウム板がDC鋳造法から中間焼鈍処理
または均熱処理または中間焼鈍処理と均熱処理を省いて
製造されたアルミニウム板を用いることが本発明の効果
を出す上で特に好ましい。アルミニウム板が連続鋳造法
から中間焼鈍処理を省いて製造されたアルミニウム板を
用いることが本発明の効果を出す上で特に好ましい。本
発明の直流または交流を用いた電気化学的な粗面化また
は電解研磨処理に用いる装置は、金属ウェブの連続的表
面処理に使用する公知のものがいずれも適用できる。本
発明の粗面化方法は、機械的な粗面化、化学的なエッチ
ング、電解研磨処理、陽極酸化処理、親水化処理などの
うち1つ以上と組み合わせて表面処理することで平版印
刷版用アルミニウム支持体として好適な表面とすること
が出来る。その後、常法に従い、感光層または、中間層
および感光層を塗布・乾燥することによって印刷性能が
優れたPS版となる。感光層の上には真空焼き付け時の
リスフィルムとの密着性を良好にするためにマット層を
設けるなどしてもよい。現像時のアルミニウムの溶け出
しを防ぐ目的で裏面にバックコート層を設けてもよい。
本発明は片面のみでなく両面を処理したPS版の製造に
も適応できる。本発明は、平版印刷版用アルミニウム支
持体の粗面化のみならず、あらゆるアルミニウム板の粗
面化にも応用できる。
【0015】アルカリ水溶液中での電解研磨処理 本発明で言うアルカリ水溶液中での電解研磨処理は、水
酸化ナトリウム、水酸化カリウム、炭酸ナトリウムおよ
びリン酸ナトリウムのようなアルカリ性物質の単独か、
またはそれらの混合物、またはアルカリ性物質と水酸化
亜鉛、水酸化アルミニウムとの混合物、またはこれらア
ルカリ性物質と塩化ナトリウムあるいは塩化カリウム等
の塩類との混合物の水溶液を使用し、しかも電気的に脱
酸素材になるような電解液組成、温度および濃度でアル
ミを陽極にして電解処理する場合のことをいう。均一な
酸化皮膜を安定的に生成するために、過酸化水素、りん
酸塩などを1wt%以下の濃度で添加してもよい。公知の
電解研磨に用いる水溶液が使用できるが、好ましくは水
酸化ナトリウムを主体とする水溶液である。好ましく
は、水酸化ナトリウムを2〜30wt%含有する水溶液で
あり、とくに水酸化ナトリウムを3〜20%含有する水
溶液である。2wt%未満だと陽極酸化皮膜が生成しやす
くなり電解電圧が高くなりやすい、30wt%を超えると
化学的な溶解力が強くなって、ストリークが見えやすく
なる。液温は20〜80℃が好ましく、特に30〜50
℃が好ましい。25℃未満だと陽極酸化皮膜が生成しや
すくなり、80℃を超えると化学的な溶解力が強くなっ
て、ストリークが見えやすくなる。電流密度5〜200
A/dm2、さらに10〜80A/dm2、特に10〜60A/dm2
が好ましい。電解時間は1〜600秒の範囲から選択で
きる。また、アルカリ水溶液中にアルミニウムは0.5
〜10wt%含有していることが好ましいが、1〜8wt%
含有していることが特に好ましい。アルミニウムが0.
5wt%未満だと廃液量が多くなると同時に晶析法による
アルカリの回収、アルミニウムの系外排出がし難くな
る。アルカリ水溶液中のアルミニウムが10wt%を超え
ると強い酸化皮膜が生成しやすくなったり、アルカリ水
溶液の導電率が下がるため電解電圧が高くなる。もちろ
んアルミニウム合金中に含有する合金成分が0〜1wt%
含有していてよい。電流は直流、パルス直流、交流を用
いることが可能である。パルス直流または連続直流がと
くに好ましい。連続直流は商用交流を整流素子を用いた
整流回路で直流に変換した後、平滑化回路で平滑化した
連続直流を用いることが設備コストでは好ましい。整流
回路、平滑回路は、一般的なものが使用可能である。連
続直流のリップル率は、0〜80%が好ましい。パルス
直流では、通電時間Ton と休止時間Tbのduty比が10
0:1〜1:100、1パルスあたりの通電時間はTon
は1msec〜200sec であることが好ましい。波形の立
ち上がり時間、立ち下がり時間は0〜10秒が好まし
い。パルス直流の電流の休止時間Tbに流れる電流lbは0
が好ましいが、0にすることは困難なため、lbの電流密
度は0〜10A/dm2とすることが好ましい。電解処理装
置はフラット型槽、ラジアル型槽など公知の電解処理に
使われているものを用いることができる。電解処理装置
は複数をならべて、アルミニウム板が順次通過して処理
するようにしてもよい。流速はアルミニウム板に対し
て、パラレルフロー、カウンターフローどちらでもよ
く、アルミニウム板と電極の間の平均流速は10〜40
0cm/秒が好ましく、とくに15〜200cm/秒が好ま
しい。平均流速が10cm/秒未満だと、アルカリ水溶液
中のアルミ濃度を高く設定したときにストリークが見え
易くなり、400cm/秒を超えるとポンプの動力費が大
きくなって経済的でない。アルカリ水溶液は、スリット
状の吹き出し口を有する吹き出しノズルから給液し、平
均流速をコントロールすることがとくに好ましい。アル
ミニウム板と電極との距離は0.3〜30cmが好まし
い。給電方法はコンダクタロールを用いた直接給電方式
を用いてもよいし、コンダクタロールを用いない液給電
方式(間接給電方式)を用いても良い。使用する電極材
質、構造は電解処理に使われている公知のものが使用可
能である。液給電方式を用いるときは、陽極が配置され
た電解槽と陰極が配置された電解槽を分離することが好
ましい。陽極が配置された電解槽と陰極が配置された電
解槽の間を通過するアルミニウム板は電流が流れること
による発熱でアルミが溶断する可能性があるため、冷却
を目的として電解液をスプレーノズルから吹き付けるこ
とが好ましい。陰極材質はカーボン、銀、ニッケル、純
鉄、ステンレス、チタン、タンタル、ニオブ、ジルコニ
ウム、ハフニウムが好ましい。陰極材料としてカ−ボン
を用いる場合には樹脂含浸カーボンを用いることが特に
好ましい。陽極材質はフェライト、白金、白金族系が好
ましい。白金または白金族系を用いるときは、チタン、
タンタル、ニオブ、ジルコニウムなどのバルブ金属に白
金をクラッドまたはメッキして用いることが好ましい。
電解処理装置は、公知の装置を用いることができる。ア
ルミニウム板の処理面は、上面でも下面でも両面でもよ
い。間接給電方式を用いるときは、陽極の消耗を抑止す
るため、陽極を配置する電解槽を電解研磨を行う電解槽
と分離し、陽極を配置する電解槽の液組成、温度等は電
解研磨の条件よりも低く設定することが好ましい。図1
は上記した、アルカリ水溶液中で電解研磨処理を実施す
るのに好適な装置の一例を示す概略図である。図示され
るように、アルミニウム板Wは先ず給電槽10に送ら
れ、ここで電解処理される。電解槽10には電解液11
である上記したアルカリ水溶液が貯留されており、アル
ミニウム板Wは対向配置された陽極12の間を通るよう
にパスロール13により搬送される。陽極12は複数個
で構成され、直流電源27に接続されており、給液ノズ
ル14からは電解液11(アルカリ水溶液)がアルミニ
ウム板Wと陽極12との間の空間を通過するように廃液
口15に向かって送出される。給液ノズル14及び廃液
口15は、それぞれアルミニウム板Wの表裏両面側に配
設される。
【0016】給電槽10から搬出されたアルミニウム板
Wは、次いで電解研磨槽20に送られる。この時、上記
給電槽10と電解研磨槽20との間を通過するアルミニ
ウム板Wを冷却するために、スプレーノズル16から電
解処理に使用されるものと同一の電解液11を噴射す
る。電解研磨槽20には電解液であるアルカリ水溶液が
貯留されており、アルミニウム板Aを陽極とした電解処
理がおこなわれる。アルミニウム板Wと対向配置される
陰極21は複数に分割され、インシュレータ22を介し
て連結されている。各陰極は、それぞれに対応する直流
電源27に接続される。また、アルミニウム板Wの陰極
21と反対側には、電流裏回りを防止するための摺動板
23が配置されている。陰極21の下流側には給液ノズ
ル24が配置されており、給液ノズル24からは電解液
11(アルカリ水溶液)がアルミニウム板Wと陰極21
との間の空間を流通するように排出される。また、給液
ノズル24からの電解液11の供給により電解研磨槽2
0から溢出する余剰の電解液11は、電解研磨槽20の
上流側に付設された廃液槽25の廃液口26を通じて系
外に送液される。
【0017】電解研磨処理を行ったアルミニウム板表面
には酸化皮膜やスマットなどの副生成物が0.01〜1
0g/m2生成する。この酸化皮膜や、スマットなどの副
生成物が存在すると平版印刷版用アルミニウム支持体と
したとき好ましくないので電解研磨処理の後工程として
は酸又はアルカリ水溶液中での化学的なエッチング処
理、アルミニウム板を陰極にした電解エッチング処理、
またはデスマット処理を行うことがさらに好ましい。電
解研磨処理を行う前処理としても、表面の状態が不均一
だと電解研磨処理が均一に行われないので、酸又はアル
カリ水溶液中での化学的なエッチング処理またはアルミ
ニウム板を陰極にした電解エッチング処理を行うことが
さらに好ましい。
【0018】酸性水溶液中での電解研磨処理 本発明で言う酸性水溶液中でアルミニウム板を電解研磨
処理は公知の電解研磨に用いる水溶液が使用できるが、
好ましくは硫酸またはリン酸を主体とする水溶液であ
る。特に好ましくは、硫酸又はリン酸を20〜90wt%
(好ましくは40〜80wt%)含有する水溶液である。
液温10〜90℃(好ましくは50〜80℃)、電流密
度1〜200A/dm2 (好ましくは5〜80A/dm2)、電解
時間は1〜180秒の範囲から選択できる。前記水溶液
中に、硫酸、リン酸、クロム酸、過酸化水素、クエン
酸、硼酸、フッ化水素酸、無水フタール酸などを1〜5
0wt%添加しても良い。また、アルミニウムはもちろん
アルミニウム合金中に含有する合金成分が0〜10wt%
含有していてよい。硫酸イオンまたはリン酸イオンの濃
度と、アルミニウムイオン濃度は、常温でもアルミニウ
ムが析出しない濃度で用いることが好ましい。電流は直
流、パルス直流、交流を用いることが可能であるが、連
続直流が好ましい。電解処理装置はフラット型槽、ラジ
アル型槽など公知の電解処理に使われているものを用い
ることができる。流速はアルミニウム板の進行方向に対
して、パラレルフロー、カウンターフローどちらでもよ
く、1〜400cm/secの間から選定される。アルミニウ
ム板と電極との距離は0.3〜30cmが好ましい。給電
方法はコンダクタロールを用いた直接給電方式を用いて
もよいし、コンダクタロールを用いない間接給電方式
(液給電方式)を用いても良い。使用する電極材質、構
造は電解処理に使われている公知のものが使用可能であ
る。陰極材質はカーボン、銀、白金、アルミニウムが好
ましい。人造カーボンを使用する場合、使用するグラフ
ァイトの粒子径ができるだけきめ細かいものが寿命の点
から好ましい。陽極材質はフェライト、酸化イリジウ
ム、鉛または白金が好ましい。アルミニウム板の処理面
は、上面でも下面でも両面でもよい。間接給電によって
通電するときは、後記する図1のようなフラット型セル
を用いてもよい。またラジアル型セルを用いてもよい。
電解研磨処理を行う槽はラジアル型セルを用いるとアル
ミニウム板の非処理面に電流が流れないために効率よく
電解研磨処理を行うことができ好ましい。陽極を配置し
た電解槽をフラット型にするのは、両面からアルミニウ
ム板に通電するため、電解電圧の減少がはかれるためで
ある。液給電方式を用いるときは、陽極が配置された電
解槽と陰極が配置された電解槽を分離することが好まし
い。陽極が配置された電解槽と陰極が配置された電解槽
の間を通過するアルミニウム板は電流が流れることによ
る発熱でアルミが溶断する可能性があるため、冷却を目
的として電解液をスプレーノズルから吹き付けることが
好ましい。また、液給電方式を用いるとき、陽極が配置
される電解槽の液は酸性電解液でもアルカリ性電解液で
も良い。両面を電解研磨処理するときは片面ずつ順に行
ってもよいし、同時に行っても良い。また、両面同時に
電解研磨処理を行うときは、それぞれの面に対向する陰
極に流れる電流を別々に制御することが好ましい。間接
給電方式を用いるときは、陽極の消耗を抑止するため、
陽極を配置する電解槽を電解研磨を行う電解槽と分離
し、陽極を配置する電解槽の液組成、温度等を電解研磨
の条件よりも低く設定することが好ましい。電解研磨処
理を行ったアルミニウム板表面には酸化皮膜やスマット
などの副生成物が0.01〜10g/m2生成する。この
酸化皮膜や、スマットなどの副生成物が存在すると平版
印刷用アルミニウム支持体としたとき好ましくないので
電解研磨処理の後工程としては酸又はアルカリ水溶液中
での化学的なエッチング処理またはデスマット処理を行
うことが好ましい。電解研磨処理を行う前処理として
も、表面の状態が不均一だと電解研磨処理が均一に行わ
れないので、酸又はアルカリ水溶液中でのエッチング処
理を行うことが最も好ましい。酸またはアルカリ水溶液
中の電解研磨処理工程で、アルミニウム板とこれに対向
する陰極間の電解電圧は1〜20Vであることが好まし
い。20Vを越えると強い酸化皮膜が生成し、次の工程
での処理が均一に行われ難くなる。
【0019】酸またはアルカリ水溶液中での化学的なエ
ッチング処理 アルカリ水溶液の濃度は1〜30wt%が好ましく、さら
にアルカリ水溶液中に溶解しているアルミニウムは1〜
30wt%が好ましい。アルカリ水溶液としては、とくに
苛性ソーダを主体とする水溶液が好ましい。液温は常温
〜95℃で、1〜120秒間処理することが好ましい。
酸性水溶液に用いることのできる酸は、燐酸、硝酸、硫
酸、クロム酸、塩酸、またはこれらの2以上の酸を含む
混酸を用いることが出来る。酸性水溶液の濃度は0.5
〜65wt%が好ましく、さらに酸性水溶液中に溶解して
いるアルミニウムは0.5〜5wt%が好ましい。液温は
30〜95℃で、1〜120秒間処理することが好まし
い。酸性水溶液としてはとくに硫酸が好ましい。硫酸濃
度とアルミニウム濃度は常温で晶出しない範囲から選択
することが好ましい。エッチング処理が終了した後に
は、処理液を次工程に持ち込まないためにニップローラ
ーによる液切りとスプレーによる水洗を行うことが好ま
しい。
【0020】酸性水溶液中でのデスマット処理 化学的なエッチングをアルカリの水溶液を用いて行った
場合は一般にアルミニウムの表面にはスマットが生成す
るので、この場合には燐酸、硝酸、硫酸、クロム酸、塩
酸、またはこれらの2以上の酸を含む混酸でデスマット
処理する。酸性水溶液の濃度は0.5〜60wt%が好ま
しい。さらに酸性水溶液中にはアルミニウムが0〜5wt
%が溶解していても良い。液温は常温から95℃で実施
され、処理時間は1〜120秒が好ましい。デスマット
処理が終了した後には、処理液を次工程に持ち込まない
ためにニップローラーによる液切りとスプレーによる水
洗を行うことが好ましい。
【0021】機械的な粗面化処理 本発明でいう機械的な粗面化とは、毛径が0.2〜1.
61mmの回転するナイロンブラシロールと、アルミニウ
ム板表面に供給されるスラリー液で機械的に粗面化処理
することが有利である。研磨剤としては公知の物が使用
できるが、珪砂、石英、水酸化アルミニウムまたはこれ
らの混合物が好ましい。特開平6−135175号、特
公昭50−40047号に詳しく記載されている。スラ
リー液の比重は1.05〜1.3が好ましい。もちろん
スラリー液を吹き付ける方式、ワイヤーブラシを用いた
方式、凹凸を付けた圧延ロールの表面形状をアルミニウ
ム板に転写する方式などを用いても良い。その他の方式
としては、特開昭55−074898号、特開昭61−
162351号、特開昭63−104889号各公報等
に記載されている。
【0022】硝酸を主体とする水溶液 本発明でいう硝酸を主体とする水溶液は、通常の直流ま
たは交流を用いた電気化学的な粗面化処理に用いるもの
を使用でき、1〜100g/リットルの硝酸水溶液に、
硝酸アルミニウム、硝酸ナトリウム、硝酸アンモニウ
ム、等の硝酸イオン、塩化アルミニウム、塩化ナトリウ
ム、塩化アンモニウム、等の塩酸イオンを有する塩酸ま
たは硝酸化合物の1つ以上を1g/リットル〜飽和まで
添加して使用することができる。硝酸を主体とする水溶
液中には、鉄、銅、マンガン、ニッケル、チタン、マグ
ネシウム、シリカ等のアルミニウム合金中に含まれる金
属が溶解していてもよい。好ましくは、硝酸5〜20 g
/ リットル水溶液中にアルミニウムイオンが3〜50g
/リットルとなるように塩化アルミニウム、硝酸アルミ
ニウムを添加した液を用いることが好ましい。温度は1
0〜90℃が好ましく、40〜80℃がより好ましく、
とくに60〜80℃が好ましい。
【0023】塩酸を主体とする水溶液 本発明で言う塩酸を主体とする水溶液は、通常の直流ま
たは交流を用いた電気化学的な粗面化処理に用いるもの
を使用でき、1〜100g/リットルの塩酸水溶液に、
硝酸アルミニウム、硝酸ナトリウム、硝酸アンモニウ
ム、等の硝酸イオン、塩化アルミニウム、塩化ナトリウ
ム、塩化アンモニウム、等の塩酸イオンを有する塩酸ま
たは硝酸化合物の1つ以上を1g/リットル〜飽和まで
添加して使用することができる。塩酸を主体とする水溶
液中には、鉄、銅、マンガン、ニッケル、チタン、マグ
ネシウム、シリカ等のアルミニウム合金中に含まれる金
属が溶解していてもよい。好ましくは、塩酸5〜20g
/リットル水溶液中にアルミニウムイオンが3〜50g
/リットルとなるように塩化アルミニウム、硝酸アルミ
ニウムを添加した液を用いることが好ましい。温度は1
0〜60℃が好ましく、20〜50℃がより好ましい。
次亜塩素酸を添加してもよい。
【0024】交流を用いた電気化学的な粗面化 本発明でいう硝酸を主体とする水溶液は、通常の直流ま
たは交流を用いた電気化学的な粗面化処理に用いるもの
を使用できる。有利には、前記硝酸を主体とする水溶液
または塩酸を主体とする水溶液から選ぶことができる。
硝酸を主体とした水溶液中での電気化学的な粗面化では
平均直径0.5〜3μmのピットが生成する。但し、電
気量を比較的多くしたときは、電解反応が集中し、3μ
mを越えるハニカムピットも生成する。また、電気量を
比較的高く設定するにしたがい大きなうねりを持つ表面
となる。塩酸を主体とした水溶液中で電気化学的に粗面
化したときは、平均ピッチが0.01〜0.5μmのピ
ットが生成する。電気量を多くするとクレーター状の凹
凸に重畳して平均ピッチ0.05〜0.5μmのピット
が生成し、平均表面粗さは通電量に比例して大きくなっ
てくる。結晶粒の方位差、即ちアルミニウム板のエッチ
ング速度差に起因するストリークスが見えにくくするに
は、ハニカムピットが密に生成していることが好まし
い。ハニカムピットまたは平均ピッチ0.01〜0.5
μmのピットがSEM で観察した表面に占める面積に占め
る割合は80〜100%であることが好ましく、とくに
90〜100%であることが特に好ましい。電気化学的
な粗面化に用いる交流電源波形は、サイン波、矩形波、
台形波、三角波などを用いることができるが、矩形波ま
たは台形波が好ましく、台形波が特に好ましい。周波数
は0.1〜250Hzが好ましい。
【0025】交流電源波形を図3を参照してより具体的
に説明する。台形波において、電流が0からピークに達
するまでの時間tpは1〜10msecが好ましい。電源回路
のインピーダンスの影響のため、tpが1未満であると電
流波形の立ち上がり時に大きな電源電圧が必要となり、
電源の設備コストが高くなる。10msecより大きくなる
と、電解液中の微量成分の影響を受けやすくなり均一な
粗面化が行なわれにくくなる。電気化学的な粗面化に用
いる交流の1サイクルの条件が、アルミニウム板のアノ
ード反応時間taとカソード反応時間tcの比(tc/ta)が
1〜20、アルミニウム板がアノード時の電気量Qcとア
ノード時の電気量Qaの比(Qc/Qa)が0.3〜20、ア
ノード反応時間taが5〜1000msec、の範囲にあるこ
とが好ましい。特に、(tc/ta)は2.5〜15である
ことがより好ましく、(Qc/Qa)は2.5〜15である
ことがより好ましい。
【0026】アルミニウム板表面に均一なハニカムピッ
トを生成させるためには、アルミニウム板表面の酸化皮
膜の分布と水酸化アルミニウムを主体とするスマットの
生成され方のバランスが重要になってくる。酸化皮膜の
分布はアルミニウム板のアノード反応のときのピッティ
ング反応の開始点の分布を意味する。スマットの生成の
され方は、一度ピッティング反応が起こった部分に再度
ピッティング反応が起こることを阻止し、ハニカムピッ
ト分散する上で重要な役割を担っている。スマットはア
ルミニウム板がアノード反応の時も反応が起きている界
面近傍のアルミニウムイオン濃度がリッチになり、特
に、水酸化アルミニウムはカソード反応の直前のアノー
ド反応でピッティングが行われた部分に析出し易く、ピ
ットに蓋をするような形でスマットが生成するため、そ
の部分には電流が流れにくくなり、電流を集中させない
役目をする。電気化学的な粗面化が終了したアルミニウ
ム板の表面には、0.8g/m2 以上の水酸化アルミニ
ウムを主体とするスマットが生成されている時、平均直
径0.5〜3μmのハニカムピットが均一に分散してい
る。
【0027】(tc/ta)が1未満であると、アルミニウ
ム板のアノード反応で生成した酸化皮膜の溶解による、
ピッティング反応の開始点が少なくなり、均一なハニカ
ムピットが生成できなくなる。(tc/ta)が20より大
きいと、アルミニウム板のアノード反応で生成した酸化
皮膜が溶解されすぎ、ピッティング反応の開始点が大き
くなりすぎ、均一なハニカムピットが生成されず、表面
積が増えなくなる。(Qc/Qa)が0.3未満であるとア
ルミニウム板のアノード反応で生成した酸化皮膜の溶解
による、ピッティング反応の開始点が少なくなり、均一
なハニカムピットが生成できなくなる。(Qc/Qa)が2
0より大きいと、アルミニウム板のアノード反応で生成
した酸化皮膜が溶解されすぎ、ピッティング反応の開始
点が多くなりすぎ、均一なハニカムピットが生成され
ず、表面積が増えなくなる。電流密度は台形波のピーク
値で電流のアノードサイクル側 Ia,カソードサイクル側
IC ともに10〜200A/dm2 が好ましい。(Ic /Ia)
は0.3〜20の範囲にあることが好ましい。電気化学
的な粗面化が終了した時点でのアルミニウム板のアノー
ド反応にあずかる電気量の総和は10〜2000 C/dm2
が好ましい。前記処理として、機械的な粗面化と化学的
エッチング、または機械的な粗面化と電解研磨処理を行
ったときは、10〜300 C/dm2が特に好ましい。本発
明で交流を用いた電気化学的な粗面化に用いる電解槽
は、縦型、フラット型、ラジアル型など公知の表面処理
に用いる電解槽が使用可能であるが、特開平5−195
300号に記載のようなラジアル型電解槽が特に好まし
い。電解槽内を通過する電解液はアルミニウムウェブの
進行とパラレルでもカウンターでもよい。1つの電解槽
には1個以上の交流電源を接続することができる。交流
を用いた電気化学的な粗面化には図2に示した装置を用
いることができる。電解槽を2つ以上用いるときには電
解条件は同じでもよいし異なっていてもよい。
【0028】図2に示す装置による電気化学的な粗面化
においては、アルミニウム板Wは主電解槽50中に浸漬
して配置されたラジアルドラムローラ52に巻装され、
搬送過程で交流電源51に接続する主極53a、53b
により電解処理される。電解液55は電解液供給口54
からスリット56を通じてラジアルドラムローラ52と
主極53a、53bとの間の電解液通路57に供給され
る。主電解槽50で処理されたアルミニウム板Wは次い
で補助陽極槽60で電解処理される。この補助陽極槽6
0には補助陽極58がアルミニウム板Wと対向配置され
ており、電解液55が補助陽極58とアルミニウム板W
との間の空間を流れるように供給される。
【0029】直流を用いた電気化学的な粗面化 本発明で言う直流を用いた電気化学的な粗面化処理と
は、アルミニウム板とこれに対向する電極間に直流電流
を加え、電気化学的に粗面化する方法を言う。電解液
は、公知の直流または交流を用いた電気化学的な粗面化
処理に使用するものを用いることができる。有利には、
前記硝酸を主体とする水溶液または塩酸を主体とする水
溶液から選ぶことができる。温度は10〜80℃が好ま
しい。直流を用いた電気化学的な粗面化に用いる処理装
置は公知の直流を用いたものを使用することが出来る
が、特開平1−141094号に記載されているように
一対以上の陽極と陰極を交互に並べた装置を用いること
が好ましい。公知の装置の一例としては特開平6−32
8876号、特開平8−67078号、特開昭61−1
9115号、特公昭57−44760号各公報などに記
載されている。また、アルミニウム板に接触するコンダ
クタロールと、これに対向する陰極との間に、直流電流
を加え、アルミニウム板を陽極にして電気化学的な粗面
化処理を行っても良い。電解処理が終了した後には、処
理液を次工程に持ち込まないためにニップローラーによ
る液切りとスプレーによる水洗を行うことが好ましい。
電気化学的な粗面化に使用する直流はリップル率が20
%以下の直流を用いることが好ましい。電流密度は10
〜200A/dm2 が好ましく、アルミニウム板が陽極時の
電気量は10〜2000C/dm2 が好ましい。陽極はフェ
ライト、酸化イリジウム、白金、白金をチタン、ニオ
ブ、ジルコニウムなどのバルブ金属にクラッドまたはメ
ッキしたものなど公知の酸素発生用電極から選定して用
いることが出来る。陰極はカーボン、白金、チタン、ニ
オブ、ジルコニウム、ステンレスや燃料電池用陰極に用
いる電極から選定して用いることもできる。
【0030】陽極酸化処理 アルミニウム板の表面の耐磨耗性を高めるために陽極酸
化処理が施される。アルミニウム板の陽極酸化処理に用
いられる電解質としては多孔質酸化皮膜を形成するもの
ならば、いかなるものでも使用することができる。一般
には硫酸、リン酸、シュウ酸、クロム酸、またはそれら
の混合液が用いられる。それらの電解質の濃度は電解質
の種類によって適宜決められる。陽極酸化の処理条件は
用いる電解質によって変わるので一概に特定し得ない
が、一般的には電解質の濃度が1〜80wt%、液温は5
〜70℃、電流密度1〜60A/dm2 、電圧1〜100
V、電解時間10秒〜300秒の範囲にあれば適当であ
る。硫酸法は通常直流電流で処理が行われるが、交流を
用いることも可能である。陽極酸化皮膜の量は1〜10
g/m2の範囲が適当である。1g/m2よりも少ないと耐
刷性が不十分であったり、平版印刷版の非画像部に傷が
付きやすくなって、同時にキズの部分にインキが付着す
る、いわゆるキズ汚れが生じやすくなる。
【0031】陽極酸化処理が施された後、アルミニウム
表面は必要により親水化処理が施される。本発明に使用
される親水化処理としては、米国特許第2,714,0
66号、第3,181,461号、第3,280,73
4号及び第3,902,734号各明細書に開示されて
いるようなアルカリ金属シリケート(例えば珪酸ナトリ
ウム水溶液)法がある。この方法においては、支持体が
珪酸ナトリウム水溶液中で浸漬されるか、また電解処理
される。他に特公昭36−22063号公報に開示され
ているフッ化ジルコン酸カリウム、および、米国特許第
3,276,868号、第4,153,461号および
第4,689,272号各明細書に開示されているよう
なポリビニルホスホン酸で処理する方法などが用いられ
る。また、砂目立て処理及び陽極酸化処理後、封孔処理
を施したものも好ましい。かかる封孔処理は熱水および
無機塩または有機塩を含む熱水溶液への浸漬ならびに水
蒸気浴等によって行われる。
【0032】本発明の方法で粗面化されたアルミニウム
板は、特願平8−296708号、特願平8−1765
68号各明細書に記載された測定法で測定した物性値が
以下の値を満足する支持体である。具体的には下記の表
面形状を満足する支持体である。 (1)AFM((原子間力顕微鏡)で測定した値を用いて定
義した表面形状が下記の範囲にある。 水平(X,Y)方向の分解能が0.1μm としたAFM を用
いて100μm 角の測定範囲で測定し、近似三点法によ
り求めた表面積をa、上部投影面積をbとしたとき、a
/bの値(比表面積)が1.15〜1.5。 水平(X,Y)方向の分解能が1.9μm としたAFM を用
いて240μm 角の測定範囲で測定した平均表面粗さが
0.3〜1.5μm 。 水平(X,Y)方向の分解能が1.9μm としたAFM を用
いて240μm 角の測定範囲で測定した傾斜度が30度
以上の割合が5〜40%。 アルミニウム板の表面が粗面化によって起伏を有する
平版印刷版用支持体で、原子間力顕微鏡により0.1μ
m 分解能で、50μm 角を計測した際の表面傾斜度分布
の傾斜度が45度以上の割合が5%以上50%以下であ
ることを特徴とする平版印刷版用支持体。 (2)感光層を塗布する前のJIS Z9741-1983に規定の8
5度光沢度が30以下。 (3)走査型電子顕微鏡で、倍率750倍で観察したと
き、80μm の視野の中に、平均直径0.1〜3μm の
ハニカムピットが占める面積の割合が80〜100%。 (4)フラクタル次元が、水平(X,Y)方向の分解能が
0.1μm または1.9μm としたAFM を用いて100
μm 角または240μm 角の測定範囲で測定したボック
スカウンティング法、スケール変換法、カバー法、回転
半径法、密度相関関数法などで求めたフラクタル次元が
2.1〜2.5。 である。とくに、硝酸水溶液中で交流又は直流を用いた
電気化学的な粗面化で生成したハニカムピット、または
硝酸水溶液中で交流又は直流を用いた電気化学的な粗面
化で生成したピットの密度が、走査型電子顕微鏡で観察
したとき、80μm 角の視野の中に、80〜100%で
あると結晶粒に起因するストリークや面質ムラの発生を
少なくすることができる。
【0033】
【実施例】以下に実施例によって本発明を具体的に説明
するが、本発明はこれら実施例に限定されるものではな
い。 実施例1 DC鋳造法で中間焼鈍処理と均熱処理を省略し、酸また
はアルカリ水溶液中での化学的なエッチングでストリー
クスが発生しやすくなった厚さ0.24mm、幅103
0mmの、JIS A 1050アルミニウム板を用い
て連続的に処理を行った。このアルミニウム板の表面を
バフ研磨により鏡面仕上げし、アルカリエッチングし、
酸性水溶液中でデスマット処理してその表面をAFMで
観察したとき、エッチング速度差により発生した段差が
0.03μmであった。 (1)機械的な粗面化処理 比重1.12の水酸化アルミニウムと水の懸濁液を研磨
スラリー液としてアルミニウム板の表面に供給しなが
ら、回転するローラー状ナイロンブラシにより機械的な
粗面化をおこなった。ナイロンブラシの材質は6・10
ナイロンを使用し、毛長50mm、毛の直径は0.48
mmであった。ナイロンブラシは直径300mmのステ
ンレス製の筒に穴をあけて密になるように植毛して作製
した。回転ブラシは3本使用した。ブラシ下部の2本の
支持ローラ(直径200mm)の距離は300mmであ
った。ブラシローラはブラシを回転させる駆動モータの
負荷が、ブラシローラをアルミニウム板に押さえつける
前の負荷に対して6kwプラスになるまで押さえつけ
た。ブラシの回転方向はアルミニウム板の移動方向と同
じであった。その後、水洗した。アルミニウム板の移動
速度は50m/minであった。 (2)アルカリ水溶液中でのエッチング処理 アルミニウム板を、NaOH27wt%、アルミニウム
イオン6.5wt%含有する水溶液、70℃に浸漬して
アルミニウム板のエッチング処理を行った。アルミニウ
ム板の溶解量は10g/m2であった。その後、水洗処
理を行った。 (3)デスマット処理 次に硝酸1wt%含有する水溶液、45℃に10秒間浸
漬してデスマット処理を行った。その後、水洗処理を行
った。 (4)酸性水溶液中での電気化学的な粗面化処理 交流電圧を用いて連続的に電気化学的な粗面化処理を行
った。このときの電解液は、硝酸1wt%水溶液(アル
ミニウムイオン0.5wt%、アンモニウムイオン0.
007wt%含む)、液温80℃であった。交流電源波
形は電流値がゼロからピークに達するまでの時間TPが
1msec、duty比1:1、60Hz、台形の矩形
波交流を用いて、カーボン電極を対極として電気化学的
な粗面化処理を行った。補助アノードにはフェライトを
用いた。電流密度は電流のピーク値で60A/dm2
電気量はアルミニウム板が陽極時の電気量の総和で、1
25C/dm2(実施例1ー1)、150C/dm2(実施例1
ー2)、200C/dm2(実施例1−3)、250C/dm
2(実施例1−4)であった。補助陽極には電源から流れ
る電流の5%を分流させた。その後、スプレーによる水
洗を行った。 (5)アルカリ水溶液中でのエッチング処理 アルミニウム板を、NaOH5wt%、アルミニウムイ
オン0.5wt%含有する水溶液、45℃に浸漬してア
ルミニウム板のエッチング処理を行った。アルミニウム
板の溶解量は0.3g/m2であった。その後、水洗処
理を行った。 (6)デスマット処理 次に硫酸10wt%含有する水溶液、45℃に浸漬して
デスマット処理を行った。その後、水洗処理を行った。 (7)陽極酸化処理 液温35℃の硫酸濃度10wt%水溶液(アルミニウム
イオンを0.5wt%含む)で、直流電圧を用い、電流
密度2A/dm2で陽極酸化皮膜量が2.4g/m2になる
ように陽極酸化処理を行った。その後、スプレーによる
水洗を行った。 このアルミニウム板の表面には結晶粒
の方位が起因のストリークス、面質ムラは観察されなか
った。このアルミニウム板の表面をSEMで観察したと
ころ、平均直径約0.5〜1μmのハニカムピットが占
める面積の割合は100%で、全面に均一に生成してい
た。このアルミニウム板の平均表面粗さは0.55〜
0.65μmであった。実施例のアルミニウム板に中間
層および感光層を塗布、乾燥し、乾燥膜厚2.0g/m2のポ
ジ型PS版を作成した。このPS版に公知の処理を施
し、良好な平版印刷版を得ることができた。 実施例2 実施例1ー2の陽極酸化処理後の基板に、親水化処理す
る目的で、珪酸ソーダ2.5wt%、70℃の水溶液に
14秒間浸漬し、その後スプレーで水洗し、乾燥した。
各処理および水洗の後にはニップローラで液切りをおこ
なった。この処理したアルミニウム板に中間層とネガ型
感光層を塗布、乾燥してPS版を作成した。このPS版
に公知の処理を施し、良好な平版印刷版を得ることがで
きた。 実施例3 実施例1の(3)、(4)の処理を以下の処理とした以
外は実施例1と全く同様にアルミニウム板を処理した。 (3)デスマット処理 次に塩酸1wt%含有する水溶液、35℃に10秒間浸
漬してデスマット処理を行った。その後、水洗処理を行
った。 (4)酸性水溶液中での電気化学的な粗面化処理 交流電圧を用いて連続的に電気化学的な粗面化処理を行
った。このときの電解液は、塩酸1wt%水溶液(アル
ミニウムイオン0.5wt%含む)、液温35℃であっ
た。交流電源波形は電流値がゼロからピークに達するま
での時間TPが1msec、duty比1:1、60H
z、台形の矩形波交流を用いて、カーボン電極を対極と
して電気化学的な粗面化処理を行った。補助アノードに
はフェライトを用いた。電流密度は電流のピーク値で6
0A/dm2、電気量はアルミニウム板が陽極時の電気量の
総和で75C/dm2(実施例3ー1)、200C/dm2(実
施例3ー2)、300C/dm2(実施例3ー3)であっ
た。補助陽極には電源から流れる電流の5%を分流させ
た。その後、スプレーによる水洗を行った。このアルミ
ニウム板の表面には結晶粒の方位が起因のストリーク
ス、面質ムラは発生していなかった。 このアルミニウ
ム板の表面をSEMで観察したところ、塩酸グレイン特
有のピットが占める面積の割合は100%で、全面に均
一に生成していた。このアルミニウム板の平均表面粗さ
は0.55〜0.65μmであった。このアルミニウム
板に中間層および感光層を塗布、乾燥し、乾燥膜厚2.0g
/m2のポジ型PS版を作成した。このPS版に公知の処
理を施し、良好な平版印刷版を得ることができた。 実施例4 実施例3−1の陽極酸化処理後の基板に、親水化処理す
る目的で、珪酸ソーダ2.5wt%、70℃の水溶液に
14秒間浸漬し、その後スプレーで水洗し、乾燥した。
各処理および水洗の後にはニップローラで液切りをおこ
なった。この処理したアルミニウム板に中間層とネガ型
感光層を塗布、乾燥してPS版を作成した。このPS版
このPS版に公知の処理を施し、良好な平版印刷版を得
ることができた。 実施例5 DC鋳造法で中間焼鈍処理と均熱処理を省略し、酸また
はアルカリ水溶液中での化学的なエッチングでストリー
クスが発生しやすくなった厚さ0.24mm、幅103
0mmの、JIS A 1050アルミニウム板を用い
て連続的に処理を行った。このアルミニウム板の表面を
バフ研磨により鏡面仕上げし、アルカリエッチングし、
酸性水溶液中でデスマット処理したアルミニウム板の表
面をAFMで観察したとき、エッチング速度差により発
生した段差が0.1μmであった。 (1)アルカリ水溶液中でのエッチング処理 アルミニウム板を、NaOH27wt%、アルミニウム
イオン6.5wt%含有する水溶液、70℃に浸漬して
アルミニウム板のエッチング処理を行った。アルミニウ
ム板の溶解量は10g/m2であった。その後、水洗処
理を行った。 (2)デスマット処理 次に硝酸1wt%含有する水溶液、45℃に10秒間浸
漬してデスマット処理を行った。その後、水洗処理を行
った。 (3)酸性水溶液中での電気化学的な粗面化処理 交流電圧を用いて連続的に電気化学的な粗面化処理を行
った。このときの電解液は、硝酸1wt%水溶液(アル
ミニウムイオン0.5wt%、アンモニウムイオン0.
007wt%含む)、液温80℃であった。交流電源波
形は電流値がゼロからピークに達するまでの時間TPが
1msec、duty比1:1、60Hz、台形の矩形
波交流を用いて、カーボン電極を対極として電気化学的
な粗面化処理をおこなった。補助アノードにはフェライ
トを用いた。電流密度は電流のピーク値で60A/dm
2, 電気量はアルミニウム板が陽極時の電気量の総和で
250C/dm2(実施例5ー1)、350C/dm2(実施例
5ー2)、550C/dm2(実施例5ー3)であった。補
助陽極には電源から流れる電流の5%を分流させた。そ
の後、スプレーによる水洗を行った。 (4)アルカリ水溶液中でのエッチング処理 アルミニウム板を、NaOH5wt%、アルミニウムイ
オン0.5wt%含有する水溶液、45℃に浸漬してア
ルミニウム板のエッチング処理を行った。アルミニウム
板の溶解量は0.1g/m2 であった。その後、水洗処
理を行った。 (5)デスマット処理 次に硫酸10wt%含有する水溶液、45℃に浸漬して
デスマット処理を行った。その後、水洗処理を行った。 (6)陽極酸化処理 液温35℃の硫酸濃度10wt%水溶液(アルミニウム
イオンを0.5wt%含む)で、直流電圧を用い、電流
密度2A/dm2 で陽極酸化皮膜量が2.4g/m2にな
るように陽極酸化処理を行った。その後、スプレーによ
る水洗をおこなった。このアルミニウム板の表面には結
晶粒の方位が起因のストリークス、面質ムラは観察され
なかった。このアルミニウム板の表面をSEMで観察し
たところ、平均直径0.5〜1μmのハニカムピットが
占める面積の割合は100%で、全面に均一に生成して
いた。このアルミニウム板の平均表面粗さは0.35μ
m(実施例5−1)、0.45μm(実施例5−2)、
0.6μm(実施例5−3)であった。実施例のアルミ
ニウム板に中間層および感光層を塗布、乾燥し、乾燥膜
厚2.0g/m2のポジ型PS版を作成した。このPS版に公
知の処理を施し、良好な平版印刷版を得ることができ
た。 実施例6 実施例5−2の陽極酸化処理後の基板に、親水化処理す
る目的で、珪酸ソーダ2.5wt%、70℃の水溶液に
14秒間浸漬し、その後スプレーで水洗し、乾燥した。
各処理および水洗の後にはニップローラで液切りをおこ
なった。この処理したアルミニウム板に中間層とネガ型
感光層を塗布、乾燥してPS版を作成した。このPS版
に公知の処理を施し、良好な平版印刷版を得ることがで
きた。 実施例7 実施例5と同じアルミニウム板を用いて以下の処理を行
った。 (1)アルカリ水溶液中でのエッチング処理 アルミニウム板を、NaOH27wt%、アルミニウム
イオン6.5wt%含有する水溶液、70℃に浸漬して
アルミニウム板のエッチング処理を行った。アルミニウ
ム板の溶解量は10g/m2であった。その後、水洗処
理を行った。 (2)デスマット処理 次に硝酸1wt%含有する水溶液、45℃に10秒間浸
漬してデスマット処理を行った。その後、水洗処理を行
った。 (3)酸性水溶液中での電気化学的な粗面化処理 交流電圧を用いて連続的に電気化学的な粗面化処理を行
った。このときの電解液は、塩酸1wt%水溶液(アル
ミニウムイオン0.5wt%)、液温35℃であった。
交流電源波形は電流値がゼロからピークに達するまでの
時間TPが1msec、duty比1:1、60Hz、
台形の矩形波交流を用いて、カーボン電極を対極として
電気化学的な粗面化処理を行った。補助アノードにはフ
ェライトを用いた。電流密度は電流のピーク値で60A
/dm2 、電気量はアルミニウム板が陽極時の電気量の
総和で、それぞれ400C/dm2(実施例7ー1)、80
0C/dm2(実施例7ー2)、1600C/dm2(実施例7
ー3)であった。補助陽極には電源から流れる電流の5
%を分流させた。その後、スプレーによる水洗を行っ
た。 (4)アルカリ水溶液中でのエッチング処理 アルミニウム板を、NaOH5wt%、アルミニウムイ
オン0.5wt%含有する水溶液、45℃に浸漬してア
ルミニウム板のエッチング処理を行った。アルミニウム
板の溶解量は0.3g/m2であった。その後、水洗処
理を行った。 (5)デスマット処理 次に硫酸10wt%含有する水溶液、45℃に浸漬して
デスマット処理を行った。その後、水洗処理を行った。 (6)陽極酸化処理 液温35℃の硫酸濃度10wt%水溶液(アルミニウム
イオンを0.5wt%含む)で、直流電圧を用い、電流
密度2A/dm2で陽極酸化皮膜量が2.4g/m2になる
ように陽極酸化処理を行った。その後、スプレーによる
水洗を行った。このアルミニウム板の表面には結晶粒の
方位が起因のストリークス、面質ムラは観察されなかっ
た。このアルミニウム板の表面をSEMで観察したとこ
ろ、塩酸を主体とする水溶液中での電気化学的な粗面化
処理特有のピットが全面に均一に生成していた。クレー
ター状のピットも生成していた。このアルミニウム板の
平均表面粗さは、それぞれ0.4μm、0.8μm、
1.2μmであった。実施例のアルミニウム板に中間層
および感光層を塗布、乾燥し、乾燥膜厚2.0g/m2のポ
ジ型PS版を作成した。このPS版に公知の処理を施
し、良好な平版印刷版を得ることができた。 実施例8 実施例7ー1、実施例7ー2、実施例7ー3の陽極酸化
処理後の基板に、親水化処理する目的で、珪酸ソーダ
2.5wt%、70℃の水溶液に14秒間浸漬し、その
後スプレーで水洗し、乾燥した。各処理および水洗の後
にはニップローラで液切りをおこなった。この処理した
アルミニウム板に中間層とネガ型感光層を塗布、乾燥し
てPS版を作成した。このPS版に公知の処理を施し、
良好な平版印刷版を得ることができた。
【0034】実施例9 実施例1と同様なアルミニウム板を用いて以下の処理を
行った。 (1)機械的な粗面化処理 比重1.12の水酸化アルミニウムと水の懸濁液を研磨
スラリー液としてアルミニウム板の表面に供給しなが
ら、回転するローラー状ナイロンブラシにより機械的な
粗面化をおこなった。ナイロンブラシの材質は6・10
ナイロンを使用し、毛長50mm、毛の直径は0.72
mmであった。ナイロンブラシは直径300mmのステ
ンレス製の筒に穴をあけて密になるように植毛して製作
した。回転ブラシは3本使用した。ブラシ下部の2本の
支持ローラ(直径200mm)の距離は300mmであ
った。ブラシローラはブラシを回転させる駆動モータの
負荷が、ブラシローラをアルミニウム板に押さえつける
前の負荷に対して6kwプラスになるまで押さえつけ
た。ブラシの回転方向はアルミニウム板の移動方向と同
じであった。その後、水洗した。アルミニウム板の移動
速度は50m/minであった。 (2)アルカリ水溶液中でのエッチング処理 アルミニウム板を、NaOH27wt%、アルミニウム
イオン6.5wt%含有する水溶液、70℃に浸漬して
アルミニウム板のエッチング処理を行った。アルミニウ
ム板の溶解量は10g/m2であった。その後、水洗処
理を行った。 (3)デスマット処理 次に硝酸1wt%含有する水溶液、45℃に10秒間浸
漬してデスマット処理を行った。その後、水洗処理を行
った。 (3)酸性水溶液中での電気化学的な粗面化処理 交流電圧を用いて連続的に電気化学的な粗面化処理を行
った。このときの電解液は、硝酸1wt%水溶液(アル
ミニウムイオン0.5wt%、アンモニウムイオン0.
007wt%含む)、液温50℃であった。交流電源波
形は電流値がゼロからピークに達するまでの時間TPが
1msec、duty比1:1、60Hz、台形の矩形
波交流を用いて、カーボン電極を対極として電気化学的
な粗面化処理をおこなった。補助アノードにはフェライ
トを用いた。電流密度は電流のピーク値で60A/dm
2,電気量はアルミニウム板が陽極時の電気量の総和で1
00C/dm2であった。補助陽極には電源から流れる電
流の5%を分流させた。その後、スプレーによる水洗を
行った。 (4)アルカリ水溶液中でのエッチング処理 アルミニウム板を、NaOH70wt%、アルミニウム
イオン6.5wt%含有する水溶液、70℃に浸漬して
アルミニウム板のエッチング処理を行った。アルミニウ
ム板の溶解量は4g/m2であった。その後、水洗処理
を行った。 (5)デスマット処理 次に塩酸1wt%含有する水溶液、35℃に10秒間浸
漬してデスマット処理を行った。その後、水洗処理を行
った。 (6)酸性水溶液中での電気化学的な粗面化処理 交流電圧を用いて連続的に電気化学的な粗面化処理を行
った。このときの電解液は、塩酸1wt%水溶液(アル
ミニウムイオン0.5wt%含む)、液温35℃であっ
た。交流電源波形は電流値がゼロからピークに達するま
での時間TPが1msec、duty比1:1、60H
z、台形の矩形波交流を用いて、カーボン電極を対極と
して電気化学的な粗面化処理を行った。補助アノードに
はフェライトを用いた。電流密度は電流のピーク値で6
0A/dm2,電気量はアルミニウム板が陽極時の電気量
の総和で150C/dm2であった。補助陽極には電源か
ら流れる電流の5%を分流させた。その後、スプレーに
よる水洗を行った。 (7)アルカリ水溶液中でのエッチング処理 アルミニウム板を、NaOH5wt%、アルミニウムイ
オン0.5wt%含有する水溶液、45℃に浸漬してア
ルミニウム板のエッチング処理を行った。アルミニウム
板の溶解量は0.3g/m2であった。その後、水洗処
理を行った。 (8)デスマット処理 その後、水洗処理を行った。次に硫酸25wt%含有す
る水溶液、60℃に浸漬してデスマット処理を行った。
その後、水洗処理を行った。 (9)陽極酸化処理 液温35℃の硫酸濃度15wt%水溶液(アルミニウム
イオンを0.5wt%含む)で、直流電圧を用い、電流
密度2A/dm2で陽極酸化皮膜量が2.4g/m2になる
ように陽極酸化処理を行った。その後、スプレーによる
水洗を行った。このアルミニウム板の表面には結晶粒の
方位が起因のストリークス、面質ムラは発生していなか
った。 このアルミニウム板の表面をSEMで観察した
ところ、塩酸電解グレイン特有のピットが全面に均一に
生成していた。このアルミニウム板の平均表面粗さは
0.7μmであった。このアルミニウム板に中間層およ
び感光層を塗布、乾燥し、乾燥膜厚2.0g/m 2のポジ型
PS版を作成した。このPS版に公知の処理を施し、良
好な平版印刷版を得ることができた。 実施例10 実施例9の陽極酸化処理後の基板に、親水化処理する目
的で、珪酸ソーダ2.5wt%、70℃の水溶液に14
秒間浸漬し、その後スプレーで水洗し、乾燥した。各処
理および水洗の後にはニップローラで液切りをおこなっ
た。この処理したアルミニウム板に中間層とネガ型感光
層を塗布、乾燥してPS版を作成した。このPS版に公
知の処理を施し、良好な平版印刷版を得ることができ
た。 実施例11 実施例1(5)のアルカリ水溶液中での化学的なエッチ
ング処理を電解研磨処理とした以外は実施例1と全く同
様に処理した。 アルミニウム板を、水酸化ナトリウム
9wt%、アルミニウムを3wt%含有する水溶液で、
電流密度20A/dm2でアルミニウム板を陽極にして連
続直流を用いて電解研磨処理を行った。アルカリ水溶液
の液温は35℃であった。アルミニウム板の溶解量は
0.3g/m2であった。アルミニウム板と電極間の平
均流速は、80cm/秒であった。このアルミニウム板
の表面には結晶粒の方位が起因のストリークス、面質ム
ラは発生していなかった。 このアルミニウム板の表面
をSEMで観察したところ、一辺の長さ約0.5−1μ
mのハニカムピットが占める面積の割合は100%で、
全面に均一に生成していた。このアルミニウム板の平均
表面粗さは0.6μmであった。このアルミニウム板に
中間層および感光層を塗布、乾燥し、乾燥膜厚2.0g/m2
のポジ型PS版を作成した。このPS版に公知の処理を
施し、良好な平版印刷版を得ることができた。 実施例12 実施例11の陽極酸化処理後の基板に、親水化処理する
目的で、珪酸ソーダ2.5wt%、70℃の水溶液に1
4秒間浸漬し、その後スプレーで水洗し、乾燥した。各
処理および水洗の後にはニップローラで液切りを行っ
た。この処理したアルミニウム板に中間層とネガ型感光
層を塗布、乾燥してPS版を作成した。このPS版に公
知の処理を施し、良好な平版印刷版を得ることができ
た。実施例のアルミニウム板に中間層および感光層を塗
布、乾燥し、乾燥膜厚2.0g/m2のポジ型PS版を作成し
た。このPS版に公知の処理を施し、良好な平版印刷版
を得ることができた。 比較例1 実施例1(4)の電気化学的な粗面化に用いる電気量を
65C/dm2とした以外は実施例1とまったく同様にア
ルミニウム板を処理した。このアルミニウム板の表面を
目視で観察したところ、ストリークが目立った。このア
ルミニウム板の表面をSEMで観察したところ、一辺の
長さ約0.5−1μmのハニカムピットが占める面積の
割合は約70%であった。 比較例2 実施例9(6)の塩酸を主体とする水溶液中での電気化
学的な粗面化処理を行なわない以外は実施例9とまった
く同様にアルミニウム板を処理した。このアルミニウム
板の表面を目視で観察したところ、ストリークが目立っ
た。
【0035】
【発明の効果】ストリーク、面質ムラと呼ぶ結晶粒の方
位差によるアルミ溶解速度の差に起因する処理ムラの発
生を伴わずアルミニウム板を粗面化し、良好な印刷適性
を有する印刷版を与える平版印刷版用アルミニウム支持
体を得ることができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】アルカリ水溶液中で電解研磨処理を実施するの
に適した装置の一例を示す概略図である。
【図2】交流を用いた電気化学的粗面化に用いる装置の
一例を示す概略図である。
【図3】交流を用いた電気化学的な粗面化処理に用いる
交流波形の一例を示す波形図である。
【符号の説明】
10 給電槽 11、55 電解液 12 陽極 13、24 給液ノズル 15、26 廃液口 20 電解研磨槽 21 陰極 27 直流電源 50 主電解槽 51 交流電源 53a,53b 主極 54 電解液供給口 w アルミニウム板
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 上杉 彰男 静岡県榛原郡吉田町川尻4000番地 富士写 真フイルム株式会社内

Claims (10)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 DC鋳造法から中間焼鈍処理または均熱
    処理または中間焼鈍処理と均熱処理を省いて製造された
    アルミニウム板、または、連続鋳造法から中間焼鈍処理
    を省いて製造されたアルミニウム板を、塩酸または硝酸
    を主体とする水溶液中で電気化学的に粗面化処理する工
    程を含むことを特徴とする平版印刷版用アルミニウム支
    持体の製造方法。
  2. 【請求項2】 電気化学的な粗面化でアルミニウム板が
    陽極反応に預かる電気量が10〜2000C/dm2である
    請求項1記載の平版印刷版用アルミニウム支持体の製造
    方法。
  3. 【請求項3】 請求項1または2に記載の方法によって
    製造された平版印刷版用アルミニウム支持体。
  4. 【請求項4】 走査型電子顕微鏡で観察したとき平均ピ
    ッチが0.01〜0.5μmのピットが占める面積の割
    合が80〜100%であり、平均表面粗さが0.3〜
    1.5μmである請求項3記載の平版印刷版用アルミニ
    ウム支持体。
  5. 【請求項5】 走査型電子顕微鏡で観察したとき平均直
    径が0.1〜3μmのハニカムピットが占める面積の割
    合が80〜100%であり、平均表面粗さが0.3〜
    1.5μmである請求項3記載の平版印刷版用アルミニ
    ウム支持体。
  6. 【請求項6】 アルミニウム板の表面をバフ研磨により
    鏡面仕上げし、アルカリエッチングし、酸性水溶液中で
    デスマット処理したアルミニウム板の表面をAFMで観
    察したとき、エッチング速度差により発生した段差が
    0.01μm以上0.5μm以下であるアルミニウム板
    を用いて、塩酸または硝酸を主体とする水溶液中で電気
    化学的に粗面化処理する工程を含むことを特徴とする平
    版印刷版用アルミニウム支持体の製造方法。
  7. 【請求項7】 電気化学的な粗面化でアルミニウム板が
    陽極反応に預かる電気量が10〜2000C/dm2である
    請求項6記載の平版印刷版用アルミニウム支持体の製造
    方法。
  8. 【請求項8】 請求項6または7に記載の方法によって
    製造された平版印刷版用アルミニウム支持体。
  9. 【請求項9】 走査型電子顕微鏡で観察したとき平均ピ
    ッチが0.01〜0.5μmのピットが占める面積の割
    合が80〜100%であり、平均表面粗さが0.3〜
    1.5μmである請求項8記載の平版印刷版用アルミニ
    ウム支持体。
  10. 【請求項10】 走査型電子顕微鏡で観察したとき平均
    直径が0.1〜3μmのハニカムピットが占める面積の
    割合が80〜100%であり、平均表面粗さが0.3〜
    1.5μmである請求項8記載の平版印刷版用アルミニ
    ウム支持体。
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