JPH1174687A

JPH1174687A - 電磁波シールド性光透過窓材

Info

Publication number: JPH1174687A
Application number: JP9258376A
Authority: JP
Inventors: Shinji Saito; 伸二斉藤; Masahito Yoshikawa; 雅人吉川; Yasuhiro Morimura; 泰大森村
Original assignee: Bridgestone Corp
Current assignee: Bridgestone Corp
Priority date: 1997-06-25
Filing date: 1997-09-24
Publication date: 1999-03-16

Abstract

(57)【要約】【課題】ＰＤＰ用電磁波シールドフィルタ等として好
適な、良好な電磁波シールド性能を有し、かつ光透過性
で鮮明な画像を得ることができ、製造が容易な電磁波シ
ールド性光透過窓材を提供する。【解決手段】透明基板２Ａに、パターンエッチングさ
れた金属膜３を形成したものをＥＶＡ４で透明基板２Ｂ
と接着一体化してなる電磁波シールド性光透過窓材１。【効果】パターンエッチングによれば金属膜を所望の
パターン形状にエッチングすることができることから、
線径や間隔、網目形状の自由度は導電性メッシュに比べ
て格段に大きい。このため、電磁波シールド性、光透過
性が共に良好でモアレ現象も起こることがない良好な電
磁波シールド性光透過窓材を実現することができる。予
め、透明基板にパターンエッチングされた金属膜を形成
しておくことで、通常の接着処理で容易に製造すること
ができる。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は電磁波シールド性光
透過窓材に係り、特に、良好な電磁波シールド性を備
え、かつ光透過性で、ＰＤＰ（プラズマディスプレーパ
ネル）の前面フィルタ等として有用な電磁波シールド性
光透過窓材に関する。

【０００２】

【従来の技術】近年、ＯＡ機器や通信機器等の普及にと
もない、これらの機器から発生する電磁波が問題視され
るようになっている。即ち、電磁波の人体への影響が懸
念され、また、電磁波による精密機器の誤作動等が問題
となっている。

【０００３】特に近年、平面大型ディスプレーとして商
品化されているＰＤＰは、その動作機構ゆえ、画面から
の電磁波放射が大きいため、電磁波シールド性を有し、
かつ光透過性の窓材が開発され、実用に供されている。
このような窓材はまた、携帯電話等の電磁波から精密機
器を保護するために、病院や研究室等の精密機器設置場
所の窓材としても利用されている。

【０００４】従来の電磁波シールド性光透過窓材は、主
に、金網のような導電性メッシュ材を、アクリル板等の
透明基板の間に介在させて一体化した構成とされてい
る。

【０００５】

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、導電性
メッシュを用いた従来の電磁波シールド性光透過窓材で
は、十分な電磁波シールド性を得るためには、メッシュ
の網目を相当細かくする必要があるが、この場合、ＯＡ
機器のＰＤＰの前面に格子状のものを置くことになるこ
とから、画像がにじんで見えるなどの現象が起こり、鮮
明な画像が得られない。また、ＰＤＰのドット数と、メ
ッシュの格子とで干渉縞（いわゆるモアレ）が発生し、
この現象によっても画像は見難いものとなる。

【０００６】しかも、導電性メッシュを用いる場合、基
板の貼り合せ工程において、基板間に薄いメッシュを挿
入しなければならないため、ハンドリングが煩雑な上、
貼り合せ条件の設定等も難しく、製造が容易ではないと
いう問題点もある。

【０００７】本発明は上記従来の問題点を解決し、ＰＤ
Ｐ用電磁波シールドフィルタ等として好適な、良好な電
磁波シールド性能を有し、かつ光透過性で鮮明な画像を
得ることができ、しかも製造が容易な電磁波シールド性
光透過窓材を提供するものである。

【０００８】

【課題を解決するための手段】本発明の電磁波シールド
性光透過窓材は、透明基板の板面に導電層を形成してな
る電磁波シールド性光透過窓材において、該導電層は、
透明基板の板面に形成された導電性の膜をパターンエッ
チングしたものであることを特徴とする。

【０００９】パターンエッチングによれば、導電性の膜
を所望のパターン形状にエッチングすることができるこ
とから、線径や間隔、網目形状の自由度は導電性メッシ
ュに比べて格段に大きい。

【００１０】このため、電磁波シールド性、光透過性が
共に良好でモアレ現象も起こることがないエッチング膜
を形成して良好な電磁波シールド性光透過窓材を実現す
ることができる。

【００１１】本発明の窓材は、少なくとも一方に上記導
電性の膜が形成された２枚の透明基板を接着樹脂により
接合一体化した構成とすることができる。

【００１２】このような電磁波シールド性光透過窓材
は、予めパターンエッチングされた導電性の膜を形成し
た透明基板を用いて、エチレン−酢酸ビニル共重合体
（ＥＶＡ）等の接着樹脂をシート成形した接着用フィル
ムを２枚の透明基板間に介在させて接着処理を行うこと
により、容易に製造することができる。

【００１３】この導電性の膜は、透明基板面に形成した
金属膜をフォトレジストのコーティング、パターン露光
及びエッチングの工程により所定パターンにエッチング
したものが好適である。

【００１４】また、本発明において、透明基板を接着さ
せる樹脂としては、エチレン−酢酸ビニル共重合体（Ｅ
ＶＡ）が好適である。

【００１５】

【発明の実施の形態】以下に図面を参照して本発明の電
磁波シールド性光透過窓材の実施の形態を詳細に説明す
る。

【００１６】図１は本発明の電磁波シールド性光透過窓
材の実施の形態を示す模式的な断面図であり、図２
（ａ）〜（ｆ）はエッチングパターンの実施例を示す平
面図である。

【００１７】図１の電磁波シールド性光透過窓材１は、
２枚の透明基板２Ａ，２Ｂを接着層４で接合一体化して
なるものであり、これら２枚の透明基板２Ａ，２Ｂのう
ち、透明基板２Ａの接着層４側にパターンエッチングさ
れた金属膜３が設けられている。

【００１８】透明基板２Ａ，２Ｂの構成材料としては、
ガラス、ポリエステル、ポリエチレンテレフタレート
（ＰＥＴ）、ポリブチレンテレフタレート、ポリメチル
メタアクリレート（ＰＭＭＡ）、アクリル板、ポリカー
ボネート（ＰＣ）、ポリスチレン、トリアセテートフィ
ルム、ポリビニルアルコール、ポリ塩化ビニル、ポリ塩
化ビニリデン、ポリエチレン、エチレン−酢酸ビニル共
重合体、ポリビニルブチラール、金属イオン架橋エチレ
ン−メタアクリル酸共重合体、ポリウレタン、セロファ
ン等、好ましくは、ガラス、ＰＥＴ、ＰＣ、ＰＭＭＡが
挙げられる。

【００１９】透明基板２Ａ，２Ｂの厚さは得られる窓材
の用途による要求特性（例えば、強度、軽量性）等によ
って適宜決定されるが、通常の場合、０．０５〜５ｍｍ
の範囲とされる。

【００２０】透明基板２Ａ，２Ｂは、必ずしも同材質で
ある必要はなく、例えば、ＰＤＰ前面フィルタのよう
に、表面側のみに耐傷付性や耐久性等が要求される場合
には、この表面側となる透明基板２Ａを厚さ１．０〜
４．０ｍｍ程度のガラス板とし、裏面側の透明基板２Ｂ
を厚さ０．０５〜０．３ｍｍ程度のＰＥＴ板等とするこ
ともできる。

【００２１】なお、この場合、表面側となる透明基板２
Ａには、酸化珪素等によるハードコート処理、ポリフッ
化ビニリデン系塗料等による防汚処理、二酸化珪素膜と
二酸化チタン膜の積層等によるＡＲ（反射防止）コート
処理、或いは光散乱材料を含むハードコートや表面が凹
凸形状をしたハードコート等によるアンチグレア加工等
を施し、また、裏面側となる透明基板２Ｂには、酸化亜
鉛や銀薄膜等の熱線反射コート等を施し、機能性を高め
ることができる。

【００２２】本発明に係る金属膜の金属としては、銅、
ステンレス、クロム、アルミニウム、ニッケル、鉄、真
鍮、或いはこれらの合金、好ましくは銅、ステンレス、
アルミニウム、クロムが用いられる。

【００２３】透明基板上に、このような金属膜を形成す
る方法としては、無電解めっき、真空蒸着、スパッタリ
ング、化学気相蒸着法等の方法を採用することができ
る。

【００２４】金属膜の厚さは、薄過ぎると電磁波シール
ド性が不足するので好ましくなく、厚過ぎると得られる
電磁波シールド性光透過窓材の厚さに影響を及ぼした
り、エッチング工程の所要時間が長くなることから、
０．０１〜５０μｍ程度とするのが好ましい。

【００２５】このような金属膜をパターンエッチングす
る方法は、一般に用いられているどのような方法でも構
わないが、レジストを用いるフォトエッチングが好まし
い。この場合、金属膜上にフォトレジストをコーティン
グした後、所望のマスクを用いるなどしてパターン露光
後、現像処理してレジストパターンを形成する。その
後、レジストのない部分の金属膜を塩化第一鉄液等のエ
ッチング液で除去すればよい。

【００２６】パターンエッチングによれば、パターンの
自由度が大きく、金属膜を任意の線径、間隔及び孔形状
にエッチングすることができ、従って、モアレ現象がな
く、所望の電磁波シールド性と光透過性を有する電磁波
シールド性光透過窓材を容易に形成することができる。

【００２７】本発明において、金属膜のエッチングパタ
ーンの形状には特に制限はなく、例えば図２（ａ），
（ｂ）に示すような四角形の孔Ｍが形成された格子状の
金属膜３Ａ，３Ｂ、図（ｃ），（ｄ），（ｅ），（ｆ）
に示すような円形、六角形、三角形又は楕円形の孔Ｍが
形成されたパンチングメタル状の金属膜３Ｃ，３Ｄ，３
Ｅ，３Ｆ等が挙げられる。また、このように孔Ｍが規則
的に並んだものの他、ランダムパターンとしてモアレ現
象を防止することもできる。

【００２８】電磁波シールド性と光透過性とを共に確保
するために、この金属膜の投影面における開口部分の面
積割合（以下「開口率」と称す。）は、２０〜９０％で
あることが好ましい。

【００２９】なお、光透過性の向上のために、この開口
率を大きくした場合、透明基板２Ａ又は２Ｂ、或いは、
透明基板２に透明導電膜を形成して金属膜による電磁波
シールド性の不足分を補うようにしても良い。

【００３０】図１では、金属膜３を透明基板２Ａの裏面
側に形成しているが、金属膜３は透明基板２Ｂの接着層
４側や接着層と反対側の表面側に形成しても良く、これ
らのうちの２箇所以上に形成しても良い。

【００３１】本発明において、透明基板２Ａ，２Ｂを接
着する接着層４の接着樹脂としては、エチレン−酢酸ビ
ニル共重合体、エチレン−アクリル酸メチル共重合体、
エチレン−（メタ）アクリル酸共重合体、エチレン−
（メタ）アクリル酸エチル共重合体、エチレン−（メ
タ）アクリル酸メチル共重合体、金属イオン架橋エチレ
ン−（メタ）アクリル酸共重合体、部分鹸化エチレン−
酢酸ビニル共重合体、カルボキシル化エチレン−酢酸ビ
ニル共重合体、エチレン−（メタ）アクリル−無水マレ
イン酸共重合体、エチレン−酢酸ビニル−（メタ）アク
リレート共重合体等のエチレン系共重合体が挙げられる
（なお、「（メタ）アクリル」は「アクリル又はメタク
リル」を示す。）。その他、ポリビニルブチラール（Ｐ
ＶＢ）樹脂、エポキシ樹脂、アクリル樹脂、フェノール
樹脂、シリコン樹脂、ポリエステル樹脂、ウレタン樹脂
等も用いることができるが、性能面で最もバランスがと
れ、使い易いのはエチレン−酢酸ビニル共重合体（ＥＶ
Ａ）である。また、耐衝撃性、耐貫通性、接着性、透明
性等の点から自動車用合せガラスで用いられているＰＶ
Ｂ樹脂も好適である。

【００３２】ＰＶＢ樹脂は、ポリビニルアセタール単位
が７０〜９５重量％、ポリ酢酸ビニル単位が１〜１５重
量％で、平均重合度が２００〜３０００、好ましくは３
００〜２５００であるものが好ましく、ＰＶＢ樹脂は可
塑剤を含む樹脂組成物として使用される。

【００３３】ＰＶＢ樹脂組成物の可塑剤としては、一塩
基酸エステル、多塩基酸エステル等の有機系可塑剤や燐
酸系可塑剤が挙げられる。

【００３４】一塩基酸エステルとしては、酪酸、イソ酪
酸、カプロン酸、２−エチル酪酸、ヘプタン酸、ｎ−オ
クチル酸、２−エチルヘキシル酸、ペラルゴン酸（ｎ−
ノニル酸）、デシル酸等の有機酸とトリエチレングリコ
ールとの反応によって得られるエステルが好ましく、よ
り好ましくは、トリエチレン−ジ−２−エチルブチレー
ト、トリエチレングリコール−ジ−２−エチルヘキソエ
ート、トリエチレングリコール−ジ−カプロネート、ト
リエチレングリコール−ジ−ｎ−オクトエート等であ
る。なお、上記有機酸とテトラエチレングリコール又は
トリプロピレングリコールとのエステルも使用可能であ
る。

【００３５】多塩基酸エステル系可塑剤としては、例え
ば、アジピン酸、セバチン酸、アゼライン酸等の有機酸
と炭素数４〜８の直鎖状又は分岐状アルコールとのエス
テルが好ましく、より好ましくは、ジブチルセバケー
ト、ジオクチルアゼレート、ジブチルカルビトールアジ
ペート等が挙げられる。

【００３６】燐酸系可塑剤としては、トリブトキシエチ
ルフォスフェート、イソデシルフェニルフォスフェー
ト、トリイソプロピルフォスフェート等が挙げられる。

【００３７】ＰＶＢ樹脂組成物において、可塑剤の量が
少ないと製膜性が低下し、多いと耐熱時の耐久性等が損
なわれるため、ポリビニルブチラール樹脂１００重量部
に対して可塑剤を５〜５０重量部、好ましくは１０〜４
０重量部とする。

【００３８】ＰＶＢ樹脂組成物には、更に劣化防止のた
めに、安定剤、酸化防止剤、紫外線吸収剤等の添加剤が
添加されていても良い。

【００３９】図１の電磁波シールド性光透過窓材１は、
予めパターンエッチングされた金属膜３が形成された透
明基板２Ａと透明基板２Ｂとの間に、ＥＶＡ等のエチレ
ン系共重合体に熱又は光硬化のための架橋剤を混合して
シート化した接着用フィルムを介在させ、減圧、加温下
に脱気して予備圧着した後、加熱又は光照射により接着
層を硬化させて一体化することにより容易に製造するこ
とができる。

【００４０】なお、接着層３の厚さは、電磁波シールド
性光透過窓材の用途等によっても異なるが、通常の場合
０．０５〜１．０ｍｍ程度とされる。従って、接着用フ
ィルムは、このような厚さの接着層が得られるように、
０．０５〜１．０ｍｍ厚さに成形される。

【００４１】以下に、エチレン系共重合体としてＥＶＡ
を用いた場合を例示して本発明に係る接着層についてよ
り詳細に説明する。

【００４２】ＥＶＡとしては酢酸ビニル含有量が５〜５
０重量％、好ましくは１５〜４０重量％のものが使用さ
れる。酢酸ビニル含有量が５重量％より少ないと耐候性
及び透明性に問題があり、また４０重量％を超すと機械
的性質が著しく低下する上に、成膜が困難となり、フィ
ルム相互のブロッキングが生ずる。

【００４３】架橋剤としては加熱架橋する場合は、有機
過酸化物が適当であり、シート加工温度、架橋温度、貯
蔵安定性等を考慮して選ばれる。使用可能な過酸化物と
しては、例えば２，５−ジメチルヘキサン−２，５−ジ
ハイドロパーオキサイド；２，５−ジメチル−２，５−
ジ（ｔ−ブチルパーオキシ）ヘキサン−３；ジーｔ−ブ
チルパーオキサイド；ｔ−ブチルクミルパーオキサイ
ド；２，５−ジメチル−２，５−ジ（ｔ−ブチルパーオ
キシ）ヘキサン；ジクミルパーオキサイド；α，α’−
ビス（ｔ−ブチルパーオキシイソプロピル）ベンゼン；
ｎ−ブチル−４，４−ビス（ｔ−ブチルパーオキシ）バ
レレート；２，２−ビス（ｔ−ブチルパーオキシ）ブタ
ン；１，１−ビス（ｔ−ブチルパーオキシ）シクロヘキ
サン；１，１−ビス（ｔ−ブチルパーオキシ）−３，
３，５−トリメチルシクロヘキサン；ｔ−ブチルパーオ
キシベンゾエート；ベンゾイルパーオキサイド；第３ブ
チルパーオキシアセテート；２，５−ジメチル−２，５
−ビス（第３ブチルパーオキシ）ヘキシン−３；１，１
−ビス（第３ブチルパーオキシ）−３，３，５−トリメ
チルシクロヘキサン；１，１−ビス（第３ブチルパーオ
キシ）シクロヘキサン；メチルエチルケトンパーオキサ
イド；２，５−ジメチルヘキシル−２，５−ビスパーオ
キシベンゾエート；第３ブチルハイドロパーオキサイ
ド；ｐ−メンタンハイドロパーオキサイド；ｐ−クロル
ベンゾイルパーオキサイド；第３ブチルパーオキシイソ
ブチレート；ヒドロキシヘプチルパーオキサイド；クロ
ルヘキサノンパーオキサイドなどが挙げられる。これら
の過酸化物は１種を単独で又は２種以上を混合して、通
常ＥＶＡ１００重量部に対して、５重量部以下、好まし
くは０．５〜５．０重量部の割合で使用される。

【００４４】有機過酸化物は通常ＥＶＡに対し押出機、
ロールミル等で混練されるが、有機溶媒、可塑剤、ビニ
ルモノマー等に溶解し、ＥＶＡのフィルムに含浸法によ
り添加しても良い。

【００４５】なお、ＥＶＡの物性（機械的強度、光学的
特性、接着性、耐候性、耐白化性、架橋速度など）改良
のために、各種アクリロキシ基又はメタクリロキシ基及
びアリル基含有化合物を添加することができる。この目
的で用いられる化合物としてはアクリル酸又はメタクリ
ル酸誘導体、例えばそのエステル及びアミドが最も一般
的であり、エステル残基としてはメチル、エチル、ドデ
シル、ステアリル、ラウリル等のアルキル基の他、シク
ロヘキシル基、テトラヒドロフルフリル基、アミノエチ
ル基、２−ヒドロキシエチル基、３−ヒドロキシプロピ
ル基、３−クロロ−２−ヒドロキシプロピル基などが挙
げられる。また、エチレングリコール、トリエチレング
リコール、ポリエチレングリコール、トリメチロールプ
ロパン、ペンタエリスリトール等の多官能アルコールと
のエステルを用いることもできる。アミドとしてはダイ
アセトンアクリルアミドが代表的である。

【００４６】より具体的には、トリメチロールプロパ
ン、ペンタエリスリトール、グリセリン等のアクリル又
はメタクリル酸エステル等の多官能エステルや、トリア
リルシアヌレート、トリアリルイソシアヌレート、フタ
ル酸ジアリル、イソフタル酸ジアリル、マレイン酸ジア
リル等のアリル基含有化合物が挙げられ、これらは１種
を単独で或いは２種以上を混合して、通常ＥＶＡ１００
重量部に対して０．１〜２重量部、好ましくは０．５〜
５重量部用いられる。

【００４７】ＥＶＡを光により架橋する場合、上記過酸
化物の代りに光増感剤が通常ＥＶＡ１００重量部に対し
て５重量部以下、好ましくは０．１〜３．０重量部使用
される。

【００４８】この場合、使用可能な光増感剤としては、
例えばベンゾイン、ベンゾフェノン、ベンゾインメチル
エーテル、ベンゾインエチルエーテル、ベンゾインイソ
プロピルエーテル、ベンゾインイソブチルエーテル、ジ
ベンジル、５−ニトロアセナフテン、ヘキサクロロシク
ロペンタジエン、ｐ−ニトロジフェニル、ｐ−ニトロア
ニリン、２，４，６−トリニトロアニリン、１，２−ベ
ンズアントラキノン、３−メチル−１，３−ジアザ−
１，９−ベンズアンスロンなどが挙げられ、これらは１
種を単独で或いは２種以上を混合して用いることができ
る。

【００４９】また、この場合、接着促進剤としてシラン
カップリング剤が併用される。このシランカップリング
剤としては、ビニルトリエトキシシラン、ビニルトリス
（β−メトキシエトキシ）シラン、γ−メタクリロキシ
プロピルトリメトキシシラン、ビニルトリアセトキシシ
ラン、γ−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、
γ−グリシドキシプロピルトリエトキシシラン、β−
（３，４−エポキシシクロヘキシル）エチルトリメトキ
シシラン、γ−クロロプロピルメトキシシラン、ビニル
トリクロロシラン、γ−メルカプトプロピルトリメトキ
シシラン、γ−アミノプロピルトリエトキシシラン、Ｎ
−β（アミノエチル）−γ−アミノプロピルトリメトキ
シシランなどが挙げられる。

【００５０】これらのシランカップリング剤は通常ＥＶ
Ａ１００重量部に対して０．００１〜１０重量部、好ま
しくは０．００１〜５重量部の割合で１種又は２種以上
が混合使用される。

【００５１】なお、本発明に係るＥＶＡ接着層には、そ
の他、紫外線吸収剤、赤外線吸収剤、老化防止剤、塗料
加工助剤、着色剤等を少量含んでいてもよく、また、場
合によってはカーボンブラック、疎水性シリカ、炭酸カ
ルシウム等の充填剤を少量含んでも良い。

【００５２】また、接着性改良の手段として、シート化
されたＥＶＡ接着フィルム面へのコロナ放電処理、低温
プラズマ処理、電子線照射、紫外光照射などの手段も有
効である。

【００５３】本発明に係るＥＶＡ接着用フィルムは、Ｅ
ＶＡと上述の添加剤とを混合し、押出機、ロール等で混
練した後、カレンダー、ロール、Ｔダイ押出、インフレ
ーション等の成膜法により所定の形状にシート成形する
ことにより製造される。成膜に際してはブロッキング防
止、透明基板との圧着時の脱気を容易にするためエンボ
スが付与される。

【００５４】このような本発明の電磁波シールド性光透
過窓材は、ＰＤＰの前面フィルタとして、或いは、病院
や研究室等の精密機器設置場所の窓材等として有効に利
用可能である。

【００５５】

【実施例】以下に実施例及び比較例を挙げて本発明をよ
り具体的に説明する。

【００５６】なお、実施例及び比較例で用いた接着用フ
ィルムは、次のようにして製造した。

【００５７】接着用フィルムの製造エチレン−酢酸ビニル共重合体（東洋曹逹社製ウルトラ
セン６３４：酢酸ビニル含量２６％、メルトインデック
ス４）１００重量部に、１，１−ビス（ｔ−ブチルパー
オキシ）−３，３，５−トリメチルシクロヘキサン（日
本油脂社製パーヘキサ３Ｍ）１重量部、γ−メタクリロ
キシプロピルトリメトキシシラン０．１重量部、ジアリ
ルフタレート２重量部、及び紫外線吸収剤としてスミソ
ルブ１３０（住友化学工業社製）０．５重量部とを混合
し、４０ｍｍ押出機にて０．２ｍｍ厚さの両面エンボス
の接着用フィルムを作製した。

【００５８】実施例１，２表面側透明基板２Ａとして厚さ３．０ｍｍのガラス板を
用意し、このガラス板の一方の面に、表１に示す金属の
金属膜を表１に示す厚さに形成した後、表１に示すパタ
ーンにパターンエッチングした。また、裏面側透明基板
２Ｂとして厚さ０．１ｍｍのＰＥＴシートを用い、これ
ら透明基板２Ａ，２Ｂ間に、接着用フィルムを介在さ
せ、これを、ゴム袋に入れて真空脱気し、８５℃の温度
で１５分加熱して予備圧着した。その後、この予備圧着
体をオーブン中に入れ、１５０℃の条件下で１５分間加
熱処理し、架橋硬化させて一体化した。

【００５９】得られた窓材について下記方法により、３
０ＭＨｚ〜３００ＭＨｚにおける電磁波シールド性、光
透過率及び視認性（モアレ現象の有無）を調べ、結果を
表１に示した。

【００６０】電磁波シールド性ＫＥＣ法（関西電子工業振興センター）に準拠したアン
リツ社製ＥＭＩシールド測定装置（ＭＡ８６０２Ｂ）を
用いて電界の減衰測定を行った。サンプルの大きさは９
０ｍｍ×１１０ｍｍであった。光透過率（％）日立製可視紫外光分光測定装置（Ｕ−４０００）を用
い、３８０ｎｍ〜７８０ｎｍ間の平均可視光透過率を求
めた。視認性ディスプレイ上に設置し、画面に干渉縞模様が発生する
か否かを目視で観察した。

【００６１】比較例１実施例１において、透明基板２Ａに金属膜を形成せずに
接合一体化したこと以外は同様にして光透過窓材を作製
し、同様にその特性を調べ、結果を表２に示した。

【００６２】比較例２，３実施例１において、透明基板２Ａに金属膜を形成せず、
表２に示す銅金網を２枚の透明基板間に介在させて接合
一体化したこと以外は同様にして電磁波シールド性光透
過窓材を作製し、同様にその特性を調べ、結果を表２に
示した。

【００６３】

【表１】

【００６４】

【表２】

【００６５】表１、２より本発明によれば良好な電磁波
シールド性光透過窓材が提供されることがわかる。

【００６６】

【発明の効果】以上詳述した通り、本発明の電磁波シー
ルド性光透過窓材は、導電性の膜のパターンエッチングの形状を選択する
ことにより、所望の電磁波シールド性と光透過性を得る
ことができる。導電性メッシュを用いた場合のモアレ現象等を防止
して鮮明な画像を得ることができる。透明基板に予めパターンエッチングされた導電性の
膜を形成しておくことにより、通常の接着処理で容易に
製造することができる。等の優れた効果を奏し、ＰＤＰ用電磁波シールドフィル
タ等として工業的に極めて有用である。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の電磁波シールド性光透過窓材の実施の
形態を示す模式的な断面図である。

【図２】エッチングパターンの実施例を示す平面図であ
る。

【符号の説明】

１電磁波シールド性光透過窓材２Ａ，２Ｂ透明基板３金属膜４接着層

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.⁶ 識別記号ＦＩＨ０１Ｊ 11/02 Ｈ０１Ｊ 11/02 Ｚ 17/16 17/16

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】透明基板の板面に導電層を形成してなる
電磁波シールド性光透過窓材において、該導電層は、透明基板の板面に形成された導電性の膜を
パターンエッチングしたものであることを特徴とする電
磁波シールド性光透過窓材。
【請求項２】請求項１において、該窓材は、２枚の透
明基板を接着樹脂により接合一体化してなり、少なくと
も一方の透明基板に前記導電層が形成されていることを
特徴とする電磁波シールド性光透過窓材。
【請求項３】請求項１又は２のいずれか１項におい
て、前記導電性の膜は金属膜であり、フォトレジストの
コーティング、パターン露光及びエッチングの工程によ
り所定パターンにエッチングされたものであることを特
徴とする電磁波シールド性光透過窓材。
【請求項４】請求項２又は３において、前記接着樹脂
はエチレン−酢酸ビニル共重合体であることを特徴とす
る電磁波シールド性光透過窓材。