JPH1174686A - 電磁波シールド性光透過窓材 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 ＰＤＰ用電磁波シールドフィルタ等として好
適な、良好な電磁波シールド性能を有し、かつ光透過性
で鮮明な画像を得ることができる電磁波シールド性光透
過窓材を提供する。 【解決手段】 透明基板２Ａ，２Ｂに、パターンエッチ
ングされた金属箔３をＥＶＡ４Ａ，４Ｂで接着してなる
電磁波シールド性光透過窓材１。 【効果】 パターンエッチングによれば金属箔を所望の
パターン形状にエッチングすることができることから、
線径や間隔、網目形状の自由度は導電性メッシュに比べ
て格段に大きい。このため、電磁波シールド性、光透過
性が共に良好でモアレ現象も起こることがないエッチン
グ箔を用いて良好な電磁波シールド性光透過窓材を実現
することができる。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は電磁波シールド性光
透過窓材に係り、特に、良好な電磁波シールド性を備
え、かつ光透過性で、ＰＤＰ（プラズマディスプレーパ
ネル）の前面フィルタ等として有用な電磁波シールド性
光透過窓材に関する。

【０００２】

【従来の技術】近年、ＯＡ機器や通信機器等の普及にと
もない、これらの機器から発生する電磁波が問題視され
るようになっている。即ち、電磁波の人体への影響が懸
念され、また、電磁波による精密機器の誤作動等が問題
となっている。

【０００３】特に近年、平面大型ディスプレーとして商
品化されているＰＤＰは、その動作機構ゆえ、画面から
の電磁波放射が大きいため、電磁波シールド性を有し、
かつ光透過性の窓材が開発され、実用に供されている。
このような窓材はまた、携帯電話等の電磁波から精密機
器を保護するために、病院や研究室等の精密機器設置場
所の窓材としても利用されている。

【０００４】従来の電磁波シールド性光透過窓材は、主
に、金網のような導電性メッシュ材を、アクリル板等の
透明基板の間に介在させて一体化した構成とされてい
る。

【０００５】

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、導電性
メッシュを用いた従来の電磁波シールド性光透過窓材で
は、十分な電磁波シールド性を得るためには、メッシュ
の網目を相当細かくする必要があるが、その場合、ＯＡ
機器のＰＤＰの前面に格子状のものを置くことになるこ
とから、画像がにじんで見えるなどの現象が起こり、鮮
明な画像が得られない。また、ＰＤＰのドット数と、メ
ッシュの格子とで干渉縞（いわゆるモアレ）が発生し、
この現象によっても画像は見難いものとなる。

【０００６】本発明は上記従来の問題点を解決し、ＰＤ
Ｐ用電磁波シールドフィルタ等として好適な、良好な電
磁波シールド性能を有し、かつ光透過性で鮮明な画像を
得ることができる電磁波シールド性光透過窓材を提供す
るものである。

【０００７】

【課題を解決するための手段】本発明の電磁波シールド
性光透過窓材は、透明基板の板面に導電層を樹脂で接着
させた電磁波シールド性光透過窓材において、該導電層
は、導電性の箔をパターンエッチングしたものであるこ
とを特徴とする。

【０００８】パターンエッチングによれば、導電性の箔
を所望のパターン形状にエッチングすることができるこ
とから、線径や間隔、網目形状の自由度は導電性メッシ
ュに比べて格段に大きい。

【０００９】このため、電磁波シールド性、光透過性が
共に良好でモアレ現象も起こることがないエッチング箔
を用いて良好な電磁波シールド性光透過窓材を実現する
ことができる。

【００１０】本発明において、導電層は２枚の透明基板
の間に介在させた構成とすることができる。また、導電
層は１枚の透明基板の一方の板面に沿って設けるように
することもできる。

【００１１】この導電性の箔は、金属箔をフォトレジス
トのコーティング、パターン露光及びエッチングの工程
により所定パターンにエッチングしたものが好適であ
る。

【００１２】また、本発明において、導電層を接着させ
る樹脂としては、エチレン−酢酸ビニル共重合体（ＥＶ
Ａ）が好適である。

【００１３】

【発明の実施の形態】以下に図面を参照して本発明の電
磁波シールド性光透過窓材の実施の形態を詳細に説明す
る。

【００１４】図１（ａ），（ｂ）は本発明の電磁波シー
ルド性光透過窓材の実施の形態を示す模式的な断面図で
あり、図２（ａ）〜（ｆ）はエッチングパターンの実施
例を示す平面図である。

【００１５】図１（ａ）の電磁波シールド性光透過窓材
１は、２枚の透明基板２Ａ，２Ｂを、導電性の箔として
金属箔３を挟み、接着層４Ａ，４Ｂで接合一体化してな
るものである。

【００１６】図１（ｂ）の電磁波シールド性光透過窓材
１Ａは、１枚の透明基板２の一方の面に接着層４で金属
箔３を接着したものである。

【００１７】透明基板２Ａ，２Ｂの構成材料としては、
ガラス、ポリエステル、ポリエチレンテレフタレート
（ＰＥＴ）、ポリブチレンテレフタレート、ポリメチル
メタアクリレート（ＰＭＭＡ）、アクリル板、ポリカー
ボネート（ＰＣ）、ポリスチレン、トリアセテートフィ
ルム、ポリビニルアルコール、ポリ塩化ビニル、ポリ塩
化ビニリデン、ポリエチレン、エチレン−酢酸ビニル共
重合体、ポリビニルブチラール、金属イオン架橋エチレ
ン−メタアクリル酸共重合体、ポリウレタン、セロファ
ン等、好ましくは、ガラス、ＰＥＴ、ＰＣ、ＰＭＭＡが
挙げられる。

【００１８】透明基板２Ａ，２Ｂの厚さは得られる窓材
の用途による要求特性（例えば、強度、軽量性）等によ
って適宜決定されるが、通常の場合、０．０５〜５ｍｍ
の範囲とされる。

【００１９】透明基板２Ａ，２Ｂは、必ずしも同材質で
ある必要はなく、例えば、ＰＤＰ前面フィルタのよう
に、表面側のみに耐傷付性や耐久性等が要求される場合
には、この表面側となる透明基板２Ａを厚さ１．０〜
４．０ｍｍ程度のガラス板とし、裏面側の透明基板２Ｂ
を厚さ０．０５〜０．３ｍｍ程度のＰＥＴ板等とするこ
ともできる。

【００２０】なお、この場合、表面側となる透明基板２
Ａには、酸化珪素等によるハードコート処理、ポリフッ
化ビニリデン系塗料等による防汚処理、二酸化珪素膜と
二酸化チタン膜の積層等によるＡＲ（反射防止）コート
処理、或いは光散乱材料を含むハードコートや表面が凹
凸形状をしたハードコート等によるアンチグレア加工等
を施し、また、裏面側となる透明基板２Ｂには、酸化亜
鉛や銀薄膜等の熱線反射コート等を施し、機能性を高め
ることができる。

【００２１】図１（ｂ）の構成において、透明基板２と
しては、図１（ａ）の表面側の透明基板２Ａと同様のも
のを用いることができる。

【００２２】本発明に係る金属箔の金属としては、銅、
ステンレス、アルミニウム、ニッケル、鉄、真鍮、或い
はこれらの合金、好ましくは銅、ステンレス、アルミニ
ウムが用いられる。

【００２３】金属箔の厚さは、薄過ぎると取り扱い性や
パターンエッチングの作業性等の面で好ましくなく、厚
過ぎると得られる電磁波シールド性光透過窓材の厚さに
影響を及ぼしたり、エッチング工程の所要時間が長くな
ることから、１〜２００μｍ程度とするのが好ましい。

【００２４】このような金属をパターンエッチングする
方法は、一般に用いられているどのような方法でも構わ
ないが、レジストを用いるフォトエッチングが好まし
い。この場合、金属箔上にフォトレジストをコーティン
グした後、所望のマスクを用いるなどしてパターン露光
後、現像処理してレジストパターンを形成する。その
後、レジストのない部分の金属箔を塩化第二鉄液等のエ
ッチング液で除去すればよい。

【００２５】パターンエッチングによれば、パターンの
自由度が大きく、金属箔を任意の線径、間隔及び孔形状
にエッチングすることができ、従って、モアレ現象がな
く、所望の電磁波シールド性と光透過性を有する電磁波
シールド性光透過窓材を容易に形成することができる。

【００２６】本発明において、金属箔のエッチングパタ
ーンの形状には特に制限はなく、例えば図２（ａ），
（ｂ）に示すような四角形の孔Ｍが形成された格子状の
金属箔３Ａ，３Ｂ、図（ｃ），（ｄ），（ｅ），（ｆ）
に示すような円形、六角形、三角形又は楕円形の孔Ｍが
形成されたパンチングメタル状の金属箔３Ｃ，３Ｄ，３
Ｅ，３Ｆ等が挙げられる。また、このように孔Ｍが規則
的に並んだものの他、ランダムパターンとしてモアレ現
象を防止することもできる。

【００２７】電磁波シールド性と光透過性とを共に確保
するために、この金属箔の投影面における開口部分の面
積割合（以下「開口率」と称す。）は、２０〜９０％で
あることが好ましい。

【００２８】なお、光透過性の向上のために、この開口
率を大きくした場合、透明基板２Ａ又は２Ｂ、或いは、
透明基板２に透明導電膜を形成して金属箔による電磁波
シールド性の不足分を補うようにしても良い。

【００２９】このような金属箔３を透明基板２Ａ，２
Ｂ，２に接着する接着層４Ａ，４Ｂ，４の接着樹脂とし
ては、エチレン−酢酸ビニル共重合体、エチレン−アク
リル酸メチル共重合体、エチレン−（メタ）アクリル酸
共重合体、エチレン−（メタ）アクリル酸エチル共重合
体、エチレン−（メタ）アクリル酸メチル共重合体、金
属イオン架橋エチレン−（メタ）アクリル酸共重合体、
部分鹸化エチレン−酢酸ビニル共重合体、カルボキシル
化エチレン−酢酸ビニル共重合体、エチレン−（メタ）
アクリル−無水マレイン酸共重合体、エチレン−酢酸ビ
ニル−（メタ）アクリレート共重合体等のエチレン系共
重合体が挙げられる（なお、「（メタ）アクリル」は
「アクリル又はメタクリル」を示す。）。その他、ポリ
ビニルブチラール（ＰＶＢ）樹脂、エポキシ樹脂、アク
リル樹脂、フェノール樹脂、シリコン樹脂、ポリエステ
ル樹脂、ウレタン樹脂等も用いることができるが、性能
面で最もバランスがとれ、使い易いのはエチレン−酢酸
ビニル共重合体（ＥＶＡ）である。また、耐衝撃性、耐
貫通性、接着性、透明性等の点から自動車用合せガラス
で用いられているＰＶＢ樹脂も好適である。

【００３０】ＰＶＢ樹脂は、ポリビニルアセタール単位
が７０〜９５重量％、ポリ酢酸ビニル単位が１〜１５重
量％で、平均重合度が２００〜３０００、好ましくは３
００〜２５００であるものが好ましく、ＰＶＢ樹脂は可
塑剤を含む樹脂組成物として使用される。

【００３１】ＰＶＢ樹脂組成物の可塑剤としては、一塩
基酸エステル、多塩基酸エステル等の有機系可塑剤や燐
酸系可塑剤が挙げられる。

【００３２】一塩基酸エステルとしては、酪酸、イソ酪
酸、カプロン酸、２−エチル酪酸、ヘプタン酸、ｎ−オ
クチル酸、２−エチルヘキシル酸、ペラルゴン酸（ｎ−
ノニル酸）、デシル酸等の有機酸とトリエチレングリコ
ールとの反応によって得られるエステルが好ましく、よ
り好ましくは、トリエチレン−ジ−２−エチルブチレー
ト、トリエチレングリコール−ジ−２−エチルヘキソエ
ート、トリエチレングリコール−ジ−カプロネート、ト
リエチレングリコール−ジ−ｎ−オクトエート等であ
る。なお、上記有機酸とテトラエチレングリコール又は
トリプロピレングリコールとのエステルも使用可能であ
る。

【００３３】多塩基酸エステル系可塑剤としては、例え
ば、アジピン酸、セバチン酸、アゼライン酸等の有機酸
と炭素数４〜８の直鎖状又は分岐状アルコールとのエス
テルが好ましく、より好ましくは、ジブチルセバケー
ト、ジオクチルアゼレート、ジブチルカルビトールアジ
ペート等が挙げられる。

【００３４】燐酸系可塑剤としては、トリブトキシエチ
ルフォスフェート、イソデシルフェニルフォスフェー
ト、トリイソプロピルフォスフェート等が挙げられる。

【００３５】ＰＶＢ樹脂組成物において、可塑剤の量が
少ないと製膜性が低下し、多いと耐熱時の耐久性等が損
なわれるため、ポリビニルブチラール樹脂１００重量部
に対して可塑剤を５〜５０重量部、好ましくは１０〜４
０重量部とする。

【００３６】ＰＶＢ樹脂組成物には、更に劣化防止のた
めに、安定剤、酸化防止剤、紫外線吸収剤等の添加剤が
添加されていても良い。

【００３７】図１（ａ）の電磁波シールド性光透過窓材
１は、ＥＶＡ等のエチレン系共重合体に熱又は光硬化の
ための架橋剤を混合してシート化した２枚の接着用フィ
ルム間にパターンエッチングした金属箔３を挟み、これ
を透明基板２Ａ，２Ｂ間に介在させ、減圧、加温下に脱
気して予備圧着した後、加熱又は光照射により接着層を
硬化させて一体化することにより容易に製造することが
できる。

【００３８】また、図１（ｂ）の電磁波シールド性光透
過窓材１Ａは、透明基板２と、上述のような接着用フィ
ルムとパターンエッチングした金属箔３とを積層し、上
記と同様に硬化一体化させることにより容易に製造する
ことができる。

【００３９】なお、接着層４Ａ，４Ｂ，４の厚さは、電
磁波シールド性光透過窓材の用途等によっても異なる
が、通常の場合０．０５〜１．０ｍｍ程度とされる。従
って、接着用フィルムは、このような厚さの接着層が得
られるように、０．０５〜１．０ｍｍ厚さに成形され
る。

【００４０】以下に、エチレン系共重合体としてＥＶＡ
を用いた場合を例示して本発明に係る接着層についてよ
り詳細に説明する。

【００４１】ＥＶＡとしては酢酸ビニル含有量が５〜５
０重量％、好ましくは１５〜４０重量％のものが使用さ
れる。酢酸ビニル含有量が５重量％より少ないと耐候性
及び透明性に問題があり、また４０重量％を超すと機械
的性質が著しく低下する上に、成膜が困難となり、フィ
ルム相互のブロッキングが生ずる。

【００４２】架橋剤としては加熱架橋する場合は、有機
過酸化物が適当であり、シート加工温度、架橋温度、貯
蔵安定性等を考慮して選ばれる。使用可能な過酸化物と
しては、例えば２，５−ジメチルヘキサン−２，５−ジ
ハイドロパーオキサイド；２，５−ジメチル−２，５−
ジ（ｔ−ブチルパーオキシ）ヘキサン−３；ジーｔ−ブ
チルパーオキサイド；ｔ−ブチルクミルパーオキサイ
ド；２，５−ジメチル−２，５−ジ（ｔ−ブチルパーオ
キシ）ヘキサン；ジクミルパーオキサイド；α，α’−
ビス（ｔ−ブチルパーオキシイソプロピル）ベンゼン；
ｎ−ブチル−４，４−ビス（ｔ−ブチルパーオキシ）バ
レレート；２，２−ビス（ｔ−ブチルパーオキシ）ブタ
ン；１，１−ビス（ｔ−ブチルパーオキシ）シクロヘキ
サン；１，１−ビス（ｔ−ブチルパーオキシ）−３，
３，５−トリメチルシクロヘキサン；ｔ−ブチルパーオ
キシベンゾエート；ベンゾイルパーオキサイド；第３ブ
チルパーオキシアセテート；２，５−ジメチル−２，５
−ビス（第３ブチルパーオキシ）ヘキシン−３；１，１
−ビス（第３ブチルパーオキシ）−３，３，５−トリメ
チルシクロヘキサン；１，１−ビス（第３ブチルパーオ
キシ）シクロヘキサン；メチルエチルケトンパーオキサ
イド；２，５−ジメチルヘキシル−２，５−ビスパーオ
キシベンゾエート；第３ブチルハイドロパーオキサイ
ド；ｐ−メンタンハイドロパーオキサイド；ｐ−クロル
ベンゾイルパーオキサイド；第３ブチルパーオキシイソ
ブチレート；ヒドロキシヘプチルパーオキサイド；クロ
ルヘキサノンパーオキサイドなどが挙げられる。これら
の過酸化物は１種を単独で又は２種以上を混合して、通
常ＥＶＡ１００重量部に対して、５重量部以下、好まし
くは０．５〜５．０重量部の割合で使用される。

【００４３】有機過酸化物は通常ＥＶＡに対し押出機、
ロールミル等で混練されるが、有機溶媒、可塑剤、ビニ
ルモノマー等に溶解し、ＥＶＡのフィルムに含浸法によ
り添加しても良い。

【００４４】なお、ＥＶＡの物性（機械的強度、光学的
特性、接着性、耐候性、耐白化性、架橋速度など）改良
のために、各種アクリロキシ基又はメタクリロキシ基及
びアリル基含有化合物を添加することができる。この目
的で用いられる化合物としてはアクリル酸又はメタクリ
ル酸誘導体、例えばそのエステル及びアミドが最も一般
的であり、エステル残基としてはメチル、エチル、ドデ
シル、ステアリル、ラウリル等のアルキル基の他、シク
ロヘキシル基、テトラヒドロフルフリル基、アミノエチ
ル基、２−ヒドロキシエチル基、３−ヒドロキシプロピ
ル基、３−クロロ−２−ヒドロキシプロピル基などが挙
げられる。また、エチレングリコール、トリエチレング
リコール、ポリエチレングリコール、トリメチロールプ
ロパン、ペンタエリスリトール等の多官能アルコールと
のエステルを用いることもできる。アミドとしてはダイ
アセトンアクリルアミドが代表的である。

【００４５】より具体的には、トリメチロールプロパ
ン、ペンタエリスリトール、グリセリン等のアクリル又
はメタクリル酸エステル等の多官能エステルや、トリア
リルシアヌレート、トリアリルイソシアヌレート、フタ
ル酸ジアリル、イソフタル酸ジアリル、マレイン酸ジア
リル等のアリル基含有化合物が挙げられ、これらは１種
を単独で或いは２種以上を混合して、通常ＥＶＡ１００
重量部に対して０．１〜２重量部、好ましくは０．５〜
５重量部用いられる。

【００４６】ＥＶＡを光により架橋する場合、上記過酸
化物の代りに光増感剤が通常ＥＶＡ１００重量部に対し
て５重量部以下、好ましくは０．１〜３．０重量部使用
される。

【００４７】この場合、使用可能な光増感剤としては、
例えばベンゾイン、ベンゾフェノン、ベンゾインメチル
エーテル、ベンゾインエチルエーテル、ベンゾインイソ
プロピルエーテル、ベンゾインイソブチルエーテル、ジ
ベンジル、５−ニトロアセナフテン、ヘキサクロロシク
ロペンタジエン、ｐ−ニトロジフェニル、ｐ−ニトロア
ニリン、２，４，６−トリニトロアニリン、１，２−ベ
ンズアントラキノン、３−メチル−１，３−ジアザ−
１，９−ベンズアンスロンなどが挙げられ、これらは１
種を単独で或いは２種以上を混合して用いることができ
る。

【００４８】また、この場合、接着促進剤としてシラン
カップリング剤が併用される。このシランカップリング
剤としては、ビニルトリエトキシシラン、ビニルトリス
（β−メトキシエトキシ）シラン、γ−メタクリロキシ
プロピルトリメトキシシラン、ビニルトリアセトキシシ
ラン、γ−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、
γ−グリシドキシプロピルトリエトキシシラン、β−
（３，４−エポキシシクロヘキシル）エチルトリメトキ
シシラン、γ−クロロプロピルメトキシシラン、ビニル
トリクロロシラン、γ−メルカプトプロピルトリメトキ
シシラン、γ−アミノプロピルトリエトキシシラン、Ｎ
−β（アミノエチル）−γ−アミノプロピルトリメトキ
シシランなどが挙げられる。

【００４９】これらのシランカップリング剤は通常ＥＶ
Ａ１００重量部に対して０．００１〜１０重量部、好ま
しくは０．００１〜５重量部の割合で１種又は２種以上
が混合使用される。

【００５０】なお、本発明に係るＥＶＡ接着層には、そ
の他、紫外線吸収剤、赤外線吸収剤、老化防止剤、塗料
加工助剤、着色剤等を少量含んでいてもよく、また、場
合によってはカーボンブラック、疎水性シリカ、炭酸カ
ルシウム等の充填剤を少量含んでも良い。

【００５１】また、接着性改良の手段として、シート化
されたＥＶＡ接着フィルム面へのコロナ放電処理、低温
プラズマ処理、電子線照射、紫外光照射などの手段も有
効である。

【００５２】本発明に係るＥＶＡ接着用フィルムは、Ｅ
ＶＡと上述の添加剤とを混合し、押出機、ロール等で混
練した後、カレンダー、ロール、Ｔダイ押出、インフレ
ーション等の成膜法により所定の形状にシート成形する
ことにより製造される。成膜に際してはブロッキング防
止、透明基板との圧着時の脱気を容易にするためエンボ
スが付与される。

【００５３】このような本発明の電磁波シールド性光透
過窓材は、ＰＤＰの前面フィルタとして、或いは、病院
や研究室等の精密機器設置場所の窓材等として有効に利
用可能である。

【００５４】

【実施例】以下に実施例及び比較例を挙げて本発明をよ
り具体的に説明する。

【００５５】なお、実施例及び比較例で用いた接着用フ
ィルムは、次のようにして製造した。

【００５６】接着用フィルムの製造 エチレン−酢酸ビニル共重合体（東洋曹逹社製ウルトラ
セン６３４：酢酸ビニル含量２６％、メルトインデック
ス４）１００重量部に、１，１−ビス（ｔ−ブチルパー
オキシ）−３，３，５−トリメチルシクロヘキサン（日
本油脂社製パーヘキサ３Ｍ）１重量部、γ−メタクリロ
キシプロピルトリメトキシシラン０．１重量部、ジアリ
ルフタレート２重量部、及び紫外線吸収剤としてスミソ
ルブ１３０（住友化学工業社製）０．５重量部とを混合
し、４０ｍｍ押出機にて０．２ｍｍ厚さの両面エンボス
の接着用フィルムを作製した。

【００５７】実施例１，２ 表面側透明基板２Ａとして厚さ３．０ｍｍのガラス板を
用い、裏面側透明基板２Ｂとして厚さ０．１ｍｍのＰＥ
Ｔシートを用い、これらの間に、２枚の接着用フィルム
の間に表１に示す金属箔を挟んだものを介在させ、これ
を、ゴム袋に入れて真空脱気し、８５℃の温度で１５分
加熱して予備圧着した。その後、この予備圧着体をオー
ブン中に入れ、１５０℃の条件下で１５分間加熱処理
し、架橋硬化させて一体化した。

【００５８】得られた窓材について下記方法により、３
０ＭＨｚ〜３００ＭＨｚにおける電磁波シールド性、光
透過率及び視認性（モアレの現象の有無）を調べ、結果
を表１に示した。

【００５９】電磁波シールド性 ＫＥＣ法（関西電子工業振興センター）に準拠したアン
リツ社製ＥＭＩシールド測定装置（ＭＡ８６０２Ｂ）を
用いて電界の減衰測定を行った。サンプルの大きさは９
０ｍｍ×１１０ｍｍであった。光透過率（％） 日立製可視紫外光分光測定装置（Ｕ−４０００）を用
い、３８０ｎｍ〜７８０ｎｍ間の平均可視光透過率を求
めた。視認性ディスプレイ上に設置し、画面に干渉縞模
様が発生するか否かを目視で観察した。

【００６０】比較例１〜３ 実施例１において、パターンエッチングされた金属箔を
用いないか、或いは、金属箔の代りに、表２に示す金属
メッシュを用いたこと以外は同様にして電磁波シールド
性光透過窓材を作製し、同様にその特性を調べ、結果を
表２に示した。

【００６１】

【表１】

【００６２】

【表２】

【００６３】表１，２より本発明によれば良好な電磁波
シールド性光透過窓材が提供されることがわかる。

【００６４】

【発明の効果】以上詳述した通り、本発明の電磁波シー
ルド性光透過窓材は、 導電性の箔のパターンエッチングの形状を選択する
ことにより、所望の電磁波シールド性と光透過性を得る
ことができる。 導電性メッシュを用いた場合のモアレ現象等を防止
して鮮明な画像を得ることができる。 等の優れた効果を奏し、ＰＤＰ用電磁波シールドフィル
タ等として工業的に極めて有用である。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の電磁波シールド性光透過窓材の実施の
形態を示す模式的な断面図である。

【図２】エッチングパターンの実施例を示す平面図であ
る。

【符号の説明】

１，１Ａ 電磁波シールド性光透過窓材 ２，２Ａ，２Ｂ 透明基板 ３，３Ａ，３Ｂ，３Ｃ，３Ｄ，３Ｅ，３Ｆ 金属箔 ４，４Ａ，４Ｂ 接着層

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.⁶ 識別記号 ＦＩ Ｈ０１Ｊ 11/02 Ｈ０１Ｊ 11/02 Ｚ 17/16 17/16

Claims (5)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 透明基板の板面に導電層を樹脂で接着さ
   せた電磁波シールド性光透過窓材において、 該導電層は、導電性の箔をパターンエッチングしたもの
   であることを特徴とする電磁波シールド性光透過窓材。
2. 【請求項２】 請求項１において、前記導電層は２枚の
   透明基板の間に介在されていることを特徴とする電磁波
   シールド性光透過窓材。
3. 【請求項３】 請求項１において、前記導電層は１枚の
   透明基板の一方の板面に沿って設けられていることを特
   徴とする電磁波シールド性光透過窓材。
4. 【請求項４】 請求項１ないし３のいずれか１項におい
   て、前記箔は金属箔であり、フォトレジストのコーティ
   ング、パターン露光及びエッチングの工程により所定パ
   ターンにエッチングされたものであることを特徴とする
   電磁波シールド性光透過窓材。
5. 【請求項５】 請求項１ないし４のいずれか１項におい
   て、前記樹脂はエチレン−酢酸ビニル共重合体であるこ
   とを特徴とする電磁波シールド性光透過窓材。