JPH1172601A - 多層光学製品の作製方法及び多層光学製品を有するシステム - Google Patents

多層光学製品の作製方法及び多層光学製品を有するシステム

Info

Publication number
JPH1172601A
JPH1172601A JP10152477A JP15247798A JPH1172601A JP H1172601 A JPH1172601 A JP H1172601A JP 10152477 A JP10152477 A JP 10152477A JP 15247798 A JP15247798 A JP 15247798A JP H1172601 A JPH1172601 A JP H1172601A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
substrate
holder
adhesive
flatness
product
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP10152477A
Other languages
English (en)
Inventor
Scott Patrick Campbell
パトリック キャンベル スコット
Loewe Harris Alexander
ローウェ ハリス アレキサンダー
James Levinos Nicholas
ジェームス レヴィノス ニコラス
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Nokia of America Corp
Original Assignee
Lucent Technologies Inc
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Lucent Technologies Inc filed Critical Lucent Technologies Inc
Publication of JPH1172601A publication Critical patent/JPH1172601A/ja
Pending legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B32—LAYERED PRODUCTS
    • B32B—LAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
    • B32B37/00—Methods or apparatus for laminating, e.g. by curing or by ultrasonic bonding
    • B32B37/0007—Methods or apparatus for laminating, e.g. by curing or by ultrasonic bonding involving treatment or provisions in order to avoid deformation or air inclusion, e.g. to improve surface quality
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B32—LAYERED PRODUCTS
    • B32B—LAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
    • B32B17/00—Layered products essentially comprising sheet glass, or glass, slag, or like fibres
    • B32B17/06—Layered products essentially comprising sheet glass, or glass, slag, or like fibres comprising glass as the main or only constituent of a layer, next to another layer of a specific material
    • B32B17/10—Layered products essentially comprising sheet glass, or glass, slag, or like fibres comprising glass as the main or only constituent of a layer, next to another layer of a specific material of synthetic resin
    • B32B17/10005—Layered products essentially comprising sheet glass, or glass, slag, or like fibres comprising glass as the main or only constituent of a layer, next to another layer of a specific material of synthetic resin laminated safety glass or glazing
    • B32B17/10009—Layered products essentially comprising sheet glass, or glass, slag, or like fibres comprising glass as the main or only constituent of a layer, next to another layer of a specific material of synthetic resin laminated safety glass or glazing characterized by the number, the constitution or treatment of glass sheets
    • B32B17/10036—Layered products essentially comprising sheet glass, or glass, slag, or like fibres comprising glass as the main or only constituent of a layer, next to another layer of a specific material of synthetic resin laminated safety glass or glazing characterized by the number, the constitution or treatment of glass sheets comprising two outer glass sheets
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B32—LAYERED PRODUCTS
    • B32B—LAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
    • B32B17/00—Layered products essentially comprising sheet glass, or glass, slag, or like fibres
    • B32B17/06—Layered products essentially comprising sheet glass, or glass, slag, or like fibres comprising glass as the main or only constituent of a layer, next to another layer of a specific material
    • B32B17/10—Layered products essentially comprising sheet glass, or glass, slag, or like fibres comprising glass as the main or only constituent of a layer, next to another layer of a specific material of synthetic resin
    • B32B17/10005—Layered products essentially comprising sheet glass, or glass, slag, or like fibres comprising glass as the main or only constituent of a layer, next to another layer of a specific material of synthetic resin laminated safety glass or glazing
    • B32B17/10807—Making laminated safety glass or glazing; Apparatus therefor
    • B32B17/10899—Making laminated safety glass or glazing; Apparatus therefor by introducing interlayers of synthetic resin
    • B32B17/10935—Making laminated safety glass or glazing; Apparatus therefor by introducing interlayers of synthetic resin as a preformed layer, e.g. formed by extrusion
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B32—LAYERED PRODUCTS
    • B32B—LAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
    • B32B17/00—Layered products essentially comprising sheet glass, or glass, slag, or like fibres
    • B32B17/06—Layered products essentially comprising sheet glass, or glass, slag, or like fibres comprising glass as the main or only constituent of a layer, next to another layer of a specific material
    • B32B17/10—Layered products essentially comprising sheet glass, or glass, slag, or like fibres comprising glass as the main or only constituent of a layer, next to another layer of a specific material of synthetic resin
    • B32B17/10005—Layered products essentially comprising sheet glass, or glass, slag, or like fibres comprising glass as the main or only constituent of a layer, next to another layer of a specific material of synthetic resin laminated safety glass or glazing
    • B32B17/10807—Making laminated safety glass or glazing; Apparatus therefor
    • B32B17/10981—Pre-treatment of the layers
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B32—LAYERED PRODUCTS
    • B32B—LAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
    • B32B38/00—Ancillary operations in connection with laminating processes
    • B32B2038/0052—Other operations not otherwise provided for
    • B32B2038/0076—Curing, vulcanising, cross-linking
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B32—LAYERED PRODUCTS
    • B32B—LAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
    • B32B2551/00—Optical elements
    • Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
    • Y10S—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10S428/00—Stock material or miscellaneous articles
    • Y10S428/913—Material designed to be responsive to temperature, light, moisture
    • Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
    • Y10T—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
    • Y10T156/00—Adhesive bonding and miscellaneous chemical manufacture
    • Y10T156/17—Surface bonding means and/or assemblymeans with work feeding or handling means
    • Y10T156/1702—For plural parts or plural areas of single part
    • Y10T156/1744—Means bringing discrete articles into assembled relationship
    • Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
    • Y10T—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
    • Y10T428/00—Stock material or miscellaneous articles
    • Y10T428/24—Structurally defined web or sheet [e.g., overall dimension, etc.]
    • Y10T428/24355—Continuous and nonuniform or irregular surface on layer or component [e.g., roofing, etc.]
    • Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
    • Y10T—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
    • Y10T428/00—Stock material or miscellaneous articles
    • Y10T428/24—Structurally defined web or sheet [e.g., overall dimension, etc.]
    • Y10T428/24942—Structurally defined web or sheet [e.g., overall dimension, etc.] including components having same physical characteristic in differing degree
    • Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
    • Y10T—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
    • Y10T428/00—Stock material or miscellaneous articles
    • Y10T428/24—Structurally defined web or sheet [e.g., overall dimension, etc.]
    • Y10T428/24942—Structurally defined web or sheet [e.g., overall dimension, etc.] including components having same physical characteristic in differing degree
    • Y10T428/2495—Thickness [relative or absolute]
    • Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
    • Y10T—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
    • Y10T428/00—Stock material or miscellaneous articles
    • Y10T428/26—Web or sheet containing structurally defined element or component, the element or component having a specified physical dimension
    • Y10T428/261—In terms of molecular thickness or light wave length

Abstract

(57)【要約】 （修正有） 【課題】 多層光学製品の作製方法及び多層光学製品を
有するシステムを提供する。 【解決手段】 多層光学製品の作製方法で、第１のホル
ダで第１の基板の外表面を保持し、第１の基板の外表面
が第１のホルダの内表面に保持される工程、第２のホル
ダで第２の基板の外表面に保持し、第２の基板の外表面
が第２のホルダの内表面に保持される工程、第１及び第
２のホルダの内表面を、選択された角度関係で相互に面
するように配置する工程、第１及び第２の基板の内表面
から選択された１ないし複数の表面上に、粘着剤を配置
する工程。第１及び第２の基板の内表面が粘着剤に接触
するように、第１及び第２のホルダを相互に移動させる
工程、多層製品を形成するよう、第１及び第２のホルダ
の内表面を選択された角度関係に保ったまま、粘着剤を
少なくとも部分的に焼きなます工程より成る。

Description

【発明の詳細な説明】
【０００１】
【本発明の背景】
【本発明の分野】本発明は基板の光学的特性の改善方法
及び例えば光学的に平坦な製品といった多層光学製品の
作製方法に係る。
【０００２】
【従来技術の記述】多くの光学システムは、特定の光学
特性、具体的には表面平坦性、厚さの均一性又は湾曲さ
をもつデバイスを必要とする。製品の表面の平坦さは、
指定された表面プロファイル（例えば、プロフィルはあ
る種の湾曲さを有してもよい）からの製品の表面の変化
を測定することにより、決められる。厚さの均一さは、
指定された厚さ又はプロファイル（例えば、平行又はく
さび状）からの製品の変化から、測定される。これらの
パラメータの両方は典型的な場合、伝搬距離当たりの指
定されたプロファイルからの変化の光波長単位、例えば
波／ｃｍで測定される。ここで、波は測定又は最終的な
用途に用いられる具体的な光といった指定された波長で
ある。ここで用いるとき、波／ｃｍの単位は、所望の光
学特性を持たせようとする製品の領域全体の平均測定値
を意味する。湾曲度は図１により示されるように決まる
物理的な測定値である。製品の中心から平面が製品に出
会い２つの接触点間に引いた線までの距離を、その線の
距離Ｙの半分で割る。単位を割ること（例えばＢｃｍ／
（Ｙ／２）ｃｍ）により、単位のない値が得られる。
【０００３】光学的用途の場合、１つには製品を貫く光
に対する製品の効果に関心がもたれ、物理的な厚さの均
一性には典型的な場合、依存しない。事実、伝搬平坦性
は、あらかじめ選択されたプロファイルからの光学伝搬
長（以下で述べる）のずれを測定することにより決めら
れ、図２は均一な厚さ（すなわち平行表面）をもつこと
が望ましい形態についてのこの測定を示す。伝搬平坦性
はまた、波／ｃｍでも表わされ、当業者には周知のよう
に、ジェイ．ダブリュ．グッドマン（J.W.Goodman ）、
フーリエ光学入門、マグローヒル、１９６８で述べられ
ているように、伝搬平坦性はまたｒｍｓ（二乗平均）波
／ｃｍ又はストレール値で表わされる。図２は多層製品
を貫く２つの光路を示し、光路は横方向に製品を貫いて
間が距離ｚで配置されている。距離ｚに渡る物理的な光
路差は｜１’−１｜で、正確な厚さの均一性からの変化
は、｜１’−１｜／ｚで、これは典型的な場合μｍ／ｃ
ｍで測定される。物理的な光路長は、各層（１０，１
２，１４）の屈折率又は用いる光の波長によっては影響
をうけず、考慮にも入れない。
【０００４】光学的光路長（ＯＰＬ）は伝搬平坦性に適
切なパラメータで、以下の式で表わされる。
【数１】 ここで、ｎj は層ｊの屈折率 Ｌj は層ｊを貫く物理的光路長である。
【０００５】物理的な光路長に対し、ＯＰＬは屈折率に
依存する。例えば、図２に示されるような多層製品中
で、ＯＰＬは層（１０，１２及び１４）の屈折率に依存
する。具体的には、図２の製品全体でのＯＰＬ差（△Ｏ
ＰＬ）は、 ｜（ｎ10Ｌ10＋ｎ12Ｌ12＋ｎ14Ｌ14）−（ｎ10Ｌ'10＋
ｎ12Ｌ'12＋ｎ14Ｌ'14）｜： に等しい。この式は目的は小さなＯＰＬ差にすること
で、もし基板が比較的大きな各厚さの変化を有しても、
全体的な厚さの変化は比較的小さいことを示し、そのこ
とは基板の屈折率を近づけるのに有用である。図２で示
されるように、平行な形態が望ましいと仮定すると、伝
搬平坦性は△ＯＰＬ／ｚである。光学用途の場合、ＯＰ
Ｌ中の選択されたプロファイルからの変化は、伝搬単位
当たりの物理的光路長の変化より重要であることが、明
らかである。
【０００６】伝搬及び表面平坦値は波／ｃｍで表わされ
る。ここで、値は指定された波長に対して与えられる。
そのような波／ｃｍを用いることは、ここでは物理的な
光路長に対し、光学的光路長に対する値であることを示
している。本明細書の目的に対しては、波／ｃｍでの値
は、少なくとも約０．４乃至約０．７μｍの範囲の波長
に対して有用であるが、本発明の概念はこの範囲を越え
て適用される。
【０００７】光学用途に典型的に用いられる基板の場
合、表面及び伝搬平坦性に影響を及ぼす基本的に３つの
形の厚さの変化がある。第１の形は基板の表面全体に渡
っての低から高への直線的な厚さの変化で、そのため基
板は本質的に、くさびの形をとる。単位長さ当たりのそ
のような基板の厚さの変化は、比較的一定である。第２
の形の変化は、ゆったりとした波形又は無秩序な変化
で、その場合、厚さは例えば基板の幅全体に、徐々に低
から高へ、また低へ、そして高へと変化する。単位長さ
当たりのそのような基板の厚さの変化は、比較的一定で
あるが、基板はくさびの形はとらない。第３の形の変化
は、局所的な鋭いくぼみ又はピークである。そのような
くぼみ又はピークは典型的な場合、基板に沿って異なる
位置でとった厚さの測定値に急速な変化をもたらし、そ
のためｒｍｓ測定をゆがめる可能性がある。第３の形の
変化を有する基板は、典型的な場合、当業者には周知の
ように、ひっかき及び掘削により測定される。明らか
に、これらの特性は低い表面平滑さの変化と、低い厚さ
の均一性変化又は低い湾曲を組み合わせた構造を形成し
ようとした時、しばしば多くの困難さを起こさせる。
【０００８】精密な用途に用いられる製品は、０．１波
／ｃｍ又はそれ以上の表面及び伝搬平坦性を有すること
が望ましい。平坦な表面が望ましい伝搬用の製品の場
合、１０-2又はそれ以下（以下ということは、数学的に
小さいことを意味する）の湾曲を有することが望まし
く、平行な表面が望ましい反射用の製品の場合、１０-5
又はそれ以下の湾曲を有することが望ましい。そのよう
な特性を有する基板又は多層製品を準備又は得ること
は、困難である。例えば、フラットパネルディスプレイ
用の高品質ガラス（ここではディスプレイガラスとよ
ぶ）は約０．２５乃至約４波／ｃｍの範囲の表面及び伝
搬平坦性をもつ。より良く、かつより一貫性のある平坦
度を得るためには、ガラスの厚い小片を得、ガラスを所
望の平坦さに研磨することが必要である。しかし、その
ような化学／機械研磨は費用と時間がかかり、上述のよ
うな特性をもつ基板及び製品を用意するのに不適切であ
る可能性がある。基板の光学的平坦さを改善し、光学的
製品、例えばある湾曲、厚さの均一性及び表面平坦性を
有する製品を形成するより容易で費用のかからない方法
が望ましい。
【０００９】
【本発明の要約】本発明は例えば表面平坦性、伝搬平坦
性又は湾曲といった優れた光学特性を有する各種の製品
を形成するための従来のプロセスに比べ相対的に容易で
費用のかからない方法を明らかにする。一実施例におい
て、本発明の方法はあらかじめ選択された光学的に望ま
しい形状又は表面を有する第１のホルダで第１の基板の
外表面を保持し、それによって基板の外表面がホルダの
内表面に保持される工程、あらかじめ選択された光学的
に望ましい形状又は表面を有する第２のホルダで第２の
基板の外表面を保持し、それによって基板の外表面がホ
ルダの内表面に保持される工程、１つ又は両方の基板の
内表面上に粘着剤を配置する工程、選択された角度の関
係で両方が粘着剤に接触するように基板を動かす工程及
び少なくとも部分的に粘着剤を焼きなます工程を含む。
得られた多層製品をホルダをとりはずした後、焼きなま
された基板上の粘着剤により働く力が、多層製品を基板
がホルダにより保持される形態、例えば平坦さ又は湾曲
状態に保つ。これらの結果を得るために、ホルダの内表
面は基板が本質的に従う連続した表面部分を含み、形態
はこれらの連続した表面部分により被覆された領域で、
基板中に保たれる。
【００１０】本発明の別の実施例において、方法はあら
かじめ選択された光学的に望ましい形状又は表面を有す
るホルダで単一基板の外表面を保持し、それにより基板
の外表面をホルダの内表面に保つ工程、基板の内表面上
に粘着剤を配置する工程及び少なくとも部分的に粘着剤
を焼きなます工程を含む。ホルダから基板をとり除いた
後、焼きなまされた粘着剤により働く力によって、粘着
剤の効果と基板がホルダによって保持される形態に基づ
き、例えば平坦といったある形態が、基板に与えられ
る。ホルダにより与えられる湾曲さは、典型的な粘着剤
が示す収縮応力により、そのような形態に保つことが困
難である。そのような収縮応力を、基板にある種の湾曲
を与えるために用いることは可能であるが、含まれる多
くの変数のため、所望の湾曲を得ることを困難である。
やはり粘着剤の効果が全体的にみられる連続した表面部
分を、ホルダの内表面は含まなければならない。
【００１１】本方法は精密な平坦さ又は湾曲を必要とす
る製品を作製するのに有用である。そのような平坦さ又
は湾曲は、ある形態、例えば１つの基板に対し、２つの
粘着剤、すなわち比較的大きく収縮するものと比較的小
さいか全く収縮しない粘着剤と選択された角度関係を選
ぶことにより得られる。加えて、粘着剤に粘着剤と感光
性記録材料の両方の働きをさせることが、可能である。
本発明はまた１乃至２個の基板とそれに固着された少な
くとも部分的に焼きなまされた粘着剤の層を含む系に関
連する。粘着剤によって働く力は、具体的な形態及び系
の要件に依存して、基板の表面平坦性、伝搬平坦性又は
湾曲を保つ。製品は約０．０５乃至約０．２５波／ｃｍ
の表面及び伝搬平坦度を有すると有利で、また約１０-2
又はそれ以下の湾曲さを有すると有利である。
【００１２】 〔発明の詳細な説明〕本発明は多層光学製品の作製方法
に係る。一実施例において、方法は以下の工程を含む。
第１のホルダで第１の基板の外表面を保持し、それによ
り第１の基板の外表面が第１のホルダの内表面に保持さ
れる工程；第２のホルダで第２の基板の外表面を保持
し、それにより基板の外表面が第２のホルダの内表面に
保持される工程；第１及び第２のホルダの内表面を、相
互に選択された角度の関係で、面が向くように配置する
工程；第１の基板の内表面又は第２の基板の内表面上に
粘着剤を配置する工程；第１及び第２の基板の内表面
が、粘着剤に接触するように、相互に第１及び第２のホ
ルダを移動させる工程；第１及び第２のホルダを、多層
製品を形成するように選択された角度の関係に置いたま
ま、粘着剤を少なくとも部分的に焼きなます工程。
【００１３】第１及び第２のホルダをとり除いた後、少
なくとも部分的に焼きなました粘着剤は、第１及び第２
のホルダにより保持される形態に、多層製品を保つ。形
態というのは、表面平坦性、伝搬平坦性又は製品の湾曲
を意味する。これらの特性の少なくとも１つ、恐らくは
３つ全ては、ホルダから製品をとり除いても、粘着剤に
より保たれるであろう。しかし、保たれる具体的な特性
及びそれらが保たれる程度は、特に具体的な形態、基板
材料及び粘着剤に依存する。２つの基板が用いられる
時、表面平坦性、伝搬平坦性及び湾曲のすべてを、ホル
ダからとり除いても粘着剤により保つことは可能であ
る。
【００１４】別の実施例において、方法は以下の工程か
ら成る。ホルダで基板の外表面を保持し、それにより基
板の外表面がホルダの内表面に保たれる工程；基板の内
表面に粘着剤を配置する工程；及び粘着剤を少なくとも
部分的に焼きなまし、多層製品を形成する工程。ホルダ
を取り除いた後、少なくとも部分的に焼きなまされた粘
着剤の力が、例えば平坦又は湾曲といったある種の形態
を、基板が与える。１つの基板では、強く接着した粘着
剤であっても、ホルダにより働く湾曲を保つことは難し
い。例えば、基板はホルダの除去後、最初の湾曲の方に
動く傾向がある。湾曲のそのような変化は、焼きなまし
中収縮する粘着剤により生じる可能性もある。例えば、
ホルダから除去した時、単一基板の表面及び伝搬平坦性
を粘着剤が保つことは可能である。しかし、粘着剤中の
収縮力は除去した時、湾曲を導入する傾向がある。この
効果を、以下の例３で示すように、有効に用いることが
可能である。粘着剤の均一な層は、プロセスの変数を減
し、より一様な湾曲を与えるのに有用である。粘着剤の
一様な層を得るために、ホルダの形状を整合した製品
を、粘着剤と接触させ（焼きなまし前に製品はとり除か
れる）、粘着剤を一様な層に圧迫することは可能であ
る。粘着剤の一様な層を得るために、ドクターブレード
型装置を用いることも可能である。
【００１５】１基板製品の生産と２基板製品の生産に
は、異なる要因が含まれる。例えば、２基板製品の場
合、焼きなましできる粘着剤で共通して生じる収縮応力
を補償し、それによりホルダにより加わる湾曲を保つこ
とが可能である。しかし、上述のように、１基板製品の
場合、焼きなまし中収縮する粘着剤により基板に加わる
応力により、ホルダの湾曲を保つことが困難である。
【００１６】表面平坦性、伝搬平坦性又は湾曲を保つた
め、ホルダ又は複数のホルダの内表面は、基板の少なく
とも一部が本質的に適合する連続した表面部分を含まな
ければならない。ここで用いるように、ホルダという用
語は、中でもそのような連続した表面部分を含む製品を
規定することを意図している。連続した表面部分は基板
と適合しないようにする不連続性は有しない。（連続し
た表面部分は、不連続さがそのような非適合性の原因と
ならない限り、比較的小さな不連続さ、例えば小孔を有
することは可能である。）連続した表面部分が例えば
（図３ａ及び３ｂ中の）真空溝のような保持力が加わる
領域と境界を接することは、可能である。あるいは、保
持力が例えば（図４ａ及び４ｂ中の）いくつかの真空溝
又はいくつかの真空孔といった連続した表面部分の周囲
又は中の１つ以上の領域に加わるようにすることは、可
能である。例えば電磁材料により、連続した表面部分全
体を通して保持力が加わるようにすることも可能であ
る。平坦さ又は湾曲が保たれるのは、この連続した表面
部分全体である。
【００１７】図３ａ及び３ｂはそのような連続した表面
部分を含む本発明で用いるのに適したホルダ（６０）を
示す。（図３ｂは３ａの線ａ−ａ’に沿った断面側面図
である。）ホルダ（６０）は真空（図示されていない）
に接続された単一の真空溝（６２）を含む。真空溝（６
２）は真空にした時、基板が本質的に適合する連続した
表面（６４）と境界を接する。ホルダ（６０）の表面
（６６）は真空溝（６２）の外にあり、連続した表面部
分の一部ではない。真空を印加した時、基板には表面
（６６）と本質的に従うように力は加わらない。
【００１８】図４ａ及び４ｂは本発明で用いるのに適し
た別のホルダ（７０）を示す。ホルダ（７０）は２つの
真空溝、すなわち外部真空溝（７２）及び内部真空溝
（７４）を含む。連続した表面（７６）は溝（７２）及
び溝（７４）の間にある。（外部溝（７２）の外側にあ
る）表面（７８）は、連続した表面部分の一部ではな
い。また、図４ａ及び４ｂに示されるように、ホルダ
（７０）は表面（８０）の領域に配置された孔を有する
ことが可能で、その場合、表面（８０）はまた連続した
表面部分の一部ではない。
【００１９】基板を保持するために電磁力を用いるホル
ダの場合、連続した表面部分に対しては、その全体に力
を加えることが可能である。あるいは、連続した表面部
分に対して、力が加わる特定の領域を、その周辺に、例
えば環又は正方形の形状でもたせることができる。後者
の実施例において、基板の形態は力が加わる環又は正方
形の全体及び内側に保たれる。
【００２０】上の実施例と異なり、真空環は本発明に従
うホルダは構成しない。なぜなら、環の真空溝は連続し
た表面部分と境界を接することはなく、環の中央の間隙
が不連続を作り、それにより基板は適合しない。
【００２１】本発明のホルダの内表面は、光学的に望ま
しい形状又は表面を有する。ホルダの内表面は約０．０
５乃至約０．２５波／ｃｍの表面平坦性を有すると有利
である。また、ホルダ内表面は約１０-2又はそれより良
い湾曲度をもつと有利で、特に伝搬用を意図した製品で
は、有利である。一方、反射用に意図して製品の場合、
約１０-5又はそれより良い湾曲度が有利である。これら
の実施例の工程を、上で述べた順序ではない順序で行う
ことが可能である。
【００２２】本発明の多層製品は約０．０５乃至約０．
２５波／ｃｍの表面平坦さ及び伝搬平坦さをもつと有利
である。これらの数値は少なくとも約０．４乃至約０．
７μｍの範囲の波長に対して有用であるが、本発明の概
念はこの範囲を越えてあてはまる。また、特に２つの基
板を用いる場合、製品は約１０-2又はそれ以下の湾曲度
をもつと有利であり、約１０-5又はそれ以下（特に反射
用には）であれば、より有利である。１個だけの基板を
用いる実施例の場合、上と同じ表面平坦さが有利である
が、伝搬平坦さは典型的な場合より小さく、表面平坦さ
を得ることはより難しい。また、上で述べたように、単
一基板の場合、低い湾曲さを得ることは困難である。
【００２３】２個のホルダ及び２個の基板の場合、ホル
ダの内表面間の選択された角度関係は、平行な関係であ
ると有利であり、このことは２つのホルダの内表面の連
続した表面部分（必要に応じて内表面全体）間の距離
は、約１波／ｃｍ以上変化しないことを意味する。平行
な基板を有する多層製品は、約０．０５乃至約０．２５
波／ｃｍの表面平坦さ及び伝搬平坦さの値、０．５又は
それ以上のストレール値（０．９又はそれ以上ならより
有利である）及び約１０-2又はそれ以下（反射用には約
１０-5又はそれ以下が有利である）をもつと有利であ
る。
【００２４】粘着剤は連続した層に配置すると有利であ
る。表面又は多層製品の改善された平坦さ又は湾曲さ
は、粘着剤が基板に接触する領域で、基本的に得られ
る。粘着剤の領域は典型的な場合、ホルダの連続した表
面部分の領域内である。粘着剤の領域を越えて延びる基
板の部分、特に連続した表面部分の領域を越える領域
は、ホルダが除かれた後、それらの最初の状態に戻る傾
向がある。基板又は製品の平坦さ、ストレール値及び湾
曲さが、ここで述べたようなものである時、平坦さ、ス
トレール値又は湾曲さは、粘着剤が基板の平坦さ又は湾
曲さあるいは多層製品の平坦さ又は湾曲さを保つこの領
域のものをさす。
【００２５】図６ａ−６ｃに示されるような２つの基板
を用いる本発明の実施例に従うと、比較的低い湾曲さを
有する内表面をもつ２つのホルダ（２０，２２）は、選
択された角度関係（この実施例では平行な関係）にす
る。簡単にするため、ホルダ（２０，２２）の内表面の
連続した表面部分は、示されていない。例えば、ホルダ
（２０，２２）が図３ａ及び３ｂ、又は図４ａ及び４ｂ
の形態をもつことは可能である。この実施例において、
２つのホルダ（２０，２２）は平行な関係に操作され、
相互に移動するように配置される。例えば、ホルダ（２
２）はピッチ及びヨーに（すなわち、そのｘ及びｙ軸の
まわりに）回転する称平環に固着させ、ホルダ（２０）
はそれがピッチヨー（すなわちｘ−ｙ）両面に固定され
るが、ｚ軸に沿って移動できるように、ホルダ（２２）
上の装置に固着させることができる。ホルダ（２０，２
２）の内表面の平行度を測定し、適切な補正ができるよ
う、イー・ヘチト（E.Hecht ）、オプティクス（Optic
s）、アディソン−ウェスリー出版、１９８７に述べら
れているようなフィゾー干渉法又は当業者には知られて
いる同様の方法を用いることは可能である。そのような
方法はまたホルダ間の任意の選択された角度の関係を測
定することができる。
【００２６】一度ホルダが平行な関係に配置されると、
基板（２４，２６）は以下で述べるいくつかの方法の１
つにより、基板（２４，２６）の外表面を保持するホル
ダ（２０，２２）上に置かれる。（本発明の他の実施例
において、ホルダの内表面をプロセスの後の工程、例え
ば基板（２４，２６）がホルダ（２０，２２）上に置か
れた後、平行な関係にすることは可能である。）図６ａ
は基板（２４，２６）がホルダ（２０，２２）の表面に
保持される前のホルダ（２０，２２）及び基板（２４，
２６）を示す。基板（２４）はゆったりと波状に厚さが
変化し、基板（２６）はくさび型を変化を有するよう
に、示されている。
【００２７】図６ｂに示されるように、力又は引力は基
板（２４，２６）の外表面をホルダ（２０，２２）の
（図示されていない）連続した表面部分に本質的に従わ
せる。基板（２４，２６）の外表面を、真空、静電引力
又は磁気的引力又は粘着剤のような一時的な化学接着に
より、保持することが可能である。薄い、柔軟性のある
基板を用いるような一時的な接着又は静電引力を使用す
るある種の場合、基板（２４，２６）はホルダ（２０，
２２）の表面に従わせるような方式で、ホルダ（２０，
２２）上に押しつけなければならない。そのような方式
の１つはローラーである。基板（２４，２６）の外表面
がホルダ（２０，２２）の内表面上に保持されると、も
し基板（２４，２６）がその方法の使用ができる透明な
材料でできているなら、フィゾー又は同様の方法によ
り、ホルダ（２０，２２）の内表面の平行度を確保する
ことができる。例えば、もし基板（２４，２６）が透明
で、ホルダに接する側に反射防止膜を有するなら、有効
にフィゾー法を用いることができる。上で述べたよう
に、ホルダ（２０，２２）の内表面は、連続した表面部
分を含む。
【００２８】本発明のこの実施例に従うと、ホルダ（２
０，２２）の平坦な表面に従って保持された基板（２
４，２６）が用いられ、粘着剤（２８）が基板（２６）
の内表面に供給される。また、プロセスの早い段階で、
粘着剤を供給することも可能である。ホルダ（２０）は
基板（２４）の内表面を粘着剤（２８）と接着させ、一
方ホルダ（２０，２２）の内表面（及び第１及び第２の
基板（２４，２６）の外表面）は、図６Ｃに示されるよ
うに、平行な関係に保たれる。ホルダ（２０，２２）は
基板（２４，２６）間で粘着剤を所望のように広げる
か、あるいは粘着剤（２８）と基板（２４，２６）間で
所望のレベルの接触が得られるよう、十分な力で基板
（２４，２６）を押しつける。平行を確保し、ホルダ
（２０，２２）が基板（２４，２６）を保持し、粘着剤
（２８）とともに基板（２４，２６）を押しつけ、かつ
粘着剤（２８）を焼きなます前に行うのに、フィゾー又
は同様の方法を行うのが有用である。
【００２９】次に、ホルダ（２０，２２）が取り除かれ
た時、粘着剤（２８）により、基板（２４，２６）の内
表面上に働く堅固さと力が、本質的に平行な関係（すな
わち低い湾曲）と表面及び伝搬平坦性を保つよう、粘着
剤（２８）は少なくとも部分的に焼きなまされる。湾曲
と平坦さはホルダ（２４，２６）の連続した表面部分の
領域内及び上述のように、粘着剤（２８）が接触する領
域内で保たれる。この関係を保つのに含まれる力につい
ては、以下で述べる。
【００３０】議論を簡単にするために、この実施例で述
べるホルダ（２０，２２）は別々のホルダとして述べ
る。しかし、ホルダは単一部分の２つの領域でもよい。
【００３１】１つの基板を用いる本発明の一実施例にお
いて、図５に示されるように、ホルダ（３０）は比較的
湾曲の小さな内表面を有し、基板（３２）の外表面はホ
ルダ（３０）の内表面上に置かれ、以下で十分に述べる
ように、力又は接着により、そこに保持される。やは
り、ホルダ（３０）の内表面の連続した表面部分は、区
別されていない。粘着剤（３４）が基板（３２）の相対
する（内）表面上に配置され、その後少なくとも部分的
に焼きなまされる。上述のように、除去すると基板（３
２）の外表面上のホルダ（３０）により働く平坦さを保
つことはできるが、ホルダの湾曲を保つことは難しい。
焼きなまし中の粘着剤（３４）の収縮又は膨張により、
望むように、あるいは望まないように、湾曲は変化す
る。
【００３２】図５に示されるような実施例において、所
望の放物線状の湾曲を有する製品を、生成することが可
能である。粘着剤が環状パターン及び均一な厚さ（粘着
剤層の厚さが約１０％以上変化しない）に配置され、粘
着剤が焼きなまし中収縮しない場合、粘着層中の均一な
収縮応力により、そのような放物線状の湾曲を得ること
が可能である。この結果は、以下の例３に示されてい
る。光学用途において、そのような放物線状の湾曲は、
典型的な場合、球状の湾曲より好ましい。
【００３３】本発明の方法はクリーンルーム環境中で行
うと有利である。中でもクリーンルームはちり粒子がホ
ルダ、基板又は粘着剤間に入るような汚染を防止する。
波長で測定した厚さの変化では、単一のほこりの粒子
（典型的な場合、１ないし１０波長の直径をもつ）でさ
え、製品全体の平坦さに影響を与える。
【００３４】粘着剤は任意の適当な方法により、基板上
に配置され、液体又は固体の形で用いられる。粘着剤は
十分粘着し、ホルダをとり除いた時、基板又は多層製品
がホルダ又は複数のホルダにより保持された形態に保た
れるように基板は複数の基板に堅固さを与える任意の材
料を含む。
【００３５】本発明を何らかの特定のモデル又は理論に
限定しないが、形態を保持するのに必要な力は、単一基
板及び２つの基板の両方に対し、以下の簡略化したモデ
ルにより、表わすことができる。エル．ディー．ランダ
ウ（L.D.Landau）ら、弾性の理論（Theory of Elastici
ty）、パーガモンプレス、オックスフォード、英語版第
３版、１９８６、特に４４頁を参照のこと。以下の式の
場合、基板は環状で最初球状の湾曲をもち、目標は湾曲
をゼロにすることである。単一基板（５０）の場合、図
７に示されるように、適合性を生じるように（すなわち
湾曲をゼロに減らす）のに必要な基板間の圧力差Ｐは、
次式で与えられる。
【００３６】
【数２】 ここで、 ｈ＝基板の厚さ ｂ＝中心での基板湾曲の高さ ｄ＝基板の直径 Ｐ1 ＝基板の自由表面上の空気圧 Ｐ2 ＝基板の真空平坦表面上の空気圧 Ｐ＝Ｐ1 −Ｐ2 ＝基板上での圧力差 σ＝基板のポアソン比 Ｅ＝基板のヤングモジュラス
【００３７】図８の三層製品において、基板（５２，５
４）（それぞれが上述のように、最初の湾曲高さｂを有
する）が、それらの最初の形に戻ろうとするにつれ、残
留湾曲高さｂ’が存在し、それによって粘着剤（５６）
を押すであろう。このモデルに対して追加するパラメー
タは、以下の通りである。 ｂ’＝三層製品中の残留湾曲高さ ｔ ＝接着層厚（ｔ＞＞ｂ’） σ’＝粘着層のポアソン比 Ｅ’＝粘着層のヤングモジュラス
【００３８】この簡単化されたモデルの場合、セル直径
に対する最終的なセル表面湾曲高さの比は、次式で与え
られる。
【数３】 粘着層と基板間の粘着強度は、（ｂ−ｂ’）に等しい大
きさだけ、いずれかの基板を移動させるのに必要な圧力
差Ｐを、越える必要がある。例えば、ｂ’＜０．１μｍ
（約０．２波長）で、ｄは５０ｎｍに等しく、ｔは１ｍ
ｍに等しく、Ｅ／Ｅ’は２に等しく、σは約０．２５に
等しい、σ’は約ゼロに等しく、ｈは１ｍｍの場合、最
初の基板の湾曲（２ｂ／ｄ）に対する限界は、１／４以
下である。
【００３９】粘着剤は光で焼きなましできるか、例えば
熱又は科学的に焼きなませるといった他の焼きなましが
できる。また、粘着剤は必要な粘着性を得るために、例
えば液体から固体といった相転換をする材料である可能
性がある。ここに用いるように、焼きなまし及び焼きな
まし可能という用語は、任意のそのような方法により、
膠質化又は固化する材料を含むことを意図する。光によ
り焼きなましできる粘着剤は、可視光、ＵＶ光、及びＸ
線を含む各種の波長のいずれかに露出すると、焼きなま
しされる材料を含む。また、電子又は粒子ビームにより
焼きなましできる粘着剤を用いることも、可能である。
有用な粘着剤には、感光性のある光により焼きなましで
きる粘着剤（フォトポリマとよぶ）が含まれ、感光性と
いう用語は（例えば選択的、局所的に露出するというよ
うに）光源に露出されるのに応答し、物理的又は科学的
特性が変わる材料を意味する。そのような感光性のある
粘着剤には、ある種の感光性をもたせたアクリル酸塩及
びビニルモノマが含まれるが、限定はされない。
【００４０】感光性粘着剤はそれらが粘着剤と記録媒体
の両方として働くため、有用である。エポキサイドを基
本とするような粘着剤も有用である。有用なフォトポリ
マの一例は、イソボルニル、アクリレート−ポリテトラ
ヒドロフラン、ジウレタン、ジアクリレートマトリクス
にｎ−ビニルカルバゾールを分散させたもの（ここでは
ＮＶＣとよぶ）である。このフォトポリマについては、
他の適当なフォトポリマとともに、権利者を同じくする
米国特許出願第０８／６９８５１１号（ここでの引用文
献コルビン２−８−３−１９−１１−１０）及び第０８
／６９８１４３号（ここでの引用文献コルビン１−２−
１６−１０）で述べられており、それらで明らかにされ
ていることは、ここに引用文献として含まれている。
【００４１】粘着剤に粘着促進剤、光誘起剤、吸収剤又
は偏光剤といった添加物を加えることは可能である。焼
きなまし後の粘着剤の厚さは、いくつかの要因に依存し
て変わり、要因には用いる粘着剤、使用法、供給する粘
着剤、基板により粘着剤に加わる力が含まれる。異なる
用途には、異なる厚さが望ましい。必要な焼きなましの
程度は用いる具体的な粘着剤、ホルダ又は複数のホルダ
により働く基板又は多層製品を保持するのに必要な力に
よって決まる。光で焼きなましでき、熱で焼きなましで
き又は化学的に焼きなましできる材料の場合、適切な焼
きなましは数パーセントから１００％の範囲になりう
る。必要な粘着性を得るために、例えば液体から固体へ
といった完全な相転換を必要とする材料の場合、完全な
相転送はこの用途の目的には、完全な焼きなましと考え
られる。
【００４２】少なくとも部分的な焼きなましの後、粘着
剤は基板に近い屈折率をもつと有利である。ほぼ均一な
屈折率を有する多層製品は、上のＯＰＬについての議論
で示されたように、製品中のある領域を貫くほぼ均一な
屈折率は、それらの領域中のＯＰＬの変化を減らす。言
い換えると、満し、厚さの変化を補償する粘着剤が、基
板自身の屈折率に近い屈折率を有するなら、基板中のそ
のような変化は、△ＯＰＬに大きな効果をもたない。例
えば、２つの基板がそれぞれ５波／ｃｍの厚さの変化
（すなわち合計で１０波／ｃｍ）である場合、０．１波
／ｃｍの伝搬平坦性を保つため、基板の平均屈折率の１
％（０．０１）以内の屈折率が望ましい。２つの基板を
用いる時、基板は少数第２位まで等しい屈折率をもつと
有利で、粘着剤の屈折率は第１及び第２の基板の平均屈
折率に少数第２位まで等しいと有利である。ある種の用
途では、粘着剤は高い光学特性、例えば均一性、気泡な
し及び低散乱といった特性をもつと有利である。
【００４３】ホルダはそれらの内表面に連続した表面部
分を有し、上述のように、それに基板又は複数の基板が
従う。ホルダは真空チャックが有利で、そのことはホル
ダの内表面が、１乃至複数の溝を有し、溝を通して基板
に真空が加わると、保持力が生じる平坦な表面を意味す
る。あるいは、保持工程は静電的引力又は磁気的引力又
は一時的な化学的接着（例えば、粘着性）の使用により
行われる。保持又は一時的な接着は、ホルダの内表面に
対して基板を保持し、本質的な適合性、特に上で述べた
ように内表面の連続した表面部分に適合性が得られる。
必要な力は用いる具体的な基板のパラメータ、例えば組
成、厚さ、最初の厚さ、柔軟性に依存して変わる。２つ
のホルダを用いる実施例において、ホルダは上述の実施
例で得られるような配置といった選択された角度関係が
得られる任意の方法で配置される。
【００４４】２つのホルダ構成において、少なくとも１
つのホルダはそのｚ軸に沿って、焼きなまし工程中、非
常に小さな抵抗で動ける機構に固着するのが有利であ
る。（ｘ及びｙ軸は固着剤が配置される平面を規定し、
ｚ軸は残りの軸である。）例えば、ホルダはホルダと基
板の重みにより生じた下向きの圧力を等しくするピスト
ンに固着でき、それによってピッチ及びヨーに固定され
たまま、ｚ軸に沿ってホルダをほとんど浮かすことがで
きる。ある種の粘着剤は焼きなまし中収縮するため、そ
のような機構を設けることは有利である。もし、両方の
ホルダが焼きなまし中、動かないように固定されるな
ら、そのような収縮によって、粘着剤と基板間の粘着性
及びホルダ間の角度関係の両方に悪影響が及ばないよう
にすることが可能である。
【００４５】ホルダは平坦面を保ち、基板に保持力を加
えるか一時的な化学的結合を適切に保つ任意の材料で作
ることができる。上述のように、光で焼きなまし可能な
粘着剤の場合、ホルダは適切に焼きなましが行えるよう
十分な光を透過するガラス又は別の材料で作るのが有利
で、ホルダの平行性を確保するフィゾー又は同様の方法
を使用できると有利である。焼きなましに光を必要とし
ない粘着剤の場合、不透明材料を用いることは可能であ
るが、そのような材料の角度関係を確保する他の方法を
用いなければならない。ホルダ用に選択される材料もま
た、例えば粘着剤による接着又は磁気的引力といった用
いる保持力の型又は一時的な接着及び作製中の多層製品
又は基板の使用意図に依存する。
【００４６】第１及び第２の基板は同じ又は異なる材料
で、形成する製品又は基板の使用意図に依存して、セラ
ミックス（ガラスを含む）、金属又はプラスチックスで
形成される。また、ホルダに関連して上で述べたよう
に、基板は単一部分の２つの領域にすることが可能であ
る。基板は任意の必要な形状をもつ。基板は保持力が加
わったとき、基板に損傷を与えることなく、ホルダに本
質的な適合性が得られないような高い水準で、基板が平
坦さの変化を持たないと有利である。ガラス板のような
それ自身を支持する基板に加え、基板はホルダ上にスプ
レーされたポリマ材料、マイラーのようなポリマ薄膜、
又はポリ炭酸エステルのようなポリマーシートとするこ
とが可能である。ポリマ材料又は薄膜を、ガラス板のよ
うなそれ自身を支持する材料と組合せ、単一の基板を形
成することも可能である。そのような二層基板の材料又
は薄膜は、感光性材料で良く、本発明の方法はそのよう
な基板の光学特性を改善するのに有用である。
【００４７】平行性と基板の外表面の質を確保するた
め、フィゾー法を設計することが重要である。例えば、
平面波照射と両側が光学的に平坦なくさび型ホルダを用
いると、有利である。加えて、基板上の反射防止（Ａ
Ｒ）被膜は、いくつかの理由で有利である。ＡＲ被膜が
ないと、基板表面及びホルダの表面間に界面反射がな
く、選択された角度関係を決めるのに、干渉法を用いる
ことが困難になる。加えて、基板とホルダ間のファン・
デア・ワールズ力及び残留真空力により、ホルダから基
板をとりはずすことが難しくなり、反射防止膜はそのよ
うな力を弱める。また、反射防止膜は光の働きを増し、
多層基板内の界面反射を減らす。ホルダに接触する基板
の側のみに、ＡＲ被覆すると有利である。粘着剤が配置
された基板の側にＡＲ被覆し、粘着剤と基板間の粘着性
が悪くなったり、好ましくない反射がつけ加わることは
ありうる。しかし、ある種の構成では、粘着促進剤とい
った他の被膜を、粘着剤を配置する基板の側に配置する
と有利である。そのような被膜は５００オングストロー
ムより厚くないと、有利である。
【００４８】２つの基板を用いる本発明の実施例におい
て、くさび型の厚さの変化を補償することが可能であ
る。なぜなら、ホルダの内表面は基板の外表面に、選択
された角度関係をもたらし、基板中のくさび型の変化
は、製品の内部に転写され、その場合、角度関係を保っ
たまま、粘着剤が変化を補償するからである。粘着剤は
そのような変化を満たすことにより、基板内表面上の鋭
い又はゆったりとした波状変化を、同様に補償する。も
し、以下の条件が満たされれば、粘着剤が配置されてい
ない基板の側にあるゆったりした波状変化を補償するこ
とが可能である。すなわち、（ａ）ホルダに従う基板の
側のゆったりした変化を少なくともある程度、基板の相
対する側に伝えるような方法がとられること、及び
（ｂ）粘着剤が基板の相対する側に伝わった変化を満た
すか、その上にあることである。加えて、そのような多
層製品中の粘着剤が基板の屈折率に近い焼きなまし後の
屈折率をもつなら、粘着剤を含む領域中ではほぼ均一な
屈折率が得られ、従って製品のこれらの領域を横切る光
路長の変化は、減少する。
【００４９】本発明の方法は、各種の製品、特に高品質
ミラー、平板、窓、プリズム、ビームスプリッタ、フィ
ルタ及びレンズを含む光学システム中で用いる製品の形
成に有用である。加えて、ホログラフィデータ蓄積シス
テム用のメモリセルを形成することが可能である。その
ようなセルについては、例えば、エイチ．ワイ．リー
（H.Y.Li）ら、“三次元ホログラフィディスク”、アプ
ライド・オプティクス（Appl.Opt）．３３，３７６４−
３７７４（１９９４）及びエイ．ピーユー（A.Pu）ら、
“フォトポリマ薄膜中のホログラフィデータ蓄積の新し
い方法”、アイ・イー・イー・イー／アイ・イー・オー
・エス（ＩＥＥＥ／ＩＥＯＳ）１９９４シンポジウム・
プロシーディングス，４３３−４３５頁で述べられてお
り、これらの内容は引用文献として、ここに含まれる。
本発明に従って作られるセルを、ディジタルホログラフ
ィ蓄積に用いることもできる。その場合、セルは現在は
約０．２５波／ｃｍ又はそれより良い表面及び伝搬平坦
性及び約１０-2又はそれ以下の湾曲を持たなければなら
ない。基板間にフォトポリマを配置する従来の方法は、
以下の比較例１及び２で述べられているように、これら
の必要な特性を与えない。
【００５０】ホログラフィメモリセルの形成において、
２つの基板を用いると有利で、両方の基板が同じ材料で
あると有利である。基板はガラス、サファイヤ、ポリカ
ーボネート及び石英から選ぶと有利である。ホログラフ
ィ蓄積システムに用いる波長に対して透明で、メモリセ
ルに適した機械的特性をもつ任意の他の材料も、基板と
して使用できる。基板は約０．１乃至約１ｍｍの厚さが
有利である。最初の基板は典型的な場合、約０．１乃至
約１０波／ｃｍの表面平坦及び伝搬平坦値と、約０．１
又はそれ以下の湾曲をもつであろう。市販のディスプレ
イガラスはこれらの特性を示し、典型的な場合、重大な
くぼみやピークはなく、４０／２０かそれより良いひっ
かき及び掘削を意味する。そのようなディスプレイガラ
スは、メモリセルの作製に適している。
【００５１】上述のように、基板に近い屈折率を有する
粘着剤をもつと有利である。なぜなら、多層製品を貫く
ほぼ均一な屈折率は、ＯＰＬの変化を減らすからであ
る。ディジタルホログラフィ用のホログラフィメモリセ
ルの作製において、第１の基板の屈折率は第２の基板の
屈折率に少数第２位まで等しいと有利で、粘着剤の屈折
率は第１及び第２の基板の平均屈折率に少数第２位まで
等しいと有利である。
【００５２】ホログラフィセル中の粘着剤は連続した層
として供給され、粘着剤はフォトポリマ、すなわち焼き
なまし後、ホログラフィデータ蓄積システム中にデータ
を蓄積できるものであると有利である。上述のようなフ
ォトポリマは、本発明に従って作られるホログラフィメ
モリセル用の粘着剤として有用であることがわかってい
る。なぜなら、これらの材料は粘着剤と感光記録媒体の
両方として働くからである。焼きなまし後、メモリセル
中の粘着剤の厚さは、約０．２乃至約２ｍｍであると有
利である。焼きなまし後のメモリセルは約０．０５乃至
約０．２５波／ｃｍの表面平坦度及び伝搬平坦度をもつ
と有利で、約０．０５乃至約０．１波／ｃｍであるとよ
り有利で、約１０-2又はそれ以下の湾曲さをもつと有利
である。メモリセルはまた、約０．９又はそれ以上のス
トレール値をもつと有利である。上述のように、これら
の特性はホルダの内表面の連続した表面部分の領域内の
多層製品の領域と基本的に粘着剤が基板に接触する所を
さす。粘着剤接触領域を越えて延びる基板の領域は、典
型的な場合、これらの特性を示さない。このことは図９
に示されており、この図は例１に従って作られるディジ
タルホログラフィメモリセルとして有利な多層製品の伝
搬平坦度分布である。均一な環状領域は、粘着剤の連続
した層が基板の内表面に接触し、ホルダ中の真空溝によ
り規定される領域内にある所である。高密度のフリンジ
を有する外側の領域は、ガラスと基板間にフォトポリマ
をもたず、フリンジ密度は２つの基板の補正されない伝
搬平坦性から生じる。
【００５３】本発明の方法に従って作られるメモリセル
の特性を評価するための有用な品質係数又はＱは、あら
かじめ決められた領域全体で測定したストレール値を波
／ｃｍ ｒｍｓ伝搬平坦値で割ったものである。以下の
例において、５０ｍｍ径の環が測定される。本発明の方
法に従って作られるメモリセルは、１以上のＱをもつと
有利で、４以上であるとより有利である。比較として、
ディスプレイガラスは典型的な場合、約０．５のＱを有
し、窓ガラスは約０．０５のＱをもつ。ホルダの内表面
の少なくとも連続した表面部分に本質的に従うように、
基板を保持する本発明の工程が無いと、間に配置された
粘着剤を有する２つの基板から成るセルは、基本的にガ
ラスの最初のストレール、ホルダの歪及び粘着剤の収縮
により、約０．０８のＱをもつであろう。
【００５４】本発明は更に、たとえば光システムのよう
なシステムに関連し、それには１ないし２つの基板、基
板に固着された少なくとも部分的に焼きなまされた粘着
剤の層を含む多層製品が含まれ、その場合製品は約０．
０５乃至０．２５波／ｃｍ、好ましくは０．０５乃至約
０．１波／ｃｍの表面平坦性及び伝送平坦性の値を有
し、基板上の粘着剤により働く力は、この平坦さを保
つ。ある種の用途においては、基本的に２つの基板を有
すると、製品はまた約１０-2又はそれ以下（反射用には
約１０-5又はそれ以下が有利である）の湾曲をもち、そ
のような用途において、基板上の粘着剤により働く力
は、湾曲も保つ。システムはホログラフィ蓄積システ
ム、特にディジタルホログラフィデータ蓄積システムで
あることが可能である。ホログラフィ蓄積システムの要
素については、例えば上で述べた引用した文献中に述べ
られているとともに、エス．パプ（S.Papuu ）、“ホロ
グラフィメモリーズ、重要レビュー”インターナショナ
ル・ジャーナル・オプトエレクトロニクス（Int.J.Opte
lect）５，２５１−２９２頁（１９９０）；エル．ヘッ
セリンク（L.Hesselink ）ら、“光屈折媒体で作った光
メモリ”、オプティカル・カンタム・エレクトロニクス
（Opt.Quant.Elect.）２５，６１１−６６１頁（１９９
３）及びディー．プサルティス（D.Psaltis ）ら、“ホ
ログラフィ・メモリーズ”サイエンティフィック・アメ
リカン（Scientific American ），１９９５年１１月に
述べられれており、その内容はここに引用文献として含
まれている。ホログラフィデータ蓄積システムのメモリ
セルのパラメータについては、上述のようなものであ
る。本発明の以下の例で、更に明らかになるであろ。以
下の例は、単に例を示すことを意図したものである。
【００５５】実施例１ ディジタルホログラフィデータ蓄積システムに適したメ
モリセルを、以下の工程に従って作った。０．０５波／
ｃｍの表面平坦さを有する２個の１０ｃｍ径、約１．９
ｃｍ厚のガラス板を得て、約３．２ｍｍの幅と約１．６
ｍｍの深さの環状真空導入溝を、それぞれの中に刻ん
だ。溝は約６．４ｃｍの内径を有する。ホルダはアセト
ンと次にメタノールを用いて、滴下及び引張り法によ
り、清浄化される。一方の側に反射防止膜を有し、７５
ｍｍ×７５ｍｍ×１．１１ｍｍで、約１波／ｃｍの表面
平坦さ及び伝搬平坦さをもつディスプレイガラスの正方
形ガラス基板を、同様に清浄化した。ホルダは一方が他
方の上に配置され、それらの真空溝が約０．１気圧の真
空容器にとりつけられるように、装置中にマウントし
た。ホルダは底部ホルダがピッチ及びローに回転でき、
しかしｚ軸に沿っては移動できず、一方上部ホルダはピ
ッチ及びローには固定され、しかしｚ軸に沿っては垂直
に動けるように構成された。ホルダの平行度を測定する
ために、広げて、平行にしたＨｅＮｅレーザビームをわ
ずかな角度で上から、ホルダの中心部分に向けた。ホル
ダはほぼ接触するようにした時、ホルダの２つの内表面
からの反射は、ホルダの平行度を示した。底部ホルダは
干渉反射が一つ目環状パターンを示し、平行関係が０．
０５波／ｃｍ以内になったことを示すまで、調整した。
【００５６】平行が達成されると、上部ホルダを上に移
動させ、真空ポンプを始動させ、基板はその側がホルダ
に接触した反射防止被膜を有するように、ホルダの内表
面上に基板を置いた。真空（約０．１気圧）の力によ
り、基本的に真空溝により囲まれ、それらを含む領域上
で、基板はホルダの表面に本質的に従った。ＮＶＣから
成る約０．４ｍｌの粘着剤を、ＮＶＣが小さな液滴を形
成するまで、注射器及び皮下注射針で底部基板の内表面
上に導入した。（６５ｍｍ径の液滴を形成するのに必要
な粘着性液体の量は、層厚の２５０μｍ当たり約１ｍｌ
である。）上部基板は粘着剤と接触するまで下し、基板
間の力により、基板の内表面全体で環状パターンに、粘
着剤が広がった。
【００５７】ポリマ層圧は約１００μｍに調整され、フ
ィゾー法で平行度を確認した。セルに上方から一様な強
度（３５ｍＷ／ｃｍ2 、波長５４６ｎｍ）の水銀ランプ
を、ディフューザを通し、１２０秒間照射し、ＮＶＣ層
を約９０％焼きなました。次に、真空を解放し、多層セ
ルをとり除いた。
【００５８】粘着剤が基板に接触する完成したセルの領
域は、ホルダの真空溝により規定される連続した表面部
分内にあり、０．１波／ｃｍより良いｒｍｓ表面及び伝
搬平坦値、０．９７４のストレール値、１０-4以下の湾
曲、約１０のＱを有した。これらのパラメータはジゴ・
フィゾー干渉計で測定された。図９はこのセルの伝搬平
坦度分布を示し、同じデバイスにより生じたものと同じ
であった。暗／明／暗又は明／暗／明フリンジの各グル
ープは、半波長に等価である。分布は真空溝により規定
された環の中の基板に、粘着剤が接触する領域内での優
れた平坦一様性を明らかに示し、この接触領域の外側で
は変化があることを示している。
【００５９】実施例２ 実施例１と同じプロセスに従い、第２のメモリセルを作
った。基板に粘着剤が接触する完成したセルの領域は、
約０．０６５波／ｃｍのｒｍｓ表面及び伝搬平坦性、
０．９８より良いストレール値、約１５のＱに対し１０
-4より小さい湾曲を有した。伝搬平坦度の分布が図１０
に示されており、実施例１と同様に得た。やはり、粘着
剤の領域は優れた特性を示した。
【００６０】比較例１ この比較実験において、巻いたアルミニウムでできた従
来の環状真空溝を用いた。環は約１ｃｍの厚さと約１０
０μｍ×１００μｍの真空溝を有する。環は約５波／ｃ
ｍの平坦さを有したが、本発明のホルダの連続した表面
部分は有しなかった。上の例と同じ型の２つの基板を用
いた。実施例１及び２と同様にして、上と同じ真空度
で、真空環上に基板を置いた後、基板の平行が達成され
た。上で用いたＮＶＣ粘着剤を下部基板上に配置し、上
部基板を粘着剤と接触するよう移動させ、約３００μｍ
の粘着層を作った。すべて実施例１及び２と同様に、粘
着剤を焼きなました。粘着層は焼きなまし前に、厚さを
調整した。実施例１のようにとった伝搬平坦度分布が、
図１１に示されている。分布は粘着剤が配置された領域
内で多くの平坦性のふらつきがあることを示している。
多層製品のストレール値は、０．０２４であった。
【００６１】比較例２ この比較実験では、上の例と同じディスプレイガラスの
２つの基板を用いた。上の例で用いたのと同じＮＶＣ粘
着剤を、上と同様に、下部基板の中央部分上に置いた。
約１０ｍｍの幅と約７５ｍｍの長さを有する２つの約３
００μｍ厚のマイラスペーサを、下部基板の端部に沿っ
て置き、上部基板をスペーサの最上部上に置いた。基板
はスペーサの領域上でともに固定し、締め具は基板の端
部から約１０ｍｍ、基板の中心方向に延びる。粘着層は
スペーサと同じ厚さ、約３００μｍであった。次に、上
の例と同様に、粘着剤を焼きなました。図１２は上と同
様にとった伝搬平坦度分布を示し、この方法では結果が
悪かったことを示している。多層製品のストレール値
は、０．０３２であった。
【００６２】実施例３ 上で用いた型の基板１つを、実施例１及び２で用いた型
の単一のホルダ上に置いた。約１ｍｍ厚、約７５ｍｍ径
のＮＶＣ粘着剤の環状層を、上と同じ様に基板上に置
き、上述のように層を焼きなました。ホルダからとりは
ずすと、基板はホルダの働きにより、表面平坦性を維持
したが、粘着剤の収縮によって応力が発生し、そのため
放物線状の湾曲が生じた。図１３は反射モードを除き上
の例と同じ装置でとった平坦度分布で、粘着剤の領域内
で得られた二層製品が優れた放物線特性をもつことを示
している。
【００６３】ここで述べた本発明の説明及び実施例を考
えると、当業者には、本発明の他の実施例が明らかにな
るであろう。
【図面の簡単な説明】
【図１】製品中の湾曲を示す図である。
【図２】多層製品を貫く物理的及び光学的光路長を示す
図である。
【図３ａ】本発明の一実施例のホルダの内表面を示す図
である。
【図３ｂ】図３ａのホルダの線ａ−ａ’に沿った断面側
面図である。
【図４ａ】本発明の別の実施例のホルダの内表面を示す
図である。
【図４ｂ】図４ａのホルダの線ｂ−ｂ’に沿った断面側
面図である。
【図５】本発明の方式の一実施例中の工程を示す図であ
る。
【図６ａ】本発明の方法の更に別の実施例中の工程を示
す図である。
【図６ｂ】本発明の方法の更に別の実施例中の工程を示
す図である。
【図６ｃ】本発明の方法の更に別の実施例中の工程を示
す図である。
【図７】本発明に従って作られる製品の光学特性を保つ
のに必要な力を示す図である。
【図８】本発明に従って作られる製品の光学特性を保つ
のに必要な力を示す図である。
【図９】本発明に従って作られる三層製品の平坦さプロ
ファイルを示す図である。
【図１０】本発明に従って作られる三層製品の平坦さプ
ロファイルを示す図である。
【図１１】従来の方法により作られる三層製品の平坦さ
プロファイルを示す図である。
【図１２】従来の方法により作られる三層製品の平坦さ
プロファイルを示す図である。
【図１３】本発明に従って作られる二層製品の平坦さプ
ロファイルを示す図である。
【符号の説明】 １０，１２，１４ 層 ２０，２２ ホルダ ２４，２６ 基板 ２８ 粘着剤 ３０ ホルダ ３２ 基板 ３４ 粘着剤 ５０，５２，５４ 基板 ５６ 粘着剤 ６０ ホルダ ６２ 真空溝 ６４，６６ 表面 ７０ ホルダ ７２ 外部真空溝、溝 ７４ 内部真空溝、溝 ７６，７８，８０ 表面
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 アレキサンダー ローウェ ハリス アメリカ合衆国 07040 ニュージャーシ ィ，メイプルウッド，ケンシントン テラ ス 21 (72)発明者 ニコラス ジェームス レヴィノス アメリカ合衆国 08827 ニュージャーシ ィ，ハンプトン，ロード２／ボックス655, メイン ストリート 163

Claims (31)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項１】 第１のホルダを有する第１の基板の外表
    面を保持し、それによって第１の基板の外表面が、第１
    のホルダの内表面に保たれる工程；第２のホルダを有す
    る第２の基板の外表面を保持し、それによって第２の基
    板の外表面が、第２のホルダの内表面に保たれる工程；
    第１及び第２のホルダの内表面を、選択された角度関係
    で、相互に面するように配置する工程；第１の基板の内
    表面及び第２の基板の内表面から選択された１乃至複数
    の表面上に、粘着剤を配置する工程；第１及び第２の基
    板の内表面が粘着剤に接触するよう、第１及び第２のホ
    ルダを相互に移動させる工程；及び第１及び第２のホル
    ダの内表面を多層製品を形成するために選択された角度
    関係に保ったまま、少なくとも部分的に粘着剤を焼きな
    ます工程；を含む製品の作製方法において、 第１及び第２のホルダをとり除いた後、少なくとも部分
    的に焼きなました粘着剤は、多層製品をそれが第１及び
    第２のホルダにより保持された形態に保つことを特徴と
    する製品の作製方法。
  2. 【請求項２】 第１のホルダ及び第２のホルダの少なく
    とも１つの内表面は、約０．４乃至約０．７μｍの波長
    に対し、約０．０５乃至約０．２５波／ｃｍの表面平坦
    度を有する請求項１記載の方法。
  3. 【請求項３】 第１及び第２のホルダはその中に少なく
    とも１つの真空溝を有するガラス板である請求項２記載
    の方法。
  4. 【請求項４】 保持工程は真空の印加、静電的引力、磁
    気的引力及び一時的な化学的接着から選択したプロセス
    を用いて行われる請求項１記載の方法。
  5. 【請求項５】 多層製品は約０．４乃至約０．７μｍの
    波長に対し、約０．０５乃至約０．２５波／ｃｍの表面
    平坦度及び約０．０５乃至約０．２５波／ｃｍの伝搬平
    坦度を有する請求項２記載の方法。
  6. 【請求項６】 多層製品は０．９又はそれ以上のストレ
    ール値を有する請求項２記載の方法。
  7. 【請求項７】 多層製品は約１０-2又はそれ以下の湾曲
    を有する請求項１記載の方法。
  8. 【請求項８】 第１及び第２の基板は同じか異なり、ガ
    ラス、サファイア、ポリカーボネート及び石英から選択
    される請求項１記載の方法。
  9. 【請求項９】 粘着剤は光で焼きなましできるポリマを
    含む請求項１記載の方法。
  10. 【請求項１０】 光で焼きなませるポリマは、感光性で
    ある請求項９記載の方法。
  11. 【請求項１１】 第１の基板の屈折率は第２の基板の屈
    折率に小数第２位まで等しく、少なくとも部分的な焼き
    なましの後、粘着剤の屈折率は第１及び第２の基板の平
    均屈折率に少数第２位まで等しい請求項１記載の方法。
  12. 【請求項１２】 焼きなまし工程中、第１のホルダ及び
    第２のホルダの少なくとも１つは、ｚ軸に沿って動ける
    請求項１記載の方法。
  13. 【請求項１３】 選択された角度関係は平行な関係であ
    る請求項１記載の方法。
  14. 【請求項１４】 ホルダで基板の外表面を保持し、それ
    によって基板の外表面がホルダの内表面に保持される工
    程；基板の内表面上に、粘着剤を配置する工程；及び粘
    着剤を少なくとも部分的に焼きなまし、多層製品を形成
    する工程を含む製品の作製方法において、 ホルダの除去後、少なくとも部分的に焼きなまされた粘
    着剤により働く力が、基板に形態を与えることを特徴と
    する方法。
  15. 【請求項１５】 ホルダの内表面は約０．４乃至約０．
    ７μｍの波長に対し、約０．０５乃至約０．２５波／ｃ
    ｍの表面平坦度を有する請求項１４記載の方法。
  16. 【請求項１６】 多層製品は約０．４乃至約０．７μｍ
    の波長に対し、約０．０５乃至約０．２５波／ｃｍの表
    面平坦度を有する請求項１５記載の方法。
  17. 【請求項１７】 粘着剤は焼きなまし中収縮し、多層製
    品が放物線状を示すように、均一な層で環状パターンに
    配置される請求項１４記載の方法。
  18. 【請求項１８】 少なくとも部分的に焼きなました粘着
    剤の屈折率は、基板の屈折率に少数第２位まで等しい請
    求項１５記載の方法。
  19. 【請求項１９】 ホルダは少なくとも１つの真空溝をそ
    の中に有するガラス板である請求項１５記載の方法。
  20. 【請求項２０】 粘着剤は光で焼きなましできるポリマ
    である請求項１４記載の方法。
  21. 【請求項２１】 光で焼きなましできるポリマは、感光
    性である請求項２０記載の方法。
  22. 【請求項２２】 基板及び基板に固着された少なくとも
    部分的に焼きなまされた粘着剤の層を含む多層製品を含
    むシステムにおいて、製品は約０．４乃至約０．７μｍ
    の波長に対し、約０．０５乃至約０．２５波／ｃｍの表
    面平坦度と約０．０５乃至約０．２５波／ｃｍの伝搬平
    坦度を有し、基板上の粘着剤により働く力は、表面及び
    伝搬平坦度を保つことを特徴とするシステム。
  23. 【請求項２３】 多層製品は更に、粘着剤が固着される
    第２の基板を含み、多層製品は約１０-2又はそれ以下の
    湾曲を有し、粘着剤は湾曲を保つ請求項２２記載のシス
    テム。
  24. 【請求項２４】 多層製品は０．９又はそれ以上のスト
    レール値を有する請求項２３記載のシステム。
  25. 【請求項２５】 第１及び第２の基板は同じか異なり、
    ガラス、サファイア、ポリカーボネート及び石英から選
    択される請求項２３記載のシステム。
  26. 【請求項２６】 粘着剤は光で焼きなましできるポリマ
    を含む請求項２３記載のシステム。
  27. 【請求項２７】 光で焼きなませるポリマは感光性であ
    る請求項２６記載のシステム。
  28. 【請求項２８】 第１の基板の屈折率は、第２の基板の
    屈折率に少数第２位まで等しく、少なくとも部分的に焼
    きなまされた粘着剤の屈折率は、第１及び第２の基板の
    平均屈折率に少数第２位まで等しい請求項２３記載のシ
    ステム。
  29. 【請求項２９】 システムはホログラフィ蓄積システム
    で、多層製品はホログラフィーメモリセルである請求項
    ２３記載のシステム。
  30. 【請求項３０】 システムはディジタルホログラフィ蓄
    積システムである請求項２９記載のシステム。
  31. 【請求項３１】 ホログラフィメモリセルのストレール
    ／ｒｍｓ比は、約１又はそれ以上である請求項３０記載
    の方法。
JP10152477A 1997-06-02 1998-06-02 多層光学製品の作製方法及び多層光学製品を有するシステム Pending JPH1172601A (ja)

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
US08/867563 1997-06-02
US08/867,563 US5932045A (en) 1997-06-02 1997-06-02 Method for fabricating a multilayer optical article

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JPH1172601A true JPH1172601A (ja) 1999-03-16

Family

ID=25350035

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP10152477A Pending JPH1172601A (ja) 1997-06-02 1998-06-02 多層光学製品の作製方法及び多層光学製品を有するシステム

Country Status (4)

Country Link
US (2) US5932045A (ja)
JP (1) JPH1172601A (ja)
KR (1) KR19990006571A (ja)
TW (1) TW454151B (ja)

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR100950187B1 (ko) 2002-03-08 2010-03-29 후지필름 가부시키가이샤 편광판 보호필름 및 편광판
JP2012504777A (ja) * 2008-10-01 2012-02-23 バイエル・マテリアルサイエンス・アクチェンゲゼルシャフト 自己現像性ポリマーをベースとする体積ホログラフィックのための媒体

Families Citing this family (69)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US6160645A (en) * 1999-10-26 2000-12-12 Lucent Technologies Inc. Holographic media
JP2002170247A (ja) * 2000-11-27 2002-06-14 Sony Corp ホログラム記録媒体、ホログラム記録再生装置並びにホログラム記録再生方法
JP2004523057A (ja) * 2001-05-14 2004-07-29 アプリリス，インコーポレイテッド 正確な平行度の表面を有する光学記録媒体の製造方法とその装置
US6695213B2 (en) 2001-06-27 2004-02-24 Inphase Technologies, Inc. Holographic card formats for presentation and security
US6909529B2 (en) * 2001-07-31 2005-06-21 Inphase Technologies, Inc. Method and apparatus for phase correlation holographic drive
US6721076B2 (en) 2001-08-03 2004-04-13 Inphase Technologies, Inc. System and method for reflective holographic storage with associated multiplexing techniques
US7112359B2 (en) * 2001-08-22 2006-09-26 Inphase Technologies, Inc. Method and apparatus for multilayer optical articles
US20030044576A1 (en) * 2001-08-22 2003-03-06 Lisa Dhar Method and apparatus for an encased optical article
US7001541B2 (en) * 2001-09-14 2006-02-21 Inphase Technologies, Inc. Method for forming multiply patterned optical articles
US6798547B2 (en) 2001-10-09 2004-09-28 Inphase Technologies, Inc. Process for holographic multiplexing
US20030076765A1 (en) * 2001-10-18 2003-04-24 Ayres Mark R. Holographic recording using contact prisms
US6825960B2 (en) * 2002-01-15 2004-11-30 Inphase Technologies, Inc. System and method for bitwise readout holographic ROM
ATE443911T1 (de) * 2002-04-11 2009-10-15 Inphase Tech Inc Holographische speichermedien
US8199388B2 (en) * 2002-11-22 2012-06-12 Inphase Technologies, Inc. Holographic recording system having a relay system
US20050036182A1 (en) * 2002-11-22 2005-02-17 Curtis Kevin R. Methods for implementing page based holographic ROM recording and reading
US8786923B2 (en) * 2002-11-22 2014-07-22 Akonia Holographics, Llc Methods and systems for recording to holographic storage media
WO2004066034A2 (en) * 2003-01-15 2004-08-05 Inphase Technologies, Inc. Supplemental memory having media directory
JP2004287138A (ja) * 2003-03-24 2004-10-14 Konica Minolta Holdings Inc ホログラフィック記録用組成物、ホログラフィック記録メディア及びその記録方法
US7066129B2 (en) * 2003-10-06 2006-06-27 General Motors Corporation Intake manifold and runner apparatus
JP4407226B2 (ja) * 2003-10-08 2010-02-03 Ｔｄｋ株式会社 ホログラフィック記録媒体及びその製造方法
US8071260B1 (en) * 2004-06-15 2011-12-06 Inphase Technologies, Inc. Thermoplastic holographic media
US20060019073A1 (en) * 2004-07-19 2006-01-26 Nmotion Llc Personalization and advertising display for electronic devices
JPWO2006018986A1 (ja) * 2004-08-18 2008-05-08 コニカミノルタエムジー株式会社 ホログラフィック記録メディア、ホログラフィック記録方法およびホログラフィック情報メディア
US20060082850A1 (en) 2004-10-18 2006-04-20 Weaver Samuel P Covert surface relief hologram design, fabrication and optical reconstruction for security applications
US7736818B2 (en) * 2004-12-27 2010-06-15 Inphase Technologies, Inc. Holographic recording medium and method of making it
US7704643B2 (en) 2005-02-28 2010-04-27 Inphase Technologies, Inc. Holographic recording medium with control of photopolymerization and dark reactions
US20060199081A1 (en) * 2005-03-04 2006-09-07 General Electric Company Holographic storage medium, article and method
US20060291022A1 (en) * 2005-05-26 2006-12-28 Inphase Technologies, Inc. Optical delay line in holographic drive
US7675025B2 (en) 2005-05-26 2010-03-09 Inphase Technologies, Inc. Sensing absolute position of an encoded object
US20060279819A1 (en) * 2005-05-26 2006-12-14 Inphase Technologies, Inc. Laser mode stabilization using an etalon
US7466411B2 (en) * 2005-05-26 2008-12-16 Inphase Technologies, Inc. Replacement and alignment of laser
US8305700B2 (en) * 2005-05-26 2012-11-06 Inphase Technologies, Inc. Holographic drive head and component alignment
US7742211B2 (en) * 2005-05-26 2010-06-22 Inphase Technologies, Inc. Sensing and correcting angular orientation of holographic media in a holographic memory system by partial reflection, the system including a galvano mirror
US7633662B2 (en) * 2005-05-26 2009-12-15 Inphase Technologies, Inc. Holographic drive head alignments
US20060280096A1 (en) * 2005-05-26 2006-12-14 Inphase Technologies, Inc. Erasing holographic media
US20060275670A1 (en) * 2005-05-26 2006-12-07 Inphase Technologies, Inc. Post-curing of holographic media
US7710624B2 (en) * 2005-05-26 2010-05-04 Inphase Technologies, Inc. Controlling the transmission amplitude profile of a coherent light beam in a holographic memory system
US20060281021A1 (en) * 2005-05-26 2006-12-14 Inphase Technologies, Inc. Illuminative treatment of holographic media
US7480085B2 (en) * 2005-05-26 2009-01-20 Inphase Technologies, Inc. Operational mode performance of a holographic memory system
US7548358B2 (en) * 2005-05-26 2009-06-16 Inphase Technologies, Inc. Phase conjugate reconstruction of a hologram
US7397571B2 (en) * 2005-05-26 2008-07-08 Inphase Technologies, Inc. Methods and systems for laser mode stabilization
US7649661B2 (en) * 2005-07-13 2010-01-19 Inphase Technologies, Inc. Holographic storage device having a reflective layer on one side of a recording layer
US20070082179A1 (en) * 2005-10-07 2007-04-12 Wade James J Method and apparatus for forming optical articles
US7173744B1 (en) 2005-12-02 2007-02-06 Inphase Technologies, Inc. Article comprising holographic medium between substrates having environmental barrier seal and process for preparing same
US8215946B2 (en) * 2006-05-18 2012-07-10 Molecular Imprints, Inc. Imprint lithography system and method
EP2137732B1 (en) 2007-04-11 2012-07-25 Bayer MaterialScience AG Advantageous recording media for holographic applications
EP2210732B1 (en) * 2007-09-28 2020-01-22 Toray Industries, Inc. Method and device for manufacturing sheet having fine shape transferred thereon
US20090103416A1 (en) * 2007-10-17 2009-04-23 Inphase Technologies, Inc. Layout method for multiplexed holograms
US8336188B2 (en) * 2008-07-17 2012-12-25 Formfactor, Inc. Thin wafer chuck
US20100014133A1 (en) * 2008-07-21 2010-01-21 Inphase Technologies, Inc. Method to modify and apply edge seal materials in laminated media
WO2010011899A1 (en) * 2008-07-24 2010-01-28 Inphase Technologies, Inc. Holographic storage medium and method for gated diffusion of photoactive monomer
US8323854B2 (en) 2009-04-23 2012-12-04 Akonia Holographics, Llc Photopolymer media with enhanced dynamic range
WO2012135407A1 (en) 2011-04-01 2012-10-04 Am General Llc Transparent armor structure
US20200354594A1 (en) 2019-05-08 2020-11-12 Facebook Technologies, Llc Thermally reversible and reorganizable crosslinking polymers for volume bragg gratings
US11718580B2 (en) 2019-05-08 2023-08-08 Meta Platforms Technologies, Llc Fluorene derivatized monomers and polymers for volume Bragg gratings
US20200355997A1 (en) 2019-05-08 2020-11-12 Facebook Technologies, Llc Thianthrene derivatized monomers and polymers for volume bragg gratings
US11634528B2 (en) 2019-05-08 2023-04-25 Meta Platforms Technologies, Llc Latent imaging for volume Bragg gratings
US20210155639A1 (en) 2019-11-27 2021-05-27 Facebook Technologies, Llc Thiophosphate and phosphine sulfide derivatized monomers and polymers for volume bragg gratings
US20210155581A1 (en) 2019-11-27 2021-05-27 Facebook Technologies, Llc Aromatic substituted ethane-core monomers and polymers thereof for volume bragg gratings
US20210155584A1 (en) 2019-11-27 2021-05-27 Facebook Technologies, Llc Aromatic substituted methane-core monomers and polymers thereof for volume bragg gratings
US20210155585A1 (en) 2019-11-27 2021-05-27 Facebook Technologies, Llc Anthraquinone derivatized monomers and polymers for volume bragg gratings
US11780819B2 (en) 2019-11-27 2023-10-10 Meta Platforms Technologies, Llc Aromatic substituted alkane-core monomers and polymers thereof for volume Bragg gratings
US11879024B1 (en) 2020-07-14 2024-01-23 Meta Platforms Technologies, Llc Soft mold formulations for surface relief grating fabrication with imprinting lithography
US20220153895A1 (en) 2020-11-13 2022-05-19 Facebook Technologies, Llc Substituted propane-core monomers and polymers thereof for volume bragg gratings
US20220153693A1 (en) 2020-11-13 2022-05-19 Facebook Technologies, Llc Substituted mono- and poly-phenyl-core monomers and polymers thereof for volume bragg gratings
TW202240285A (zh) 2021-03-19 2022-10-16 美商元平台技術有限公司 潛在全訊光柵的紀錄及其動態範圍的放大
TW202240286A (zh) 2021-03-19 2022-10-16 美商元平台技術有限公司 記錄潛在的全像光柵及其動態範圍之擴大
TW202239016A (zh) 2021-03-19 2022-10-01 美商元平台技術有限公司 全訊光柵中的空間變化動態範圍
US20220332896A1 (en) 2021-03-31 2022-10-20 Facebook Technologies, Llc Halogenated monomers and polymers for volume bragg gratings

Family Cites Families (22)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US3417454A (en) * 1966-05-16 1968-12-24 Univis Inc Method of blocking lenses
US3905778A (en) * 1973-08-01 1975-09-16 Westinghouse Electric Corp Mirror with optically polished surface
US3932148A (en) * 1975-01-21 1976-01-13 Criterion Manufacturing Company, Inc. Method and apparatus for making complex aspheric optical surfaces
US4183545A (en) * 1978-07-28 1980-01-15 Advanced Simiconductor Materials/America Rotary vacuum-chuck using no rotary union
US4220491A (en) * 1978-10-19 1980-09-02 Ppg Industries, Inc. Method for forming an accurately assembled laminate utilizing a vacuum holding press
US4537827A (en) * 1983-02-07 1985-08-27 Hughes Aircraft Company Optically flat semiconductor baseplate structure
US4470856A (en) * 1983-02-07 1984-09-11 Hughes Aircraft Company Self-compensating hydrostatic flattening of semiconductor substrates
US4579616A (en) * 1983-11-14 1986-04-01 The Perkin-Elmer Corporation Method of fabrication of an optically flat membrane
US4506184A (en) * 1984-01-10 1985-03-19 Varian Associates, Inc. Deformable chuck driven by piezoelectric means
US4737824A (en) * 1984-10-16 1988-04-12 Canon Kabushiki Kaisha Surface shape controlling device
JPH0750670B2 (ja) * 1987-07-31 1995-05-31 日本電信電話株式会社 マスク接着装置およびその使用方法
US5160560A (en) * 1988-06-02 1992-11-03 Hughes Aircraft Company Method of producing optically flat surfaces on processed silicon wafers
NL8902271A (nl) * 1989-09-12 1991-04-02 Philips Nv Werkwijze voor het verbinden van twee lichamen.
US5131968A (en) * 1990-07-31 1992-07-21 Motorola, Inc. Gradient chuck method for wafer bonding employing a convex pressure
FR2688323B1 (fr) * 1992-03-03 1994-04-29 France Telecom Machine d'assemblage pour cellules a cristaux liquides.
GB9321900D0 (en) * 1993-10-23 1993-12-15 Dobson Christopher D Method and apparatus for the treatment of semiconductor substrates
US5605595A (en) * 1993-12-18 1997-02-25 Ibm Corporation Faceplate bonding process and apparatus therefor
EP0683511B1 (en) * 1994-05-18 2000-02-23 AT&T Corp. Device fabrication involving planarization
US5433911A (en) * 1994-05-31 1995-07-18 Eastman Kodak Company Precisely aligning and bonding a glass cover plate over an image sensor
US5515167A (en) * 1994-09-13 1996-05-07 Hughes Aircraft Company Transparent optical chuck incorporating optical monitoring
US5670009A (en) * 1995-02-28 1997-09-23 Eastman Kodak Company Assembly technique for an image sensor array
US5760864A (en) * 1995-07-20 1998-06-02 Kabushiki Kaisha Toshiba Manufacturing method of liquid display devices using a stainless steel suction plate having a phosphorus doped nickel coating

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR100950187B1 (ko) 2002-03-08 2010-03-29 후지필름 가부시키가이샤 편광판 보호필름 및 편광판
JP2012504777A (ja) * 2008-10-01 2012-02-23 バイエル・マテリアルサイエンス・アクチェンゲゼルシャフト 自己現像性ポリマーをベースとする体積ホログラフィックのための媒体

Also Published As

Publication number Publication date
US6156415A (en) 2000-12-05
KR19990006571A (ko) 1999-01-25
US5932045A (en) 1999-08-03
TW454151B (en) 2001-09-11

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JPH1172601A (ja) 多層光学製品の作製方法及び多層光学製品を有するシステム
EP1456020B1 (en) Method and apparatus for multilayer optical articles
KR0168662B1 (ko) 미세구조의 복합 플라스틱제품을 제조하는 방법
KR950014879B1 (ko) 홀로그래픽 스택 제조 방법
KR100215330B1 (ko) 복합 필름
KR20040000322A (ko) 방현성 반사방지필름의 제조방법
JP2001264520A (ja) 反射防止フィルム、偏光素子、および表示装置、ならびに反射防止フィルムの製造方法
JP4393042B2 (ja) 防眩性反射防止部材、及び光学部材
US5543271A (en) Optical recording and reproduction apparatus
JP4505346B2 (ja) 反射防止フィルム、偏光板、及びディスプレイ装置
JP4261349B2 (ja) 包まれた光学製品のための方法および装置
WO2007044685A2 (en) Multi-layer optical article with holders
KR950008952B1 (ko) 광정보기록매체
JPS6050835B2 (ja) 架橋硬化性塗料組成物
TW200301374A (en) Polarizing plate, production method thereof and liquid crystal display
JP2004004404A (ja) 反射防止フィルムおよびその製造方法ならびに画像表示装置
JP2012013852A (ja) ロール状偏光板のセット及びその製造方法並びに液晶パネルの製造方法
JPH08174741A (ja) 滑性フィルム
JP2004069877A (ja) 反射防止部材、製造方法、及び原版の製造方法、並びに光学部材
JPS63111167A (ja) 無機質薄膜で被覆されたプラスチツク物品の製法
US20070035068A1 (en) Method for producing a replication master, replication method and replication master
JP2928543B2 (ja) プラスチック部材のハードコート膜形成方法
JP2005298795A (ja) セルロースアシレートフィルム、ハードコートフィルムおよび情報記録担体
JP2000296583A (ja) ホログラム積層体
JPS59209136A (ja) 合成樹脂物品製造用マトリツクス