JPH1171457A - ポリイミドシロキサン - Google Patents

ポリイミドシロキサン

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JPH1171457A
JPH1171457A JP20356798A JP20356798A JPH1171457A JP H1171457 A JPH1171457 A JP H1171457A JP 20356798 A JP20356798 A JP 20356798A JP 20356798 A JP20356798 A JP 20356798A JP H1171457 A JPH1171457 A JP H1171457A
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JP
Japan
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mol
heat
bis
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phenyl
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Application number
JP20356798A
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English (en)
Inventor
Hiroshi Inoue
浩 井上
Seiichiro Takabayashi
誠一郎 高林
Tadao Muramatsu
忠雄 村松
Tsutomu Funakoshi
勉 船越
Tetsuharu Hirano
徹治 平野
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Ube Corp
Original Assignee
Ube Industries Ltd
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Publication of JPH1171457A publication Critical patent/JPH1171457A/ja
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    • HELECTRICITY
    • H05ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H05KPRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
    • H05K3/00Apparatus or processes for manufacturing printed circuits
    • H05K3/38Improvement of the adhesion between the insulating substrate and the metal
    • H05K3/386Improvement of the adhesion between the insulating substrate and the metal by the use of an organic polymeric bonding layer, e.g. adhesive

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  • Macromolecular Compounds Obtained By Forming Nitrogen-Containing Linkages In General (AREA)

Abstract

(57)【要約】 【目的】 有機極性溶媒に可溶性で弾性率が小さく、従
って柔軟性があり、しかも耐熱性の高いポリイミドシロ
キサンを提供する。 【構成】 2,3,3’,4’−ビフェニルテトラカル
ボン酸成分とビス〔(アミノフェノキシ)フェニル〕プ
ロパン類およびジアミノポリシロキサンからなるジアミ
ン成分とを重合およびイミド化することにより得られる
ポリイミドシロキサン。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】この発明は、2,3,3’,
4’−ビフェニルテトラカルボン酸又はその二無水物な
どを主成分とするテトラカルボン酸成分と、ジアミノポ
リシロキサン及びジ(フェノキシフェニル)プロパンま
たはジ(フェノキシフェニル)ヘキサフルオロプロパン
系の芳香族ジアミンからなるジアミン成分とから得られ
る有機極性溶媒に可溶性で弾性率が小さく耐熱性接着剤
などに好適なポリイミドシロキサンに係わるものであ
る。
【0002】この発明のポリイミドシロキサンは、耐熱
性接着剤の1成分として使用した耐熱性接着剤が、銅箔
などの各種金属箔と耐熱性支持材料(耐熱性フィルム、
無機シ−トなど)との張り合わせを比較的低温で行うこ
とができると共に、前記耐熱性接着剤で張り合わされた
積層体が、接着力が充分であり、しかも優れた耐熱性を
示すので、例えば、フレキシブル配線基板、TAB(Ta
pe Automated Bonding)用銅張基板などの製造に使用す
れば、その耐熱性接着剤を使用して得られた各基板が、
その後のハンダ処理などの各種の高温処理工程を安心し
て行うことができ、最終製品の品質を高めたり、不良率
を低下させたりできる。
【0003】
【従来の技術】従来、フレキシブル配線基板は、エポキ
シ樹脂やウレタン樹脂などの接着剤を用いて、芳香族ポ
リイミドフィルムと銅箔とを張り合わせることによって
製造されていることが多かった。しかし、公知の接着剤
を使用して製造されたフレキシブル配線基板は、その後
のハンダ工程で高温に曝されると、接着剤層において、
ふくれや剥がれを生じるという問題があり、接着剤の耐
熱性の向上が望まれていた。
【0004】前記の耐熱性接着剤として、イミド樹脂系
接着剤が提案されており、例えば、N,N’−(4,
4’−ジフェニルメタン)ビスマレイミドと、4,4’
−ジアミノジフェニルメタンからなる予備縮合物が知ら
れている。しかし、この予備縮合物自体は、脆いため
に、フレキシブル回路基板用の接着剤としては適してい
ない。
【0005】前記の欠点を改良する方法として、ベンゾ
フェノンテトラカルボン酸と芳香族ジアミンとから得ら
れる芳香族ポリイミドとポリビスマレイミドとを混合し
た樹脂組成物から接着性フィルム(ドライフィルム)を
形成し、その接着性フィルムをポリイミドフィルムなど
の耐熱性フィルムと銅箔との間に挟み込んで圧着する方
法が提案されている(特開昭62−232475号公報
および特開昭62−235382号公報を参照)。
【0006】しかし、前記の接着性フィルムは前記の芳
香族ポリイミドの軟化温度が高いためその軟化点が18
0℃以上となり、ポリイミドフィルムと銅箔との接着
を、約260−280℃程度の高い温度下で、しかも約
30−60kg/cm2 程度の高い圧力下で行う必要が
あり、このような接着条件では、有機樹脂製の圧着ロ−
ルを使用して連続的にポリイミドフィルムと銅箔とをラ
ミネ−トすることが極めて困難であり実用性という点で
問題であった。
【0007】なお、配線板等の電子部品のコ−ティング
用組成物として、芳香族ポリイミドにエポキシ樹脂を配
合した樹脂溶液(ワニス)が、前記樹脂硬化物からなる
耐熱性コ−ティング層と配線板等との接着性を改良する
ために種々提案されている。しかし、公知の芳香族ポリ
イミド系組成物は、前述のように銅張基板の製造におけ
る「銅箔と芳香族ポリイミドフィルムとを接着するため
の接着剤」としては、張り合わせ又は硬化の温度が高く
なったり、芳香族ポリイミドとエポキシ樹脂との相溶性
又は芳香族ポリイミドと溶媒との相溶性が低かったり、
あるいは、接着・硬化した後の接着剤層が柔軟でなかっ
たりという問題があり、実際に接着剤として使用できる
ものではなかった。
【0008】
【発明が解決しようとする課題】この発明の目的は、前
述の公知の接着剤における問題点が解消されていて、接
着剤溶液の塗布、乾燥、銅箔のラミネ−ト、及び接着剤
層の乾燥(硬化)からなる工程を経て、耐熱性フィルム
と各種金属箔とを好適に張り合わすことができる「高温
度での高い接着性を示す耐熱性接着剤」などに好適な有
機極性溶媒に可溶なポリイミドシロキサンを提供するこ
とを目的とするものである。
【0009】
【課題を解決するための手段】すなわち、この発明は、
一般式(I)
【0010】
【化3】
【0011】〔ただし、式中のXは60モル%以上、特
に80−100モル%が2,3,3’,4’−ビフェニ
ルテトラカルボン酸二無水物残基で、残部が3,3’,
4,4’−ビフェニルテトラカルボン酸二無水物、3,
3’,4,4’−ベンゾフェノンテトラカルボン酸二無
水物、3,3’,4,4’−ジフェニルエ−テルテトラ
カルボン酸二無水物、ビス(3,4−ジカルボキシフェ
ニル)メタン、2,2−ビス(3,4−ジカルボキシフ
ェニル)プロパン、ピロメリット酸二無水物である芳香
族テトラカルボン酸成分残基であり、Yは(a) 10−8
0モル%、特に15−70モル%、更に好ましくは20
−60モル%が一般式(II)
【0012】
【化4】
【0013】(ただし、式中のRは炭素数2−6、特に
3−5の複数のメチレン基、またはフェニレン基からな
る2価の炭化水素残基を示し、R1 、R2 、R3 及びR
4 は炭素数1−5個のアルキル基又はフェニル基を示
し、nは3〜60、特に5−20、更に好ましくは5−
15の整数を示す。)で示されるジアミノポリシロキサ
ン残基であり、(b) 20−90モル%、特に30−85
モル%、更に好ましくは40−80モル%が2,2−ビ
ス〔4−(4−アミノフェノキシ)フェニル〕プロパ
ン、2,2−ビス〔4−(3−アミノフェノキシ)フェ
ニル〕プロパン、2,2−ビス〔4−(4−アミノフェ
ノキシ)フェニル〕ヘキサフルオロプロパンまたは2,
2−ビス〔4−(3−アミノフェノキシ)フェニル〕ヘ
キサフルオロプロパンである芳香族ジアミン残基である
(ジアミノポリシロキサン残基と芳香族ジアミン残基と
の合計量100モル%中)で示されるポリイミドシロキ
サンに関する。
【0014】この発明のポリイミドシロキサンは、対数
粘度(測定濃度:0.5g/100ミリリットル溶媒、
溶媒:N−メチル−2−ピロリドン、測定濃度:30
℃)が0.1−3、特に0.45−3程度である高分子
量の重合体であり、しかも有機極性溶媒のいずれかに
(特にアミド系溶媒)少なくとも3重量%、特に5−4
0重量%程度の濃度で均一に溶解させることができるも
のが好ましい。
【0015】この発明のポリイミドシロキサンは、赤外
線吸収スペクトル分析法で測定したイミド化率が90%
以上、特に95%以上であるか、赤外線吸収スペクトル
分析においてポリマ−のアミド−酸結合に係わる吸収ピ
−クが実質的に見出されず、イミド環結合に係わる吸収
ピ−クのみが見られるような高いイミド化率であるもの
が好ましい。特に、イミド化率が100%であるものが
好ましい。
【0016】さらに、この発明のポリイミドシロキサン
は、フィルムに成形した場合に、その弾性率が250k
g/mm2 以下、特に0.1−200kg/mm2
度、さらに好ましくは0.5−150kg/mm2 であ
って、熱分解開始温度が250℃以上、特に300℃以
上であり、そして、二次転移温度が−10℃以上、特に
5−250℃程度であるものが好ましい。
【0017】この発明のポリイミドシロキサンの製法と
しては、2,3,3’,4’−ビフェニルテトラカルボ
ン酸類(テトラカルボン酸、テトラカルボン酸二無水物
あるいはテトラカルボン酸エステル物)を約60モル%
以上含有する芳香族テトラカルボン酸成分と、前記一
般式(I)で示されるジアミノポリシロキサン20−8
0モル%及び前記芳香族ジアミン20−80モル%
(合計100モル%)からなるジアミン成分を使用し
て、フェノ−ル系溶媒、アミド系溶媒、硫黄原子を有す
る化合物系溶媒、グリコ−ル系溶媒、アルキル尿素系溶
媒などの有機極性溶媒中で、高温下(特に好ましくは1
40℃以上の温度下)に、両モノマ−成分を重合及びイ
ミド化するという製法を挙げることができる。
【0018】この発明においては、2,3,3’,4’
−ビフェニルテトラカルボン酸二無水物(a−BPD
A)が、ジアミン成分との重合によって得られたポリイ
ミドシロキサンの有機極性溶媒に対する溶解性及びエポ
キシ化合物との相溶性の点で最適である。
【0019】また、この発明のポリイミドシロキサンの
製法としては、前記の芳香族テトラカルボン酸成分とジ
アミン成分とを有機極性溶媒中で0−80℃の低温下に
重合して、対数粘度が0.05以上であるポリアミック
酸を製造し、そのポリアミック酸を何らかの公知の方法
でイミド化して可溶性のポリイミドシロキサンを製造す
る方法であってもよい。
【0020】さらに、この発明のポリイミドシロキサン
の製法として、前述の芳香族テトラカルボン酸成分の過
剰量とジアミノポリシロキサンのみからなるジアミン成
分とを重合して得られたイミドシロキサンオリゴマ−
(X成分:平均重合度が1−10程度であり、末端に酸
又は酸無水基を有する。)、および、前記の芳香族テト
ラカルボン酸成分と芳香族ジアミンのみからなるジアミ
ン成分の過剰量とを重合して得られたイミドオリゴマ−
(Y成分:重合度が1−10程度であり、末端にアミノ
基を有する。)を準備して、次いで、前記X成分及びY
成分を、両者の全酸成分と全ジアミン成分との比が略等
モル付近となるように混合し反応させて、ブロックポリ
イミドシロキサンを製造する方法も好適に挙げることが
できる。
【0021】この発明のポリイミドシロキサンにおい
て、ビフェニルテトラカルボン酸類以外の他のテトラカ
ルボン酸類を主成分として製造されたものであると、有
機極性溶媒に対して難溶性となったり、耐熱性接着剤を
得るためにエポキシ樹脂と混合しても相溶性が悪化した
りするので適当ではない。
【0022】この発明における芳香族ジアミン成分とし
ては、2,2−ビス〔4−(4−アミノフェノキシ)フ
ェニル〕プロパン、2,2−ビス〔4−(3−アミノフ
ェノキシ)フェニル〕プロパン、2,2−ビス〔4−
(4−アミノフェノキシ)フェニル〕ヘキサフルオロプ
ロパンまたは2,2−ビス〔4−(3−アミノフェノキ
シ)フェニル〕ヘキサフルオロプロパン、特に好適には
2,2−ビス〔4−(4−アミノフェノキシ)フェニ
ル〕プロパンが使用される。前記のビス〔(アミノフェ
ノキシ)フェニル〕プロパン系ジアミンの一部(好まし
くは40モル%以下)を芳香族環を2−4個有する他の
芳香族ジアミン、例えば、1,4−ジアミノジフェニル
エ−テル、1,3−ジアミノジフェニルエ−テル、1,
3−ビス(4−アミノフェノキシ)ベンゼン、1,4−
ビス(4−アミノフェノキシ)ベンゼン、ジアミノジフ
ェニルメタン系ジアミン化合物、2,2−ビス(アミノ
フェニル)プロパン、2,2−ビス(アミノフェニル)
ヘキサフルオロプロパン、ビス(アミノフェニル)ベン
ゼンなどで置き換えてもよい。前記芳香族ジアミンの割
合は全ジアミン成分中20−90モル%である。
【0023】前記の重合に使用される有機極性溶媒とし
ては、N,N−ジメチルアセトアミド(DMAC)、
N,N−ジエチルアセトアミド、N,N−ジメチルホル
ムアミド、N,N−ジエチルホルムアミド、N−メチル
−2−ピロリドン(NMP)などのアミド系溶媒、ジメ
チルスルホキシド、ジエチルスルホキシド、ジメチルス
ルホン、ジエチルスルホン、ヘキサメチルスルホルアミ
ドなどの硫黄原子を含有する溶媒、クレゾ−ル、フェノ
−ル、キシレノ−ルなどのフェノ−ル系溶媒、アセト
ン、メタノ−ル、エタノ−ル、エチレングリコ−ル、ジ
オキサン、テトラヒドロフランなどの酸素原子を分子内
に有する溶媒、ピリジン、テトラメチル尿素などの他の
溶媒を挙げることができ、さらに必要であれば、ベンゼ
ン、トルエン、キシレンなどの芳香族炭化水素系の溶
媒、ソルベントナフサ、ベンゾニトリルのような他の種
類の有機溶媒を併用することも可能である。
【0024】この発明のポリイミドシロキサンは、例え
ば、ポリイミドシロキサンの有機極性溶媒溶液を流延法
によってフィルムに成形することができる。また、この
発明のポリイミドシロキサンは耐熱性接着剤の1成分と
して使用することが好ましい。前記の耐熱性接着剤は、
ポリイミドシロキサン100重量部に対して、ビスマレ
イミド−トリアジン樹脂、ビスマレイミド樹脂またはシ
アネ−ト基を有する有機化合物10−500重量部、エ
ポキシ基を有するエポキシ化合物0−55重量部、特に
5−40重量部を樹脂成分として含有するものが好まし
い。
【0025】前記の耐熱性接着剤の他の成分であるビス
マレイミド−トリアジン樹脂としては、例えば、ビスマ
レイミド成分とシアネ−ト基を有するトリアジンモノマ
−又はプレポリマ−成分とから得られた、イミド基とト
リアジン環とを有する公知の熱硬化性樹脂組成物であっ
て、アクリル酸エステル類、ジビニルベンゼン、スチレ
ン、トリアリルイソシアネ−ト等で0−30重量%変性
されていてもよく、特に、三菱瓦斯化学株式会社製「B
Tレジン」などを好適に挙げることができる。
【0026】また、前記のビスマレイミド樹脂として
は、例えば、マレイン酸無水物とジアミン化合物〔ジア
ミノベンゼン、4,4’−ジアミノ−3,3’−ジメチ
ルビフェニル、4,4’−ジアミノジフェニルエ−テ
ル、4,4’−ジアミノジフェニルメタン、2,2−ビ
ス(4−アミノフェニル)プロパンなど〕とを縮合させ
て得られたマレイン酸に基づく不飽和(二重結合)基を
両末端に有するものであればよく、好適には、三井東圧
化学株式会社製の「ビスマレイミド」、味の素株式会社
製の「ATU−BMI樹脂」、日本ポリイミド株式会社
製の「ケルイミド」、テクノヘミ−社製の「コンピミ
ド」などが挙げられる。
【0027】また、シアネ−ト基を有する有機化合物と
しては、例えば、ビスフェノ−ルAジシアネ−ト、ビス
(4−シアネ−トフェニル)エ−テル、1,1,1−ト
リス(4−シアネ−トフェニル)エタンなどであればよ
く、特にザ・ダウ・ケミカル社製の「XU−71787
−02」などが挙げられる。
【0028】前記のビスマレイミド−トリアジン樹脂、
ビスマレイミド樹脂またはシアネ−ト基を有する有機化
合物とともに耐熱性接着剤に使用されるエポキシ基を有
するエポキシ化合物としては、ビスフェノ−ルA型エポ
キシ樹脂、ビスフェノ−ルF型エポキシ樹脂、フェノ−
ルノボラック型エポキシ樹脂、グリシジルエ−テル型エ
ポキシ樹脂、グリシジルエステル型エポキシ樹脂、グリ
シジルアミン型エポキシ樹脂などの「1個以上のエポキ
シ基を有するエポキシ化合物」が挙げられ、これらのエ
ポキシ樹脂は1種でも複数併用することもできる。前記
のエポキシ樹脂としては、融点が90℃以下、特に0−
80℃程度であるもの、或いは30℃以下の温度で液状
であるものが特に好ましい。
【0029】特に、前記の耐熱性接着剤においては、こ
の発明の可溶性のポリイミドシロキサンが弾性率150
kg/mm2 以下(特に0.5−100kg/mm2
であって、軟化温度が5℃以上(5−250℃)である
ポリイミドシロキサン100重量部、ビスマレイミド−
トリアジン系樹脂、ビスマレイミド樹脂およびシアナ−
ト化合物系樹脂からなる群から選ばれた少なくとも1種
の熱硬化性樹脂10−500重量部(特に12−150
重量部)、および、エポキシ基を有するエポキシ化合物
0−50重量部(5−40重量部)が、樹脂成分として
含有されている耐熱性接着剤は、例えば、銅箔等との金
属箔と芳香族ポリイミドフィルム等の耐熱性フィルムと
をこの耐熱性接着剤によって接合して銅張基板を形成
し、さらにその銅張基板の銅箔等をエッティングして配
線板などを形成した場合に、その配線板が曲率半径80
mm以上となり、大きなソリを示さないので最適であ
る。
【0030】前記の耐熱性接着剤においては、エポキシ
化合物(樹脂)の硬化剤、硬化促進剤などを併用しても
よいが、硬化剤等の配合が好ましくない場合もある。前
記の耐熱性接着剤は、この発明のポリイミドシロキサン
と、熱硬化性樹脂と、エポキシ化合物との前記の組成比
の樹脂成分が主成分として(特に好ましくは90重量%
以上、さらに好ましくは95−100重量%)含有され
ていればよく、前記の全樹脂成分が、適当な有機極性溶
媒中に、特に3−50重量%、さらに好ましくは5−4
0重量%の濃度で、均一に溶解されている耐熱性接着剤
の溶液組成物であってもよい。
【0031】前記の耐熱性接着剤の溶液組成物は、その
溶液粘度(30℃)が、0.1−1000ポイズ、特に
0.2−5000ポイズ、さらに好ましくは1−100
0ポイズ程度であることが好ましく、必要であれば、前
記溶液組成物に、二酸化ケイ素などの無機充填剤(例え
ば、日本アエロジル社の「アエロジル200」等を添加
してもよい。
【0032】なお、前記の耐熱性接着剤は、未硬化の樹
脂成分のみからなる組成物の軟化点(熱板上で軟化が開
始する温度)が、150℃以下、特に120℃以下、さ
らに100℃以下であることが好ましい。前記の耐熱性
接着剤は、特に150−400℃、さらに好ましくは1
80−350℃(特に200−300℃)の硬化温度に
加熱することによって熱硬化することができるものであ
ることが好ましい。また前記の耐熱性接着剤は、樹脂成
分としてフェノ−ル樹脂などの他の熱硬化性樹脂などが
少ない割合で含有されていてもよい。
【0033】前記の耐熱性接着剤は、前述の樹脂成分の
全てが有機極性溶媒に均一に溶解されている溶液組成物
を、適当な金属箔、芳香族ポリイミドフィルムなどの耐
熱性フィルム面、または、ポリエステルやポリエチレン
などの熱可塑性樹脂製のフィルム面上に塗布し、その塗
布層を80−200℃の温度で20秒−100分間乾燥
することによって、溶媒が1重量%以下にまで除去され
た(好ましくは溶媒残存割合が特に0.5重量%以下で
ある)未硬化状態の耐熱性接着剤の薄膜(厚さが1−2
00μmであるドライフィルム又はシ−ト)を形成する
ことができる。
【0034】前述のようにして製造された未硬化の耐熱
性接着剤の薄膜は、好適な柔軟性を有しており、紙管な
どに巻きつけたり、また、打ち抜き法などの穴開け加工
をすることもでき、さらに、例えば、前記の耐熱性又は
熱可塑性フィルム上に未硬化の耐熱性接着剤の薄層が形
成されている積層シ−トを、転写先用の金属箔又は耐熱
性フィルム上に転写することも可能である。
【0035】前記の耐熱性接着剤を使用して耐熱性フィ
ルムと金属箔とを接合させて銅張基板などの積層体を形
成するには、例えば、前述のように形成された薄膜状の
耐熱性接着剤層を介して、耐熱性フィルムと金属箔と
を、80−200℃、特に140−180℃の温度で、
加圧下に、ラミネ−ト(張り合わせ)して、さらに、そ
のラミネ−トされたものを、200−300℃程度の温
度で、1−30時間加熱して、前記耐熱性接着剤層を加
熱硬化させることによって、前述の積層体を何らの支障
もなく容易に連続的に製造することができる。
【0036】前記の耐熱性接着剤は、芳香族ポリイミド
フィルム、ポリアミドフィルム、ポリエ−テルエ−テル
ケトン、PEEKフィルム、ポリエ−テルスルホンフィ
ルムなどの耐熱性フィルムと、銅箔などの適当な金属箔
と接合するために好適に使用することができる。
【0037】
【実施例】以下、実施例を示し、この発明をさらに詳し
く説明する。以下の各例において、対数粘度(ηin
h)は、樹脂成分濃度が0.5g/100ミリリットル
溶媒となるように、芳香族ポリイミドまたはイミドオリ
ゴマ−を、N−メチル−2−ピロリドンに均一に溶解し
て樹脂溶液を調製し、その溶液の溶液粘度および溶媒の
みの溶媒粘度を30℃で測定して次の式によって求めた
値である。 対数粘度(ηinh)=〔ln(溶液粘度/溶媒粘
度)〕/溶液の濃度
【0038】また、接着強度は、インテスコ社製の引張
り試験機を用いて、剥離速度50mm/分でT型剥離試
験を行って測定した結果である。さらに、接着剤を使用
して銅箔とポリイミドフィルムとを貼り合わせた銅張り
基板をエッチングして形成した配線板の「曲率半径」を
JIS C−6418における次の計算式で求めた。 曲率半径(mm)=L2 /8h (但し、式中で、Lは試料の長さを示し、hはその高さ
を示す)
【0039】〔イミドシロキサンオリゴマ−の製造〕 参考例1 容量500ミリリットルのガラス製フラスコに、(a)
2,3,3’,4’−ビフェニルテトラカルボン酸二無
水物(a−BPDA)0.045モル、(b) ω,ω’−
ビス(3−アミノプロピル)ポリジメチルシロキサン
(信越シリコン株式会社製、X−22−161AS、
n:9)0.030モル、および(c) N−メチル−2−
ピロリドン(NMP)160gを仕込み、
【0040】窒素気流中、50℃で2時間攪拌して、ア
ミック酸オリゴマ−を生成させ、次いで、その反応液を
約200℃に昇温し、その温度で3時間攪拌して末端に
無水基を有するイミドオリゴマ−(A−1成分、平均重
合度:1)を生成させた。
【0041】参考例2 第1表に示す量のa−BPDA、ジアミノポリシロキサ
ン(X−22−161AS)およびNMPをそれぞれ使
用したほかは、参考例1と同様にして末端に無水基を有
するイミドシロキサンオリゴマ−(A−2、平均重合
度:5)を製造した。
【0042】〔イミドオリゴマ−の製造〕 参考例3 容量500ミリリットルのガラス製フラスコに、(a)
2,3,3’,4’−ビフェニルテトラカルボン酸二無
水物(a−BPDA)0.044モル、(b) 2,2−ビ
ス〔4−(4−アミノフェノキシ)フェニル〕プロパン
(BAPP)0.066モル、および、(c) N−メチル
−2−ピロリドン(NMP)160gを仕込み、
【0043】窒素気流中、50℃で2時間攪拌して、ア
ミック酸オリゴマ−を生成させ、次いで、その反応液を
約200℃に昇温し、その温度で3時間攪拌して末端に
アミノ基を有するイミドオリゴマ−(B−1成分、平均
重合度:1)を生成させた。
【0044】参考例4−5 第1表に示す量のa−BPDA、BAPPおよびNMP
をそれぞれ使用したほかは、参考例3と同様にして末端
にアミノ基を有するイミドオリゴマ−B−2(平均重合
度:5)及びB−3(平均重合度:10)をそれぞれ製
造した。
【0045】
【表1】
【0046】〔ポリイミドシロキサンの製造〕 参考例6(実施例1) 参考例1で製造したイミドシロキサンオリゴマ−(A−
1成分)14.14g(0.0055モル)の20重量
%NMP溶液、及び、参考例4で製造したイミドオリゴ
マ−(B−2成分)24.33g(0.0055モル)
の20重量%NMP溶液を容量500mlのガラス製フ
ラスコに仕込み、窒素気流中、50℃で1時間攪拌し
て、ブロックポリマ−を生成させ、次いでその反応液を
200℃に昇温してその温度で3時間攪拌してポリイミ
ドシロキサン(ブロック体)を生成させた。前記のポリ
イミドシロキサンは、イミド化率が100%であって、
対数粘度が0.49であり、シロキサン単位の含有率が
22.22モル%であった。また、このポリイミドシロ
キサンの反応液から流延法によって形成されたポリイミ
ドシロキサンフィルム(厚さ:約50μm)について、
その弾性率、軟化温度を測定した。結果をまとめて表2
に示す。
【0047】参考例7−11(実施例2−6) 前述の参考例1−5で製造された各オリゴマ−を第3表
に示すような量および反応条件で使用したほかは参考例
6と同様にして、イミド化率が実質的に100%である
ポリイミドシロキサン(ブロック体)をそれぞれ製造し
た。前述のようにして製造された各ポリイミドシロキサ
ンの対数粘度、シロキサン単位の含有率、ならびに、そ
れらのポリイミドシロキサンの反応液から流延法によっ
て形成されたポリイミドシロキサンフィルム(厚さ:約
50μm)について、その弾性率、軟化温度を測定し
た。結果をまとめて表2に示す。
【0048】参考例12(実施例7) 容量500ミリリットルのガラス製フラスコに、(a) a
−BPDA:0.054モル、(b) ジアミノポリシロキ
サン(信越シリコン株式会社製、X−22−161A
S、n:9)0.012モル、(c) BAPP:0.04
2モル、および、(d) NMP:175gを仕込んだ後、
【0049】窒素気流中、50℃で2時間攪拌して、ア
ミック酸オリゴマ−を生成させ、次いで、その反応液を
約200℃に昇温し、その温度で3時間攪拌してポリイ
ミドシロキサン(ランダム体、対数粘度:0.59、シ
ロキサン単位の含有率:22.2モル%、イミド化率:
100%)を生成させた。また、このポリイミドシロキ
サンの反応液から流延法によって形成されたポリイミド
シロキサンフィルム(厚さ:約50μm)について、そ
の弾性率、軟化温度を測定した。結果をまとめて表2に
示す。
【0050】参考例13(実施例8) 容量500ミリリットルのガラス製フラスコに、(a) a
−BPDA:0.048モル、(b) ジアミノポリシロキ
サン(信越シリコン株式会社製、X−22−161A
S、n:9)0.016モル、(c) BAPP:0.03
2モル、および、(d) NMP:165gを仕込んだ後、
【0051】窒素気流中、50℃で2時間攪拌して、ア
ミック酸オリゴマ−を生成させ、次いで、その反応液を
約200℃に昇温し、その温度で3時間攪拌してポリイ
ミドシロキサン(ランダム体、対数粘度:0.56、シ
ロキサン単位の含有率:33.3モル%、イミド化率:
100%)を生成させた。また、このポリイミドシロキ
サンの反応液から流延法によって形成されたポリイミド
シロキサンフィルム(厚さ:約50μm)について、そ
の弾性率、軟化温度を測定した。結果をまとめて表2に
示す。
【0052】参考例14(実施例9) 容量500ミリリットルのガラス製フラスコに、(a) a
−BPDA:0.054モル、(b) ジアミノポリシロキ
サン(信越シリコン株式会社製、X−22−161A
S、n:9)0.018モル、(c) BAPP:0.03
6モル、および、(d) NMP:175gを仕込んだ後、
【0053】窒素気流中、50℃で2時間攪拌して、ア
ミック酸オリゴマ−を生成させ、次いで、その反応液を
約200℃に昇温し、その温度で3時間攪拌してポリイ
ミドシロキサン(ランダム体、対数粘度:0.54、シ
ロキサン単位の含有率:33.33モル%、イミド化
率:100%)を生成させた。また、このポリイミドシ
ロキサンの反応液から流延法によって形成されたポリイ
ミドシロキサンフィルム(厚さ:約50μm)につい
て、その弾性率、軟化温度を測定した。結果をまとめて
第2表に示す。
【0054】
【表2】
【0055】なお、第2表において、各簡略名は次のこ
とを意味する。また、シロキサン単位の含有率は次の式
で求めた値である。 軟化温度:ポリマ−の温度−弾性率の関係を測定し、そ
の粘弾性ピ−クにおけるtanδの値(高温側)より求
めた。
【0056】実施例1(評価試験1) 容量500ミリリットルのガラス製フラスコに、前述の
参考例6で製造されたポリイミドシロキサン(ブロック
体)25g、ビスマレイミド−トリアジン系樹脂(三菱
瓦斯化学株式会社製、BT3309T)65g、エポキ
シ樹脂(油化シェルエポキシ社製、商品名:エピコ−ト
152)10g、ジオキサン200gを仕込み、室温
(25℃)で約2時間攪拌して均一な耐熱性接着剤の溶
液組成物(25℃の粘度:0.5ポイズ)を調製した。
この溶液組成物は、室温に1週間放置しても均一な溶液
の状態(粘度)を保持していた。
【0057】〔耐熱性接着剤による積層体の製造〕この
耐熱性接着剤の溶液組成物をポリイミドフィルム(宇部
興産株式会社製、商品名:UPILEX−S、厚さ:7
5μm)上にドクタ−ブレ−ドで125μmの厚さで塗
布し、次いで、その塗布層を50℃で30分間、100
℃で30分間、170℃で20分間加熱して乾燥し、ポ
リイミドフィルム上に厚さ約20μmの耐熱性接着剤層
(未硬化の乾燥された層、軟化点:25℃)を形成し
た。
【0058】この耐熱性接着剤層を有するポリイミドフ
ィルムと銅箔(35μm)とを重ね合わせて、160℃
に加熱したラミネ−トロ−ル間で圧力を加えながら通過
させることにより圧着し、この圧着した積層体を100
℃で1時間、180℃で1時間、200℃で1時間、2
20℃で5時間、さらに、250℃で6時間、窒素気流
中で加熱処理して、耐熱性接着剤層を硬化させ、積層体
を製造した。得られた積層体について、接着強度を測定
した。その結果をまとめて第3表に示す。
【0059】実施例2−19(評価試験2−19) 第2表に示すような各参考例6−9で製造されたポリイ
ミドシロキサンを使用し、各成分の組成を第3表に示す
ようにしたほかは、実施例1と同様にして、耐熱性接着
剤の溶液組成物をそれぞれ調製した。さらに、前記の各
溶液組成物を使用したほかは、実施例1と同様にして、
積層体をそれぞれ製造した。その積層体の性能をまとめ
て第3表に示す。
【0060】
【表3】
【0061】比較例1(比較評価試験1) 参考例6で得られたポリイミドシロキサン20gを使用
すると共にエポキシ樹脂(エピコ−ト152)60g、
硬化剤:2−フェニルイミダゾ−ル0.1g、ビスマレ
イミド−トリアジン系樹脂(BT3309T)20g、
ジオキサン200gを使用したほかは、実施例1と同様
にして低粘度の耐熱性接着剤の溶液組成物を調製した。
【0062】この耐熱性接着剤の溶液組成物を使用する
ほかは、実施例1と同様にしてポリイミドフィルム上に
前記溶液組成物を塗布し、乾燥して、耐熱性接着剤層
(未硬化の乾燥された層、厚さ:25μm)を形成し
た。この接着剤層が形成されたポリイミドフィルムを折
り曲げた結果、接着剤層に多数のクラックが生じた。こ
の耐熱性接着剤層の形成されたポリイミドフィルムと銅
箔とのラミネ−ト操作は、実質的に不可能であった。
【0063】比較例2(比較評価試験1) 参考例7で得たポリイミドシロキサン95g、エポキシ
樹脂(エピコ−ト152)5g、硬化剤:2−フェニル
イミダゾ−ル0.1g、及び、ジオキサン200gをそ
れぞれ使用したほかは、実施例1と同様にして、耐熱性
接着剤の溶液組成物を調製し、ポリイミドフィルム上に
塗布し、乾燥して、耐熱性接着剤層(未硬化の乾燥され
た層、厚さ:25μm)を形成した。この接着剤層が形
成されたポリイミドフィルムと銅箔とのラミネ−トは実
質的に不可能であった。
【0064】実施例20(評価試験20) 容量500ミリリットルのガラス製フラスコに、前述の
参考例8で製造されたポリイミドシロキサン(ブロック
体)55g、ビスマレイミド−トリアジン系樹脂(三菱
瓦斯化学株式会社製、BT3309T)35g、エポキ
シ樹脂(油化シェルエポキシ社製、商品名:エピコ−ト
152)10g、ジオキサン200gを仕込み、室温
(25℃)で約2時間攪拌して均一な耐熱性接着剤の溶
液組成物(25℃の粘度:25ポイズ)を調製した。こ
の溶液組成物は、室温に1週間放置しても均一な溶液の
状態(粘度)を保持していた。この溶液組成物を使用し
たほかは、実施例1と同様にして積層体を製造した。そ
の積層体の性能をまとめて第4表に示す。
【0065】実施例21−35(評価試験21−35) 参考例7、9−11及び11で製造されたポリイミドシ
ロキサン(ブロック体)を使用し、各成分の組成を第4
表に示すようにしたほかは、実施例1と同様にして、耐
熱性接着剤の溶液組成物をそれぞれ調製した。さらに、
これらの溶液組成物を使用したほかは、実施例20と同
様にして積層体を製造した。その積層体の性能をまとめ
て第4表に示す。
【0066】実施例36(評価試験36) 参考例14で製造されたポリイミドシロキサン(ランダ
ム体)を使用し、各成分の組成を第4表に示すようにし
たほかは、実施例20と同様にして、耐熱性接着剤の溶
液組成物を調製した。さらに、この溶液組成物を使用し
たほかは、実施例20と同様にして積層体を製造した。
その積層体の性能をまとめて第4表に示す。
【0067】
【表4】
【0068】なお、第3表および第4表において、各簡
略名は次のことを意味する。 BTレジン3309T :三菱瓦斯化学株式会社製のビ
スマレイミド−トリアジン系樹脂である。 BTレジン2160 :三菱瓦斯化学株式会社製のビ
スマレイミド−トリアジン系樹脂である。 BTレジン2160RX:三菱瓦斯化学株式会社製のビ
スマレイミド−トリアジン系樹脂である。 ビスマレイミド :味の素株式会社製の「ビスマレイ
ミドATU−BMI」である。 ビスマレイミド :三井東圧化学株式会社製のもので
ある。 シアナ−ト化合物 :ザ・ダウ・ケミカル社製の「シア
ナ−ト化合物XU−71787−02」である。 IPU−22G :岡村製油株式会社のエポキシ樹脂で
あり。 エピコ−ト152:油化シェルエポキシ株式会社製のエ
ポキシ樹脂である。 エピコ−ト871:油化シェルエポキシ株式会社製のエ
ポキシ樹脂である。 30℃での作業性:タック性(保護フィルムとのタック
性)、パンチング性、加熱接着時の作業性を総合的に評
価し、○:良、△:普通×:不良
【0069】
【発明の効果】この発明は以上説明したように構成され
ているので、以下に記載のような効果を奏する。
【0070】この発明のポリイミドシロキサンは、ジア
ミノポリシロキサンに基づく構成単位を有しているポリ
マ−であるので、耐熱性、柔軟性があり、有機極性溶媒
への溶解性が優れている。さらに、この発明のポリイミ
ドシロキサンは、耐熱性接着剤の1成分として使用した
耐熱性接着剤が、銅箔などの各種金属箔と耐熱性支持材
料(耐熱性フィルム、無機シ−トなど)との張り合わせ
を比較的低温で行うことができると共に、前記耐熱性接
着剤で張り合わされた積層体が、接着力が充分であり、
しかも優れた耐熱性を示す。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 船越 勉 大阪府枚方市中宮北町3番10号 宇部興産 株式会社枚方研究所内 (72)発明者 平野 徹治 大阪府枚方市中宮北町3番10号 宇部興産 株式会社枚方研究所内

Claims (2)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】一般式(I) 【化1】 〔ただし、式中のXは60モル%以上が2,3,3’,
    4’−ビフェニルテトラカルボン酸二無水物残基で、残
    部が3,3’,4,4’−ビフェニルテトラカルボン酸
    二無水物、3,3’,4,4’−ベンゾフェノンテトラ
    カルボン酸二無水物、3,3’,4,4’−ジフェニル
    エ−テルテトラカルボン酸二無水物、ビス(3,4−ジ
    カルボキシフェニル)メタン、2,2−ビス(3,4−
    ジカルボキシフェニル)プロパン、ピロメリット酸二無
    水物である芳香族テトラカルボン酸成分残基であり、Y
    は(a) 10−80モル%が一般式(II) 【化2】 (ただし、式中のRは炭素数2−6の複数のメチレン
    基、またはフェニレン基からなる2価の炭化水素残基を
    示し、R1 、R2 、R3 及びR4 は炭素数1−5個のア
    ルキル基又はフェニル基を示し、nは3〜60の整数を
    示す。)で示されるジアミノポリシロキサン残基であ
    り、(b) 20−90モル%が2,2−ビス〔4−(4−
    アミノフェノキシ)フェニル〕プロパン、2,2−ビス
    〔4−(3−アミノフェノキシ)フェニル〕プロパン、
    2,2−ビス〔4−(4−アミノフェノキシ)フェニ
    ル〕ヘキサフルオロプロパンまたは2,2−ビス〔4−
    (3−アミノフェノキシ)フェニル〕ヘキサフルオロプ
    ロパンである芳香族ジアミン残基である(ジアミノポリ
    シロキサン残基と芳香族ジアミン残基との合計量100
    モル%中)で示されるポリイミドシロキサン。
  2. 【請求項2】対数粘度(測定濃度:0.5g/100ミ
    リリットル溶媒、溶媒:N−メチル−2−ピロリドン、
    測定濃度:30℃)が0.1−3である請求項1記載の
    ポリイミドシロキサン。
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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2006011513A1 (ja) * 2004-07-27 2006-02-02 Kaneka Corporation 高い接着性を有するポリイミドフィルムおよびその製造方法
KR100791740B1 (ko) * 2000-09-22 2008-01-04 우베 고산 가부시키가이샤 말단에 산무수물기를 갖는 이미드계 올리고머 및 경화성 수지 조성물
US8158268B2 (en) 2005-08-04 2012-04-17 Kaneka Corporation Metal-coated polyimide film

Cited By (5)

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US8158268B2 (en) 2005-08-04 2012-04-17 Kaneka Corporation Metal-coated polyimide film
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