JPH1164797A - 位相差ピンホール型光学素子及びこれを用いた共焦点顕微鏡 - Google Patents

位相差ピンホール型光学素子及びこれを用いた共焦点顕微鏡

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JPH1164797A
JPH1164797A JP21775897A JP21775897A JPH1164797A JP H1164797 A JPH1164797 A JP H1164797A JP 21775897 A JP21775897 A JP 21775897A JP 21775897 A JP21775897 A JP 21775897A JP H1164797 A JPH1164797 A JP H1164797A
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JP
Japan
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laser beam
filter
confocal microscope
light
phase difference
Prior art date
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Pending
Application number
JP21775897A
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English (en)
Inventor
Kazuhiro Nishida
和弘 西田
Shigeru Tachikawa
茂 立川
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Ishikawajima Syst Tech
ISHIKAWAJIMA SYST TECHNOL KK
IHI Corp
Original Assignee
Ishikawajima Syst Tech
ISHIKAWAJIMA SYST TECHNOL KK
IHI Corp
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Publication date
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Abstract

(57)【要約】 【課題】 焦点深度が深く超高解度を達成できる位相差
ピンホール型光学素子及びこれを用いた共焦点顕微鏡を
提供する。 【解決手段】 レーザービーム12を空間フィルタ15
を通し対物レンズ21を通してサンプル24に集光し、
その正反射光を空間フィルタ15を通してそのサンプル
24の像を検出するための共焦点顕微鏡において、空間
フィルタ15のレーザービーム12の光路に、レーザー
ビームの中心部と周囲部の光を通すと共に両光を1/2
λ位相差をもたせてシフトさせる空間位相フィルタ20
を介設したものである。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、共焦点型顕微鏡の
光路中に挿入して像の高分解能を達成できる位相差ピン
ホール型光学素子及びこれを用いた共焦点顕微鏡に関す
るものである。
【0002】
【従来の技術】従来のレーザー共焦点顕微鏡(商品名;
SiSCAN)は、2次元計測イメージを生成すべく、
光源から出た光をレンズでピンホールに集光し、ピンホ
ールを通過した光を対物レンズによって物体面に集光
し、物体からの正反射光が同様の光路を通って再度同一
のピンホール(または最初のピンホールと共役な位置に
あるピンホール)を通過させることにより、焦点が合っ
ていない反射光をピンホールでカットし、正確に焦点の
合った反射光のみを通過させ、その反射光を適宜光電子
倍増管で検出してサンプルの2次元像を得るようにして
いる。
【0003】これを図3により説明する。
【0004】レーザー発振装置10から出射されたレー
ザービーム12は、反射鏡11で90度反射され、ビー
ムスプリッタ13で、sかpの直線偏光成分にされ、空
間フィルタとしてのビームエキスパンダ15により、先
ず凸レンズ16で集光されてピンホール17を通り、1
/4λ板18を通って、コリメートレンズ19で、ビー
ムサイズが拡径されたビーム12aとされ、対物レンズ
21にて、サンプル23に集光し、その反射光が、対物
レンズ21、コリメートレンズ19を通り、1/4λ板
18を通って円偏光にされピンホール17に戻り、そこ
で焦点の合っていない反射光はカットされ、焦点の合っ
た反射光のみ、凸レンズ16を通り、ビームスプリッダ
13で、sまたはpの偏光成分が反射されて光電子倍増
管14で検出される。
【0005】このレーザー共焦点顕微鏡では、ごく浅い
焦点深度を実現することで、超解像が実現されていた。
【0006】
【発明が解決しようとする課題】このことは、光軸方向
に高さのあるサンプルには非常に有効であるが、例え
ば、フォトマスクのような高さのない(少ない)サンプ
ル24に対しては、その実力を完全には発揮できない。
【0007】すなわち、レーザー共焦点顕微鏡は、焦点
深度が非常に浅い特性を利用して分解能を向上させる
が、フォトマスクのような高さのないサンプル24にお
いては、光の回折による影響をそのままうけ、回折光が
ノイズとなり、高解像度の像が得られない問題がある。
【0008】高解像度を得るには、サンプル24の焦点
面でのスポットサイズを小さくすればよいが、共焦点顕
微鏡に用いるレーザービーム12は、ガウス分布をもっ
ており、このレーザービーム12aを対物レンズ21で
サンプル24に正確に焦点合わせして焦点面に結像さ
せ、その正反射光を検出しようとしても、焦点面での最
小の結像スポットサイズw0 は、対物レンズの開口数
(NA)と波長λで決まってしまうため、回折限界以上
に結像スポットサイズを小さくすることができない。
【0009】従って、従来の共焦点顕微鏡のレーザービ
ームのスポットサイズは、通常の顕微鏡と同様に回折限
界にしばられ、高解像度の2次元像を得ることが困難で
ある。
【0010】そこで、本発明の目的は、上記課題を解決
し、焦点深度が深く超高解度を達成できる位相差ピンホ
ール型光学素子及びこれを用いた共焦点顕微鏡を提供す
ることにある。
【0011】
【課題を解決するための手段】上記目的を達成するため
に請求項1の発明は、空間フィルタの光路にレーザービ
ームの中心部と周囲部の光を通すと共に両光に1/2λ
位相差をもたせてシフトさせる空間位相フィルタを介設
した位相差ピンホール型光学素子である。
【0012】請求項2の発明は、レーザービームを空間
フィルタを通し対物レンズを通してサンプルに集光し、
その正反射光を空間フィルタを通してそのサンプルの像
を検出するための共焦点顕微鏡において、空間フィルタ
のレーザービームの光路に、レーザービームの中心部と
周囲部の光を通すと共に両光を1/2λ位相差をもたせ
てシフトさせる空間位相フィルタを介設した位相差ピン
ホール型共焦点顕微鏡である。
【0013】
【発明の実施の形態】以下、本発明の好適一実施の形態
を添付図面に基づいて詳述する。
【0014】図1において、10はHe−Cdレーザ等
のレーザ発振装置、11は、レーザ発振装置10からの
レーザービーム12を90度反射させる反射鏡、13は
ビームスプリッタ、14は、ビームスプリッタ13に戻
った反射光を検出する光電子増倍管(PMT)、15
は、空間フィルタを構成するビームエキスパンダで、主
に凸レンズ16、1/4λ板18、及びコリメートレン
ズ19からなる。21は、凹レンズ22と凸レンズ23
からなる対物レンズ、24は、フォトマスクなどのサン
プルである。
【0015】本発明においては、このビームエキスパン
ダ15の空間フィルタとして使用されるピンホールとし
て、空間位相フィルタ20を用いたことにある。
【0016】この空間位相フィルタ20は、ガラス基板
からなり、図2(a)に示すように、レーザービームの
中心部が通る中心ホール25とビームの周囲部を通るリ
ング状のホール26で形成し、そのホール25,26以
外はCr膜27を形成し、ビーム径の中間をリング28
でカットし、中心ホール25を通るレーザービーム12
iと周囲部を通るレーザービーム12oの波長差が1/
2λとなるよう、ガラスの厚さを変えてフェーズシフト
するよう構成し、この空間位相フィルタ20をビームエ
キスパンダ15の凸レンズ16の焦点位置より凸レンズ
16側に位置して介設したことにある。
【0017】レーザー発振装置10から出射されたレー
ザービーム12は、反射鏡11で90度反射され、ビー
ムスプリッタ13で、sかpの直線偏光成分にされ、ビ
ームエキスパンダ15により、先ず凸レンズ16で集光
されて空間位相フィルタ20を通り、そこで中心部のホ
ール25を通ったレーザービーム12iに対して周囲部
のホール26を通るレーザービーム12oが、1/2波
長位相が遅れるようにシフトされ、それぞれ1/4λ板
18を通って、コリメートレンズ19で、中心部ビーム
サイズが拡径されたビームとされ、対物レンズ21に
て、サンプル24に集光し、その反射光が、対物レンズ
21、コリメートレンズ19を通り、1/4λ板18を
通って円偏光にされ、空間位相フィルタ20、凸レンズ
16を通り、ビームスプリッダ13で、sまたはpの偏
光成分が反射されて光電子倍増管14で検出される。
【0018】本発明においては、上述したように、空間
位相フィルタ20を図2(a)に示すようにレーザービ
ームの中心部が通る中心ホール25とビームの周囲部を
通るリング状のホール26で形成し、ホール25,26
を通る両レーザービーム12の波長差を、1/2λとな
るよう、フェーズシフトするようにしたことにある。こ
れにより、回折限界以下のビームスポットを作り出すこ
とが可能となり、結果として、焦点深度の深いスポット
で、サンプルを計測することが可能となる。
【0019】以下、これを図2、図4により詳しく説明
する。
【0020】図2は、本発明の空間位相フィルタを用い
た場合を示し、図4は、アパーチャ型のピンホール17
の場合を示す。
【0021】図4(a)に示すピンホール17を透過す
るレーザーの光軸に対する透過率は、図4(b)に示し
たようになり、結像面の光強度分布は、図4(c)に示
したように、全体に低く、また焦点ぼけを0〜1.5μ
mで変化させると焦点ぼけが大きくなるほど、回折光の
干渉で光強度が低くなることがわかる。
【0022】これに対して、図2に示すように本発明の
空間位相フィルタを用いた場合、図2(a)に示す中心
ホール25と周辺部ホール26を透過するレーザーの光
軸に対する透過率は、図2(b)に示したようになり、
結像面の光強度分布は、図3(c)に示したようにな
る。
【0023】レーザービーム12の光強度は、中心が高
く、中心から径方向に指数関数的に低くなるガウス分布
であり、凸レンズ16を通って集光されるレーザービー
ムは、中心のピンホール25を通るレーザービーム12
iは、光強度の高い、結像に関わる光束となり、逆に、
リング状のホール26を通るレーザービーム12oは、
中心部のレーザービーム12iの光に対して1/2λ位
相がシフトされたリング状のビームとなり、図2(b)
に示すように位相のずれた透過率分布となる。
【0024】そして、これらレーザービーム12i,1
2oが対物レンズ21を通してサンプル24の焦点面に
結像する。
【0025】この時、中心のレーザービーム12iの像
は、広がった回折像として、周辺のリング状のレーザー
ビーム12oも広がったリング状に結像し、重なり合っ
た裾野は、位相差が1/2λ波長シフトされているた
め、干渉して打ち消しあう。
【0026】この結果、図2(c)の光強度分布が示す
ように、焦点面上には非常に鋭く尖った中心0次光のパ
ターンが出現する。また、やや焦点が外れたところで
も、焦点ズレにより裾野の重なりが大きくなり、結果と
して、ややピーク強度が下がるもののビーム径としては
大差のない0次のピークが出現する。
【0027】また、焦点を0〜1.5μmに変えても中
心の光強度は、落ちないため焦点深度の深いものとな
る。
【0028】この結果、空間位相フィルタを用いた共焦
点顕微鏡はその特徴である焦点方向の高い分解能を捨て
て焦点移動に余り関係しない小径スポットを手にいれる
ことにより、高さを持たない試料の形状観察、寸法計測
などに、高い安定性と、分解能と相反する特徴を有する
ことができるようになる。
【0029】
【発明の効果】以上要するに本発明によれば、回折限界
より小さなスポットサイズが得られ、かつ焦点深度が深
く超高解度の2次元計測が行える。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の一実施の形態を示す図である。
【図2】図1に用いる空間位相フィルタを説明する図で
ある。
【図3】従来の共焦点顕微鏡を示す図である。
【図4】図3に用いるピンホールを説明する図である。
【符号の説明】 12 レーザービーム 15 空間フィルタ(ビームエキスパンダ) 20 空間位相フィルタ 21 対物レンズ 24 サンプル

Claims (2)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 空間フィルタの光路にレーザービームの
    中心部と周囲部の光を通すと共に両光に1/2λ位相差
    をもたせてシフトさせる空間位相フィルタを介設したこ
    とを特徴とする位相差ピンホール型光学素子。
  2. 【請求項2】 レーザービームを空間フィルタを通し対
    物レンズを通してサンプルに集光し、その正反射光を空
    間フィルタを通してそのサンプルの像を検出するための
    共焦点顕微鏡において、空間フィルタのレーザービーム
    の光路に、レーザービームの中心部と周囲部の光を通す
    と共に両光を1/2λ位相差をもたせてシフトさせる空
    間位相フィルタを介設したことを特徴とする位相差ピン
    ホール型共焦点顕微鏡。
JP21775897A 1997-08-12 1997-08-12 位相差ピンホール型光学素子及びこれを用いた共焦点顕微鏡 Pending JPH1164797A (ja)

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Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2007043314A1 (ja) * 2005-10-13 2007-04-19 Nikon Corporation 顕微鏡装置
JP2010192562A (ja) * 2009-02-17 2010-09-02 Nikon Corp 面位置検出装置及び露光装置

Cited By (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2007043314A1 (ja) * 2005-10-13 2007-04-19 Nikon Corporation 顕微鏡装置
JPWO2007043314A1 (ja) * 2005-10-13 2009-04-16 株式会社ニコン 顕微鏡装置
JP4831072B2 (ja) * 2005-10-13 2011-12-07 株式会社ニコン 顕微鏡装置
US8081378B2 (en) 2005-10-13 2011-12-20 Nikon Corporation Microscope
JP2010192562A (ja) * 2009-02-17 2010-09-02 Nikon Corp 面位置検出装置及び露光装置

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