JPH1164369A - 半導体センサ - Google Patents

半導体センサ

Info

Publication number
JPH1164369A
JPH1164369A JP9229876A JP22987697A JPH1164369A JP H1164369 A JPH1164369 A JP H1164369A JP 9229876 A JP9229876 A JP 9229876A JP 22987697 A JP22987697 A JP 22987697A JP H1164369 A JPH1164369 A JP H1164369A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
package
acceleration sensor
sensor chip
parallel
chip
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP9229876A
Other languages
English (en)
Inventor
Kenichi Nodera
健一 野寺
Shogo Suzuki
章悟 鈴木
Masaya Ichino
雅也 市野
Akihiro Azuma
晃広 吾妻
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Nihon Inter Electronics Corp
Original Assignee
Nihon Inter Electronics Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Nihon Inter Electronics Corp filed Critical Nihon Inter Electronics Corp
Priority to JP9229876A priority Critical patent/JPH1164369A/ja
Publication of JPH1164369A publication Critical patent/JPH1164369A/ja
Pending legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2224/00Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
    • H01L2224/01Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/42Wire connectors; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/47Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process
    • H01L2224/48Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process of an individual wire connector
    • H01L2224/4805Shape
    • H01L2224/4809Loop shape
    • H01L2224/48091Arched
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2224/00Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
    • H01L2224/01Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/42Wire connectors; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/47Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process
    • H01L2224/48Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process of an individual wire connector
    • H01L2224/484Connecting portions
    • H01L2224/48463Connecting portions the connecting portion on the bonding area of the semiconductor or solid-state body being a ball bond
    • H01L2224/48465Connecting portions the connecting portion on the bonding area of the semiconductor or solid-state body being a ball bond the other connecting portion not on the bonding area being a wedge bond, i.e. ball-to-wedge, regular stitch
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2224/00Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
    • H01L2224/73Means for bonding being of different types provided for in two or more of groups H01L2224/10, H01L2224/18, H01L2224/26, H01L2224/34, H01L2224/42, H01L2224/50, H01L2224/63, H01L2224/71
    • H01L2224/732Location after the connecting process
    • H01L2224/73251Location after the connecting process on different surfaces
    • H01L2224/73265Layer and wire connectors
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2224/00Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
    • H01L2224/80Methods for connecting semiconductor or other solid state bodies using means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected
    • H01L2224/83Methods for connecting semiconductor or other solid state bodies using means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected using a layer connector
    • H01L2224/8338Bonding interfaces outside the semiconductor or solid-state body
    • H01L2224/83385Shape, e.g. interlocking features

Landscapes

  • Pressure Sensors (AREA)

Abstract

(57)【要約】 【課題】 従来より簡単な作業によって、パッケージに
対して加速度センサチップを平行な状態で固定すること
ができる半導体センサを提供する。 【解決手段】 外面13と、外面13に対し平行する主
面2aを有する内面2とからなる底部を備える箱体であ
るパッケージ1の内面2には、直方体形状の加速度セン
サチップ8の下面8aが当接できる膨出部3、3…が形
成されていて、内面2上に前記チップ8を載置すると、
この膨出部3、3…によって、前記チップ8の下面8a
が主面2aに対して平行な状態で、支持されるように構
成されている。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、内部に半導体セン
サチップが固定されている半導体センサに関する。
【0002】
【従来の技術】物体、例えば自動車やカメラ等に組み込
まれて、それらの移動、衝突などで生じる加速度を、抵
抗素子の抵抗値の変化に基づいて検出する半導体センサ
が知られている。このような半導体センサを図12に示
す。半導体センサ60は、上下方向の形状が正方形であ
る直方体形状であり、図12はその横断面図である。半
導体センサ60は、パッケージ61、蓋62の中に、抵
抗素子(図示せず)が設けられている加速度センサチッ
プ63を固定してなるものである。ボンディングワイヤ
ー64、64は、加速度センサチップ63の抵抗素子
と、パッケージ61に形成されている金属配線(図示せ
ず)とを電気的に接続している。パッケージ61の底部
は互いに平行する内面61aと外面61bとからなる。
【0003】上記の加速度センサチップ63は半導体セ
ンサ60の内部に次のようにして固定される。パッケー
ジ61の正方形状の内面61aの4角近傍にダイボンド
剤66を適量滴下し、その中に均一の直径を有するガラ
スビーズ65を各箇所2、3個ずつ設置する。そのガラ
スビース65の上に加速度センサチップ63を設置後、
パッケージ61ごと加熱しダイボンド剤66を固化する
と、図12の状態で加速度センサチップ63は半導体セ
ンサ60内部に固定される。半導体センサ60において
は、加速度を正確に検出するために、パッケージ61の
底部に対して、加速度センサチップ63の上面及び下面
が平行になるように、前記チップ63を固定しなければ
ならない。内面61aと加速度センサチップ63との間
に単にダイボンド剤66を介在させただけでは、加速度
センサチップ63をパッケージ61底部の内面61aに
対して平行な状態で固定することは難しいことから、上
記の半導体センサ60で述べたように、均一の直径を有
するガラスビーズ65を、内面61aと加速度センサチ
ップ63との間に置くと、ガラスビーズ65の直径分の
間隔をもって、内面61aに対して加速度センサチップ
63が平行な状態になる。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】しかし、上記のガラス
ビーズ65を内面61aに置く作業は、顕微鏡下で先の
細い道具で、必要に応じてダイボンド剤66を粘着剤と
して用い、1つ1つ数えながら置いていくことから、非
常に作業性が悪かった。
【0005】本発明の目的は、従来より簡単な作業によ
って、パッケージに対して加速度センサチップを平行な
状態で固定することができる半導体センサを提供するこ
とにある。
【0006】
【課題を解決するための手段】以上の課題を解決すべ
く、本発明の請求項1に記載の発明は、外面と前記外面
に対し平行する主面を有する内面とからなる底部を備え
る箱体であるパッケージの前記内面上に、直方体形状の
加速度センサチップが、該加速度センサチップの下面が
前記主面に対して平行になるように、固定されている半
導体センサにおいて、前記パッケージの前記内面と前記
加速度センサチップの前記下面のいずれか一方には、他
方に当接することができる当接部が設けられ、前記当接
部によって、前記加速度センサチップは、前記下面が前
記主面に対して平行な状態で、前記内面上に、支持され
るように構成されていることを特徴とする。
【0007】請求項1に記載の半導体センサによれば、
パッケージの内面と加速度センサチップの下面のいずれ
か一方には、他方に当接することができる当接部が設け
られ、この当接部によって、加速度センサチップが、加
速度センサチップの下面がパッケージ内面の主面に対し
て平行な状態で、前記内面上に、支持されるように構成
されていることから、加速度センサチップを、パッケー
ジの内面上に載置すれば、加速度センサチップが当接部
によって支持されることで、加速度センサチップの下面
がパッケージ底部内面の主面に対して平行な状態にな
る。この状態で、双方の間をダイボンド剤で接着すれ
ば、パッケージに対して加速度センサチップを平行な状
態で固定することができる。
【0008】ここで、加速度センサチップとは、半導体
である抵抗素子が設けられ、外部から加えられた加速度
によってその抵抗素子の抵抗が変化するものである。パ
ッケージは、導電性ではない材質から製造され、例え
ば、セラミックや樹脂からなる。また、当接部は、パッ
ケージと加速度センサチップのどちらに設けられてもよ
く、その形状、大きさも加速度センサチップをパッケー
ジ内面上に支持できるものであればよい。さらに、当接
部は、パッケージまたはチップに対して、一体に形成さ
れていてもよいし、別途接着等により設けてもよい。
【0009】請求項2に記載の発明は、請求項1に記載
の発明において、前記当接部は、前記パッケージの前記
内面に設けられていることを特徴とする。
【0010】請求項2に記載の半導体センサによれば、
当接部は、パッケージ底部の内面に設けられていること
から、加速度センサチップを当接部上に載置すれば、加
速度センサチップの下面がパッケージ底部の主面に対し
て平行な状態になる。この状態で、双方の間をダイボン
ド剤で接着すれば、パッケージに対して加速度センサチ
ップを平行な状態で固定することができる。
【0011】請求項3に記載の発明は、請求項2に記載
の発明において、前記当接部は前記内面から突出して形
成されていることを特徴とする。
【0012】請求項3に記載の半導体センサによれば、
当接部は、パッケージの内面から突出して形成されてい
て、加速度センサチップをこの当接部に載置すれば、加
速度センサチップの下面がパッケージ底部の主面に対し
て平行な状態になる。この状態で、双方の間をダイボン
ド剤で接着すれば、パッケージに対して加速度センサチ
ップを平行な状態で固定することができる。ここで、当
接部はパッケージ内面から突出して形成されている、例
えば、膨出部や突部である。このような当接部は、パッ
ケージと一体にモールド成型することで形成してもよい
し、パッケージ内面に対して別途形成してもよい。
【0013】請求項4に記載の発明は、請求項2に記載
の発明において、前記パッケージの前記内面には前記主
面に対して窪んでいる凹部が形成されていて、前記当接
部は前記凹部に囲まれている前記主面の一部であること
を特徴とする。
【0014】請求項4に記載の半導体センサによれば、
パッケージ底部の内面には主面に対して窪んでいる凹部
が形成されていて、当接部は凹部に囲まれている主面の
一部である。例を挙げると、主面に対して窪んでいる凹
部を、内面の4角近傍に三角形状に形成し、また内面の
中央部には八角形状に形成する。これによって、主面の
一部であって、4つの三角形状の凹部と中央部の八角形
状の凹部との間にはリブが形成されることになり、この
リブを当接部とする。そして、この当接部であるリブが
形成されている主面上に加速度センサチップを載置すれ
ば、加速度センサチップの下面が、リブによって支持さ
れて、当然に、パッケージ底部の主面に対して平行な状
態になる。この状態で、凹部においてチップとパッケー
ジ内面との間をダイボンド剤で接着すれば、パッケージ
に対して加速度センサチップを平行な状態で固定するこ
とができる。
【0015】請求項5に記載の発明は、請求項1に記載
の発明において、前記内面は、前記主面のみからなり、
前記当接部は、前記加速度センサチップの前記下面に設
けられていることを特徴とする。
【0016】請求項5に記載の半導体センサによれば、
加速度センサチップの下面に設けられている当接部を脚
部として、主面のみからなる内面、つまり外面に平行す
る内面上に載置すれば、加速度センサチップの下面がパ
ッケージ底部の内面に対して平行な状態になる。この状
態で、双方の間をダイボンド剤で接着すれば、パッケー
ジに対して加速度センサチップを平行な状態で固定する
ことができる。
【0017】
【発明の実施の形態】以下、本発明の半導体センサにつ
いて図面に基づいて説明する。 (第1実施形態例)図1は、本発明の第1の実施形態例
の半導体センサに用いられるパッケージであり、図2は
該パッケージを用いた半導体センサを示している。パッ
ケージ1は、上下方向から見た形状が一辺の長さが1c
m程度の略正方形であり、高さは5mm程度の箱体であ
る。パッケージ1の内側の側面には2段階の段差が形成
され、外側の側面には溝部5、5…が多数形成されてい
る。そして、前記の内側の2つの段差のうち上の段差に
よって形成され、上を向いている面4から、溝部5、5
…、さらにパッケージ1底部の外面13(図2)にかけ
て連続して、多数の金属配線6、6…が配設されてい
る。パッケージ1の底部は外面13と内面2とからな
る。該内面2は、外面13に対して平行である主面2a
と、正方形状の内面2の4角近傍に1つずつ形成されて
いる膨出部3、3…(当接部)とからなる。この膨出部
3…の上端は略球状であり、4つの膨出部3の上端を結
んで形成される平面は主面2aに対し平行になる。よっ
て、この4つの膨出部3に平らな下面を有する加速度セ
ンサチップを載置すれば、膨出部3…によってその下面
は主面2aに対し平行な状態で支持されるようになって
いる。
【0018】このパッケージ1は、硬質な樹脂から製造
される。まず、膨出部3、溝部5等に対応する形状が形
成されている型を用いて、モールド成型によって、数十
個分が一体に形成される。次にレジストを全体に塗布
後、フォトリソグラフィ技術により、金属配線6が形成
されるべき部分のレジストを取り除いておく。この状態
で、無電解銅メッキ、さらに金メッキを施すと、レジス
トが取り除かれている部分だけに金属配線6が形成され
る。その後、個々のパッケージに切断し、パッケージ1
は製造される。
【0019】このパッケージ1を用いた半導体センサ1
0の製造方法について以下に説明する。図2には、パッ
ケージ1を用いた半導体センサ10の断面図を示す。パ
ッケージ1の膨出部3…の部分に、ダイボンド剤7を滴
下する。このダイボンド剤7は、後述する加熱工程によ
って固化後も、可撓性を有し、ひずみが残留しないタイ
プの接着剤で、例えばシリコン系の接着剤が用いられ
る。次に、これら4つの膨出部3の上に、加速度センサ
チップ8を載置する。該チップ8は、主にシリコン基板
からなり、その内部に重錘部(図示せず)が形成され、
外部から加速度が加えられるとその重錘部が変位し、チ
ップ8上面に形成されている抵抗素子の抵抗値が変化す
るもので、上下方向から見た形状がパッケージ1底部の
内面2より短い一辺の長さを有する正方形状で、全体と
して直方体形状である。前述のように、4つの膨出部3
上に載置された前記チップ8の下面8aは、主面2aに
対して平行な状態で膨出部3…によって支持されてい
る。
【0020】上記の状態の該チップ8上に軽い錘を載せ
る。数分放置後、その錘を載せた状態のままで、パッケ
ージ1ごと150℃の熱板上に5分間置いてダイボンド
剤7を固化する。これによって、加速度センサチップ8
は、ダイボンド剤7によって、その下面8aが主面2a
に対して平行な状態のまま、パッケージ1底部の内面2
上に固定される。次に、錘を取り除き、パッケージ1の
面4上の金属配線6、6…と、前記チップ8の上部に形
成されている図示しない抵抗素子とを、複数の、金から
なるボンディングワイヤー9、9…(図2では2つのみ
図示)を用いて電気的に接続する。さらに、樹脂製の蓋
11を、エポキシ樹脂等をシール剤12として用いて、
パッケージ1に被せ、加熱すると、図2に示すように、
半導体センサ10がほぼ密閉された構造で製造される。
なお、金属配線6、6…は、パッケージ1の外側に形成
されている部分において、図示しないプリント基板に電
気的に接続されていて、これによって前記チップ8の抵
抗素子の抵抗値の変化によって生じる電気的な変化が検
出されるようになっている。
【0021】上記のように製造された半導体センサ10
においては、膨出部3…の上端は略球状であるので、加
速度センサチップ8と各々の膨出部3…はほぼ点接触で
あり、これらの間にダイボンド剤7が残存することはほ
とんどない。
【0022】以上の半導体センサ10によれば、外面1
3と、外面13に対し平行する主面2aを有する内面2
とからなる底部を備える箱体であるパッケージ1の内面
2には、直方体形状の加速度センサチップ8の下面8a
が当接できる膨出部3…が形成されていて、内面2上に
前記チップ8を載置すると、この膨出部3によって、前
記チップ8の下面8aが主面2aに対して平行な状態
で、支持されるようになっている。したがって、上記の
ように、双方の間をダイボンド剤7で接着すれば、パッ
ケージ1に対して加速度センサチップ8を平行な状態で
固定することができる。すなわち、チップ8を膨出部3
…上に載置するというだけで、双方を平行な状態にする
ことができ、従来より簡単な作業でパッケージ1に対し
て加速度センサチップ8を平行な状態で固定することが
できる。
【0023】(第2実施形態例)図3は、本発明の第2
の実施形態例の半導体センサに用いられるパッケージで
ある。パッケージ21は、上下方向から見た形状が、一
辺の長さが1cm程度の略正方形で、高さは4mm程度
の箱体である。パッケージ21の内側の側面には段差が
形成されていて、外側の側面には溝部25、25…が多
数形成されている。前記の内側の段差によって形成され
る、上に向いている面24から、溝部25…、さらにパ
ッケージ21の底部の外面28(図6)にかけて連続し
て、多数の金属配線26、26…が配設されている。該
金属配線26…は、パッケージ21の最上面21bによ
って被われていて、その部分については外部からは見え
ない。パッケージ21の底部は外面28と内面22とか
らなる。該内面22は、外面28に対して平行である主
面22aと、凹部27、27…とからなり、主面22a
の一部は凹部27…によって囲まれているリブ23、2
3…となっている。
【0024】上記のリブ23…及び凹部27…の形成方
法も含めたパッケージ21の製造方法について以下に説
明する。パッケージ21は、適宜加工が施された薄いセ
ラミックシートを数枚重ねたものから数十個一度に製造
される。まず、外面28となる、一辺12cmの正方形
状で厚さ0.2〜0.4mmのセラミックシート(図示
せず)の片面には、所定の形状でスクリーン印刷により
ペースト状のタングステンが印刷される。次に、そのタ
ングステンが印刷された面とは逆の面の上に、図4に示
すように、リブ23…となる部分を残して正方形状の開
口部35a…が形成されたセラミックシート35を重ね
る。該シート35上に、図5に示すように、開口部35
aよりも大きな開口部36a…が形成されているセラミ
ックシート36を、例えば6枚重ねる。このときに一番
上に重ねるセラミックシート36の開口部36a…の周
りはパッケージ21の面4となり、予め所定の形状でス
クリーン印刷により、ペースト状のタングステンが印刷
されている。この状態で、個々のパッケージの境界の部
分(図4及び図5では点線の部分)に、重ねられた8枚
のセラミックシートの最上面から最下面まで貫通し、印
刷によって配設されているタングステンと連続する多数
の貫通孔をドリルで設ける。この貫通孔が溝部25…と
なる。この状態で、貫通孔にニッケルメッキを施す。次
に、開口部36aよりも大きい正方形状の開口部が形成
されているセラミックシート(図示せず)を一枚重ね、
この状態で焼成する。焼成後、全体を金メッキ槽に浸す
と、タングステンが印刷された部分とニッケルメッキが
施された貫通孔に、金メッキが施され、これが金属配線
26…となる。最後に、ダイヤモンドソー等を用いて個
々に割ると、パッケージ21が得られる。
【0025】このように製造されたパッケージ21の底
部の内面22は、セラミックシート35を由来とする主
面22aを有し、内面22の4角近傍と中央部には、セ
ラミックシート35の開口部35aを由来とする、凹部
27、27…が5ヶ所形成されている。そして、凹部2
7…に囲まれている、主面22aの一部である4つのリ
ブ23…は、主面22aと同一平面に形成されている当
接部となる。リブ23…の幅は、非常に細く、例えば
0.2mm程度である。このリブ23…を含む主面22
aに、平らな下面を有する加速度センサチップを載置す
れば、その下面は当然に主面22aに対し平行な状態
で、支持されるようになっている。
【0026】上記のパッケージ21を用いた半導体セン
サの製造方法について以下に説明する。図6は、上記の
パッケージ21を用いた半導体センサ30を示した断面
図である。図6においては、第1実施形態例と同じもの
については、図2と同じ符号を付している。まず、4つ
のリブ23…上に、ダイボンド剤7を滴下する。図7
は、その様子を示したものである。この状態の主面22
a上に、加速度センサチップ8を載置すると、ダイボン
ド剤7は、リブ23…上から押し出され、リブ23…の
両脇の凹部27…において、前記チップ8と内面22と
の間に溜まる。また、前述のように、主面22a上に載
置された前記チップ8の下面8aは、主面22aに対し
て平行な状態で支持されている。
【0027】その後の工程は、第1実施形態例と同様に
行われ、加速度センサチップ8は、凹部27…にあるダ
イボンド剤7によって、その下面8aが主面22aに対
して平行な状態のまま、パッケージ21底部の内面22
上に固定される。次に、面24上の金属配線26…と、
チップ8の抵抗素子(図示せず)とを、ボンディングワ
イヤー9…(図6では2つのみ図示)を用いて電気的に
接続後、セラミック製の蓋29を、エポキシ樹脂や低融
点ガラス等をシール剤31として用いて、パッケージ2
1に被せて、加熱すると、図6に示す半導体センサ30
がほぼ密閉された構造で製造される。
【0028】以上の半導体センサ30によれば、外面2
8と、外面28に対し平行する主面22aを有する内面
22とからなる底部を備える箱体であるパッケージ21
の内面22には、主面22aに対して窪んでいる凹部2
7…が形成されている。凹部27に囲まれている、主面
22aの一部であるリブ23は、主面22aと同一平面
に形成されている当接部となり、このリブ23を含む主
面22aに、加速度センサチップ8を載置すれば、その
面は当然に主面22aに対し平行な状態で、支持される
ようになっている。したがって、上記のように、双方の
間をダイボンド剤7で接着すれば、パッケージ21に対
して加速度センサチップ8を平行な状態で固定すること
ができる。すなわち、該チップ8をリブ23…を含む主
面22a上に載置するだけで、双方を平行な状態にする
ことができ、従来より簡単な作業でパッケージ21に対
して加速度センサチップ8を平行な状態で固定すること
ができる。
【0029】(第3実施形態例)図8は、本発明の第3
の実施形態例の半導体センサに用いられる加速度センサ
チップの下面を示す斜視図である。加速度センサチップ
45は、シリコン基板から製造され、第1及び第2実施
形態例の前記チップ8同様、その内部に重錘部(図示せ
ず)が形成され、加速度が加えられるとその重錘部が変
位し、チップ45上面に形成されている図示しない抵抗
素子の抵抗値が変化するものである。チップ45は、上
下方向から見た形状は正方形状であり、全体として直方
体形状である。加速度センサチップ45の下面45aの
4角近傍には、当接部である突部46、46…が4個形
成されている。この突部46…は裁頭四角錐状で、全て
同じ高さを有し、それらの端面は一辺が0.2mm程度
の略正方形状であり、これら4つの面が同一平面になる
ように形成されている。突部46…は、加速度センサチ
ップ45の下部を形成するシリコン基板を異方性エッチ
ングすることにより形成される。
【0030】また、ここで用いられるパッケージ41を
図9に示す。パッケージ41は、セラミック製で、第2
実施形態例のパッケージ21とほぼ同様の形状であり、
セラミックシートからパッケージ21と同様に製造され
る。図9において、43は、金属配線である。その底部
の内面42は、平坦であり、外面47(図10)に対し
て平行な主面のみからなる。前述の加速度センサチップ
45を、突部46…を脚部として、内面42上に載置す
れば、突部46によって、前記チップ45の下面45a
が内面42に対して平行な状態で支持されるようになっ
ている。
【0031】加速度センサチップ45とパッケージ41
を用いた半導体センサの製造方法について以下に説明す
る。図10には、上記の加速度センサチップ45を用い
た半導体センサ50の断面図を示す。図10において
は、第2実施形態例と同じものについては、図6と同じ
符号を付している。パッケージ41の内面42の4角近
傍であって突部46…に対応する4ヶ所にダイボンド剤
7を滴下する。この上に、加速度センサチップ45を、
突部46…を脚部として、載置する。この場合、ダイボ
ンド剤7が滴下された箇所において突部46の端面が内
面42に面接触するようにセットする。このように載置
すれば、前述のように、突部46…によって、前記チッ
プ45の下面45aは内面42(主面)に対して平行な
状態で支持されている。その後の工程は、第2実施形態
例と同様に行われ、加速度センサチップ45は、ダイボ
ンド剤7によって、その下面45aが内面42に対して
平行な状態のまま、パッケージ41底部の内面42上に
固定される。次に、金属配線43と、チップ45の抵抗
素子とを、ボンディングワイヤー9、9…(図10では
2つのみ図示)を用いて電気的に接続後、セラミック製
の蓋44を、シール剤31を介してパッケージ41に被
せて、加熱すると、図10に示すように、半導体センサ
50がほぼ密閉された構造で製造される。
【0032】以上の半導体センサ50によれば、加速度
センサチップ45の下面45aには、突部46…が形成
されていて、パッケージ41は、外面47と、外面47
に対し平行する内面42とからなる底部を備える箱体で
ある。そして、加速度センサチップ45を、突部46…
を脚部として、内面42上に載置すれば、突部46…に
よって、前記チップ45の下面45aが内面42(主
面)に対して平行な状態で支持されるようになってい
る。したがって、加速度センサチップ45を内面42上
に載置した状態で、双方の間をダイボンド剤7で接着す
れば、パッケージ41に対して加速度センサチップ45
を平行な状態で固定することができる。すなわち、チッ
プ45を内面42上に載置するだけで、双方を平行な状
態にすることができ、従来より簡単な作業でパッケージ
41に対して加速度センサチップ45を平行な状態で固
定することができる。
【0033】なお、上記第3実施形態例において、加速
度センサチップ45の下面45aに形成される突部は、
上記の例に限らず、狭い部分によってパッケージ底部の
内面と接触し、加速度センサチップ45を支持できる形
状であればよく、例えば、図11の(a)、(b)及び
(c)に示すような形状が挙げられる。図11(a)で
は、下面45aの中央部に筒状であって裁頭円錐状の突
部46aが設けられ、同じく(b)では下面45aの4
角近傍に、断面形状が下方に向かって細くなる台形であ
る、細長い突部46b…が設けられ、同じく(c)では
裁頭四角錐状の突部46c…が下面45aの4角近傍そ
れぞれに3つずつ設けられている。また、突部46…
は、加速度センサチップ45の下部を形成するシリコン
基板を異方性エッチングすることにより形成されたが、
これに限られるものではなく、他の方法によって形成し
てもよい。例えば、加速度センサチップの下面に、ガラ
ス、金属等により別途形成してもよい。ガラスで形成す
る場合、ペースト状のガラスをスクリーン印刷により、
下面の4角近傍に所定の形状でガラス層を形成する。そ
れを焼成すると、一旦溶融してから丸くなり、球状の突
部が得られる。また、金属で突部を形成する場合は、マ
スク蒸着等により所定の形状の金属層を形成し、突部と
することができる。さらに、本実施形態例では、ダイボ
ンド剤7はパッケージ41の内面42上に滴下したが、
加速度センサチップ45の突部46…の下面に予め塗布
しておいてもよい。この場合、突部46…に塗布されて
いるダイボンド剤7を押し出すようにして軽く該チップ
45を押しながら内面42に載置すればよい。
【0034】また、第1〜第3実施形態例において、半
導体センサの各部の大きさ、形状等は適宜変更可能であ
り、具体的な細部構造等についても任意であることは勿
論である。
【0035】
【発明の効果】請求項1に記載の半導体センサによれ
ば、加速度センサチップを、パッケージ底部の内面上に
載置すれば、加速度センサチップの下面がパッケージ底
部内面の主面に対して平行な状態になる。したがって、
従来より簡単な作業で、パッケージに対して加速度セン
サチップを平行な状態で固定することができる。
【0036】請求項2に記載の半導体センサによれば、
加速度センサチップをパッケージ底部の内面に設けられ
ている当接部上に載置すれば、加速度センサチップの下
面がパッケージ底部の主面に対して平行な状態になる。
したがって、従来より簡単な作業で、パッケージに対し
て加速度センサチップを平行な状態で固定することがで
きる。
【0037】請求項3に記載の半導体センサによれば、
加速度センサチップをパッケージ底部の内面から突出し
て形成されている当接部上に載置すれば、加速度センサ
チップの下面がパッケージ底部の主面に対して平行な状
態になる。したがって、従来より簡単な作業で、パッケ
ージに対して加速度センサチップを平行な状態で固定す
ることができる。
【0038】請求項4に記載の半導体センサによれば、
加速度センサチップをパッケージ底部の内面の主面の一
部である当接部上に載置すれば、加速度センサチップの
下面がパッケージ底部の主面に対して平行な状態にな
る。したがって、従来より簡単な作業で、パッケージに
対して加速度センサチップを平行な状態で固定すること
ができる。
【0039】請求項5に記載の半導体センサによれば、
加速度センサチップの下面に設けられている当接部を脚
部として、パッケージ底部の外面に平行する内面上に載
置すれば、加速度センサチップの下面がパッケージ底部
の内面に対して平行な状態になる。したがって、従来よ
り簡単な作業で、パッケージに対して加速度センサチッ
プを平行な状態で固定することができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の一例である半導体センサに用いられる
パッケージを示した斜視図である。
【図2】図1のパッケージを用いた半導体センサの断面
図である。
【図3】本発明の第2の例である半導体センサに用いら
れるパッケージを示した斜視図である。
【図4】図3のパッケージの製造に用いられるセラミッ
クシートの一部を示す斜視図である。
【図5】図3のパッケージの製造に用いられるセラミッ
クシートの一部を示す斜視図である。
【図6】図3のパッケージを用いた半導体センサを示し
た断面図である。
【図7】図3のパッケージ底部の内面にダイボンド剤を
滴下した状態を示す上面図である。
【図8】本発明の第3の例である半導体センサに用いら
れる加速度センサチップの一例を示した下面斜視図であ
る。
【図9】本発明の第3の例である半導体センサに用いら
れるパッケージを示した斜視図である。
【図10】図8の加速度センサチップと図9のパッケー
ジを用いた半導体センサの断面図である。
【図11】本発明の第3の例である半導体センサに用い
られる加速度センサチップの他の例を示した下面斜視図
である。
【図12】従来の半導体センサの横断面図である。
【符号の説明】
1、21、41 パッケージ 2、22、42 内面 2a、22a 主面 3 膨出部(当接部) 7 ダイボンド剤 8、45 加速度センサチップ 8a、45a 下面 10、30、50 半導体センサ 13、28、47 外面 23 リブ(当接部) 27 凹部 46、46a、46b、46c 突部(当接部)
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 吾妻 晃広 神奈川県秦野市曽屋1204番地 日本インタ ー株式会社内

Claims (5)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 外面と前記外面に対し平行する主面を有
    する内面とからなる底部を備える箱体であるパッケージ
    の前記内面上に、直方体形状の加速度センサチップが、
    該加速度センサチップの下面が前記主面に対して平行に
    なるように、固定されている半導体センサにおいて、 前記パッケージの前記内面と前記加速度センサチップの
    前記下面のいずれか一方には、他方に当接することがで
    きる当接部が設けられ、 前記当接部によって、前記加速度センサチップは、前記
    下面が前記主面に対して平行な状態で、前記内面上に、
    支持されるように構成されていることを特徴とする半導
    体センサ。
  2. 【請求項2】 前記当接部は、前記パッケージの前記内
    面に設けられていることを特徴とする請求項1に記載の
    半導体センサ。
  3. 【請求項3】 前記当接部は前記内面から突出して形成
    されていることを特徴とする請求項2に記載の半導体セ
    ンサ。
  4. 【請求項4】 前記パッケージの前記内面には前記主面
    に対して窪んでいる凹部が形成されていて、前記当接部
    は前記凹部に囲まれている前記主面の一部であることを
    特徴とする請求項2に記載の半導体センサ。
  5. 【請求項5】 前記内面は、前記主面のみからなり、 前記当接部は、前記加速度センサチップの前記下面に設
    けられていることを特徴とする請求項1に記載の半導体
    センサ。
JP9229876A 1997-08-26 1997-08-26 半導体センサ Pending JPH1164369A (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP9229876A JPH1164369A (ja) 1997-08-26 1997-08-26 半導体センサ

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP9229876A JPH1164369A (ja) 1997-08-26 1997-08-26 半導体センサ

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JPH1164369A true JPH1164369A (ja) 1999-03-05

Family

ID=16899099

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP9229876A Pending JPH1164369A (ja) 1997-08-26 1997-08-26 半導体センサ

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JPH1164369A (ja)

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2007155714A (ja) * 2005-11-10 2007-06-21 Honeywell Internatl Inc センサ感知軸線の移動用小型パッケージ
WO2011062242A1 (ja) * 2009-11-19 2011-05-26 大日本印刷株式会社 センサデバイス及びその製造方法
JP2011242400A (ja) * 2004-02-27 2011-12-01 Honeywell Internatl Inc 垂直ダイ・チップオンボード

Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2011242400A (ja) * 2004-02-27 2011-12-01 Honeywell Internatl Inc 垂直ダイ・チップオンボード
JP2007155714A (ja) * 2005-11-10 2007-06-21 Honeywell Internatl Inc センサ感知軸線の移動用小型パッケージ
WO2011062242A1 (ja) * 2009-11-19 2011-05-26 大日本印刷株式会社 センサデバイス及びその製造方法
US9476898B2 (en) 2009-11-19 2016-10-25 Dai Nippon Printing Co., Ltd. Sensor device and manufacturing method thereof

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US6268654B1 (en) Integrated circuit package having adhesive bead supporting planar lid above planar substrate
US5504277A (en) Solder ball array
JP4856470B2 (ja) 配線基板
US7163846B2 (en) Method for manufacturing circuit devices
JPH11354669A (ja) ボ―ルグリッドアレイ型半導体パッケ―ジ及びその製造方法
JP2002026233A (ja) 半導体装置およびその製造方法
JP2008544554A (ja) 薄型可撓性基板を使用するフリップチップダイ組立体
EP1898462A2 (en) Semiconductor apparatus
JPH11233684A (ja) 半導体装置用基板、半導体装置及びその製造方法並びに電子機器
GB2026234A (en) Circuit element package having lead patterns
KR20020070107A (ko) 표면에 장착 가능한 칩형 반도체 장치 및 그 제조 방법
JP7455585B2 (ja) センサユニットならびに基板およびキャリアを相互接続する方法
JPH1164369A (ja) 半導体センサ
US6959489B2 (en) Methods of making microelectronic packages
US5296736A (en) Leveled non-coplanar semiconductor die contacts
JP2008219348A (ja) 圧電デバイスの製造方法および圧電デバイス
CN109850839B (zh) 微机电传感器封装结构及制造方法
JP2772828B2 (ja) ダイボンディング方法
JP2002299520A (ja) 配線基板および多数個取り配線基板
JP5067107B2 (ja) 回路基板および半導体装置
US6084298A (en) Manufacturing of semiconductor device
KR100396868B1 (ko) 연성인쇄회로기판의 고정방법 및 그의 구조
JP2002164386A (ja) Ic実装用基板とその製造方法及びic実装用基板へのic実装方法
JP4343082B2 (ja) 電子回路ユニット、及びその製造方法
JPH11220059A (ja) 半導体素子実装基板