JPH11503443A - 新規なタキソイド、その製造及びそれを含有する製薬学的組成物 - Google Patents
新規なタキソイド、その製造及びそれを含有する製薬学的組成物Info
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- JPH11503443A JPH11503443A JP8530777A JP53077796A JPH11503443A JP H11503443 A JPH11503443 A JP H11503443A JP 8530777 A JP8530777 A JP 8530777A JP 53077796 A JP53077796 A JP 53077796A JP H11503443 A JPH11503443 A JP H11503443A
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Abstract
Description
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1.一般式: [式中、 Zは水素原子又は一般式: の基を示し、 ここで: R1は場合によりハロゲン原子及び炭素数が1〜4のアルキル基、炭素数が1 〜4のアルコキシ基又はトリフルオロメチル基から選ばれる1つ又はそれ以上の 同一又は異なることができる原子もしくは基により置換されていることができる ベンゾイル基、テノイル基又はフロイル基あるいは基R2−O−CO−を示し、 ここでR2は: −炭素数が1〜8のアルキル基、炭素数が2〜8のアルケニル基、炭素数が3〜 8のアルキニル基、炭素数が3〜6のシクロアルキル基、炭素数が4〜6のシク ロアルケニル基又は炭素数が7〜10のビシクロアルキル基を示し、これらの基 は場合によりハロゲン原子及びヒドロキシル基、炭素数が1〜4のアルコキシ基 、各アルキル部分の炭素数が1〜4 のジアルキルアミノ基、ピペリジノ、モルホリノもしくは1−ピペラジニル基( 場合により4位において炭素数が1〜4のアルキル基で又はアルキル部分の炭素 数が1〜4のフェニルアルキル基で置換されていることができる)、炭素数が3 〜6のシクロアルキル基、炭素数が4〜6のシクロアルケニル基、フェニル基( 場合によりハロゲン原子及び炭素数が1〜4のアルキル基又は炭素数が1〜4の アルコキシ基から選ばれる1つもしくはそれ以上の原子もしくは基で置換されて いることができる)、シアノもしくはカルボキシル基又はアルキル部分の炭素数 が1〜4のアルコキシカルボニル基から選ばれる1つ又はそれ以上の置換基で置 換されていることができ、 −場合によりハロゲン原子及び炭素数が1〜4のアルキル基又は炭素数が1〜4 のアルコキシ基から選ばれる1つ又はそれ以上の原子又は基で置換されているこ とができるフェニル又はα−もしくはβ−ナフチル基あるいは好ましくはフリル 及びチエニル基から選ばれる5−員芳香族複素環式基を示し、 −あるいは場合により1つ又はそれ以上の炭素数が1〜4のアルキル基で置換さ れていることができる炭素数が4〜6の飽和複素環式基を示し、 R3は炭素数が1〜8の直鎖状もしくは分枝鎖状アルキル基、炭素数が2〜8 の直鎖状もしくは分枝鎖状アルケニル基、炭素数が2〜8の直鎖状もしくは分枝 鎖状アルキニル基、炭素数が3〜6のシクロアルキル基、場合によりハロゲン原 子及びアルキル、アルケニル、アルキニル、アリール、アラルキル、アルコキシ 、アルキルチオ、アリールオキシ、アリールチオ、ヒドロキシル、ヒドロキシア ルキル、メルカプト、ホルミル、アシル、アシルアミノ、アロイルアミノ、アル コキシカルボニル アミノ、アミノ、アルキルアミノ、ジアルキルアミノ、カルボキシル、アルコキ シカルボニル、カルバモイル、アルキルカルバモイル、ジアルキルカルバモイル 、シアノ、ニトロ及びトリフルオロメチル基から選ばれる1つもしくはそれ以上 の原子もしくは基により置換されていることができるフェニル又はα−もしくは β−ナフチル基、あるいは窒素、酸素及び硫黄原子から選ばれる1つもしくはそ れ以上の同一もしくは異なることができる複素原子を含有し且つ場合によりハロ ゲン原子及びアルキル、アリール、アミノ、アルキルアミノ、ジアルキルアミノ 、アルコキシカルボニルアミノ、アシル、アリールカルボニル、シアノ、カルボ キシル、カルバモイル、アルキルカルバモイル、ジアルキルカルバモイル又はア ルコキシカルボニル基から選ばれる1つもしくはそれ以上の同一もしくは異なる ことができる置換基で置換されていることができる5−員芳香族複素環を示し、 フェニル、α−もしくはβ−ナフチル基及び芳香族複素環式基の置換基において 、アルキル基及び他の基のアルキル部分は炭素数が1〜4であり、アルケニル及 びアルキニル基の炭素数は2〜8であり、アリール基はフェニル又はα−もしく はβ−ナフチル基であると理解され、 R4は直鎖又は分枝鎖中に1〜6個の炭素原子を含有するアルコキシ基、直鎖 又は分枝鎖中に3〜6個の炭素原子を含有するアルケニルオキシ基、直鎖又は分 枝鎖中に3〜6個の炭素原子を含有するアルキニルオキシ基、炭素数が3〜6の シクロアルキルオキシ基、炭素数が3〜6のシクロアルケニルオキシ基を示し、 これらの基は場合により1つ又はそれ以上のハロゲン原子で又は炭素数が1〜4 のアルコキシ基、炭素数が1〜4のアルキルチオ基もしくはカルボキシル基、ア ルキル部分の炭素 数が1〜4のアルキルオキシカルボニル基、シアノもしくはカルバモイル基、各 アルキル部分の炭素数が1〜4であるかまたはそれが結合している窒素原子と共 に、場合により酸素、硫黄もしくは窒素原子から選ばれる第2の複素原子を含有 することができ、場合により炭素数が1〜4のアルキル基又はフェニル基もしく はアルキル部分の炭素数が1〜4のフェニルアルキル基で置換されていることが できる5−もしくは6−員飽和複素環式基を形成するN−アルキルカルバモイル もしくはN,N−ジアルキルカルバモイル基で置換されていることができる] の新規なタキソイド。 2.Zが水素原子又は一般式(II)の基を示し、式中、R1はベンゾイル基 又は基R2−O−CO−を示し、ここでR2はtert−ブチル基を示し、R3は 炭素数が1〜6のアルキル基、炭素数が2〜6のアルケニル基、炭素数が3〜6 のシクロアルキル基、場合によりハロゲン原子及びアルキル、アルコキシ、ジア ルキルアミノ、アシルアミノ、アルコキシカルボニルアミノ又はトリフルオロメ チル基から選ばれる1つ又はそれ以上の同一又は異なることができる原子もしく は基で置換されていることができるフェニル基あるいは2−もしくは3−フリル 又は2−もしくは3−チエニル又は2−、4−もしくは5−チアゾリル基を示し 、R4が炭素数が1〜6の直鎖状もしくは分枝鎖状アルキルオキシ基を示す請求 の範囲第1項に記載の新規なタキソイド。 3.Zが水素原子又は一般式(II)の基を示し、式中、R1はベンゾイル基 又は基R2−O−CO−を示し、ここでR2はtert−ブチル基を示し、R3は イソブチル、イソブテニル、ブテニル、シクロヘキシル、フェニル、2−フリル 、3−フリル、2−チエニル、3−チエニル、 2−チアゾリル、4−チアゾリル又は5−チアゾリル基を示し、R4がメトキシ 、エトキシ又はプロポキシ基を示す請求の範囲第1項に記載の新規なタキソイド 。 4.一般式: [式中、R4は請求の範囲第1、2又は3項の1つにおける通りに定義され、R5 はトリフルオロメタンスルホニルオキシ基を示すか、又はα−メチル基の炭素原 子との結合を形成し、シクロプロパン環を形成する] の生成物を、一般式: [式中、R1及びR3は請求の範囲第1、2又は3項の1つにおける通りに定義さ れ、R6は水素原子を示し且つR7はヒドロキシル官能基のための保護基を示すか 、あるいは別の場合R6及びR7は一緒になって5−もしくは6−員飽和複素環を 形成する] の酸あるいはこの酸の誘導体を用いてエステル化して、一般式: [式中、R1、R3、R4、R5、R6及びR7は上記の通りに定義される] のエステルを得、次いでR7及び/又はR6とR7により示される保護基を水素原 子で置換し、そしてR5がトリフルオロメタンスルホニルオキシ基を示す場合、 この基を除去してα−メチル基の炭素原子とシクロプロパン環を形成させる ことを特徴とする請求の範囲第1、2又は3項の1つに記載の生成物の製造法。 5.一般式(IV)の酸を用い、カップリング剤及び活性化剤の存在下に、有 機溶媒中で、−10〜90℃の温度においてエステル化を行うことを特徴とする 請求の範囲第1項に記載の方法。 6.対称無水物の形態の一般式(IV)の酸を用い、活性化剤の存在下に、有 機溶媒中で、0〜90℃の温度において作用させエステル化を行うことを特徴と する請求の範囲第4項に記載の方法。 7.ハライドの形態の又は場合によりその場で製造することができる脂肪族も しくは芳香族酸との混合無水物の形態の一般式(IV)の酸を用い、塩基の存在 下で、有機溶媒中で、0〜80℃の温度において作用させてエステル化を行うこ とを特徴とする請求の範囲第4項に記載の方法。 8.保護基R7及び/又はR6とR7を以下の方法で反応させて水素原 子により置換する: 1)R6が水素原子を示し、R7がヒドロキシル官能基のための保護基を示す場合 、無機酸又は有機酸を単独で又は混合物として用い、アルコール類、エーテル類 、エステル類、脂肪族炭化水素、ハロゲン化脂肪族炭化水素、芳香族炭化水素又 はニトリル類から選ばれる有機溶媒中で、−10〜60℃の温度で作用させて保 護基を水素原子により置換する、 2)R6及びR7が一緒になって5−もしくは6−員複素環、さらに特定的に一般 式: [式中、R1は請求の範囲第1、2又は3項の1つにおける通りに定義され、R8 及びR9は同一又は異なることができ、水素原子あるいは炭素数が1〜4のアル キル基又はアルキル部分の炭素数が1〜4であり且つアリール部分が場合により 炭素数が1〜4の1つ又はそれ以上のアルコキシ基で置換されていることができ るフェニル基を示すアラルキル基、又は場合により炭素数が1〜4の1つ又はそ れ以上のアルコキシ基で置換されていることができるフェニル基を示すアリール 基を示すか、あるいは別の場合R8は炭素数が1〜4のアルコキシ基又はトリハ ロメチル基又はトリハロメチル基で置換されているフェニル基を示し且つR9は 水素原子を示すか、あるいは別の場合R8及びR9はそれらが結合している炭素原 子と一緒になって4−〜7−員環を形成する] のオキサゾリジン環を形成する場合、R6及びR7により形成される保護基をR1 、R8及びR9の意味に依存して以下の方法で作用させて水素原 子により置換する: a)R1がtert−ブトキシカルボニル基を示し、R8及びR9が同一又は異 なることができ、アルキル基又はアラルキルもしくはアリール基を示すか、ある いは別の場合R8がトリハロメチル基又はトリハロメチル基で置換されたフェニ ル基を示し且つR9が水素原子を示すか、あるいは別の場合R8及びR9が一緒に なって4−〜7−員環を形成する場合、一般式(V)のエステルを無機又は有機 酸を用い、場合によりアルコールなどの有機溶媒中で処理し、一般式: [式中、R3、R4及びR5は請求の範囲第1、2又は3項の1つにおける通りに 定義される] の生成物を得、その生成物を場合によりフェニル環が置換されていることができ るベンゾイルクロリド、テノイルクロリド、フロイルクロリド又は一般式: R2−O−CO−X (VIII) [式中、R2は上記の通りに定義され、Xはハロゲン原子又は残基−O−R2もし くは−O−CO−O−R2を示す] の生成物を用いてアシル化し、Zが一般式(II)の基を示す一般式(I)の生 成物を得る、 b)R1が場合により置換されていることができるベンゾイル基、テ ノイル又はフロイル基あるいは基R2O−CO−を示し、ここでR2は上記の通り に定義され、R8は水素原子又は炭素数が1〜4のアルコキシ基又は1つもしく はそれ以上の炭素数が1〜4のアルコキシ基で置換されたフェニル基を示し、R9 が水素原子を示す場合、R6及びR7により形成される保護基を、化学量論的も しくは触媒的量で単独で又は混合物として用いられる無機酸又は有機酸の存在下 に、アルコール類、エーテル類、エステル類、脂肪族炭化水素、ハロゲン化脂肪 族炭化水素及び芳香族炭化水素から選ばれる有機溶媒中で、−10〜60℃、好 ましくは15〜30℃の温度で作用させて水素原子により置換する ことを特徴とする請求の範囲第4項に記載の方法。 9.アルカリ金属ハライド又はアルカリ金属アジドもしくはアンモニウム塩を 用い、エーテル類、ニトリル類又は脂肪族エステル類から選ばれる単独の又は混 合物としての有機溶媒中で、20℃と反応混合物の沸点の間の温度で作用させ、 トリフルオロメタンスルホニルオキシ基を示す基R5を脱離させてα−メチル基 の炭素原子との結合を形成させることを特徴とする請求の範囲第4項に記載の方 法。 10.式: の10−デアセチルバッカチンIIIを一般式: (R’)3−Si−Hal (X) [式中、記号R’は同一又は異なることができ、場合によりフェニル基で置換さ れていることができる炭素数が1〜4のアルキル基、又はフェニル基を示す] のシリルハライドで処理し、一般式: [式中、R’は上記の通りに定義される] の生成物を得、その生成物を一般式: R’4−X1 (XII) [式中、R’4はR’4−O−が請求の範囲第1、2又は3項の1つにおけるR4 と同じであるような基であり、X1はハロゲン原子又は反応性エステル残基、例 えば硫酸もしくはスルホン酸エステル残基を示す] の生成物で処理し、一般式: [式中、R’及びR4は上記の通りに定義される] の生成物を得、そのシリル保護基を水素原子により置換して一般式: [式中、R4は上記の通りに定義される] の生成物を得、その生成物をトリフルオロメタンスルホン酸誘導体で処理してR5 がトリフルオロメタンスルホニルオキシ基を示す一般式(III)の生成物を 得、その生成物を場合によりエーテル類及びニトリル類及び脂肪族エステル類か ら選ばれる単独の又は混合物としての有機溶媒中で、20℃と反応混合物の沸点 の間の温度で作用させてアルカリ金属ハライドあるいはアルカリ金属アジド又は アンモニウム塩で処理し、R5がα−メチル基の炭素原子との結合を形成する一 般式(III)の生成物を得ることを特徴とする一般式: [式中、R4は請求の範囲第1、2又は3項の1つにおける通りに定義され、R5 はトリフルオロメタンスルホニルオキシ基を示すか、あるいはα−メチルの炭素 原子との結合を形成する] の新規なタキソイドの製造法。 11.(2R,3S)−3−tert−ブトキシカルボニルアミノ− 2−ヒドロキシ−3−フェニルプロピオン酸4α−アセトキシ−2α−ベンゾイ ルオキシ−5β,20−エポキシ−β−ヒドロキシ−10β−メトキシ−7β, 8β−メチレン−9−オキソ−19−ノル−11−タキセン−13α−イル。 12.(2R,3S)−3−tert−ブトキシカルボニルアミノ−2−ヒド ロキシ−3−フェニルプロピオン酸4α−アセトキシ−2α−ベンゾイルオキシ −5β,20−エポキシ−β−ヒドロキシ−10β−エトキシ−7β,8β−メ チレン−9−オキソ−19−ノル−11−タキセン−13α−イル。 13.(2R,3S)−3−tert−ブトキシカルボニルアミノ−2−ヒド ロキシ−3−フェニルプロピオン酸4α−アセトキシ−2α−ベンゾイルオキシ −5β,20−エポキシ−β−ヒドロキシ−10β−(1−プロピル)オキシ− 7β,8β−メチレン−9−オキソ−19−ノル−11−タキセン−13α−イ ル。 14.Zが一般式(II)の基を示す少なくとも1種の請求の範囲第1、2又 は3項の1つに記載の生成物を、1種又はそれ以上の製薬学的に許容され得る希 釈剤又は添加剤及び場合により1種又はそれ以上の適合性で且つ薬理学的に活性 な化合物と組み合わせて含有することを特徴とする製薬学的組成物。 15.少なくとも1種の請求の範囲第11項に記載の生成物を、1種又はそれ 以上の製薬学的に許容され得る希釈剤又は添加剤及び場合により1種又はそれ以 上の適合性で且つ薬理学的に活性な化合物と組み合わせて含有することを特徴と する製薬学的組成物。 16.少なくとも1種の請求の範囲第12項に記載の生成物を、1種 又はそれ以上の製薬学的に許容され得る希釈剤又は添加剤及び場合により1種又 はそれ以上の適合性で且つ薬理学的に活性な化合物と組み合わせて含有すること を特徴とする製薬学的組成物。 17.少なくとも1種の請求の範囲第13項に記載の生成物を、1種又はそれ 以上の製薬学的に許容され得る希釈剤又は添加剤及び場合により1種又はそれ以 上の適合性で且つ薬理学的に活性な化合物と組み合わせて含有することを特徴と する製薬学的組成物。
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