JPH11500099A - 酸化金属が被覆されたガラス基板を製造する方法及び電子ディスプレイ用のガラス基板 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 とりわけ酸化マグネシウム層等の高δ_maxを持つ酸化金属層が、噴霧−熱分解処理により電子表示装置の選択プレートまたはチャネルプレート等のガラス基板上に設けられる。このために、Ｍｇアセテート等の金属塩とエタノールまたは他の（有機）溶剤及び／または水との溶液が、３５０〜５５０°Ｃの温度に維持される基板上に噴霧される。チャネルプレートの各チャネルの底及び壁にこのような層が設けられた表示装置においては、５０〜１００Ｖ／ｃｍの最小移送電圧しか必要とされない。

Description

【発明の詳細な説明】 酸化金属が被覆されたガラス基板を製造する方法及び電子ディスプレイ用のガラ ス基板 技術分野 本発明は、とりわけフラット電子ディスプレイにおいて使用される、酸化金属 層が被覆されたガラス基板を製造する方法に関する。 背景技術 酸化金属層、とりわけ、酸化マグネシウム層が、とりわけ、電子増倍管内の二 次電子放射層として使用されている。このような層は、少なくとも１の二次電子 放射係数δ_maxを持つべきである。製造工程に依存して、酸化マグネシウムは、 ３〜２５の範囲内のδ_max値を持つ。また、酸化マグネシウム層は、出願人の名 において、ヨーロッパ特許出願公開第0,464,937号に対応する米国特許出願（第0 8/415220号）(PHN13.374)に記載のフラット電子ディスプレイ（いわゆるゼウス ディスプレイ）のガラス選択プレート及びチャネルプレート上に使用される。こ の酸化マグネシウム層は、二次電子を生成すること及び電子衝突に対して前記ガ ラスプレートを保護しなければならない。また、酸化マグネシウムは、プラズマ ディスプレイ(PDP)及びプラズマアドレスＬＣＤ(PALC)における電極保護物質と しても使用される。 酸化マグネシウム層は、とりわけ、ＲＦスパッタリング、電子ビーム蒸発(e-b eam evaporation)及び化学蒸着(CVD)により製造することができる。蒸着された 酸化マグネシウム層は、７〜１２のδ値を持つ。しかしながら、これらの方法は 、高価であり、フラット電子ディスプレイ用等の大きな寸法のガラスプレートの 大規模の製造にはそれほど適していない。他の既知の方法においては、ＭｇＯ粒 子及び有機質粘結剤を有するペーストが使用される。この層は、スクリーン印刷 及び略々５００°Ｃの空気中でのか焼により得られる。しかしながら、得られた 層は、相対的に低い二次電子放射係数（δ_max＜５）を持ち、多孔性である。 酸化マグネシウム層を塗布する湿式化学法は、酸素含有雰囲気中でのアセチル アセトンマグネシウム(magnesium acetylacetonate)の熱分解に基づいている。 しかしながら、このように製造された酸化マグネシウム層は、ガラスに満足のい くように付着しないことが分かった。 酸化（マグネシウム）層を塗布する他の湿式化学法は、現出願人の名において 、ヨーロッパ特許出願公開第0,533,256号に対応する米国特許出願（第08/170694 号）(PHN13.841)に記載されるようなゾル−ゲル法である。このゾル−ゲル法は 、加水分解及び重縮合による水性溶剤中でのアルコキシ金属化合物(metal-alkox y compound)の化学変化に基づいている。このように、例えば、二酸化シリコン 層が、出発原料としてテトラエチルオルトシリケート(tetraethyl orthosilicat e)(テトラエトキシシラン(tetraethoxy silane)の水溶液を用いて製造される。 しかしながら、ジエトキシマグネシウム(magnesium diethoxide)等のジアルコ キシマグネシウム化合物(magnesium-dialkoxide compounds)の不利な点は、加水 分解反応が、Ｍｇ（ＯＨ）₂の沈殿を導くことである。さらに、ジアルコキシマ グネシウム化合物は、水及びアルコールに満足に溶けない。 ＭｇＯ層を作成する他の湿式化学法においては、エトキシマグネシウム(magne sium ethoxide)が、出発原料として使用される。アセテート及びアセチルアセト ネート基を用いた変成が、安定した被覆溶液を作成可能にするであろうし、この 溶液を、侵漬被覆処理によりＭｇＯ層を付着させるために使用可能であろう。紫 外線光を用いた次なる硬化処理により、最終的なＭｇＯ層を得ることが可能であ ろう。 前記紫外線硬化工程は別にして、上述のシステムは、いくつかの異なる不利な 点を持っている。例えば、侵漬被覆によりＭｇＯ層を塗布するために、これら溶 液は、長時間安定していなければならない。使用されたこれら溶液は、この要求 を満たさないことが分かっている。 発明の開示 本発明は、酸化金属が被覆されたガラス基板を容易に製造する方法を提供する ことを目的とし、この方法は、とりわけ、相対的に低温度（とりわけ５００℃未 満）で実行可能であるべきであり、同時に、被覆は、ガラスに対して良好に付着 すべきであり、また、十分に高い二次電子放射（δ_max≧５、とりわけ、≧７） を示すべきである。 これらの目的は、 − ガラス基板を加熱する工程、 − 前記加熱された基板の表面中に分解可能な金属塩の溶液を噴霧する工程を有 し、これにより、前記基板の前記表面上でまたは隣接して前記金属塩の熱分解を 引き起こすことを特徴とする方法により達成される。 とりわけＭｇＯ等の酸化金属の噴霧−熱分解技術は、熱い基板上に溶解された 金属塩を有する溶液を噴霧することから成る。前記基板の温度は、使用されるマ グネシウム化合物が分解するような温度が選択されるべきであり、この分解は、 典型的には、３５０〜５５０°Ｃの範囲の温度で生じる。溶剤に関しては、素早 く蒸発する有機溶剤を使用することができるが、この方法においては、水も適宜 使用可能である。前記熱い基板の結果、前記溶剤は、蒸発するであろうし、恐ら く、一部燃焼されるであろう。前記金属塩自身は、通常、十分なＯを有し、必要 ならばＯ₂雰囲気をこの処理に用いて、分解により金属酸化物に反応する。 この技術の大きな利点は、前記層が前記熱い基板表面から外方へ構築される点 にある。対照的に、侵漬被覆処理においては、先ず湿潤層が全体的に堆積され、 次いで、乾燥される。か焼処理において、高温度（４００〜５００°Ｃ）で、塩 は酸化物に化学変化し、通常非常にコンパクトな層とは成らない。本発明の基本 となる認識は、よりコンパクトな層を噴霧熱分解により堆積させることができる ことである。安定した液体は、噴霧熱分解に対して不可欠なものではない。液体 を基板上に噴霧するためには、数時間乃至一日の滞留時間で十分である。ＭｇＯ の噴霧熱分解に関して、毎分２〜１００ｎｍの範囲の典型的な堆積速度が達成さ れた。２ｎｍ／ｍｉｎの堆積速度では、δ_max＞９となり、１００ｎｍ／ｍｉｎ の堆積速度では、略々７のδ_maxとなった。必要ならば、金属塩の粒子でさえも 、基板上に噴霧し、熱分解させることができる。 前記ガラス基板の被覆された表面が特定の形式の電子表示装置で使用される場 合、これら表面は、（例えば多数の平行チャネルの形態の）壁及び底を持つ多数 の凹み部を持たなければならない。（例えば、電子移送を保証するための）表示 装置の適切な動作のために、前記壁上の被膜は十分に厚く、とりわけ、少なくと も５ｎｍの厚さであって、好ましくは１０ｎｍよりも大きいことが重要である。 本発明による噴霧−熱分解法は、前記底へかなり厚い層を形成することなく上述 の要求を満たすことができる。とりわけ、蒸発−被覆処理は、前記壁と底の層厚 に大きな差異を引き起こす可能性があり、ゆえに、物質が不十分である領域を該 壁が持つ可能性がある。 前記金属塩溶液に対する溶剤として、例えば、（１００％）アルコール、（１ ００％）ケトン、（１００％）水またはこれら物質の少なくとも二つの混合物を 使用することができる。適切なアルコールは、例えば、メタノール、エタノール 及びイソプロパノールである。適切なケトンの一例は、アセトンである。溶剤と して１００％の水を使用した場合、９〜１０のδ_maxが達成された。 必要ならば、酸化マグネシウム粒子が、本発明による被覆溶液に付加される。 これら酸化マグネシウム粒子を、最大二次電子放射係数δ_maxを獲得するように 予め準備することができる。これら粒子を、例えば、Ｍｇ（ＯＨ）₂を８００° Ｃに加熱することにより準備することができる。これら粒子の大きさは、例えば 、１〜５０または１００ｎｍの範囲である。前記粒子を準備した後、該粒子は、 本発明によれば被覆溶液内に懸濁される。これら粒子の濃度は、例えば、１〜１ ０重量％濃度である。 上述のように、液体がガラス基板上に噴霧される。形成された酸化マグネシウ ム層は、前記ガラス基板に酸化マグネシウム粒子のマトリクスを有する。これは 、とりわけ、例えばプラズマディスプレイの場合に望ましいようなより厚い層（ 厚さ≧１μｍ）に関して重要である。 本発明のこれらの及び他の特長は、以下に記載の実施例を参照して明白に説明 されるであろう。 図面の簡単な説明 第１図は、噴霧−熱分解処理を実行するための装置を図的に示している。 第２Ａ図及び第２Ｂ図は、各々、チャネルプレート及び選択プレート系を有す るフラット電子表示装置の図的な斜視図及び断面図を示している。 第３図は、第２図の表示装置の選択プレート及びチャネルプレートの一部の斜 視図である。 第４図は、第２図の表示装置の選択プレート系の一プレートの断面図である。 発明を実施するための最良の形態第１実施例 ガラス基板上にＭｇＯ層を付着させるために、第１図に示される噴霧−熱分解 リアクタを用いることができる。 ディスプレイ内で使用される基板１７は、例えば、１０インチ以上の対角線に 沿う寸法の長方形ガラスプレートからなる。 Ｍｇ塩を含有する溶液１８が、例えば、超音波ノズル１９により霧化され、噴 霧される。興味深い他の例においては、前記溶液が、空気圧噴霧器、例えば、ペ イントスプレーヤーにより直接噴霧される。この場合、液体が、圧力を受けてノ ズルを介して強制射出される。例えば、ニトレート(nitrate)、カーボネート(ca rbonate)またはクロリド(chloride)は別にして、Ｍｇ塩は、揮発性有機金属化合 物の群から有利に選択することができる。この群の有用な代表物は、β−ジケト ネート(β-diketonates)、アルコキシド(alkoxides)、カーボキシレート(carbox ylates)である。 基板１７は、加熱装置２０（ホットプレート）により所望の温度に維持される 。この場合、加熱装置２０は、水平に配置され、温度センサ２１及び温度制御器 ２２を有している。一方においては、この温度は、使用されるガラスの成形温度 未満であり、他方においては、該温度は、使用されるＭｇ塩が前記加熱された基 板に接触するや否や分解するために十分高いものである。例えば、Ｍｇアセテー トは、略々３５０°Ｃで分解し、Ｍｇニトレートは、略々５００°Ｃで分解し、 Ｍｇアセチルアセトネートは、５００°Ｃ以上で分解する。ホットプレート２０ は、噴霧処理の間往復運動する。ノズルは、ホットプレート２０から数デシメー トル離れて配置され、噴霧処理の間該ホットプレートと鋭角（例えば、４５°） をなすことができる。噴霧の間、前記ノズルは、前記ホットプレートの動きと直 交す る方向に動き、このノズルの動作は、一様な被覆を得るために該ホットプレート の動作よりも５〜１０倍速いものである。第２実施例 噴霧実験に関して、１００ｇのエタノールに溶解された１０ｇのＭｇ（Ｏ₂Ｃ₂ Ｈ₃）₂から成る被覆溶液を使用する。噴霧処理は、ホットプレート上に垂直にま たは垂直方向と０°〜４５°の間の角度をなして配置され、この噴霧作業の間往 復運動するガラス基板上に実施される。ノズルは、この動作と直交する方向に動 作する。５秒の噴霧サイクルの間、温度が、４５０°Ｃから４００°Ｃに減少す る。この噴霧処理が２０〜３０回繰返される。各サイクルの後、前記処理は、温 度が４５０°Ｃに再び到達するまで中断される。得られるＭｇＯ層の二次放射係 数が決定される。結果は表Ｉにリストされている。 また、上述の方法は、米国特許第5,552,253号(PHN12.927)に記載されるような 、蛍光スクリーンに対して平行の電子伝搬チャネルを有する薄型電子ディスプレ イのチャネルプレート上にＭｇＯ層を付着させるために使用されている。あるデ ィスプレイにおいて噴霧熱分解により設けられた５０ｎｍの厚さのＭｇＯ層(１ ０〜１００ｎｍの厚さの層が、このアプリケーションに非常に適していることを 示している)が、チャネルの長さ方向に６３Ｖ／ｃｍなる電圧で最早電子移送が 十分な系をもたらした。５０Ｖ／ｃｍと低い最小移送電圧でも、ある場合に おいては実現された。 使用された噴霧−熱分解技術の付加的な利点は、前記基板が付着処理を実行す るために高温でなければならないため、その表面で吸収される有機不純物が燃焼 され、ゆえに、一方では良好な付着性を保証しなければならなくなるであろう洗 浄処理を排除できることにある。 ＭｇＯ被覆が設けられたガラスプレートは、とりわけ、第２Ａ、２Ｂ図に示さ れる形式のフラットパネル表示装置で使用される。 第２Ａ図は、ディスプレイパネル（窓）３及び反対側に配置される後壁４を有 するフラットパネル表示装置を示している。窓３の内側表面上には、各々、赤( Ｒ)、緑（Ｇ）及び青（Ｂ）で発光する蛍光素子の３つ組の繰り返しパターン(ラ インまたはドット)を有する発光スクリーン７が設けられている。実際的な実施 例によれば、（ドット形状の）蛍光素子の３つ組が、各々正三角形の各頂点で位 置されるが、他の構造も可能である。 パネル３と後壁４とを接続する壁２の近傍には、電極により多数の例えば６０ ０個の電子エミッタを提供する線状陰極、または同様の数の別個のエミッタ等の 電子源装置５が配置されている。これらエミッタの各々は、相対的に小さな電流 を供給するためのものであり、ゆえに、多くの形式の陰極（冷陰極または熱陰極 ）がエミッタとして適する。これらエミッタは、ビデオ駆動回路により駆動され ても良い。電子源装置５は、前記スクリーンに略々平行に延在する一列の電子伝 搬チャネルの入口開口に対向して配置される。これらチャネルは、部屋６、６’ 、６”．．．により構成され、この場合においては、各電子源に対して一つの部 屋が相当する。これらの部屋は、後壁４及び仕切１２、１２’．．．により規定 される空洞１１、１１’、１１”．．．を持つ。他の例においては、空洞１１、 １１’、１１”．．．は、後壁４自身の中に設けられても良い。各部屋の少なく とも一つの壁（好ましくは後壁）は、少なくとも伝搬方向に本発明の目的に適し た高電気抵抗を持つべきであり（適切な物質は、例えば、セラミック物質、ガラ ス、被覆されたまたは被覆されていない合成樹脂である）、一次電子のエネルギ の所定の範囲にわたってδ_max＞１なる二次電子放射係数を持つべきである。軸 方向の伝搬電界が、部屋６、６’、６”．．．の高さ方向に電圧Ｖ_tを印加す ることにより各部屋中に発生される。 上記壁物質の電気抵抗は、電子伝搬に十分な前記部屋の軸方向の電界強度で壁 内を最小限の総電流量（好ましくは、例えば、１０ｍＡ未満）しか流れないよう な値を持つ。前記一列の電子源５と部屋６、６’、６”．．．との間に数十〜数 百ボルト程度の電圧（電圧値は環境に依存する）を印加することにより、電子が 、電子源から各部屋に向かって加速され、この後、これら電子は、各部屋内の壁 に衝突し二次電子を放出する。 各部屋とパネル３の内壁上に配置される発光スクリーン７との間の空間は、能 動的な色選択系１００を収容し、この場合、この系は、（能動的な）前置選択プ レート１０ａ、（受動的な）障害プレート１０ｂ及び（能動的な）（精細）選択 プレート１０ｃを有している（第２Ｂ図も参照）。構造１００は、いわゆる蛍光 スペーサ構造１０１、例えば、電気的絶縁物質の穿孔プレートにより発光スクリ ーン７と分離されている。 第２Ｂ図は、第２Ａ図の表示装置の一部を断面図でより詳細に示し、とりわけ 、開口８、８’、８”．．．を備える前置選択プレート１０ａと、開口Ｒ、Ｇ及 びＢの群を備える精細選択プレート１０ｃとを有する能動的な色選択系１００を 示している。例えば、３つの精細選択開口Ｒ、Ｇ及びＢの一組または二組が、前 置選択開口８、８’等の各々に関連付けられる。他の数も可能である。（概念的 な第２図においては、開口Ｒ、Ｇ及びＢは共面的(coplanar)である。）しかしな がら、現実的には、これら開口は、三角形に対応する構造で通常配置されるであ ろう（例えば、第３図参照）。孔１０８を有し“シケイン(chicanes)”を形成す る穿孔障害プレート１０ｂは、前置選択プレート１０ａと精細選択プレート１０ ｃとの間に配置される。 移送空洞１１、１１’．．．を持つ電子伝搬ダクト６が、前記選択系１００と 後壁４との間に形成される。電子を伝搬ダクト６から開口８、８’．．．を介し てアドレス可能に抽出できるように、金属前置選択電極９、９’等が、前記プレ ート１０ａ上の開口８、８’．．．近傍に配置される。 前記プレート１０ａと同様に、精細選択プレート１０ｃには、精細選択を実現 するためにアドレス可能な（精細）選択電極の行が設けられている。これに関し て、精細選択電極の対応する行を（例えば、キャパシタを結合することにより） 容量的に相互接続できることが重要である。事実、前置選択は既に行われている ため、原則的には、電子は誤った位置に着地することはありえない。これは、３ つの別個に形成された精細選択電極の一個の群または少数の群しか、この精細選 択の形式に必要とされないことを意味する。 コントラスト及び色純度に悪影響を及ぼすであろうため、いかなる電子もまた は無視できるほど少数の電子しか誤った位置に着地しないことを確実にするため に、電気的絶縁物質の前記穿孔された補助的なすなわち障害プレート１０ｂが、 前置選択プレート１０ａと（精細）選択プレート１０ｃとの間に配置される。障 害プレート１０ｂ内の開口１０８の各々は、前置選択プレート１０ａ内の各開口 に対応している（第２図）。 第２Ｂ図に示されるような障害プレート１０ｂを有する構造は、いくつか変形 できることに注意されたい。例えば、プレート１０ｂは、スペーサプレート１０ ２及び１０３の一方か両方を両側に備えた形で一つのユニットに形成することが できる。 表示装置を満足に動作させるために、電子伝搬を確実にするのに十分高い二次 電子放射系数δ_maxを持つ物質の被覆を伝搬チャネル１１の底及び壁に設け、好 ましくは、この物質が電子衝突に対して良好な耐性も有することが重要である。 ＭｇＯはこのような物質の一つであり、以下に、噴霧熱分解が、前記（ガラス） チャネルの底及び壁上にこの物質の被覆を設ける新規の非常に有利な方法である かを記載する。多数の特徴的に寸法決めされている深く狭いチャネルが例として 示されている第３図も参照されたい。なぜなら、特に、これにより、一様な厚さ 及び良好な付着性と関連するδ_maxの高い値（δ_max≧５、とりわけ、≧７）を得 ることができるからである。５０〜８０Ｖ／ｃｍの間のチャネルの軸線方向への 伝搬電圧により表示装置を動作できることが分かった。 また、表示装置を満足に動作させるために、上述と同様の被覆が前記伝搬チャ ネルと前記蛍光スクリーンとの間に配置される前記選択系の少なくとも一つの( ガラス)プレートの電子の入射面上に存することも重要である。第３図は、開口 ８、８’、８”．．．が設けられ、好ましいことにチャネル１１に面した表面 に前記被覆が設けられた前置選択プレート１０ａを示している。 第４図は、前記選択系の一つのプレートの断面図を示している。このプレート は、例えば、前記プレート１０ｂとスペーサ１０２との機能を兼ね備えている。 このような（選択）プレートには、電子が入力する側に、凹み部１５、１５’、 １５”．．．（“入射孔”）が設けられている。これら凹み部の底には、電子が 通過することができる穿孔１６、１６’、１６”．．．が形成されている。電子 が入力する側の表面１７及び凹み部１５、１５’、１５”．．．の底及び壁には 、上述の被覆が設けられている。 概略的に、本発明は、とりわけ、噴霧−熱分解処理により、電子ディスプレイ の選択プレートまたはチャネルプレート等のガラス基板上に、酸化マグネシウム 層等の高δ_maxを持つ形式の酸化金属層を設けることに関する。このために、Ｍ ｇアセテート等の金属塩とエタノールまたは他の（有機）溶剤及び／または水と の溶液が、３５０〜５５０°Ｃの温度で維持される基板上に噴霧される。前記チ ャネルプレートの各チャネルの底及び壁上にこのような層を持つゼウス表示装置 においては、最小限５０Ｖ／ｃｍと低い移送電圧しか必要としないことが分かっ た。 第５図は、ＬＣ材料を用いるＰＡＬＣ形式のディスプレイパネルを図示してい る。三つの列電極１８のみが示されている。行電極２０が、ＬＣ材料の層４２の (第２図において)下に位置する複数の並列に延在し封止されたチャネルにより構 築されている。チャネル２０の各々は、典型的にはガラスの薄型誘電性シート４ ５で密閉されてイオン性ガス４４が充満され、各チャネルの全長にわたって延び る第１及び第２の間隔を空けて延在する電極３０及び３１を内部チャネル表面上 に有している。第１の電極３０は、接地され、一般にカソードと呼ばれる。第２ の電極３１は、アノードと呼ばれ、電子をカソード３０から放出させ前記ガスを イオン化させるのに十分な正のストローブパルスを前記カソード電極に対して供 給する。上述の説明のように、各チャネル２０では、順次、プラズマを形成する ためのストローブパルスと上記のＬＣ層４２内の一列のピクセルへの接地ライン 接続(a grounded line connection)とにより自身のガスが活性化される。前記ス トローブパルスが終わり、その後、イオン消失が生じた場合、次のチャネルが ストローブされターンオンされる。列電極１８は各々全列のピクセルと交差する ため、一度に一つのプラズマ行接続のみしかクロストークを回避させるために許 可されない。 行電極３０及び３１の少なくとも一つは、ガラス等の誘電性物質の薄い（例え ば、１．０ｍｍ）の層により覆われている。（層６５は図において電極３１しか 覆っていない。）酸化マグネシウム等の高電子放射二次電子放射物質の任意層６ ５ａが、チャネル２０内に収容される前記ガスのイオン化を高めるために電極３ １及び３０上の層６５を覆う。他の例としては、各チャネル２０の全表面を誘電 物質の連続した薄い層で覆い、これにより、行電極３０及び３１両方を覆っても 良い。 ＰＤＰは、交流または直流駆動回路により利用可能である。直流ＰＤＰにおい ては、前記電極は、ガス混合物と接触し、一方、交流装置においては、前記電極 は、誘電層で覆われる。我々は、交流ＰＤＰで以下のように焦点を絞った。 前記誘電層は、酸化マグネシウム（ＭｇＯ）層で覆われている。ＭｇＯフィル ムの役割は、前記誘電層を保護することであり、ネオンイオンの衝突によるＭｇ Ｏの大きな二次電子放射係数に起因する放電電圧を減少させることである。いく つかのＰＤＰにおいては、セルの幾何学的形状が、隣接するセルを物理的に離す ために及びクロストークを回避するために一つのプレート上で電極に対して平行 の誘電性バリヤリブを有している。 ＰＤＤパネルの内部構造の図的な断面が、第６図に与えられている。リアプレ ート４６は、多数の平行チャネルから成り、これらチャネルの底には金属トラッ ク４７が設けられている。電極を含むこれらチャネル各々は、Ｒ、Ｇ、Ｂの順に 一色の蛍光体４８で覆われている。フロントプレート４９上には、透明電極５０ が、前記トラックの抵抗を低くするために小さい金属電極５１で形成されている 。電極５０は、誘電物質の層５２により覆われている。ＭｇＯ等の高電子放射二 次電子放射物質の任意層５３が、この誘電層５２を覆っている。セルが、一つの チャネル（列）と透明電極５２との交点に形成されている。ゆえに、前記パネル を駆動するための接続の数は、“行の数＋列の数＋１”である。 この断面図は、多段階スクリーン印刷処理により約１３０μｍの高さを持って 堆積された二つのバリヤリブ５４を示している。これらバリヤリブの等しい高さ は、研磨により得られる。隣接するリブ間の距離は、２２０μｍである。これら リブ間には、主に銀から成るアドレス電極４７が存する。このアドレス電極の表 面及び前記バリヤリブの壁の表面は、大雑把に充填された蛍光粒子で覆われてい る。

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.⁶ 識別記号 ＦＩ Ｈ０１Ｊ 11/02 Ｈ０１Ｊ 11/02 Ｂ 29/46 29/46 Ｂ 31/12 31/12 Ｚ (72)発明者 ムッター クラウディア オランダ国 5656 アーアー アインドー フェン プロフ ホルストラーン ６ (72)発明者 ファン ボンメル マーカス ヨゼフ オランダ国 5656 アーアー アインドー フェン プロフ ホルストラーン ６

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 １．酸化金属層で覆われたガラス基板を製造する方法であって、該方法は、 − ガラス基板を加熱する工程、 − 前記加熱された基板の表面中に分解可能な金属塩の溶液を噴霧する工程を有 し、これにより、前記基板の前記表面上でまたは隣接して前記金属塩の熱分解を 引き起こす方法。 ２．請求項１に記載の方法において、前記溶液はまた、前記金属の酸化物粒子も 有することを特徴とする方法。 ３．請求項１に記載の方法において、前記基板の表面には、壁及び底を持つ多数 の凹み部が設けられ、前記溶液は、前記表面上及び前記凹み部の底及び壁上に噴 霧されることを特徴とする方法。 ４．請求項１に記載の方法において、３５０〜５５０°Ｃの範囲内の温度で分解 する金属塩が使用されることを特徴とする方法。 ５．請求項１に記載の方法において、前記金属塩は、揮発性有機金属化合物の群 から選択されることを特徴とする方法。 ６．請求項１に記載の方法において、前記金属塩は、有機溶剤及び／または水に 溶かされることを特徴とする方法。 ７．噴霧熱分解により塗布された酸化金属被覆が設けられた電子ディスプレイ用 のガラス基板。 ８．多数の並列チャネルを有し、これらチャネルの壁及び底は前記酸化金属被覆 で覆われている請求項７に記載のガラス基板。 ９．底に穿孔が形成された多数の凹み部を有し、これら凹み部の底及び壁は前記 酸化金属被覆で覆われている請求項７に記載のガラス基板。 １０．チャネルプレートとして請求項８に記載のガラス基板を持ち、チャネルの 軸線方向に５０〜８０Ｖ／cmの範囲内の伝搬電圧を印加するための手段が設けら れた電子ディスプレイ。