JPH1144661A - 全反射ｘ線分析装置 - Google Patents
全反射ｘ線分析装置Info
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- JPH1144661A JPH1144661A JP9202687A JP20268797A JPH1144661A JP H1144661 A JPH1144661 A JP H1144661A JP 9202687 A JP9202687 A JP 9202687A JP 20268797 A JP20268797 A JP 20268797A JP H1144661 A JPH1144661 A JP H1144661A
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 外部Ｘ線源設備内Ｘ線取り出し口部分に付け
替えて使用するのに好適な全反射Ｘ線分析装置を提供す
る。 【解決手段】 外部Ｘ線源からのＸ線は、スリット１，
入射Ｘ線検出器２を経て、試料台４の試料保持部材３上
の試料（図示せず）の測定面で反射し、検出器台６の反
射Ｘ線検出器５に入射する。スリット１，入射Ｘ線検出
器２，試料台４は、基台７に載せられ、該基台７は上下
可動台８に載っているので、基台７を上下移動して入射
Ｘ線線軸を試料の測定面に合わせることができる。試料
台４をＸ線軸に対し回動させ、試料台４に載せられた試
料を傾斜させ、測定面からの反射Ｘ線をＸ線の反射位置
を中心に回転移動する反射Ｘ線検出器５により測定す
る。前記基台７を、スリット１，入射Ｘ線検出器２，試
料台４を有する基台とし、基台の重量を減少し、たわみ
等の問題を避ける。
替えて使用するのに好適な全反射Ｘ線分析装置を提供す
る。 【解決手段】 外部Ｘ線源からのＸ線は、スリット１，
入射Ｘ線検出器２を経て、試料台４の試料保持部材３上
の試料（図示せず）の測定面で反射し、検出器台６の反
射Ｘ線検出器５に入射する。スリット１，入射Ｘ線検出
器２，試料台４は、基台７に載せられ、該基台７は上下
可動台８に載っているので、基台７を上下移動して入射
Ｘ線線軸を試料の測定面に合わせることができる。試料
台４をＸ線軸に対し回動させ、試料台４に載せられた試
料を傾斜させ、測定面からの反射Ｘ線をＸ線の反射位置
を中心に回転移動する反射Ｘ線検出器５により測定す
る。前記基台７を、スリット１，入射Ｘ線検出器２，試
料台４を有する基台とし、基台の重量を減少し、たわみ
等の問題を避ける。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、全反射Ｘ線分析装
置に関し、より詳細には、放射線設備の線源の取り出し
口に付け替えて使用するのに好適な全反射Ｘ線分析装置
に関する。
置に関し、より詳細には、放射線設備の線源の取り出し
口に付け替えて使用するのに好適な全反射Ｘ線分析装置
に関する。
【０００２】
【従来の技術】従来、Ｘ線源からのＸ線を、モノクロメ
ータ及び入射Ｘ線検出器に順次入射させ、前記検出器か
らのＸ線を試料に所定の角度で入射させ、前記試料から
の反射Ｘ線を反射Ｘ線検出器で測定することにより、Ｘ
線の反射率のエネルギー依存性からＸ線吸収微細構造を
測定する全反射Ｘ線分析装置は公知（例えば、特開平８
−１８４５７２号公報）である。
ータ及び入射Ｘ線検出器に順次入射させ、前記検出器か
らのＸ線を試料に所定の角度で入射させ、前記試料から
の反射Ｘ線を反射Ｘ線検出器で測定することにより、Ｘ
線の反射率のエネルギー依存性からＸ線吸収微細構造を
測定する全反射Ｘ線分析装置は公知（例えば、特開平８
−１８４５７２号公報）である。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】近年、各地に放射線施
設が建設され、線源の取り出し口にはモノクロメータが
用意され、エネルギー可変の単色化したＸ線を利用でき
る機会が多くなりつつある。一方、全反射Ｘ線分析装置
は知られている（前出）が、線源をこのような施設に求
めて利用することがなされていなかったので、常に放射
線源を自己保有しておかねばならないという問題点があ
った。
設が建設され、線源の取り出し口にはモノクロメータが
用意され、エネルギー可変の単色化したＸ線を利用でき
る機会が多くなりつつある。一方、全反射Ｘ線分析装置
は知られている（前出）が、線源をこのような施設に求
めて利用することがなされていなかったので、常に放射
線源を自己保有しておかねばならないという問題点があ
った。
【０００４】本発明は、上述のような問題点に鑑みてな
されたもので、別途用意されたＸ線源のＸ線の取り出し
口部分に装置を付け替えるだけで、Ｘ線吸収微細構造が
測定できる全反射Ｘ線分析装置を提供するものである。
されたもので、別途用意されたＸ線源のＸ線の取り出し
口部分に装置を付け替えるだけで、Ｘ線吸収微細構造が
測定できる全反射Ｘ線分析装置を提供するものである。
【０００５】
【課題を解決するための手段】請求項１の発明は、Ｘ線
源からのＸ線をモノクロメータ及びスリットを通して入
射Ｘ線検出器に入射させ、該入射Ｘ線検出器からのＸ線
を試料台の試料保持部材に載置した試料に所定の角度で
入射させ、前記試料からの反射Ｘ線を反射Ｘ線検出器で
計測することにより、前記試料のＸ線吸収微細構造を測
定する全反射Ｘ線分析装置において、前記スリットと前
記入射Ｘ線検出器と前記試料台と前記反射Ｘ線検出器と
を備えた基台と、該基台を上下移動する手段を有するこ
とを特徴とし、もって、全反射Ｘ線分析装置の入射光路
を入射Ｘ線の高さに合わせることを容易にし、外部放射
線源に全反射Ｘ線分析装置を付け替えて使用することが
できるようにしたものである。
源からのＸ線をモノクロメータ及びスリットを通して入
射Ｘ線検出器に入射させ、該入射Ｘ線検出器からのＸ線
を試料台の試料保持部材に載置した試料に所定の角度で
入射させ、前記試料からの反射Ｘ線を反射Ｘ線検出器で
計測することにより、前記試料のＸ線吸収微細構造を測
定する全反射Ｘ線分析装置において、前記スリットと前
記入射Ｘ線検出器と前記試料台と前記反射Ｘ線検出器と
を備えた基台と、該基台を上下移動する手段を有するこ
とを特徴とし、もって、全反射Ｘ線分析装置の入射光路
を入射Ｘ線の高さに合わせることを容易にし、外部放射
線源に全反射Ｘ線分析装置を付け替えて使用することが
できるようにしたものである。
【０００６】請求項２の発明は、Ｘ線源からのＸ線をモ
ノクロメータ及びスリットを通して入射Ｘ線検出器に入
射させ、該入射Ｘ線検出器からのＸ線を試料台の試料保
持部材に載置した試料に所定の角度で入射させ、前記試
料からの反射Ｘ線を反射Ｘ線検出器で計測することによ
り、前記試料のＸ線吸収微細構造を測定する全反射Ｘ線
分析装置において、前記スリットと前記入射Ｘ線検出器
と前記試料台を備える基台と、該基台を上下移動できる
手段を有することを特徴とし、もって、全反射Ｘ線分析
装置の入射光路を入射Ｘ線の高さに合わせることを容易
にし、外部放射線源に全反射Ｘ線分析装置を付け替えて
使用することができるとともに、基台の重量を軽くし、
上下移動機構の負担を軽くしたものである。
ノクロメータ及びスリットを通して入射Ｘ線検出器に入
射させ、該入射Ｘ線検出器からのＸ線を試料台の試料保
持部材に載置した試料に所定の角度で入射させ、前記試
料からの反射Ｘ線を反射Ｘ線検出器で計測することによ
り、前記試料のＸ線吸収微細構造を測定する全反射Ｘ線
分析装置において、前記スリットと前記入射Ｘ線検出器
と前記試料台を備える基台と、該基台を上下移動できる
手段を有することを特徴とし、もって、全反射Ｘ線分析
装置の入射光路を入射Ｘ線の高さに合わせることを容易
にし、外部放射線源に全反射Ｘ線分析装置を付け替えて
使用することができるとともに、基台の重量を軽くし、
上下移動機構の負担を軽くしたものである。
【０００７】請求項３の発明は、請求項１又は２の発明
において、前記スリットと前記入射Ｘ線検出器と前記試
料台を一体的に支持する基台を有することを特徴とし、
もって、全反射Ｘ線分析装置の取り扱いを容易にしたも
のである。
において、前記スリットと前記入射Ｘ線検出器と前記試
料台を一体的に支持する基台を有することを特徴とし、
もって、全反射Ｘ線分析装置の取り扱いを容易にしたも
のである。
【０００８】請求項４の発明は、請求項１又は２の発明
において、前記試料台を前記入射Ｘ線の光軸に対し傾斜
する手段と、前記反射Ｘ線検出器を前記反射Ｘ線の反射
位置を中心に回転移動する手段を有することを特徴と
し、もって、全反射Ｘ線吸収微細構造の測定を容易にし
たものである。
において、前記試料台を前記入射Ｘ線の光軸に対し傾斜
する手段と、前記反射Ｘ線検出器を前記反射Ｘ線の反射
位置を中心に回転移動する手段を有することを特徴と
し、もって、全反射Ｘ線吸収微細構造の測定を容易にし
たものである。
【０００９】請求項５の発明は、請求項１又は２の発明
において、前記試料台を前記入射Ｘ線の光軸に対し傾斜
する手段と、前記反射Ｘ線検出器を前記入射Ｘ線の光軸
に対して垂直に移動する手段を有することを特徴とし、
もって、簡単な機構で全反射Ｘ線吸収微細構造を測定で
きるようにしたものである。
において、前記試料台を前記入射Ｘ線の光軸に対し傾斜
する手段と、前記反射Ｘ線検出器を前記入射Ｘ線の光軸
に対して垂直に移動する手段を有することを特徴とし、
もって、簡単な機構で全反射Ｘ線吸収微細構造を測定で
きるようにしたものである。
【００１０】請求項６の発明は、請求項４又は５の発明
において、前記試料台を前記Ｘ線の光軸に対し傾斜する
手段は、前記試料台上に前記試料の表面を前記入射光線
の光軸の中心に一致させる高さを有する試料保持部材を
有することを特徴とし、もって、試料の測定面を容易に
入射Ｘ線の高さに設定することができるようにしたもの
である。
において、前記試料台を前記Ｘ線の光軸に対し傾斜する
手段は、前記試料台上に前記試料の表面を前記入射光線
の光軸の中心に一致させる高さを有する試料保持部材を
有することを特徴とし、もって、試料の測定面を容易に
入射Ｘ線の高さに設定することができるようにしたもの
である。
【００１１】請求項７の発明は、請求項１又は２の発明
において、前記試料台と前記反射Ｘ線検出器の間の、試
料を透過するＸ線の光軸上に、Ｘ線を吸収する部材を設
けたことを特徴とし、もって、試料を透過するＸ線が反
射Ｘ線検出器に入らないようにしたものである。
において、前記試料台と前記反射Ｘ線検出器の間の、試
料を透過するＸ線の光軸上に、Ｘ線を吸収する部材を設
けたことを特徴とし、もって、試料を透過するＸ線が反
射Ｘ線検出器に入らないようにしたものである。
【００１２】請求項８の発明は、請求項７の発明におい
て、前記Ｘ線を吸収する部材を、前記試料の測定面が前
記入射Ｘ線の光軸の中心に一致させる高さを有する試料
保持部材に着脱自在に設けたことを特徴とし、もって、
試料を透過したＸ線が反射Ｘ線検出器に入らないように
したものである。
て、前記Ｘ線を吸収する部材を、前記試料の測定面が前
記入射Ｘ線の光軸の中心に一致させる高さを有する試料
保持部材に着脱自在に設けたことを特徴とし、もって、
試料を透過したＸ線が反射Ｘ線検出器に入らないように
したものである。
【００１３】
（請求項１及び請求項４の発明）図１は、請求項１及び
請求項４の発明が適用される全反射Ｘ線分析装置の要部
概略構成図であり、図中、１はスリット、２は入射Ｘ線
検出器、３は試料保持部材、４は試料台、５は反射Ｘ線
検出器、６は反射Ｘ線検出器の検出器台、７は基台、８
は上下方向可動台、９，１０は支持部材、１１は真空容
器、２０は全反射Ｘ線分析装置、Ｓは入射Ｘ線の光軸、
Ｔは試料台４の回転中心である。
請求項４の発明が適用される全反射Ｘ線分析装置の要部
概略構成図であり、図中、１はスリット、２は入射Ｘ線
検出器、３は試料保持部材、４は試料台、５は反射Ｘ線
検出器、６は反射Ｘ線検出器の検出器台、７は基台、８
は上下方向可動台、９，１０は支持部材、１１は真空容
器、２０は全反射Ｘ線分析装置、Ｓは入射Ｘ線の光軸、
Ｔは試料台４の回転中心である。
【００１４】いま、図示しないモノクロメータからのエ
ネルギー可変の単色化したＸ線は、Ｘ線の入射側から、
基台７上の支持部材９に取り付けられているスリット１
を通過し、基台７上の図示しない部材に保持されている
入射Ｘ線検出器２に導入される。この検出器２を通過し
たＸ線は、試料保持部材３に載せられた試料（図示せ
ず）に入射する。前記試料保持部材３は、基台７に載せ
られた試料台４の上に載置されている。この試料台４
は、入射Ｘ線の光軸Ｓに対して回動して、試料台４上の
試料保持部材３上に載置された試料の試料面を傾けるよ
うな機構を有しており、Ｔはその回転中心である。この
試料面を傾けることによって、入射Ｘ線の角度は変化
し、入射Ｘ線は反射する。反射したＸ線は、基台７上の
支持部材１０に取り付けられ、かつ、前記回転中心Ｔに
対して回動する反射Ｘ線検出器の検出器台６に取り付け
られた反射Ｘ線検出器５で測定される。
ネルギー可変の単色化したＸ線は、Ｘ線の入射側から、
基台７上の支持部材９に取り付けられているスリット１
を通過し、基台７上の図示しない部材に保持されている
入射Ｘ線検出器２に導入される。この検出器２を通過し
たＸ線は、試料保持部材３に載せられた試料（図示せ
ず）に入射する。前記試料保持部材３は、基台７に載せ
られた試料台４の上に載置されている。この試料台４
は、入射Ｘ線の光軸Ｓに対して回動して、試料台４上の
試料保持部材３上に載置された試料の試料面を傾けるよ
うな機構を有しており、Ｔはその回転中心である。この
試料面を傾けることによって、入射Ｘ線の角度は変化
し、入射Ｘ線は反射する。反射したＸ線は、基台７上の
支持部材１０に取り付けられ、かつ、前記回転中心Ｔに
対して回動する反射Ｘ線検出器の検出器台６に取り付け
られた反射Ｘ線検出器５で測定される。
【００１５】ここで、前記試料台４は、入射Ｘ線の軸を
中心に回転できるような機構を有してもよく、このよう
な機構により、試料面のＸ軸の光の軸方向に対する傾き
の調整が可能となる。全反射Ｘ線分析装置２０を図示し
ない外部Ｘ線源に取り付ける際、入射Ｘ線の高さは、線
源によっても、また、取り付けによっても微妙に変化す
る。このような変化に対応するため、基台７は上下方向
に移動可能なＺステージ等の上下方向可動台８に載置す
る。なお、全反射Ｘ線分析装置２０を、真空容器１１等
に収容し、真空排気した状態で測定を行えば、高Ｓ／Ｎ
を得ることができる。
中心に回転できるような機構を有してもよく、このよう
な機構により、試料面のＸ軸の光の軸方向に対する傾き
の調整が可能となる。全反射Ｘ線分析装置２０を図示し
ない外部Ｘ線源に取り付ける際、入射Ｘ線の高さは、線
源によっても、また、取り付けによっても微妙に変化す
る。このような変化に対応するため、基台７は上下方向
に移動可能なＺステージ等の上下方向可動台８に載置す
る。なお、全反射Ｘ線分析装置２０を、真空容器１１等
に収容し、真空排気した状態で測定を行えば、高Ｓ／Ｎ
を得ることができる。
【００１６】（請求項２及び請求項３の発明）図２は、
請求項２及び請求項３の発明が適用される全反射Ｘ線分
析装置の要部概略構成図で、図中、１２は基台、１３，
１４は上下方向可動台、３０は全反射Ｘ線分析装置であ
る。なお、図１と同じ構成部品には同じ参照番号を付
し、説明は省略してある。
請求項２及び請求項３の発明が適用される全反射Ｘ線分
析装置の要部概略構成図で、図中、１２は基台、１３，
１４は上下方向可動台、３０は全反射Ｘ線分析装置であ
る。なお、図１と同じ構成部品には同じ参照番号を付
し、説明は省略してある。
【００１７】全反射Ｘ線分析装置３０は、スリット１，
入射Ｘ線検出器２及び試料台４を有する基台１２と、該
基台１２を上下移動するＺステージ等の可動台１３を有
し、これらとは別体に反射Ｘ線検出器５，支持部材１０
に支持された該検出器５の検出器台６を上下させるＺス
テージ等の上下可動台１４を有するものである。
入射Ｘ線検出器２及び試料台４を有する基台１２と、該
基台１２を上下移動するＺステージ等の可動台１３を有
し、これらとは別体に反射Ｘ線検出器５，支持部材１０
に支持された該検出器５の検出器台６を上下させるＺス
テージ等の上下可動台１４を有するものである。
【００１８】この構成により、一旦スリット１と入射Ｘ
線検出器２，反射Ｘ線検出器５の位置合わせを行ってお
き、入射Ｘ線の高さ合わせの際は、上下可動台１３，１
４を同期して上下方向に可動するようにしておけば、容
易に入射Ｘ線の光軸Ｓの位置に高さを合わせることがで
きる。このとき、基台１２の積載物は、図１の基台７よ
りも少ないため、小型の可動台でも構成が可能である。
また、基台７は基台１２よりも全長が長く、スリット１
と入射Ｘ線検出器２との間のたわみが問題となるため、
補強等の対策が必要となるが、基台１２はこのような対
策は考慮する必要がない。
線検出器２，反射Ｘ線検出器５の位置合わせを行ってお
き、入射Ｘ線の高さ合わせの際は、上下可動台１３，１
４を同期して上下方向に可動するようにしておけば、容
易に入射Ｘ線の光軸Ｓの位置に高さを合わせることがで
きる。このとき、基台１２の積載物は、図１の基台７よ
りも少ないため、小型の可動台でも構成が可能である。
また、基台７は基台１２よりも全長が長く、スリット１
と入射Ｘ線検出器２との間のたわみが問題となるため、
補強等の対策が必要となるが、基台１２はこのような対
策は考慮する必要がない。
【００１９】なお、全反射Ｘ線分析装置３０を真空容器
１１に収容し、真空排気した状態で測定を行えば、高Ｓ
／Ｎを得ることができる。また、スリット１，入射Ｘ線
検出器２及び試料台４を基台７に一体的に保持すること
により、これらの取り扱いが容易になる。
１１に収容し、真空排気した状態で測定を行えば、高Ｓ
／Ｎを得ることができる。また、スリット１，入射Ｘ線
検出器２及び試料台４を基台７に一体的に保持すること
により、これらの取り扱いが容易になる。
【００２０】（請求項５の発明）図３は、請求項５の発
明が適用される全反射Ｘ線分析装置の一部概略構成図
で、図中、１５は上下可動支持部材、１６は試料、１７
は試料表面である。なお、図１及び図２の構成部品と同
じ構成部品には、同じ参照番号を付し、説明は省略して
ある。全反射を利用して分析を行う場合、試料１６の試
料表面１７のＸ線の入射角度及び反射角度は非常に小さ
いため、反射Ｘ線検出器は、図１，図２の例のように、
必ず反射方向に向いている必要はなく、反射Ｘ線検出器
５の検出窓を若干大きくしておけば、反射Ｘ線検出器５
を上下可動支持部材１５により入射Ｘ線の光軸Ｓに対し
て垂直に移動させるだけで十分測定ができる。このた
め、図３の例は、反射Ｘ線検出器５をＸステージ等の上
下可動支持部材１５に直接取り付けるだけでよく、機構
は簡単になる。従って、装置のコストを安くすることが
できる。
明が適用される全反射Ｘ線分析装置の一部概略構成図
で、図中、１５は上下可動支持部材、１６は試料、１７
は試料表面である。なお、図１及び図２の構成部品と同
じ構成部品には、同じ参照番号を付し、説明は省略して
ある。全反射を利用して分析を行う場合、試料１６の試
料表面１７のＸ線の入射角度及び反射角度は非常に小さ
いため、反射Ｘ線検出器は、図１，図２の例のように、
必ず反射方向に向いている必要はなく、反射Ｘ線検出器
５の検出窓を若干大きくしておけば、反射Ｘ線検出器５
を上下可動支持部材１５により入射Ｘ線の光軸Ｓに対し
て垂直に移動させるだけで十分測定ができる。このた
め、図３の例は、反射Ｘ線検出器５をＸステージ等の上
下可動支持部材１５に直接取り付けるだけでよく、機構
は簡単になる。従って、装置のコストを安くすることが
できる。
【００２１】（請求項６の発明）図４は、請求項６の発
明が適用される試料保持部材の構成例を示す図で、図４
（Ａ）は斜視図、図４（Ｂ）は側面図であり、図中、１
８は試料１６の測定面である。図４（Ａ）において、試
料保持部材３は、Ｘ線が通過するよう中心部分に切欠部
ａと上面にあて面ｂ，ｂを有することにより、Ｘ線の入
射方向からみると、凹型形状をなしている。また、試料
保持部材３は、前記あて面ｂ，ｂに、シリコーンウエハ
等の試料１６を載せた際に、試料１６の測定面１８がス
リット１を通過した入射Ｘ線の光軸Ｓの高さになるよう
な高さＤ（図４（Ｂ））を有するように形成される。従
って、試料１６をあて面ｂ，ｂに載せただけで測定面を
光軸Ｓの高さに合わることができ、また、試料の交換も
試料を載せ替えるだけでよいため、非常に簡単に行うこ
とができる。
明が適用される試料保持部材の構成例を示す図で、図４
（Ａ）は斜視図、図４（Ｂ）は側面図であり、図中、１
８は試料１６の測定面である。図４（Ａ）において、試
料保持部材３は、Ｘ線が通過するよう中心部分に切欠部
ａと上面にあて面ｂ，ｂを有することにより、Ｘ線の入
射方向からみると、凹型形状をなしている。また、試料
保持部材３は、前記あて面ｂ，ｂに、シリコーンウエハ
等の試料１６を載せた際に、試料１６の測定面１８がス
リット１を通過した入射Ｘ線の光軸Ｓの高さになるよう
な高さＤ（図４（Ｂ））を有するように形成される。従
って、試料１６をあて面ｂ，ｂに載せただけで測定面を
光軸Ｓの高さに合わることができ、また、試料の交換も
試料を載せ替えるだけでよいため、非常に簡単に行うこ
とができる。
【００２２】図５は、図４（Ａ）に示した試料保持部材
３を用いて反射Ｘ線を測定する例を示す図である。図５
において、試料保持部材３の記載は省略してあるが、試
料１６を試料保持部材３のあて面ｂ，ｂに載せただけで
入射Ｘ線は試料１６の測定面１８で反射し反射Ｘ線とな
る。この試料保持部材３を用いる場合は、図５のよう
に、反射したＸ線を測定することになる。
３を用いて反射Ｘ線を測定する例を示す図である。図５
において、試料保持部材３の記載は省略してあるが、試
料１６を試料保持部材３のあて面ｂ，ｂに載せただけで
入射Ｘ線は試料１６の測定面１８で反射し反射Ｘ線とな
る。この試料保持部材３を用いる場合は、図５のよう
に、反射したＸ線を測定することになる。
【００２３】（請求項７及び請求項８の発明）図６は、
請求項７及び請求項８の発明が適用されるＸ線吸収部材
を有する試料保持部材３の断面図であり、図中、１９は
Ｘ線吸収部材（ビームストッパ）である。試料１６を透
過したＸ線が反射Ｘ線検出器５に入ると正確な測定がで
きなくなる。そこで、透過Ｘ線が反射Ｘ線検出器５に入
らないようにするために、Ｘ線吸収部材（鉛などのビー
ムストッパ）を、試料台４と反射Ｘ線検出器５の間の透
過Ｘ線の光路に設ける。また、Ｘ線吸収部材１９は、試
料保持部材３に取り付け及び取り外しが自由になるよう
装着する。従って、透過Ｘ線対策が必要になる測定時に
は、適時に付加することができ、取り付け調整時に、ス
リット１を通過した入射Ｘ線によって反射Ｘ線検出器の
原点を決めるときの障害になるようなことはない。
請求項７及び請求項８の発明が適用されるＸ線吸収部材
を有する試料保持部材３の断面図であり、図中、１９は
Ｘ線吸収部材（ビームストッパ）である。試料１６を透
過したＸ線が反射Ｘ線検出器５に入ると正確な測定がで
きなくなる。そこで、透過Ｘ線が反射Ｘ線検出器５に入
らないようにするために、Ｘ線吸収部材（鉛などのビー
ムストッパ）を、試料台４と反射Ｘ線検出器５の間の透
過Ｘ線の光路に設ける。また、Ｘ線吸収部材１９は、試
料保持部材３に取り付け及び取り外しが自由になるよう
装着する。従って、透過Ｘ線対策が必要になる測定時に
は、適時に付加することができ、取り付け調整時に、ス
リット１を通過した入射Ｘ線によって反射Ｘ線検出器の
原点を決めるときの障害になるようなことはない。
【００２４】
【発明の効果】請求項１の発明によれば、Ｘ線源からの
Ｘ線をモノクロメータ及びスリットを通して入射Ｘ線検
出器に入射させ、該入射Ｘ線検出器からのＸ線を試料台
に載置した試料に所定の角度で入射させ、前記試料から
の反射Ｘ線を反射Ｘ線検出器で計測することにより、前
記試料のＸ線吸収微細構造を測定する全反射Ｘ線分析装
置において、前記スリットと前記入射Ｘ線検出器と前記
試料台と前記反射Ｘ線検出器とを備えた基台と、該基台
を上下移動する手段を有するので、全反射Ｘ線分析装置
の入射光路を入射Ｘ線の高さに合わせることが容易にな
り、外部放射源に全反射Ｘ線分析装置を付け替えて使用
することが可能となる。
Ｘ線をモノクロメータ及びスリットを通して入射Ｘ線検
出器に入射させ、該入射Ｘ線検出器からのＸ線を試料台
に載置した試料に所定の角度で入射させ、前記試料から
の反射Ｘ線を反射Ｘ線検出器で計測することにより、前
記試料のＸ線吸収微細構造を測定する全反射Ｘ線分析装
置において、前記スリットと前記入射Ｘ線検出器と前記
試料台と前記反射Ｘ線検出器とを備えた基台と、該基台
を上下移動する手段を有するので、全反射Ｘ線分析装置
の入射光路を入射Ｘ線の高さに合わせることが容易にな
り、外部放射源に全反射Ｘ線分析装置を付け替えて使用
することが可能となる。
【００２５】請求項２の発明によれば、Ｘ線源からのＸ
線をモノクロメータ及びスリットを通して入射Ｘ線検出
器に入射させ、該入射Ｘ線検出器からのＸ線を試料台に
載置した試料に所定の角度で入射させ、前記試料からの
反射Ｘ線を反射Ｘ線検出器で計測することにより、前記
試料のＸ線吸収微細構造を測定する全反射Ｘ線分析装置
において、前記スリットと前記入射Ｘ線検出器と前記試
料台を備えた基台と、該基台を上下移動できる手段記を
有するので、全反射Ｘ線分析装置の入射光路を入射Ｘ線
の高さに合わせることが容易になり、外部放射源に全反
射Ｘ線分析装置を付け替えて使用することが可能とな
る。さらに、基台上の重量が少なくなるので、上下方向
に移動させるための機構の負担を軽くすることが可能と
なる。
線をモノクロメータ及びスリットを通して入射Ｘ線検出
器に入射させ、該入射Ｘ線検出器からのＸ線を試料台に
載置した試料に所定の角度で入射させ、前記試料からの
反射Ｘ線を反射Ｘ線検出器で計測することにより、前記
試料のＸ線吸収微細構造を測定する全反射Ｘ線分析装置
において、前記スリットと前記入射Ｘ線検出器と前記試
料台を備えた基台と、該基台を上下移動できる手段記を
有するので、全反射Ｘ線分析装置の入射光路を入射Ｘ線
の高さに合わせることが容易になり、外部放射源に全反
射Ｘ線分析装置を付け替えて使用することが可能とな
る。さらに、基台上の重量が少なくなるので、上下方向
に移動させるための機構の負担を軽くすることが可能と
なる。
【００２６】請求項３の発明によれば、前記スリットと
前記入射Ｘ線検出器と前記試料台を一体的に支持する基
台を有するので、請求項１又は２の発明の効果に加え
て、全反射Ｘ線分析装置の取り扱いを容易にすることが
可能となる。
前記入射Ｘ線検出器と前記試料台を一体的に支持する基
台を有するので、請求項１又は２の発明の効果に加え
て、全反射Ｘ線分析装置の取り扱いを容易にすることが
可能となる。
【００２７】請求項４の発明によれば、前記試料台を前
記入射Ｘ線の光軸に対し傾斜する手段と、前記反射Ｘ線
検出器を前記反射Ｘ線の反射位置を中心に回転移動する
手段を有するので、請求項１又は２の発明の効果に加え
て、全反射によるＸ線吸収微細構造の測定を容易に行う
ことが可能となる。
記入射Ｘ線の光軸に対し傾斜する手段と、前記反射Ｘ線
検出器を前記反射Ｘ線の反射位置を中心に回転移動する
手段を有するので、請求項１又は２の発明の効果に加え
て、全反射によるＸ線吸収微細構造の測定を容易に行う
ことが可能となる。
【００２８】請求項５の発明によれば、前記試料台を前
記入射Ｘ線の光軸に対し傾斜する手段と、前記反射Ｘ線
検出器を前記入射Ｘ線の光軸に対して垂直に移動する手
段を有するので、請求項１又は２の発明の効果に加え
て、簡易な機構で全反射によるＸ線吸収微細構造の測定
が可能となる。
記入射Ｘ線の光軸に対し傾斜する手段と、前記反射Ｘ線
検出器を前記入射Ｘ線の光軸に対して垂直に移動する手
段を有するので、請求項１又は２の発明の効果に加え
て、簡易な機構で全反射によるＸ線吸収微細構造の測定
が可能となる。
【００２９】請求項６の発明によれば、前記試料台を前
記Ｘ線の光軸に対し傾斜する手段は、前記試料台上に前
記試料の表面が前記入射光線の光軸の中心に一致するよ
う配置されているので、請求項４又は５の発明の効果に
加えて、試料の表面を容易に入射Ｘ線の高さに設定する
ことが可能となる。
記Ｘ線の光軸に対し傾斜する手段は、前記試料台上に前
記試料の表面が前記入射光線の光軸の中心に一致するよ
う配置されているので、請求項４又は５の発明の効果に
加えて、試料の表面を容易に入射Ｘ線の高さに設定する
ことが可能となる。
【００３０】請求項７の発明によれば、前記試料台と前
記反射Ｘ線検出器の間の、試料を透過するＸ線の光軸上
に、Ｘ線を吸収する部材を設けたので、請求項１又は２
の発明の効果に加えて、測定時に試料を透過するＸ線が
反射Ｘ線検出器に入るのを防止することが可能となる。
記反射Ｘ線検出器の間の、試料を透過するＸ線の光軸上
に、Ｘ線を吸収する部材を設けたので、請求項１又は２
の発明の効果に加えて、測定時に試料を透過するＸ線が
反射Ｘ線検出器に入るのを防止することが可能となる。
【００３１】請求項８の発明によれば、前記Ｘ線を吸収
する部材は、前記試料の表面が前記入射Ｘ線の光軸の中
心に一致させる高さを有する保持部材に着脱自在に設け
られているので、請求項７の発明の効果に加えて、試料
を透過したＸ線が反射Ｘ線検出器に入らないようにする
ことが可能となる。
する部材は、前記試料の表面が前記入射Ｘ線の光軸の中
心に一致させる高さを有する保持部材に着脱自在に設け
られているので、請求項７の発明の効果に加えて、試料
を透過したＸ線が反射Ｘ線検出器に入らないようにする
ことが可能となる。
【図１】 本発明の全反射Ｘ線分析装置の要部概略構成
図である。
図である。
【図２】 本発明の全反射Ｘ線分析装置の要部概略構成
図である。
図である。
【図３】 本発明の全反射Ｘ線分析装置の一部概略構成
図である。
図である。
【図４】 本発明の試料保持部材の構成例を示す図であ
る。
る。
【図５】 本発明の試料保持部材を用いて反射Ｘ線を測
定する例を示す図である。
定する例を示す図である。
【図６】 本発明のＸ線吸収部材を有する試料保持部材
の断面図である。
の断面図である。
１…スリット、２…入射Ｘ線検出器、３…試料保持部
材、４…試料台、５…反射Ｘ線検出器、６…反射Ｘ線検
出器の検出器台、７…基台、８…上下方向可動台、９，
１０…支持部材、１１…真空容器、１２…基台、１３，
１４…上下方向可動台、１５…上下可動支持部材、１６
…試料、１７…試料表面、１８…測定面、１９…Ｘ線吸
収部材（ビームストッパ）、２０…全反射Ｘ線分析装
置、３０…全反射Ｘ線分析装置、Ｓ…入射Ｘ線の光軸、
Ｔ…回転中心。
材、４…試料台、５…反射Ｘ線検出器、６…反射Ｘ線検
出器の検出器台、７…基台、８…上下方向可動台、９，
１０…支持部材、１１…真空容器、１２…基台、１３，
１４…上下方向可動台、１５…上下可動支持部材、１６
…試料、１７…試料表面、１８…測定面、１９…Ｘ線吸
収部材（ビームストッパ）、２０…全反射Ｘ線分析装
置、３０…全反射Ｘ線分析装置、Ｓ…入射Ｘ線の光軸、
Ｔ…回転中心。
フロントページの続き (72)発明者 西勝 英雄 滋賀県草津市野路町1916立命館大学ＳＲセ ンター内
Claims (8)
- 【請求項１】 Ｘ線源からのＸ線をモノクロメータ及び
スリットを通して入射Ｘ線検出器に入射させ、該入射Ｘ
線検出器からのＸ線を試料台に載置した試料に所定の角
度で入射させ、前記試料からの反射Ｘ線を反射Ｘ線検出
器で計測することにより、前記試料のＸ線吸収微細構造
を測定する全反射Ｘ線分析装置において、前記スリット
と前記入射Ｘ線検出器と前記試料台と前記反射Ｘ線検出
器とを備えた基台と、該基台を上下移動する手段を有す
ることを特徴とする全反射Ｘ線分析装置。 - 【請求項２】 Ｘ線源からのＸ線をモノクロメータ及び
スリットを通して入射Ｘ線検出器に入射させ、該入射Ｘ
線検出器からのＸ線を試料台に載置した試料に所定の角
度で入射させ、前記試料からの反射Ｘ線を反射Ｘ線検出
器で計測することにより、前記試料のＸ線吸収微細構造
を測定する全反射Ｘ線分析装置において、前記スリット
と前記入射Ｘ線検出器と前記試料台を備えた基台と、該
基台を上下移動できる手段を有することを特徴とする全
反射Ｘ線分析装置。 - 【請求項３】 前記スリットと前記入射Ｘ線検出器と前
記試料台を一体的に支持する基台を有することを特徴と
する請求項１又は２に記載の全反射Ｘ線分析装置。 - 【請求項４】 前記試料台を前記入射Ｘ線の光軸に対し
傾斜する手段と、前記反射Ｘ線検出器を前記反射Ｘ線の
反射位置を中心に回転移動する手段を有することを特徴
とする請求項１又は２に記載の全反射Ｘ線分析装置。 - 【請求項５】 前記試料台を前記入射Ｘ線の光軸に対し
傾斜する手段と、前記反射Ｘ線検出器を前記入射Ｘ線の
光軸に対して垂直に移動する手段を有することを特徴と
する請求項１又は２に記載の全反射Ｘ線分析装置。 - 【請求項６】 前記試料台を前記Ｘ線の光軸に対し傾斜
する手段は、前記試料台上に前記試料の表面が前記入射
光線の光軸の中心に一致するよう配設されていることを
特徴とする請求項４又は５に記載の全反射Ｘ線分析装
置。 - 【請求項７】 前記試料台と前記反射Ｘ線検出器の間
の、試料を透過するＸ線の光軸上に、Ｘ線を吸収する部
材を設けたことを特徴とする請求項１又は２に記載の全
反射Ｘ線分析装置。 - 【請求項８】 前記Ｘ線を吸収する部材は、前記試料の
表面が前記入射Ｘ線の光軸の中心に一致させる高さを有
する試料保持部材に着脱自在に設けられていることを特
徴とする請求項７に記載の全反射Ｘ線分析装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP20268797A JP3529245B2 (ja) | 1997-07-29 | 1997-07-29 | 全反射ｘ線分析装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP20268797A JP3529245B2 (ja) | 1997-07-29 | 1997-07-29 | 全反射ｘ線分析装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH1144661A true JPH1144661A (ja) | 1999-02-16 |
| JP3529245B2 JP3529245B2 (ja) | 2004-05-24 |
Family
ID=16461498
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP20268797A Expired - Fee Related JP3529245B2 (ja) | 1997-07-29 | 1997-07-29 | 全反射ｘ線分析装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3529245B2 (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2002310947A (ja) * | 2001-04-11 | 2002-10-23 | Rigaku Corp | 小角散乱測定方法とその装置 |
-
1997
- 1997-07-29 JP JP20268797A patent/JP3529245B2/ja not_active Expired - Fee Related
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2002310947A (ja) * | 2001-04-11 | 2002-10-23 | Rigaku Corp | 小角散乱測定方法とその装置 |
| JP4514982B2 (ja) * | 2001-04-11 | 2010-07-28 | 株式会社リガク | 小角散乱測定装置 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP3529245B2 (ja) | 2004-05-24 |
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