JPH1144659A - フィルム処理装置 - Google Patents

フィルム処理装置

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JPH1144659A
JPH1144659A JP9201585A JP20158597A JPH1144659A JP H1144659 A JPH1144659 A JP H1144659A JP 9201585 A JP9201585 A JP 9201585A JP 20158597 A JP20158597 A JP 20158597A JP H1144659 A JPH1144659 A JP H1144659A
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film
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JP9201585A
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Yasuhiro Nishizawa
康弘 西澤
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Matsushita Electric Industrial Co Ltd
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Abstract

(57)【要約】 【課題】 前工程の加工で発生した欠陥に起因する自工
程の加工でのトラブルの発生を防止することにより、製
品の歩留まり及び製造速度を向上させて、製造原価を低
減する。 【解決手段】 データ読出部4が前工程迄に生じた欠陥
のデータをフィルム原反1の縁端部から読み出したとき
には、制御部6は、欠陥の内容,程度等に応じてフィル
ム原反1の欠陥部分及びその周辺における加工条件を決
定して、加工部5の動作を制御する。又、検査部7が、
自工程の異常放電等によってフィルム原反1或いはフィ
ルム原反1に形成した膜等に穴を明けたり、明いている
穴を拡大させたり、膜厚が許容範囲外となる等の欠陥を
検出したときには、記録部8は、検査部7の検出した欠
陥の内容,程度等に応じた欠陥データをフィルム原反1
の縁端部に記録する。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、面積が広いフィル
ム原反に複数の製造工程で加工を施して、磁気テープ,
磁気ディスク,コンデンサー等のもととなるフィルム状
の半製品を製造するフィルム処理装置に関するものであ
る。
【0002】
【従来の技術】従来、磁気テープ,磁気ディスク,コン
デンサー等の製品では、面積が広いフィルム原反に複数
の製造工程で蒸着,塗布,プラズマCVD等の加工を施
してフィルム状の半製品を製造した上、このフィルム状
の半製品を細分化して最終製品を製造している。
【0003】ところで、磁気テープ,磁気ディスク,コ
ンデンサー等の製品においては、近年、製造原価の低減
に対する要求が高まりつつあるが、これ等の要求に応え
るため、フィルム原反を広幅化したり、長尺化したりし
て、フィルム原反の面積を広げることにより、磁気テー
プ,磁気ディスク,コンデンサー等の製品を1つのフィ
ルムから大量に生産できるようにして、製造原価を低減
している。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、広幅
化,長尺化したフィルム原反の全面に亘って欠陥なく加
工を施すことは非常に困難で、所々に欠陥が発生するこ
とは避けられない上、複数の製造工程でフィルム原反に
加工を施すと、前工程迄の加工でフィルム原反に欠陥が
発生したときには、前工程迄の加工での欠陥に起因する
自工程の加工でのトラブルが発生して、その欠陥が拡大
することにより、製品の歩留まりを低下させて、製造原
価を高くしてしまう。
【0005】又、フィルム原反の表面にプラズマCVD
によって保護膜を形成する工程において、前工程迄の加
工でフィルム原反に穴を明けてしまうと、穴の部分で異
常放電が発生して、穴が拡大するのみならず、最悪時に
は、フィルム原反が切断されて、この工程における加工
が継続不能になることにより、製造速度を低下させて、
製造原価を高くしてしまう。
【0006】本発明は、このような課題に鑑みてなされ
たもので、前工程迄の加工で発生した欠陥に起因する自
工程の加工でのトラブルの発生を防止することにより、
製品の歩留り及び製造速度を向上させて、製造原価を低
減するフィルム処理装置を提供するものである。
【0007】
【課題を解決するための手段】本発明は、前工程迄にフ
ィルムに施した加工の欠陥データをフィルムから読み出
す読出手段と、読出手段が読み出した欠陥データに応じ
た自工程での加工条件を決定して、加工手段の動作を制
御する制御手段と、自工程でフィルムに施した加工の良
否を検査する検査手段と、検査手段の検査で加工の欠陥
を検出したときには、検査手段の検査結果に応じた欠陥
データをフィルムに記録する記録手段とからなるもので
ある。
【0008】本発明によれば、自工程でフィルム原反に
加工を施すときに、前工程迄の加工で生じた欠陥のデー
タをフィルム原反から読み取ると、自工程の加工条件を
欠陥データに応じて制御して、自工程での欠陥の拡大を
防止すると共に、自工程で生じた欠陥を検出した場合
は、その欠陥のデータをフィルム原反に記録して、後工
程での欠陥の拡大を防止することにより、製品の歩留ま
り及び製造速度が向上して、製造原価が低減される。
【0009】
【発明の実施の形態】以下、本発明の一実施の形態につ
いて図面を参照しながら説明する。
【0010】図1は本発明のフィルム処理装置の概略の
構成を示す概念図で、1は、自工程のフィルム処理装置
のフィルム繰出し側に配設した繰出しロール2と、フィ
ルム巻取り側に配設した巻取りロール3との間に張設さ
れた磁気テープ,磁気ディスク,コンデンサー等のフィ
ルム原反である。
【0011】4は繰出しロール2から繰り出されたフィ
ルム原反1の少なくとも一方の縁端部からバーコード,
文字,磁気等で記録された前工程迄に施した加工の欠陥
データを読み出すデータ読出部で、このデータ読出部4
はバーコードリーダー,光学式文字読取装置,磁気再生
装置等からなる。5は繰出しロール2から繰り出された
フィルム原反1に蒸着,塗布,プラズマCVD等の加工
を施す加工部で、この加工部5は蒸着装置,塗布装置,
プラズマCVDの電源,フィルム原反1の搬送装置等か
らなる。6は、データ読出部4によってフィルム原反1
の縁端部から読み出した欠陥データに基づき、フィルム
原反1の欠陥部分及びその周辺における加工条件を決定
して、自工程の加工部5の動作を制御する制御部であ
る。
【0012】7は自工程の加工部5においてフィルム原
反1に施した加工の良否を検査する検査部で、この検査
部7は光学式の反射率測定器,透過率測定器等からな
る。8は、検査部7の検査で加工の欠陥を検出したとき
には、検査部7の検査結果に応じた欠陥データをフィル
ム原反1の縁端部にバーコード,文字,磁気等で記録す
る記録部で、この記録部8はインクジェット方式の印刷
機,レーザー式のマーカー,磁気記録装置等からなる。
【0013】このように構成された本発明のフィルム処
理装置の動作について、磁気テープ用のフィルム原反1
の表面に保護膜を形成する工程を例として説明する。
【0014】繰出しロール2から繰り出されたフィルム
原反1の縁端部に欠陥データが記録されていなければ、
制御部6は加工部5をそのまま駆動させて、フィルム原
反1の表面に加工を施す。
【0015】そして、検査部7が、フィルム原反1或い
はフィルム原反1の表面に施した加工に欠陥がないと判
断したときには、フィルム原反1は、縁端部に何も記録
されずに、巻取りロール3に巻き取られる。
【0016】しかしながら、繰出しロール2から繰り出
されたフィルム原反1の縁端部に欠陥データが記録され
ているのをデータ読出部4が読み出したときには、制御
部6は、欠陥データにおける欠陥の内容,程度等に応じ
てフィルム原反1の欠陥部分及びその周辺における加工
条件、例えば蒸着装置,塗布装置,プラズマCVDの電
源電圧,フィルム原反1の搬送装置の搬送速度等を決定
して、蒸着装置,塗布装置,プラズマCVD,搬送装置
等の加工部5の動作を制御する。
【0017】例えば、磁気テープの保護膜を形成する工
程において、前工程迄にフィルム原反1に穴が明いて、
「穴が明いている」という欠陥データがフィルム原反1
の縁端部に記録されているのをデータ読出部4が読み取
ったときには、制御部6は、この欠陥データに応じてフ
ィルム原反1の欠陥部分及びその周辺における加工条件
を、プラズマCVDのスパッタ電圧及びフィルム原反1
の搬送装置の搬送速度を下げるように決定し、フィルム
原反1の欠陥部分及びその周辺を加工するときには、制
御部6の決定に基づいて加工部5のプラズマCVD及び
搬送装置を駆動させることにより、穴での異常放電を防
止して、穴の拡大を防止すると共に、プラズマCVDの
スパッタ電圧の低下に伴う保護膜の厚みの減少を防止し
て、保護膜の厚さを一定に保つ。
【0018】又、検査部7が、フィルム原反1或いはフ
ィルム原反1の表面に施した加工に欠陥があると判断し
たときには、フィルム原反1は、その縁端部に欠陥デー
タが記録部8によって記録された上、巻取りロール3に
巻き取られる。
【0019】例えば、検査部7が、自工程の異常放電等
によって磁気テープのフィルム原反1或いはフィルム原
反1に形成した膜等に穴を明けたり、明いている穴を拡
大させたり、膜厚が許容範囲外となる等の欠陥を検出す
ると、記録部8は、検査部7の検出した欠陥の内容,程
度等に応じた欠陥データをフィルム原反1の縁端部に磁
気的に記録する。
【0020】このため、フィルム原反1の裁断工程等の
ように、磁気テープのフィルム原反1の保護膜形成工程
の後工程では、フィルム原反1の縁端部に記録された欠
陥データに基づいて裁断等の加工を制御することによ
り、フィルム切れ等の新たな欠陥の発生を防止できる。
【0021】なお、本発明のフィルム処理装置は、磁気
テープの製造工程を例にして説明したが、面積が広いフ
ィルム原反に複数の製造工程で加工を施して、磁気ディ
スク,コンデンサー等のもとになるフィルム状の半製品
を製造するフィルム処理装置にも実施できる。
【0022】又、本発明のフィルム処理装置は、磁気テ
ープの保護膜作成装置の例で説明をしたが、他の蒸着装
置、塗布装置等にも実施できる。
【0023】更に、本発明のフィルム処理装置は、各工
程毎に加工を施したフィルム原反1をその都度巻取りロ
ール3に巻き取る例で説明したが、各工程を連続配置し
てフィルム原反に連続的に加工を施すフィルム処理装置
であっても、各工程毎にデータ読出部4,加工部5,制
御部6,検査部7及び記録部8を設けることにより、実
施できる。
【0024】
【発明の効果】以上説明したように、本発明によれば、
自工程でフィルム原反に加工を施すときに、前工程迄に
生じた欠陥のデータをフィルム原反から読み取った場合
は、自工程の加工条件を欠陥に応じて制御して、自工程
での欠陥の拡大を防止すると共に、自工程で生じた欠陥
を検出した場合は、その欠陥のデータをフィルム原反に
記録して、後工程での欠陥の拡大を防止することによ
り、製品の歩留まり及び製造速度が向上して、製造原価
が低減されるという効果を奏するものである。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明のフィルム処理装置の概略の構成を示す
概念図である。
【符号の説明】
1…フィルム原反、 2…繰出しロール、 3…巻取り
ロール、 4…データ読出部、 5…加工部、 6…制
御部、 7…検査部、 8…記録部。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 FI // C23C 16/50 C23C 16/50

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 前工程迄にフィルムに施した加工の欠陥
    データを前記フィルムから読み出す読出手段と、 該読出手段が読み出した欠陥データに応じた自工程での
    加工条件を決定して、加工手段の動作を制御する制御手
    段と、 自工程で前記フィルムに施した加工の良否を検査する検
    査手段と、 該検査手段の検査で加工の欠陥を検出したときには、前
    記検査手段の検査結果に応じた欠陥データをフィルムに
    記録する記録手段とを具備したことを特徴とするフィル
    ム処理装置。
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