JPH1142649A

JPH1142649A - 反射体形成用母型の製造方法及び反射体の製造方法並びに反射型液晶表示装置の製造方法

Info

Publication number: JPH1142649A
Application number: JP9203638A
Authority: JP
Inventors: Tatsuya Moriike; 達哉森池; Tetsushi Tanada; 哲史棚田; Akito Miura; 昭人三浦
Original assignee: Alps Electric Co Ltd
Current assignee: Alps Alpine Co Ltd
Priority date: 1997-07-29
Filing date: 1997-07-29
Publication date: 1999-02-16
Anticipated expiration: 2017-07-29
Also published as: JP3612177B2

Abstract

(57)【要約】【課題】広い角度にわたって高い反射効率が得られる
反射体を製造する方法、およびその反射体製造時に使用
する母型の製造方法、並びに広い視野角とより明るい表
示面が得られる反射型液晶表示装置の製造方法を提供す
る。【解決手段】母型用基材７の表面に先端が球面状の圧
子８を押圧し、母型用基材７表面における圧子８の位置
を変えながらこの圧子８による押圧を繰り返すことによ
り、母型用基材７の型面にその内面が球面の一部をなす
多数の凹部７ａを連続して形成し、これを反射体形成用
母型とする。そして、この母型の型面から型面の凹凸形
状を反対にした型面を持つ転写型を形成し、転写型の型
面を反射体用基材の表面に転写し、これを反射体とす
る。さらに、この反射体を用いて反射型液晶表示装置を
製造する。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、広範囲にわたって
均一な明るさと白さを有する反射体を作成する際に使用
する母型の製造方法、及び上記反射体の製造方法、並び
にその反射体を用いた反射型液晶表示装置の製造方法に
関するものである。

【０００２】

【従来の技術】近年、ハンディタイプのコンピュータな
どの表示部として、特に消費電力が小さいことから反射
型液晶表示装置が広く利用されている。この反射型液晶
表示装置には、表示面側から入射した光を反射させて表
示を行うための反射板が備えられている。そして、従来
の反射板には、表面が鏡面状態とされた反射板や表面に
ランダムな凹凸が形成された反射板が用いられていた。
このうち、図９に示すように、ランダムな凹凸面を備え
た従来の反射板６０は、例えば厚さ３００ないし５００
μｍのポリエステルフィルム６１を加熱することによっ
てその表面に高さが数μｍの凹凸からなる凹凸面６１ａ
を形成し、さらに凹凸面６１ａ上に蒸着等の方法を用い
てアルミニウムや銀等からなる反射膜６２を成膜するこ
とにより形成したものである。

【０００３】この種の反射板６０を用いた従来の反射型
液晶表示装置は、図１０に示すように、一対のガラス基
板５１、５２の各々の対向面側に透明電極層５３、５４
を設け、さらにこれら透明電極層５３、５４の各々の上
に液晶の配向膜５５、５６を設け、これら配向膜５５、
５６間に液晶層５７を配設した構成となっている。そし
て、ガラス基板５１、５２の外側にそれぞれ第１、第２
の偏光板５８、５９を設け、第２の偏光板５９の外側に
は反射板６０を反射膜６２側の面を第２の偏光板５９側
に向けて取り付けている。

【０００４】上記構成の反射型液晶表示装置５０におい
て、第１の偏光板５８に入射した光はこの偏光板５８に
よって直線偏光され、偏光された光が液晶層５７を透過
することによって楕円偏光される。そして、楕円偏光さ
れた光は第２の偏光板５９によって再び直線偏光され、
この直線偏光された光が反射板６０にて反射されて、再
び第２の偏光板５９、液晶層５７を透過して第１の偏光
板５８から出射する。

【０００５】この反射板と反射型液晶表示装置は次のよ
うな反射特性を有している。例えば図９に示すように、
反射膜６２上に配置した点光源からの入射光Ｊの入射角
度を反射膜６２表面に対する法線に対して入射角度３０
度に一定にし、反射光Ｋの反射角度θを０度から６０度
に変化させた場合の反射率を測定すると、反射角度３０
度での反射率をピークとして左右の反射角度２０度以下
および４０度以上では反射率がほぼ最低となることがわ
かった。そして、反射板単独での測定のみならず、この
反射板を備えた液晶表示装置全体として測定してもこの
傾向は同様であって、反射角度３０度での反射率をピー
クとして反射角度２３度以下ないし３７度以上の範囲で
ほぼ０％に低下することが判明した。

【０００６】なお、表面を鏡面とした反射板の反射特性
に関しては、一般に、表面にランダムな凹凸を持つ反射
板と比較して、入射角度に対する特定の反射角度におい
て非常に高い反射率を示す。しかしながら、反射率の高
い反射角度の範囲が極めて狭い、すなわち視野角が狭い
という特性を持っている。

【０００７】

【発明が解決しようとする課題】上述したように、ラン
ダムな凹凸反射面を持つ従来の反射板は、反射効率が悪
いために全体的に反射率が低く、入射光をより広範囲の
反射角度で効率良く反射させるという反射板のニーズに
充分に応えることができなかった。したがって、この種
の反射板を用いた反射型液晶表示装置は、視野角が約２
５ないし３５度の範囲と狭く、しかも表示面の明るさも
充分とはいえないという問題があった。また、反射板の
特性には明るさと同時に白さも求められるが、この種の
従来の反射板では種々の波長を持つ光が均一にバランス
良く反射しないため、反射面の白さという点でも不充分
であった。さらに、この種の反射板における反射角度や
反射光強度等の反射特性は、ランダムに形成される凹凸
によって自ずと決まってしまうものであり、光学的な設
計により制御されたものではなかった。

【０００８】そこで、これらの問題を解決するために、
表面に直線状に延びる多数のストライプ溝を形成した反
射板が提案されている。この種の反射板は、まず直線状
の多数のストライプ溝を有する母型を作成し、その母型
の型面を転写することにより作成することができる。し
かしながら、この反射板の場合、ストライプ溝に垂直な
方向に関しては、ある範囲の反射角度で所望の明るさが
得られるものの反射角度範囲が狭く、さらに、ストライ
プ溝に垂直な方向以外の方向に関しては、反射率がそも
そも低い上に反射角度も極めて狭いものであった。した
がって、この種の反射板を液晶表示装置に適用したとこ
ろで、特にストライプ溝に平行な方向において、視野角
が狭い、表示面の明るさや白さが不充分である、といっ
た上記の問題が解決できなかった。

【０００９】本発明は、上記の課題を解決するためにな
されたものであって、広い角度にわたって高い反射効率
が得られる反射体を製造する方法、およびその反射体製
造時に使用する母型の製造方法、並びにいずれの方向に
おいても広い視野角とより明るい表示面が得られる反射
型液晶表示装置の製造方法を提供することを目的とす
る。

【００１０】

【課題を解決するための手段】上記の目的を達成するた
めに、本発明の反射体形成用母型の製造方法は、母型用
基材の表面に先端が球面状の圧子を押圧し、上記母型用
基材表面における圧子の位置を変えながらこの圧子によ
る押圧を繰り返すことにより、上記母型用基材の型面に
その内面が球面の一部をなす多数の凹部を連続して形成
し、これを反射体形成用母型とすることを特徴とするも
のである。

【００１１】すなわち、本発明の反射体形成用母型の製
造方法は、転造装置を用いて母型用基材に先端が球面状
の圧子を押圧することで、内面が球面の一部をなす多数
の凹部を転造した反射体形成用母型を製造するというも
のである。ここで用いる圧子は、黄銅、ステンレス、工
具鋼等の比較的硬度の高い金属材料からなる母型用基材
の表面を極めて多数回押圧するものであるから、例えば
ダイヤモンド等、高い硬度の材料からなる圧子を用いる
ことが望ましい。また、転造装置は多数の凹部を連続的
に形成するために母型用基材表面における圧子の位置を
変えながら押圧を繰り返すが、その場合、母型用基材と
圧子が相対的に水平面内で移動すればよいのであるか
ら、母型用基材と圧子のいずれが移動する構成であって
もよい。

【００１２】また、上記凹部を形成する際には、転造装
置において圧子の上下動の距離、母型用基材の水平移動
距離、圧子の先端の径等を調整することにより、形成す
る凹部の深さを０．１ないし３μｍの範囲でランダムに
形成し、隣接する凹部のピッチを５ないし５０μｍの範
囲でランダムに配置し、凹部内面の傾斜角分布を−１８
ないし＋１８度の範囲に設定することが望ましい。な
お、上記の「凹部の深さ」とは反射体表面から凹部の底
部までの距離、「隣接する凹部のピッチ」とは平面視し
たときに円形となる凹部の中心間の距離のことである。
また、「凹部内面の傾斜角」とは、図８に示すように、
凹部４の内面の任意の箇所において０．５μｍ幅の微小
な範囲をとったときに、その微小範囲内における斜面の
水平面に対する角度θのことである。角度θの正負は、
反射体表面に立てた法線に対して例えば図８における右
側の斜面を正、左側の斜面を負と定義する。

【００１３】上述したように、これら凹部の深さ、隣接
する凹部のピッチ、凹部内面の傾斜角に関しては、凹部
の深さを０．１ないし３μｍ、隣接する凹部のピッチを
５ないし５０μｍ、凹部内面の傾斜角分布を−１８ない
し＋１８度の範囲に設定することが望ましい。特に、傾
斜角分布を−１８ないし＋１８度の範囲に設定する点、
隣接する凹部のピッチを平面全方向に対してランダムに
配置する点が重要である。なぜならば、仮に隣接する凹
部のピッチに規則性があると、光の干渉色が出て反射光
が色付いてしまうという不具合があるからである。ま
た、凹部内面の傾斜角分布が−１８ないし＋１８度の範
囲を超えると、反射光の拡散角が広がりすぎて反射強度
が低下し、明るい反射板が得られない（反射光の拡散角
がエアー中で３６度以上になり、液晶表示装置内部の反
射強度ピークが低下し、全反射ロスが大きくなる）から
である。また、凹部の深さが３μｍを超えると、後工程
で凹部を平坦化する場合に凸部の頂上が平坦化膜で埋め
きれず、所望の平坦性が得られなくなる。隣接する凹部
のピッチが５μｍ未満の場合、反射体形成用母型の製作
上の制約があり、加工時間が極めて長くなる、所望の反
射特性が得られるだけの形状が形成できない、干渉光が
発生する等の問題が生じる。また、実用上、反射体形成
用母型の製作に使用し得る３０〜１００μｍ径のダイヤ
モンド圧子を用いる場合、隣接する凹部のピッチを５な
いし１００μｍとすることが望ましい。

【００１４】また、本発明の反射体の製造方法は、上記
方法により得られた反射体形成用母型の型面からこの型
面の凹凸形状を反対にした型面を持つ転写型を形成し、
この転写型の型面を反射体用基材の表面に転写し、これ
を反射体とすることを特徴とするものである。

【００１５】本方法により得られた反射体の表面は、転
写型を介して反射体形成用母型の型面がそのまま反映さ
れ、内面が球面の一部をなす多数の凹部が形成された状
態となる。したがって、反射光の反射角を支配すると考
えられる反射体の凹部内面の傾斜角（微小な単位面積内
での傾斜角）がある角度範囲内で一定の分布を示すよう
になる。しかも、凹部内面が球面状であることから、そ
の一定の傾斜角分布が反射体におけるある特定の方向だ
けでなく、全方向にわたって実現される。したがって、
この反射体においては、全方向にわたって一様に高い反
射効率が得られ、種々の波長を持つ光をバランス良く反
射することができる。すなわち、従来の反射体に比べ
て、どの方向から見てもより明るく白い反射板を実現す
ることができる。

【００１６】また、本発明の反射型液晶表示装置の製造
方法は、上記のような反射体、すなわち反射体表面にそ
の内面が球面の一部をなす凹部が多数形成された反射体
を用いることを特徴とするものである。なお、反射体の
設置形態としては、液晶セルの外側に設置する外付け型
または液晶セルを構成する基板の内面に設置する内蔵型
のいずれのタイプとしてもよい。

【００１７】本発明の反射型液晶表示装置の製造方法に
よれば、反射体自体が全方向にわたって反射効率が高
く、種々の波長を持つ光をバランス良く反射するという
特性を持っているため、従来の反射型液晶表示装置に比
べて広い視角とより明るい表示面を有する反射型液晶表
示装置を提供することができる。

【００１８】

【発明の実施の形態】以下、本発明の一実施の形態を図
１ないし図７を参照して説明する。図１は本実施の形態
の反射体の製造方法により得られた反射体を示す図であ
る。図１に示すように、この反射体１は、例えばガラス
等からなる基板２上に設けられた感光性樹脂層等からな
る平板状の樹脂基材３（反射体用基材）の表面に、その
内面が球面の一部をなす多数の凹部４が重なり合うよう
に連続して形成され、その上に例えばアルミニウムや銀
等の薄膜からなる反射膜５が蒸着または印刷等により形
成されたものである。

【００１９】上記凹部４の深さを０．１ないし３μｍの
範囲でランダムに形成し、隣接する凹部４のピッチを５
ないし５０μｍの範囲でランダムに配置し、上記凹部４
内面の傾斜角分布を−１８ないし＋１８度の範囲に設定
することが望ましい。特に、凹部４内面の傾斜角分布を
−１８ないし＋１８度の範囲に設定する点、隣接する凹
部４のピッチを平面全方向に対してランダムに配置する
点が重要である。なぜならば、仮に隣接する凹部４のピ
ッチに規則性があると、光の干渉色が出て反射光が色付
いてしまうという不具合があるからである。また、凹部
４内面の傾斜角分布が−１８ないし＋１８度の範囲を超
えると、反射光の拡散角が広がりすぎて反射強度が低下
し、明るい反射板が得られない（反射光の拡散角がエア
ー中で３６度以上になり、液晶表示装置内部の反射強度
ピークが低下し、全反射ロスが大きくなる）からであ
る。また、凹部４の深さが３μｍを超えると、後工程で
凹部４を平坦化する場合に凸部の頂上が平坦化膜で埋め
きれず、所望の平坦性が得られなくなる。隣接する凹部
４のピッチが５μｍ未満の場合、反射体形成用母型の製
作上の制約があり、加工時間が極めて長くなる、所望の
反射特性が得られるだけの形状が形成できない、干渉光
が発生する等の問題が生じる。また、実用上、反射体形
成用母型の製作に使用し得る３０〜１００μｍ径のダイ
ヤモンド圧子を用いる場合、隣接する凹部４のピッチを
５ないし５０μｍとすることが望ましい。

【００２０】次に、上記構成の反射体の製造方法を図２
ないし図５を用いて説明する。反射体を製造するにあた
って、最初に、反射体の原版となる反射体形成用母型を
作成する。その方法についてまず説明する。図２（ａ）
に示すように、例えば黄銅、ステンレス、工具鋼等から
なる表面が平坦な平板状の母型用基材７を転造装置のテ
ーブル上に固定する。そして、先端が所定の径Ｒを持つ
球面形状のダイヤモンド圧子８で母型用基材７の表面を
押圧し、母型用基材７を水平方向に移動させてはダイヤ
モンド圧子８を上下動させて押圧するという操作を多数
回繰り返すことにより、深さや配列ピッチが異なる多数
の凹部７ａを母型用基材７の表面に転造し、図２（ｂ）
に示すような反射体形成用母型９とする。図３に示すよ
うに、ここで用いる転造装置は、母型用基材７を固定す
るテーブルが０．１μｍの分解能で水平面内のＸ方向、
Ｙ方向に移動し、ダイヤモンド圧子８が１μｍの分解能
で鉛直方向（Ｚ方向）に移動する機能を持つものであ
る。なお、ダイヤモンド圧子８の先端の径Ｒは、２０な
いし１００μｍ程度であることが望ましい。例えば、凹
部７ａの深さを２μｍ程度とする場合、径Ｒが３０ない
し５０μｍのもの、凹部７ａの深さを１μｍ程度とする
場合、径Ｒが５０ないし１００μｍのものを用いるとよ
い。

【００２１】また、ダイヤモンド圧子による転造の手順
は次の通りである。図４は転造のパターンを示す平面図
であるが、この図に示すように、横一列において隣接す
る凹部のピッチは、左から順にｔ1（＝１７μｍ）、ｔ3
（＝１５μｍ）、ｔ2（＝１６μｍ）、ｔ3 、ｔ4（＝
１４μｍ）、ｔ4、ｔ5（＝１３μｍ）、ｔ2、ｔ3、ｔ3
となっている。また、縦一列において隣接する凹部のピ
ッチも上から順に同様のパターンとなっている。そし
て、深さを１．１ないし２．１μｍの範囲で４種類設定
して（図中ｄ1、ｄ2、ｄ3、ｄ4 と示す）押圧すること
により、押圧後の圧痕である円形の凹部の半径もｒ1
（＝１１μｍ）、ｒ2（＝１０μｍ）、ｒ3（＝９μ
ｍ）、ｒ4（＝８μｍ）の４種類となる。例えば縦一列
における凹部の半径は、上から順にｒ1、ｒ2、ｒ3、ｒ
1、ｒ4、ｒ2、ｒ4、ｒ3、ｒ1、ｒ4、ｒ1 となる。

【００２２】また、実際の転造の順番としては、例え
ば、最上段の横の列において深さｄ1の凹部を飛び飛び
に全て形成した後、次に深さｄ2 の凹部、深さｄ3 の凹
部、深さｄ4 の凹部を形成するというように、４パター
ンの深さの転造操作を繰り返し、まず、最上段の横一列
の凹部を全て形成する。その後、上から２番目の横の列
に移動し、同様の操作を繰り返す。このようにして、パ
ターン内の全ての凹部を形成していく。なお、図４はｔ
＝１５０μｍ四方の転造のパターンを示すものであり、
このパターンの繰り返しにより反射体全体が構成されて
いる。図４に示したように、隣接する凹部の圧痕は一部
重なるため、転造作業が全て終わった後の凹部全体の平
面形状は図５に示すようになる。このようにして、反射
体形成用母型９が完成する。以降、反射体を製造する際
にはこの母型９を繰り返し使用して多数の反射体を製造
することができる。

【００２３】なお、上記転造装置の場合、母型用基材を
固定したテーブルが水平面内で移動する構成であるが、
母型用基材表面におけるダイヤモンド圧子の位置が移動
しさえすればよいのであるから、圧子側が水平方向に移
動する構成であってもよい。また、母型用基材の材料と
しては、黄銅、ステンレス、工具鋼等に限らず、硬度の
高い種々の金属材料を用いることが可能である。また、
その母型用基材を押圧する圧子も、高い硬度の材料から
なるものであればダイヤモンドに限ることはない。

【００２４】その後、図２（ｃ）に示すように、母型９
を箱形容器１０に収納、配置し、容器１０に例えばシリ
コーンなどの樹脂材料１１を流し込んで、常温にて放
置、硬化させ、この硬化した樹脂製品を容器１０から取
り出して不要な部分を切除し、図２（ｄ）に示すよう
に、母型９の型面をなす多数の凹部と逆の凹凸形状であ
る多数の凸部を持つ型面１２ａを有する転写型１２を作
成する。

【００２５】次に、ガラス基板の上面に、アクリル系レ
ジスト、ポリスチレン系レジスト、アジドゴム系レジス
ト、イミド系レジスト等の感光性樹脂液をスピンコート
法、スクリーン印刷法、吹き付け法等の塗布法により塗
布する。そして、塗布終了後、加熱炉またはホットプレ
ート等の加熱装置を用いて基板上の感光性樹脂液を例え
ば８０〜１００℃の温度範囲で１分以上加熱するプリベ
ークを行って基板上に感光性樹脂層を形成する。ただ
し、用いる感光性樹脂の種類によってプリベーク条件は
異なるため、上記範囲外の温度と時間で処理してもよい
ことは勿論である。なお、ここで形成する感光性樹脂層
の膜厚は２〜５μｍの範囲とすることが好ましい。

【００２６】その後、図２（ｅ）に示すように、図２
（ｄ）に示した転写型１２を用い、この転写型１２の型
面１２ａをガラス基板上の感光性樹脂層３に一定時間押
し付けた後、転写型１２を感光性樹脂層３から外す。こ
のようにして、図２（ｆ）に示すように、感光性樹脂層
３の表面に転写型型面１２ａの凸部を転写して多数の凹
部４を形成する。また、型押し時のプレス圧は用いる感
光性樹脂の種類にあった値を選択することが好ましく、
例えば３０〜５０ｋｇ／ｃｍ²程度の圧力とするのがよ
い。プレス時間についても用いる感光性樹脂の種類にあ
った値を選択することが好ましく、例えば３０秒〜１０
分程度の時間とする。

【００２７】その後、透明なガラス基板の裏面側から感
光性樹脂層３を硬化させるための紫外線（ｇ、ｈ、ｉ
線）等の光線を照射し、感光性樹脂層３を硬化させる。
ここで照射する紫外線等の光線は、上記種類の感光性樹
脂層の場合、５０ｍＪ／ｃｍ²以上の強度であれば感光
性樹脂層を硬化させるのに充分であるが、感光性樹脂層
の種類によってはこれ以外の強度で照射してもよいこと
は勿論である。そして、プリベークで用いたのと同様の
加熱炉、ホットプレート等の加熱装置を用いてガラス基
板上の感光性樹脂層３を例えば２４０℃程度で１分以上
加熱するポストベークを行ってガラス基板上の感光性樹
脂層３を焼成する。

【００２８】最後に、感光性樹脂層３の表面に例えばア
ルミニウムをエレクトロンビーム蒸着等によって成膜し
て凹部の表面に沿って反射膜１を形成することにより、
本実施の形態の反射体１が完成する。

【００２９】本実施の形態の製造方法により得られた反
射体１においては、内面が球面の一部である多数の凹部
４が表面に形成され、しかも凹部４の深さ、隣接する凹
部４のピッチ等の値が上記の範囲に設定されたことによ
り、凹部内面の傾斜角がある角度範囲で一定の分布を示
すようになる。一例として、図６はこの反射体１におけ
る凹部内面の傾斜角の分布を示すものであり、横軸は傾
斜角、縦軸はその傾斜角が存在する頻度を示している。
この図に示すように、傾斜角は−１８ないし＋１８度の
範囲、特に−１０ないし＋１０度の範囲においてほぼ一
定の分布を示している。また、凹部４の内面は球面であ
り、全方向に対して対称形であるから、この一定の傾斜
角分布は、反射体におけるある特定の方向だけでなく、
全方向にわたって実現される。凹部内面の傾斜角はその
凹部内面における反射光の反射角を支配すると考えら
れ、本実施の形態の場合、反射体の全方向に対して傾斜
角分布が一定であることから、全方向に対して一様な反
射角および反射効率が得られることになり、種々の波長
を持つ光をバランス良く反射することができる。すなわ
ち、従来の反射体に比べて、どの方向から見てもより明
るく白い反射板を実現することができる。

【００３０】また、本実施の形態の反射体形成用母型の
製造方法においては、凹部を形成する際にダイヤモンド
圧子８を上下動させて母型用基材７の表面を押圧するだ
けであるから、ダイヤモンド圧子８と母型用基材７が擦
れ合うようなことがない。その結果、ダイヤモンド圧子
８先端の表面状態が母型９側に確実に転写され、圧子８
の先端を鏡面状態としておけば母型９の凹部内面、ひい
ては反射体の凹部内面も容易に鏡面状態とすることがで
きる。さらに、ポリエステル等の樹脂フィルムを加熱す
ることで凹凸面を形成していた従来の反射体と異なり、
本実施の形態の反射体１における凹部の深さ、径、ピッ
チ等の寸法、凹部内面の表面状態等は全て制御されたも
のであり、高精度の転造装置の使用により反射板の凹部
形状をほぼ設計通りに作成することができる。したがっ
て、本方法によれば、作成する反射板の反射角度、反射
効率等の反射特性が従来に比べてより制御しやすいもの
となり、所望の反射体を得ることができる。

【００３１】なお、本実施の形態における反射体１の凹
部４の深さ、径、ピッチ等の具体的な数値や図４に示し
た凹部の転造パターンはほんの一例に過ぎず、適宜設計
変更が可能なことは勿論である。また、反射体用基材、
母型用基材等の各種基材の材料、転写型の構成材料等に
関しても適宜変更が可能である。

【００３２】次に、上記の反射体を用いたＳＴＮ（Supe
r Twisted Nematic ）方式の反射型液晶表示装置の製造
方法について説明する。図７に示すように、この反射型
液晶表示装置を製造する際には、例えば厚さ０．７ｍｍ
の一対の表示側ガラス基板１３と背面側ガラス基板１４
との間に液晶層１５を設け、表示側ガラス基板１３の上
面側にポリカーボネート樹脂やポリアリレート樹脂等か
らなる１枚の位相差板１６を設け、さらに位相差板１６
の上面側に第１の偏光板１７を配設する。また、背面側
ガラス基板１４の下面側には、第２の偏光板１８、上記
方法により予め製造しておいた図１に示した反射体１を
順次取り付ける。

【００３３】反射体１を取り付ける際には、第２の偏光
板１８の下面側に凹部４を形成した面が対向するように
取り付け、第２の偏光板１８と反射体１との間には、グ
リセリン等の光の屈折率に悪影響を与えることのない材
料からなる粘着体１９を充填する。両ガラス基板１３、
１４の対向面側にはＩＴＯ（インジウムスズ酸化物）等
からなる透明電極層２０、２１をそれぞれ形成し、透明
電極層２０、２１上にポリイミド樹脂等からなる配向膜
２２、２３をそれぞれ設ける。これら配向膜２２、２３
等の関係により液晶層１５中の液晶は２４０度捻れた配
置となっている。

【００３４】また、前記背面側ガラス基板１４と透明電
極層２１との間に、図示していないカラーフィルタを印
刷等で形成することにより、この液晶表示装置をカラー
表示できるようにしてもよい。

【００３５】本実施の形態の製造方法により得られた反
射型液晶表示装置においては、上述したように、使用す
る反射体１自体が全方向にわたって入射光の反射角度が
広く、反射効率が高いという特性を持っているため、使
用者が表示面をいずれの方向から見た場合においても、
従来の液晶表示装置に比べて広い視野角と明るい表示面
を有する液晶表示装置を提供することができる。

【００３６】なお、本実施の形態の方法では、反射板を
第２の偏光板の外側に配設する、いわゆる外付けの反射
板とする例を説明したが、背面側ガラス基板の対向面側
に配設して内蔵型としてもよい。また、液晶表示装置の
例としてＳＴＮ方式のもので説明したが、液晶層の液晶
分子の捻れ角を９０度に設定したＴＮ（Twisted Nemati
c ）方式の液晶表示装置にも本発明の反射体を適用し得
ることは勿論である。

【００３７】

【発明の効果】以上、詳細に説明したように、本発明の
反射体の製造方法により得られた反射体においては、内
面が球面の一部である多数の凹部が表面に形成されたこ
とにより、反射体の全方向に対して凹部内面の傾斜角分
布がある角度範囲でほぼ一定となるため、全方向に対し
て一様な反射効率が得られ、種々の波長を持つ光をバラ
ンス良く反射することができる。すなわち、本製造方法
によれば、従来の反射体に比べてどの方向から見てもよ
り明るく白い反射板を実現することができる。また、本
発明の反射体形成用母型の製造方法においては、凹部を
形成する際に圧子を用いて母型用基材の表面を押圧する
だけであり、圧子と母型用基材が擦れ合うようなことが
ない。その結果、圧子先端の表面状態が母型側に確実に
転写され、例えば圧子の先端を鏡面状態としておけば母
型の凹部内面、ひいては反射体の凹部内面も容易に鏡面
状態とすることができる。さらに、従来の反射体と異な
り、本発明による反射体の凹部の深さ、径、ピッチ等の
寸法、凹部内面の表面状態等は全て制御されたものであ
り、反射板の凹部形状をほぼ設計通りに作成することが
できる。したがって、本方法により得られた反射体形成
用母型を用いれば、作成する反射板の反射角度、反射効
率等の反射特性が従来に比べてより制御しやすいものと
なり、所望の反射体を得ることができる。そして、本発
明の反射型液晶表示装置の製造方法によれば、上記のよ
うな優れた特性を持つ反射体を用いることにより、広い
視野角と明るい表示面を有する液晶表示装置を実現する
ことができる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の一実施の形態である反射体の製造方
法により得られた反射体を示す斜視図である。

【図２】同、反射体の製造過程を順を追って示したプ
ロセスフロー図である。

【図３】同、反射体の形成に用いる母型の製造過程を
示す図であって、ダイヤモンド圧子で母型用基材を押圧
している状態を示す図である。

【図４】同、母型の製造過程においてダイヤモンド圧
子による転造のパターンを示す平面図である。

【図５】同、転造後の凹部全体の形状を示す平面図で
ある。

【図６】同、反射体における凹部内面の傾斜角の分布
を示す図である。

【図７】本発明の一実施の形態である反射型液晶表示
装置を示す断面図である。

【図８】本発明に係る反射体の凹部内面の傾斜角を説
明するための図である。

【図９】従来の反射体の一例を示す斜視図である。

【図１０】従来の反射型液晶表示装置の一例を示す断
面図である。

【符号の説明】

１反射体２基板３樹脂基材（反射体用基材）４，７ａ凹部５反射膜７母型用基材８ダイヤモンド圧子９反射体形成用母型１２転写型

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】母型用基材の表面に先端が球面状の圧子
を押圧し、前記母型用基材表面における圧子の位置を変
えながらこの圧子による押圧を繰り返すことにより、前
記母型用基材の型面にその内面が球面の一部をなす多数
の凹部を連続して形成し、これを反射体形成用母型とす
ることを特徴とする反射体形成用母型の製造方法。
【請求項２】前記凹部を形成する際に、前記凹部の深
さを０．１ないし３μｍの範囲でランダムに形成し、前
記凹部内面の傾斜角分布を−１８ないし＋１８度の範囲
で設定し、隣接する凹部のピッチを５ないし５０μｍの
範囲でランダムに配置することを特徴とする請求項１に
記載の反射体形成用母型の製造方法。
【請求項３】請求項１に記載の反射体形成用母型の製
造方法により得られた反射体形成用母型の型面から該型
面の凹凸形状を反対にした型面を持つ転写型を形成し、
該転写型の型面を反射体用基材の表面に転写し、これを
反射体とすることを特徴とする反射体の製造方法。
【請求項４】請求項３に記載の反射体の製造方法によ
り得られた反射体を用いることを特徴とする反射型液晶
表示装置の製造方法。