JPH113912A - 配線基板のバンプ形成方法 - Google Patents

配線基板のバンプ形成方法

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JPH113912A
JPH113912A JP9121445A JP12144597A JPH113912A JP H113912 A JPH113912 A JP H113912A JP 9121445 A JP9121445 A JP 9121445A JP 12144597 A JP12144597 A JP 12144597A JP H113912 A JPH113912 A JP H113912A
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Abstract

(57)【要約】 【課題】 電子部品を搭載する配線基板の外部端子用の
電極パッドに接続用のバンプを形成する方法において、
平面的な電極パッド上の所定箇所に、球形状や半球形状
などの多数のバンプを設置することは、バンプ部材の先
端面が球面形状となっているため位置決めが非常に難し
く、さらにバンプの先端面の高さのばらつきをなくする
ことが電気的接続の信頼性の課題であった。 【解決手段】 上記の課題を解決するため、電極パッド
の表面中央の断面が凹形状になっている電極パッドを形
成し、この凹形状の電極パッドの内に凸形状となってい
る棒形状バンプ部材を挿入し、治具により、この深さを
調節して多数のバンプの先端面の高さレベルを平坦化
し、正しい電極パッド位置に容易に位置決めのできる接
続の品質が安定したバンプの形成方法を提供する。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、電子部品を直接表
面実装するための電子部品搭載用配線基板の電極パッド
にバンプ(突出接点)を形成する方法に関するものであ
る。
【0002】
【従来の技術】図5に基づいて、従来の技術を説明す
る。電子部品40のうち、代表的な半導体素子やICフ
ラットパッケージ等の高密度電子部品を搭載した配線基
板31の外部への接続端子として、つまり配線基板の下
面に外部端子として多数の電極パッド36を2次元の格
子上交点に設け、この電極パッド36に、はんだ等から
成る球形状バンプ部材、例えば、はんだボールを加熱圧
着やリフローはんだ付けでバンプ(突出接点)を形成す
る。この実装方式はBGA(ball・grid・array)パッ
ケージ方式と呼ばれ、電子部品の高密度化、小型化およ
び、はんだ付け不良率の低減による品質の向上が望め
る。
【0003】従来の電子部品搭載用の配線基板31にお
いては、配線基板31の上面外層導体33と下面外層導
体35とを形成し、この下面外層導体35の2次元の格
子上交点の所定箇所には多数の電極パッド36を平面的
に形成し、設定配置する。次に、外層導体33,35の
必要な接続ランドや電極パッド36を除いて配線基板3
1の両面にソルダーレジスト7を施すことが一般的であ
る。その次に、前記の電極パッド36の表面上に、クリ
ームはんだを塗布し、その上に球形状のバンプ部材、例
えば、はんだボールをのせリフローはんだ付けで球形状
バンプ45を形成する。また、はんだ等から成る球形状
バンプ部材を直接、電極パッド36へ加熱圧着する方法
もある。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】しかし、従来のバンプ
を形成方法では、球形状、半球形状、山型形状などのバ
ンプを、所定箇所の電極パッド36に取り付ける場合、
電極パッド36の平らな表面と球形状のバンプ部材の球
面とが接するため位置決めが非常に難しくなっていた。
また、球形状のバンプ部材を配線基板31上の多数の電
極パッド36に正確に位置決めし、リフローはんだ付け
や加熱圧着する作業中あるいは運搬中に球形状のバンプ
部材が位置ずれしたり、離脱して不良が発生することが
ある。
【0005】さらに、球形状のバンプ部材の大きさのば
らつき、配線基板31の反りやねじれ、クリームはんだ
の塗布量などにより球形状バンプ45の先端面の高さに
差Rが生じることがある。このため、球形状バンプ45
が形成された配線基板31を親配線基板の接続ランドに
リフローはんだ付けする際に配線基板31の球形状バン
プ45と、親配線基板の接続ランドとの接続不良が生じ
て、接続による品質が不安定となり、この接続の信頼性
の確保が課題となっていた。
【0006】
【課題を解決するための手段】上記の課題を解決するた
め本発明においては、電子部品40を搭載する配線基板
31の下面外層導体35上に形成されている平面的な電
極パッド36を、図1に示すように配線基板1のバンプ
接続側の表面5Aから基材側内部に、レーザー加工によ
り所定の深さの非貫通穴を穿孔し、無電解または電解め
っきを施こし、その電極パッドの表面中央の断面が凹形
状の電極パッド6を形成し、この凹形状の電極パッド6
内に棒形状のバンプ部材45Bを挿入して、正しい電極
パッドの位置に容易に位置決めし、バンプを形成するこ
とができる。
【0007】さらに、前記の凹形状の電極パッド6の内
径は、挿入する棒形状のバンプ45Bの外径d1より若
干大きくし、挿入時の間隙を少なくして2次元(平面
的)の位置決め精度を高くする。また、配線基板1の断
面が凹形状の電極パッド6のバンプ接続側の表面5Aか
ら凹設穴の底面までの深さSより、棒形状のバンプ部材
45Bの長さLは、若干長くしてバンプ接続側の表面5
Aから、バンプの先端部までの高さHが突出するよう
に、棒形状のバンプ部材45Bの長さを選定する。
【0008】なお、バンプ接続側の表面5Aから突出し
ているバンプの先端部までの高さHは、高さ方向の位置
決め用治具でバンプの突出する先端面の高さレベルを平
坦化することができ、このバンプの先端部分と親配線基
板の接続ランドの間隔が一定となり、多数のバンプ接続
による品質が安定し、容易に高い信頼性を確保すること
ができる。配線基板1のバンプ形成方法において、角柱
形状のバンプ部材45Dを断面が凹形状の電極パッド6
内に圧入し、固定することもできる。さらに、配線基板
1のバンプ形成方法において、棒形状のバンプ部材本体
41に突起42やストッパー43を有するバンプ部材
を、断面が凹形状の電極パッド6内に圧入するバンプ形
成方法もある。
【0009】
【発明の実施の形態】図1に示すように、半導体素子や
ICフラットパッケージ等の電子部品40を搭載する配
線基板1の電子部品搭載面の表面外層導体3と、バンプ
接続側の表面外層導体5を印刷法や写真法により、所定
箇所に所定の導体を形成する。次いで、バンプ接続側の
表面5Aから基材側内部にレーザー加工により所望する
深さの非貫通穴を穿孔し、無電解めっき、電解めっきを
施こし非貫通穴内にスルーホールめっき層4を形成す
る。このようにして、バンプ接続側の表面外層導体5
に、電極パッドとなる表面中央の断面が凹形状の電極パ
ッド6を、2次元の多数の格子上交点の所定箇所に、立
体的(3次元的)に形成し、設定配置する。
【0010】次に、電子部品搭載面の表面外層導体3
と、バンプ接続側の表面外層体5の必要な接続ランドや
断面が凹形状の電極パッド6を除いて配線基板1の両面
にソルダーレジスト7を施こす。
【0011】その次に、配線基板1のバンプ接続側に形
成した断面が凹形状の電極パッド6の内部に、導電性ペ
ースト8を塗布あるいは充填し、そこに、棒形状のバン
プ部材45Bを挿入して、リフローはんだ付けをする
か、または凹形状の電極パッド6の内部に、はんだ付用
フラックスを塗布し、棒形状のバンプ部材45Bを挿入
し乾燥させて接着し、バンプを形成する。導電性ペース
ト8としては、銀ペースト,銅ペースト,はんだペース
ト,クリームはんだ,銀−銅合金系ペースト,銀パラジ
ウム合金ペースト,カーボンペーストなどがある。
【0012】なお、本発明の凹設穴の一例について図2
に基づいて説明する。配線基板1に形成する断面が凹形
状の電極パッド6の形状として、配線基板1の板厚が厚
い場合や多層配線基板である場合は、配線基板1のバン
プ接続側の表面5Aから凹設穴の底面までの深さSは、
この凹形状の電極パッド6に挿入する棒形状のバンプ部
材45Bの長さLで左右される。従って、電子部品搭載
面の表面外層導体3とバンプ接続側の表面外層導体5と
は、図1に示してあるように必ずしも非貫通穴の上面と
下面の外層導体が電気的に導通しているとは限らず、凹
形状の電極パッド6の凹設穴底面の基材側に絶縁樹脂や
基材が存在することもある。また、多層配線板では、バ
ンプ接続側の表面外層導体5と、内層導体2のなかでも
バンプ接続側に最も近い内層導体2Aとの間に形成され
るブラインドスルーホール穴9を断面が凹形状の電極パ
ッド6として利用することもできる。この図2では、7
はソルダーレジストを示す。
【0013】さらに、本発明における棒形状のバンプ部
材45Bとして、図3、図4に示すように円柱形状バン
プ部材45C,角柱形状バンプ部材45D,変形の棒形
状バンプである突起付き棒形状バンプ部材45E,スト
ッパー付き棒形状バンプ部材45Fなどの種類がある
が、図3(a)に示すように棒形状バンプ部材45Bの
一つである単純な形状の円柱形状バンプ部材45Cにお
いて、このバンプの外径d1は断面が凹形状の電極パッ
ド6の内径Dより若干小さくし、嵌合時に必要以上の間
隙が生じないようにする。また、両端面のコーナー端部
は位置決め挿入がしやすいように面取り加工をする。ま
た、棒形状のバンプ部材45Bを断面が凹形状の電極パ
ッド6へ挿入する作業の効率向上や嵌合状態の安定化を
図るため、棒形状バンプ部材45Bの一つである角柱形
状のバンプ部材45Dを凹形状の電極パッド6の非貫通
穴の内部に圧入することができる。このことにより非貫
通穴へ導電性ペースト8や、はんだ付用フラックスを塗
布する必要がなくなる。例えば、角柱形状のバンプ部材
45Dとしては、図3(b)の正面図、平面図で示して
あるように、角柱形状バンプ部材45Dの多角形の角に
接する外接径d2を、配線基板1に形成されている断面
が凹形状の電極パッド6の非貫通穴の内径Dより若干大
きくして、非貫通穴の内に角柱形状バンプ部材45Dを
圧入し、固定することにより嵌合状態を安定化すること
ができる。この角柱形状のバンプ部材45Dには、四角
柱形状,六角柱形状,八角柱形状のように線対称となる
多角柱形状のバンプ部材が嵌合状態が安定し良好であ
る。
【0014】この他に、変形の棒形状バンプ部材とし
て、図4(a)に示すように突起付き棒形状バンプ部材
45Eがある。これは棒形状のバンプ部材45Bのバン
プ部材本体41の嵌合部分に複数の突起42を、この突
起の外径d3が凹形状の電極パッド6の内径Dより若干
大きくし、円周上に複数列と、嵌合部の深さ方向にあた
る円周面に複数段の突起42を設け、この突起付き棒形
状バンプ部材45Eを断面が凹形状の電極パッド6の非
貫通穴へ圧入し、固定する。また、図4(b)に示すよ
うな、ストッパー付き棒形状バンプ部材45Fは複数の
突起42の他に、棒形状のバンプ部材45Bを凹形状の
電極パッド6部に圧入する際、挿入の深さを一定にする
ためのストッパー43を設けた、ストッパー付き棒形状
バンプ部材45Fを、断面が凹形状の電極パッド6の非
貫通穴へ圧入し、配線基板1のバンプ接続側の表面5A
からバンプの先端部分までの高さHが均一になるように
するストッパー付き棒形状バンプ部材45Fを使用する
こともできる。
【0015】以下、本発明の実施の形態を図に基づいて
説明する。本発明において、電子部品搭載用の配線基板
1はガラスエポキシ基材,フェノール基材,合成樹脂基
材と呼ばれるCEM材,テフロン含有基材,ポリイミド
樹脂基材,BTレジン(ビスマレィミド−トリアジン樹
脂)基材,変性BTレジン基材またはセラミック基材な
どの基材から最適なものを選択して使用する。また、配
線基板1として、片面配線基板,両面配線基板,多層配
線基板のどれでもよく、導体パターンの形成はサブトラ
クティブ法でもアクティブ法でも限定されるものではな
い。さらに、本発明で用いられるバンプ部材の材質は、
はんだの他に、銅,黄銅,軟銅,リン青銅,鋼材あるい
は前記材質に金属めっきしたものや樹脂に金属めっきし
たものの中から最適な材質を選択して用いる。
【0016】
【実施例】本発明における実施例として、配線基板1は
板厚0.5mmのBTレジン基材を使用し、端子ピッチ
0.65mmで2次元のマトリクス状に断面が凹形状の電
極パッド6の非貫通穴の穴径0.35mmを短パルスCO
2ガスレーザーで穿孔し、銅めっきを施こし、仕上がり
径0.28〜0.31mmの非貫通スルーホール穴とし
た。バンプ接続側からレーザーにより、上記の非貫通穴
を穿孔し、めっき工程を省略して、この穴内にめっき層
がない非貫通穴を形成し、続いて、前記の断面が凹形状
の電極パッド6内に棒形状のバンプ部材45Bを圧入し
て、バンプを形成することもできる。
【0017】棒形状のバンプ部材45Bとしては、配線
基板1のバンプ接続側の表面5Aからバンプの先端部ま
での高さHを0.30mmとしたが、この高さHが0.2
0mm未満では細い棒形状バンプ部材45Bの曲がりや、
この棒形状バンプ部材45Bと、はんだ接合される親配
線基板の接続ランドに塗布されているクリームはんだ量
の過少により接続不良が生じやすい。また、0.60mm
を越えると親配線基板の接続ランドとの間隔が広くなり
過ぎて、はんだ接合が不完全となり、高精細な電極パッ
ドや接続端子ピッチが狭い場合はショート不良が発生し
やすくなる。すなわち、パンプ接続側の表面5Aからバ
ンプの先端部分までの高さHは0.20〜0.60mm突
出しているのが良好である。
【0018】さらに、棒形状のバンプ部材45Bの種類
として下記の如く試料を作製して、接続状態を確認し
た。
【実施例1】円柱形状バンプ部材45Cで、L=0.8
0mm,d1=0.25mm,材質=軟銅線に、はんだめっ
き10μm(5〜15μm仕様)したもの。
【0019】
【実施例2】角柱形状バンプ部材45Dで、六角柱形状
とし、L=0.80mm,d2=0.32mm,材質=黄銅
の六角棒にスズめっき10μmしたもの。
【0020】
【実施例3】突起付き棒形状バンプ部材45Eで、L=
0.80mm,d1=0.25mm,d3=0.32mm,材質
=黄銅でニッケル・スズめっき10μmしたもの。
【0021】
【実施例4】ストッパー付き棒形状バンプ部材45F
で、L=0.80mm,d1=0.25mm,d3=0.30
mm,ストッパー径=0.40mm,材質=銅でスズめっき
10μmしたもの。
【0022】
【発明の効果】以上説明したように、従来の配線基板3
1に形成されている電極パッド36は平面的で多数の球
形状バンプ部材(例えば、はんだボール)を正確に位置
決めし、さらに球形状バンプ部材の先端面の高さのばら
つきをなくして固定することは非常に難しいが、本発明
では、配線基板1の表面から基材側内部に、電極パッド
となる表面中央の断面を凹形状に形成し、この凹形状の
電極パッド6内に棒形状のバンプ部材45Bを挿入し
て、正しい電極パッド位置に容易に位置決めをしてバン
プを形成することができる。
【0023】また、従来の技術では多数の球形状バンプ
部材を平面的な電極パッド36に仮固定した後の作業中
や運搬中に、球形状のバンプ部材が位置ずれしたり、離
脱する不良が生じていたが、本発明の立体的に形成され
た断面が凹形状の電極パッド6の非貫通穴の内に、棒形
状のバンプ部材45Bを挿入して固定したことにより、
作業中や運搬中の不良が発生しなくなった。このよう
に、断面が凹形状の電極パッド6の内部に、凸形状とな
っている棒形状のバンプ部材45Bを挿入し、リフロー
はんだ付けなどでバンプを形成するため、接続による品
質が安定する。
【0024】なお、バンプ接続側の表面5Aから突出し
ているバンプの先端部までの高さHは、高さ方向の位置
決め用治具で棒形状のバンプ部材45Bの突出する先端
面の高さレベルを平坦化することができ、この棒形状の
バンプ部材45Bの先端部と親配線基板の接続ランドと
の間隔が一定となり、配線基板と親配線基板とのバンプ
接続による品質が安定し、容易に高い信頼性を確保する
ことができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の実施の形態を説明する配線基板断面
図。
【図2】本発明の凹設穴の一例を示す配線基板断面図。
【図3】本発明による棒形状のバンプ部材の一例を示す
正面図と平面図。
【図4】本発明による変形の棒形状バンプ部材の一例を
示す正面図と平面図。
【図5】従来の配線基板断面図。
【符号の説明】
1…配線基板 2…内層導体 3…電子部品搭載面の表
面外層導体 4…非貫通穴内のスルーホールめっき層 5…バンプ接
続側の表面外層導体 5A…バンプ接続側の表面 6…凹形状の電極パッド
7…ソルダーレジスト 8…導電性ペースト 9…ブラインドスルーホール穴 R…球形状バンプの先端面の高さの差 31…配線基板 33…上面外層導体 35…下面外層導体 36…電極
パッド 40…電子部品 41…バンプ部材本体 42…突起
43…ストッパー 45…球形状バンプ 45B…棒形状のバンプ部材 45C…円柱形状バンプ部材 45D…角柱形状バンプ
部材 45E…突起付き棒形状バンプ部材 45F…ストッパー付き棒形状バンプ部材 S…バンプ接続側の表面から凹設穴底面までの深さ H…バンプ接続側の表面からバンプの先端面のレベルま
での高さ

Claims (5)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 配線基板の電極パッドにバンプを形成す
    る方法において、前記配線基板に内層導体(2,2A)
    と表面外層導体(3,5)を形成し、次いで、バンプ接
    続側からレーザーにより非貫通穴を穿孔し、無電解また
    は電解めっきを施こし、電極パッドとなる表面中央の断
    面が凹形状の電極パッド(6)を形成し、続いて、前記
    の凹形状の電極パッド(6)内に棒形状のバンプ部材
    (45B)を挿入して、バンプを形成することを特徴と
    する配線基板のバンプ形成方法。
  2. 【請求項2】 請求項1記載の配線基板のバンプ形成方
    法において、配線基板のバンプ接続側の表面(5A)か
    らバンプの先端部分までの高さ(H)が0.20〜0.
    60mm突出していることを特徴とする配線基板のバンプ
    形成方法。
  3. 【請求項3】 請求項1記載の配線基板のバンプ形成方
    法において、角柱形状のバンプ部材(45D)を断面が
    凹形状の電極パッド(6)内に圧入することを特徴とす
    る配線基板のパンプ形成方法。
  4. 【請求項4】 請求項1記載の配線基板のバンプ形成方
    法において、棒形状のバンプ部材本体(41)に突起
    (42)やストッパー(43)を有するバンプ部材を、
    断面が凹形状の電極パッド(6)内に圧入することを特
    徴とする配線基板のバンプ形成方法。
  5. 【請求項5】 配線基板の電極パッドにバンプを形成す
    る方法において、前記配線基板に内層導体(2,2A)
    と表面外層導体(3,5)を形成し、次いで、バンプ接
    続側からレーザーにより非貫通穴を穿孔し、この穴内に
    めっき層がない非貫通穴を形成し、続いて、前記の断面
    が凹形状の電極パッド(6)内に棒形状のバンプ部材
    (45B)を圧入して、バンプを形成することを特徴と
    する配線基板のバンプ形成方法。
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